CN111971731A - 显示设备及显示设备的制造方法 - Google Patents
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Abstract
在显示设备(1)中,在显示设备(1)的异形边缘部(BL1)和显示区域(DA)之间包括由金属层形成的金属图案(M1),其中,所述异形边缘部(BL1)是边框区域(NA),且为用于形成切口部(K1)的分割线,所述金属图案(M1)是沿着切口部(K1)的至少一部的形状而形成的。
Description
技术领域
本发明涉及一种显示设备及显示设备的制造方法。
背景技术
专利文献1中记载有一种显示设备,其具有用于安装照相机等的切口部(缺口部)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:国际公开专利公报“WO2014/126662A1”(2014年8月21日公开)
发明内容
发明要解决的问题
但是,专利文献1中记载的具有用于安装照相机等的切口部的显示设备中,存在如下问题。
图7是用于说明具有切口部K1的现有的显示设备105的制造工序及问题点的图。
如图7(a)所示,被单片化的显示设备101包括:显示面板102、设置在显示面板102的一侧表面的第一膜103、设置在显示面板102的另一侧表面的第二膜104。并且,在第一膜103中,覆盖显示面板102所具备的端子部TM1至TMm的部分被剥离,并使用端子部TM1至TMm来对显示面板102进行电检查。
并且,如图7(a)所示,例如,通过激光来全切(Full cut)被单片化的显示设备101的外形。全切是指,以如图7(a)所示的激光通过的线FC来切割整个显示面板102、第一膜103及第二膜104。在被单片化的显示设备101中,激光通过的线FC的内侧是包括显示区域DA的主要区域,激光通过的线FC的外侧是不包括显示区域DA的非主要区域。
通过从被单片化的显示设备101去除被全切的外形部分(非主要区域),并剥离第一膜103,由此能够获得如图7(b)所示的具有切口部K1的显示设备105。即,显示设备105包括被去除外形部分及切口部K1的显示面板和被去除外形部分及切口部K1的第二膜。并且,用于形成切口部K1的分割线即显示设备105的异形边缘部BL1仅是指在激光通过的线FC中,与切口部K1的形成相关联的部分。在显示设备105的边框区域NA具备引绕配线TW1至TWn,其与端子部TM1至TMm电连接。
由于切口部K1形成为如图7(a)中的A部分,因此,在小的曲率半径的凹型中,例如,在使用激光切割加工的地方,由于激光容易集中在转角处,因此在切割加工时会出现小裂缝(或划痕)。此外,在被单片化的显示设备101弯曲时,应力容易集中在拐角处,因此出现小裂缝(或划痕)。图7(c)是图7(b)及图7(b)的B部分的局部放大图,如图7(c)所示,在出现小的裂缝(或划痕)的部分处,膜应力沿曲率增大的方向释放。因此,当设置在切口部K1的周围的边框区域NA的无机膜存在小裂缝(或划痕),则该小裂缝(或划痕)沿图中的膜应力释放方向延伸而成为大裂缝(或划痕)Cra,导致引起显示设备105的可靠性问题。这里,膜应力是指,根据周围湿度或温度的变化,由于设置在显示设备105的显示面板102中的,聚酰亚胺膜等、和第二膜104等伸缩而引起的力。
本发明鉴于上述问题点而做出,其目的在于提供一种显示设备及显示设备的制造方法,该显示设备中,即使具有切口部也可以提高可靠性。
用于解决问题的方案
