CN112048700A - 一种镀膜工艺 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及镀膜技术领域，具体涉及一种镀膜工艺，其包括如下步骤：步骤一、对原膜进行预处理；步骤二、打底蒸镀，将经步骤一处理后的膜材安装至真空蒸镀设备中，向真空蒸镀设备内的蒸发舟送金属丝，对膜材进行至少一次真空蒸镀；步骤三、蒸镀，提高向蒸发舟送金属丝的速度，对经步骤二处理后的膜材再次进行真空蒸镀；步骤四、收卷。本发明的镀膜工艺可以避免在真空蒸镀过程中由于温度过高导致塑料薄膜膜面受损，有利于提高镀膜合格率。

Description

一种镀膜工艺
技术领域
本发明涉及镀膜技术领域，具体涉及一种镀膜工艺。
背景技术
镀铝膜是采用特殊工艺在塑料薄膜表面镀上一层极薄的金属铝而形成的一种复合软包装材料，其中最常用的加工方法当数真空镀铝法，就是在高真空状态下通过高温将金属铝融化蒸发，使铝的蒸汽沉淀堆积到塑料薄膜表面上，从而使塑料薄膜表面具有金属光泽。由于它既具有塑料薄膜的特性，又具有金属的特性，是一种廉价美观、性能优良、实用性强的薄膜材料。
但是，采用现有的真空镀膜工艺在塑料薄膜表面镀金属膜时，由于塑料薄膜的耐热性较差，在进行真空镀膜过程中容易因为塑料薄膜受热严重，造成塑料薄膜膜面变形或断裂，使得材料报废，合格率低等问题。
发明内容
为了克服现有技术中存在的缺点和不足，本发明的目的在于提供一种镀膜工艺，可以避免在真空蒸镀过程中由于温度过高导致塑料薄膜膜面受损，有利于提高镀膜合格率。
本发明的目的通过下述技术方案实现：
一种镀膜工艺，其包括如下步骤：
步骤一、对原膜进行预处理；
步骤二、打底蒸镀，将经步骤一处理后的膜材安装至真空蒸镀设备中，向真空蒸镀设备内的蒸发舟送金属丝，对膜材进行至少一次真空蒸镀；
步骤三、蒸镀，提高向蒸发舟送金属丝的速度，对经步骤二处理后的膜材再次进行真空蒸镀；
步骤四、收卷。
由于膜材较薄，耐热性差，在膜材表面单次沉积过多的金属颗粒会使膜面受热严重，容易造成膜面的变形或出现断膜的现象，导致产品报废，因此，本发明通过先以较低的送丝速度对膜材进行打底蒸镀，使在膜材表面单次沉积较少的金属颗粒，进而减少热辐射，待膜面有足够的反射层和耐热层后，再增大送丝速度，提高金属颗粒在膜材表面的单次沉积量，由于打底蒸镀后膜材的耐热性变好，进而提高单次沉积量后膜材仍然不易发生受热变形的情况。提高单次沉积量不仅可以提高镀膜效率，另一方面，如果一直使用低沉积量进行蒸镀，将造成氧化层增多和电阻率增高的问题，造成产品无法满足客户的需求。
具体的，收卷时，随着镀层增厚，膜物性改变，需适当调整张力与弯辊角度使膜面展平，避免造成膜面出现皱纹使膜材失效。
其中，所述步骤一包括如下操作：
S1、镀氧化铝膜，将原膜安装至真空蒸镀设备，向真空蒸镀设备中送金属丝并充入氧气，调整送丝速度后对原膜进行真空蒸镀；
S2、烘膜，将经S1处理后的膜材烘干去除膜材表面的水份。
本发明通过制作氧化铝膜有利于提高后续镀层与膜材的粘结力，而通过烘膜将膜材表面的水份去除，确保无多余的水份与蒸镀后的铝层反应造成后续镀层和膜材之间的粘结力变差，有利于提高镀层和膜材之间的粘结牢固度。
其中，S1中的送丝速度为150-850mm/min。
其中，在S1镀氧化铝膜时，真空蒸镀设备中的真空度为0.001-0.002mbar，蒸发舟的功率为6000-7000W时开始对原膜进行真空蒸镀。
其中，在S2烘膜时，烘膜设备的真空度为0.001-0.003mbar，蒸发舟电流达到80％-90％时开始烘膜。
其中，所述打底蒸镀时送金属丝的速度为300-450mm/min，通过采用300-450mm/min的送丝速度，在确保膜材不会因为受热严重而变形的情况下，提高镀膜效率。
其中，所述打底蒸镀时真空蒸镀设备的真空度为0.001-0.002mbar，蒸发舟的电压为9.3-9.5V时开始进行真空蒸镀。