为了解决上述问题,本发明的显示设备是具备显示区域、所述显示区域的周围的边框区域以及设置在所述边框区域的切口部的显示设备,其特征在于,所述显示设备具备:树脂层;多个无机绝缘膜,其形成在所述树脂层上;金属层,其形成在所述多个无机绝缘层中的一个无机绝缘膜的上方并与之接触,并在所述边框区域即形成所述切口部的所述显示设备的异形边缘部和所述显示区域之间形成有由所述金属层形成的金属图案,其中,所述金属图案以沿着所述切口部的至少一部分形状的方式形成,所述金属图案与所述显示区域的配线没有电连接。
为了解决上述问题,本发明的显示设备的制造方法是用于制造具备显示区域、所述显示区域的周围的边框区域以及设置在所述边框区域的切口部的显示设备的制造方法,其特征在于,所述制造方法包括:树脂层形成工序;在所述树脂层上形成多个无机绝缘膜的工序;形成金属层的工序,其中,所述金属层与所述多个无机绝缘层中的一个无机绝缘膜的上方接触地形成;形成金属图案的工序,其中,在所述边框区域即形成所述切口部的所述显示设备的异形边缘部和所述显示区域之间,以沿着所述切口部的至少一部分形状的方式,对所述金属层进行图案化。
发明效果
根据本发明的一方面能够提供一种具有切口部且提高了可靠性的显示设备以及显示设备的制造方法。
附图说明
图1的(a)是第一实施方式的显示设备的俯视图,(b)是(a)所示的L1-L2线的剖视图。
图2的(a)是图1(a)所示的C部分的局部放大图,(b)是(a)所示的L3-L4线的剖视图。
图3的(a)是示出变形例1的显示设备中的切口部周围的边框区域的概要构成的剖视图,(b)是示出变形例2的显示设备中的切口部周围的边框区域的概要构成的剖视图。
图4的(a)是示出变形例3的显示设备中的切口部周围的边框区域的概要构成的剖视图,(b)是示出变形例4的显示设备中的切口部周围的边框区域的概要构成的剖视图,(c)是示出变形例4的显示设备中的折叠狭缝及端子部的概要构成的剖视图。
图5(a)是示出第一实施方式的显示设备中的切口部周围的边框区域的俯视图,(b)是示出第二实施方式的显示设备中的切口部周围的边框区域的俯视图。
图6是示出第三实施方式的显示设备中的切口部周围的边框区域的概要构成的剖视图。
图7是用于说明具有切口部的现有的显示设备的制造工序及问题点的图。
具体实施方式
若基于图1至图7说明本发明的实施方式,则如下所示。以下,为了便于说明,有时对与在特定的实施方式中说明的构成具有同一功能的构成,标注相同的附图标记,并省略其说明。
并且,以下各实施方式中,将具备OLED(Organic Light Emitting Diode:有机发光二极管)的情况下作为显示设备的示例进行说明,但并不限于此,作为显示设备也可以具备无机发光二极管或QLED(Quantum dot Light Emitting Diode:量子点发光二极管),只要是具有切口部(缺口部)显示设备即可,其种类并不特别限定。
〔第一实施方式〕
以下将基于图1至图4,说明本发明的第一实施方式的显示设备1、1a、1b、1c、1d、1e。
图1(a)是显示设备1的俯视图,图1(b)是图1(a)所示的L1-L2线的剖视图。
如上所述,图1(a)所示的显示设备1是例如通过激光来全切被单片化的显示设备的外形而获得的。显示设备1具备显示区域DA和显示区域DA的周围的边框区域NA。用于形成切口部K1的分割线即显示设备1的异形边缘部BL1仅指在激光通过的线中,与切口部K1的形成相关联的部分。此外,在显示设备1的边框区域NA具备引出配线TW1至TWn,其与端子部TM1至TMm电连接。
在显示设备1的异形边缘部BL1和显示区域DA之间以沿着切口部K1的至少一部的形状的方式形成有金属图案M1,其中,所述异形边缘部BL1是显示设备1的边框区域NA,且为用于形成切口部K1的分割线。并且,金属图案M1与后述的自显示区域DA的配线等没有电连接,即,金属图案M1与后述的自显示区域的DA的配线等处于非电连接状态。
并且,为了消除金属图案M1对显示区域DA的配线等的影响,使金属图案M1与来自显示区域DA的配线等处于非电连接状态。
在图1(b)所示的显示设备1的显示区域DA中,在树脂层12的下表面经由粘接剂层11粘贴有基底基板10。另一方面,在树脂层12的上表面形成有作为无机膜的阻挡层(底涂膜)3、TFT层4、有机EL元件层5、密封层6。
作为基底基板10的材料,可举出聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)等,但不限于此。
作为粘接剂层11的材料,例如,可举出OCA(Optical Clear Adhesive:光学透明粘合剂)和OCR(Optical Clear Resin:光学透明树脂),但不限于此。
作为树脂层12的的材料,例如,可举出聚酰亚胺树脂、环氧树脂、聚酰胺树脂等,但不限于此。
阻挡层3是用于防止水、杂质渗透TFT层4、有机EL元件层5的层,例如,可以由通过CVD法形成的氧化硅膜、氮化硅膜、或氮氧化硅膜或这些的层叠膜构成。
TFT层设置在树脂层12及阻挡层3的上层。TFT层4包括:半导体膜15;在半导体膜15的上层的无机绝缘膜(栅极绝缘膜)16;在无机绝缘膜16的上层的栅极电极GE;在栅极电极GE的上层的无机绝缘膜(第一绝缘膜)18;在无机绝缘膜18的上层的电容配线CE;在电容配线CE的上层的无机绝缘膜(第二绝缘膜)20;在无机绝缘膜20的上层的、包括源极/漏极电极的源极及漏极配线(源极配线包括源极电极,漏极配线包括漏极电极)SH;在源极及漏极配线SH的上层的层间绝缘膜21。
并且,电容元件由电容电极、无机绝缘膜18、电容相对电极构成,其中,所述电容电极被包含在紧挨着无机绝缘膜18而形成在上方的所述电容配线CE中,所述电容相对电极形成在紧挨着无机绝缘膜18的下方,且与形成栅极电极GE的层相同的层,并以与所述电容电极重叠的方式形成。
以包含半导体膜15、无机绝缘膜16、栅极电极GE、无机绝缘膜18、无机绝缘膜20以及源极及漏极配线SH的方式构成薄膜晶体管元件(TFT)Tr以作为有源元件。
半导体膜15例如由低温多晶硅(LTPS)或氧化物半导体构成。
栅极电极GE、电容配线CE、源极及漏极配线SH例如由包括铝(Al)、钨(W)、钼(Mo)、钽(Ta)、铬(Cr)、钛(Ti)、铜(Cu)、银(Ag)中的至少一种的金属单层膜或层叠膜构成。
无机绝缘层16/18/20例如可以由通过CVD法形成的氧化硅膜(SiOx)或氮化硅膜(SiNx)、或氮氧化硅膜、或这些的层叠膜构成。
层间绝缘膜21例如可以由聚酰亚胺树脂、丙烯酸树脂等的可涂布的感光性有机材料构成。
有机EL元件层5包括:在层间绝缘膜21的上层的阳极22、覆盖阳极22的边缘的堤23、在阳极22的上层的EL(电致发光)层24、在EL层24的上层的阴极25,每个子像素SP包括岛状的阳极22、EL层24及阴极25。堤(阳极边缘盖)23例如可以由聚酰亚胺树脂、丙烯酸树脂等的可涂布的感光性有机材料构成。有机EL元件层5形成显示区域DA,并被设置在TFT层4的上层。
EL层24例如通过从下层侧依次层叠空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层而构成。对于每个子像素,通过蒸镀发或喷墨法以岛状形成发光层,但是其他层可以是整片状的公共层。此外,也可以采用未形成空穴注入层、空穴传输层、电子传输层、电子注入层中的一层或多层的构成。