其中，所述步骤三蒸镀时送金属丝的速度为450-550mm/min，通过将送丝速度提升至450-550mm/min，镀膜效率高，且有利于减少氧化层，降低电阻率，还能确保膜材不会受热变形。
其中，所述步骤三蒸镀时，真空蒸镀设备的真空度为0.001-0.002mbar，蒸发舟电压为9.3-9.5V开始进行真空蒸镀。
其中，所述金属丝为铝丝。
其中，所述原膜为PET膜或CPP膜。
其中，所述步骤二中的真空蒸镀次数为1-5次。
其中，所述步骤三中的真空蒸镀次数为1-20次。
其中，所述步骤一、步骤二、步骤三中真空蒸镀时的温度为1200-1600℃。
其中，还包括对步骤四得到的膜材进行分切、刮刀检测和打包储存。
由于蒸镀溅射金属材料可能会造成膜材表面有凸起，通过对分切的膜材进行刮刀滚压和检测，可以将凸起压平或刮落，避免产品到客户端时由于凸起问题造成断膜失效。
其中，当真空蒸镀设备使用新蒸发舟时，需对其进行润舟处理，主要工序为热舟、烧舟以及磨舟。使用新蒸发舟时对其进行润舟，确保蒸发舟浸润均匀，舟面加热均匀，提高使用寿命并改善溅射失效问题。
其中，当蒸发舟使用达到15万米的蒸镀长度时，需对蒸发舟进行更换。因为蒸发舟损耗后，舟面出现凹坑易出现积液，受热不均问题，造成溅铝失效。
本发明的有益效果在于：
本生产工艺通过设计制备过程中的各个步骤，避免了在真空蒸镀过程中由于温度过高导致膜面受损，提高了镀膜合格率，降低生产成本。通过在对原膜制作氧化铝膜镀层，提高镀层与原膜的粘结力。蒸镀时通过先降低金属材料在膜材表面的单次沉积量，减少热辐射，待膜面有足够的反射层和耐热层后再提升金属材料在膜材表面的单次沉积量，提高镀膜效率，一直使用低沉积量蒸镀而造成氧化层增多电阻率增高，同时避免了膜面受热严重而造成膜面变形或断膜，有利于提高产品合格率。
具体实施方式
为了便于本领域技术人员的理解，下面结合实施例对本发明作进一步的说明，实施方式提及的内容并非对本发明的限定。
实施例1
一种镀膜工艺，其包括如下步骤：
步骤一、对PET原膜进行预处理，具体包括如下操作。
S11.材料、设备检测，对原膜材料的长宽、外观、厚度、延展率、达因值、质量以及透光度进行检测是否达标，检测铝丝材料丝径大小以及纯度，对蒸发舟尺寸、外观进行检查，最后进行设备点检，开机检查。
其中，当真空蒸镀设备使用新蒸发舟时，需对其进行润舟处理，主要工序为热舟、烧舟以及磨舟，确保蒸发舟浸润均匀，舟面加热均匀，提高使用寿命并改善溅铝失效问题。
当蒸发舟使用达到15万米的蒸镀长度时，需对蒸发舟进行更换。因为蒸发舟损耗后，舟面出现凹坑易出现积液，受热不均问题，造成溅铝失效。
S12.镀氧化铝膜，清洁真空蒸镀设备，然后将原膜安装至真空蒸镀设备，并调整送丝速度为780mm/min、走膜速度为5m/s、蒸镀温度为1400℃、真空度为0.001mbar，接着启动设备，当蒸发舟功率达到6500W时，向蒸发舟内送铝丝，开始走膜工艺，当蒸镀结束后，关闭设备，将膜材取出并送至下一步工序，通过氧化铝膜镀膜层的制作，提高了镀层与原膜的粘结力。
S13.烘膜，对真空蒸镀设备进行清洗，将经S12处理后的膜材安装至设备中，并调整设备真空度为0.002mbar，走膜速度为150m/min，接着启动设备，当蒸发舟电流达到80％-90％时，开始走膜工艺，通过蒸发舟加热将膜材表面的水份烘干，确保膜材表面无多余水分与蒸镀后的铝层反应造成粘结力变差，造成镀铝层与膜材之间的粘结牢固度失效。
步骤二、打底蒸镀，清洁真空蒸镀设备，将经步骤一处理后的膜材安装至真空蒸镀设备中，待蒸发舟的电压达到9.4V时，向真空蒸镀设备内的蒸发舟送铝丝，对膜材进行三次真空蒸镀，三次真空蒸镀的走膜速度均为300m/min、蒸镀温度为1400℃、真空度为0.001mbar，三次真空蒸镀的送丝速度依次为350mm/min、400mm/min和400mm/min，当蒸镀结束后，关闭设备，将膜材取出并送至下一步工序。由于膜材经过前序工作后材质很薄，耐热性差，单次沉积量过大膜面受热严重，易造成膜面变形或断膜。通过对膜材进行至少一次打底蒸镀，使用较少沉积量，减少热辐射，待膜面有足够的反射层和耐热层后提升单次沉积量，避免了由于膜面变形或断膜导致的产品报废。