阳极(anode)22例如由ITO(Indium Tin Oxide:氧化铟锡)和包含Ag的合金的层叠层构成,并且具有光反射性。阴极25可以由ITO(Indium Tin Oxide:氧化铟锡)或IZO(Indium Zinc Oxide:氧化铟锌)等的透光性导电材料构成。
在有机EL元件层5中,通过阳极22和阴极25之间的驱动电流,空穴和电子在EL层24中重新结合,由此产生的激子下降到基态,从而发光。由于阴极25具有透光性,而阳极22具有光反射性,因此从EL层24发出的光朝向上方,并成为顶部发射。
密封层6具有透光性,并且包括:覆盖阴极25的第一无机密封膜26、形成在第一无机密封膜26的上侧的有机密封膜27、覆盖有机密封膜27的第二无机密封膜28。覆盖有机EL元件层5的密封层6防止水和氧气等的异物渗透到有机EL元件层5中。
第一无机密封膜26及第二无机密封膜28可以分别由例如通过CVD法形成的氧化硅膜、氮化硅膜、氮氧化硅膜或这些的层叠膜构成。有机密封膜27比第一无机密封膜26及第二无机密封膜28厚,且为具有透光性的有机膜,可以由聚酰亚胺树脂、丙烯酸树脂等的可涂布的感光性有机材料构成。
在图1(b)所示的显示设备1的边框区域NA中,在无机绝缘膜20上具备:以框状包围显示区域DA的第一框状堤(第一突起部)9a;以框状包围第一框状堤9a的第二框状堤(第二突起部)9b。
在形成密封层6中的有机密封膜27的工序中,第一框状堤9a和第二框状堤9b至少在显示区域DA的整个表面上涂布液态的有机材料时,限制液态有机材料的湿润并扩散。
在图1(b)所示的显示设备1的情况下,由于有机密封膜27形成至第二框状堤9b的左侧的倾斜侧面为止,因此在第二框状堤9b的左侧的倾斜侧面的外侧,作为无机膜的第一无机密封膜26和第二无机密封膜28彼此直接接触以形成密封层。
第一框状堤9a及第二框状堤9b例如可以由聚酰亚胺、丙烯酸等的可涂布的感光性有机材料构成。此外,第一框状堤9a及第二框状堤9b可以使用与堤(阳极边缘盖)23相同的材料形成。
图2(a)是图1(a)所示的C部分的局部放大图,图2(b)是图2(a)所示的L3-L4线的剖视图。
如图2(a)所示,作为用于形成切口部K1的分割线的显示设备1的异形边缘部BL1以小曲率半径形成为凹型,因此包括弯曲部分。
因此,在本实施方式中,金属图案M1形成为包括沿着显示设备1的异形边缘部BL1的所述弯曲部分的形状的一部分的形状,但是,金属图案M1的形状并不特别限定,只要金属图案M1形成在显示区域DA和显示设备1的异形边缘部BL1之间即可。
此外,如图2(a)所示,在本实施方式中,考虑到由于裂缝(或划痕)Cra的延伸而引起的水分等的渗透,将金属图案M1形成在第二框状堤9b与显示设备1的异形边缘部BL之间,以将裂缝(或划痕)Cra的延伸抑制在边框区域NA的外侧。即,尽管金属图案M1形成在第一框状堤9a和第二框状堤9b的外侧,但是本发明不限于此,金属图案M1也可以形成在显示区域DA和显示设备1的异形边缘部BL1之间。
此外,如图2(b)所示,本实施方式中,金属图案M1形成在紧挨着无机绝缘膜(栅极绝缘膜)16的上方,其为与形成显示区域DA所具备的栅极电极GE的层相同的层。即,金属图案M1被夹在无机绝缘膜16和无机绝缘膜(第一绝缘膜)18之间。
如图2(a)所示,在显示设备1中存在例如通过激光来全切被单片化的显示设备的外形时产生的裂缝(或划痕)Cra。但是,由于显示设备1所具备的金属图案M1被配置在显示设备1的异形边缘部BL1的所述弯曲部分的附近,因此,即使产生由周围的湿度或温度变化引起的树脂层12的伸缩导致的膜应力,也能够抑制该裂缝(划痕)Cra朝向图中的膜应力释放方向延伸。