步骤三、蒸镀，打底完成后需提高单次沉积量，一直使用低沉积量蒸镀，将造成氧化层增多电阻率增高，本步骤提高向蒸发舟送铝丝的速度，对经步骤二处理后的膜材再进行四次真空蒸镀，当蒸发舟的电压为9.4V时，开始走膜工艺，四次真空蒸镀的送丝速度均为500mm/min、走膜速度为300m/min、真空度为0.001mbar、蒸镀温度为1400℃。
步骤四、收卷，当蒸镀结束后，关闭设备，对已完成蒸镀的膜材进行收集成卷，收卷时，随着镀层增厚，膜物性改变，需适当调整张力与弯辊角度使膜面展平，避免使膜面产生皱纹。
步骤五、分切成型，按照使用需求，对步骤四得到的膜材进行分切，将分切完成的卷料粘贴标识。
步骤六、刮刀检测，由于蒸镀溅铝容易造成产品表面有凸起问题，本步骤对步骤四得到的膜材进行刮刀检测，通过刮刀滚压及检测，将凸起压平或刮落，避免产品到客户端造成断膜失效。
步骤七、打包储存，将通过步骤五检测的膜材进行包装密封，包装后的镀铝膜入库储存。
实施例2
一种镀膜工艺，实施例2相比实施例1具有以下区别。
氧化铝膜镀膜时的送丝速度为850mm/min。
打底蒸镀时第一次真空蒸镀的送丝速度为400mm/min，第二次和第三次真空蒸镀时的送丝速度为450mm/min。
步骤三蒸镀时的送丝速度为550mm/min。
实施例2的其它工艺步骤与实施例1相同。
实施例3
一种镀膜工艺，实施例3相比实施例1具有以下区别。
氧化铝膜镀膜时的送丝速度为150mm/min。
打底蒸镀时第一次真空蒸镀的送丝速度为300mm/min，第二次和第三次真空蒸镀时的送丝速度为350mm/min。
步骤三蒸镀时的送丝速度为450mm/min。
实施例3的其它工艺步骤与实施例1相同。
上述实施例为本发明较佳的实现方案，除此之外，本发明还可以其它方式实现，在不脱离本发明构思的前提下任何显而易见的替换均在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种镀膜工艺，其特征在于：包括如下步骤：
步骤一、对原膜进行预处理；
步骤二、打底蒸镀，将经步骤一处理后的膜材安装至真空蒸镀设备中，向真空蒸镀设备内的蒸发舟送金属丝，对膜材进行至少一次真空蒸镀；
步骤三、蒸镀，提高向蒸发舟送金属丝的速度，对经步骤二处理后的膜材再次进行真空蒸镀；
步骤四、收卷。
2.根据权利要求1所述的一种镀膜工艺，其特征在于：所述步骤一包括如下操作：
S1、镀金属氧化膜，将原膜安装至真空蒸镀设备，向真空蒸镀设备中送金属丝并通入氧气，调整送丝速度后对原膜进行真空蒸镀；
S2、烘膜，将经S1处理后的膜材烘干去除膜材表面的水份。
3.根据权利要求1所述的一种镀膜工艺，其特征在于：所述打底蒸镀时送金属丝的速度为300-450mm/min。
4.根据权利要求1所述的一种镀膜工艺，其特征在于：所述步骤三蒸镀时送金属丝的速度为450-550mm/min。
5.根据权利要求1所述的一种镀膜工艺，其特征在于：所述金属丝为铝丝。
6.根据权利要求1所述的一种镀膜工艺，其特征在于：所述原膜为PET膜或CPP膜。
7.根据权利要求1所述的一种镀膜工艺，其特征在于：所述步骤二中的真空蒸镀次数为1-5次。
8.根据权利要求1所述的一种镀膜工艺，其特征在于：所述步骤三中的真空蒸镀次数为1-20次。
9.根据权利要求2所述的一种镀膜工艺，其特征在于：所述步骤一、步骤二、步骤三中真空蒸镀时的温度为1200-1600℃。
10.根据权利要求1-9任意一项所述的一种镀膜工艺，其特征在于：还包括对步骤四得到的膜材进行分切、刮刀检测和打包储存。
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