并且,在分割无机膜时容易产生细微的裂缝(或划痕),并且,存在无机膜的膜厚越厚,该已产生的细微的裂缝(或划痕)越容易延伸的趋势。不仅在单层无机膜的情况下,而且在多层无机膜层叠的无机层叠膜的情况下,也同样地确认了这种趋势。确认了如下趋势:当单层无机膜的膜厚或多层无机膜层叠的无机层叠膜的膜厚为约500nm以上的情况下,细微的裂缝(或划痕)在膜应力的释放方向上显着地延伸。另一方面,确认了如下趋势:当单层无机膜的膜厚或多层无机膜层叠的无机层叠膜的膜厚为约200nm以下的情况下,细微的裂缝(或划痕)在膜应力的释放方向上并没有显着地延伸。
因此,在本实施方式中,如图2(b)所示,金属图案M1形成在由阻挡层3和无机绝缘膜16构成的无机层叠膜上,即,形成在紧挨着无机绝缘膜16的上方。通过这样做,能够在由阻挡层3、无机绝缘膜16、无机绝缘膜18、无机绝缘膜20、第一无机密封膜26、第二无机密封膜28构成的无机层叠膜中形成划分为如下结构的部分:由阻挡层3和无机绝缘膜16构成的无机层叠膜;由无机绝缘膜18、无机绝缘膜20、第一无机密封膜26、第二无机密封膜28构成的无机层叠膜。由此,由于无机层叠膜的厚度厚,能够抑制细微的裂缝(或划痕)朝向膜应力释放方向显著延伸。
并且,在产生裂缝(或划痕)Cra的位置,即在显示设备1的异形边缘部BL1的所述弯曲部分附近的边框区域NA中,由周围湿度或温度变化引起的树脂层的热膨胀或吸湿性膨胀所导致的变形,促进裂缝(或划痕)Cra的延伸,所以为了有效地抑制裂缝(或划痕)Cra的延伸,在本实施方式中,如图2(a)所示的形成金属图案M1。具体为,在显示设备1的异形边缘部BL1的弯曲部分的附近,沿着显示设备1的异形边缘部BL1的所述弯曲部分的形状形成大致“L”字形的金属图案M1。金属图案M1的形状并不限定于此。
如上所述,在显示设备1中,由于在显示设备1的异形边缘部BL1的所述弯曲部分附近的边框区域NA中设置有金属图案M1,因此,在该部分中,能够抑制周围的湿度或温度变化引起的树脂层的热膨胀或吸湿性膨胀导致的变形,也能够抑制细微裂缝(划痕)Cra朝向膜应力释放方向显著地延伸。
显示设备1的情况下,如上所述,例如能够通过激光全切被单片化的显示设备的外形来获得,此时,在显示设备1的异形边缘部BL1附近的边框区域NA中,尤其在显示设备1的异形边缘部BL1的所述弯曲部分附近的边框区域NA中,容易产生裂缝(或划痕)。
如上所述,由于在显示设备1中具备金属图案M1,因此,即使存在裂缝(或划痕),也能够抑制该裂缝(或划痕)Cra延伸而导致的可靠性问题的发生。
在本实施方式中,显示设备1的异形边缘BL1的所述弯曲部分的曲率为0.5mm,金属图案M1以0.07mm的宽度形成,并且金属图案M1以2mm的总长度形成,然而,这是示例,可以适当地决定金属图案M1的宽度和总长度。并且,优选金属图案M1的宽带形成为30μm以上,总长度形成为曲率的两倍以上。
并且,如图1(a)及图1(b)所示,具备显示区域DA、显示区域DA的周围的边框区域NA以及设置在边框区域NA的切口部K1的显示设备1的制造方法包括如下的各工序。具体为,包括:形成树脂层12的工序;在树脂层12上形成阻挡层3、无机绝缘膜16、无机绝缘膜18、无机绝缘膜20、第一无机密封膜26、第二无机密封膜28的工序;形成金属层的工序,其中,该金属层与所述多个无机绝缘膜中的一个无机绝缘膜的上方接触;形成金属图案的工序,其中,在显示设备1的异形边缘部BL1和显示区域DA之间沿着切口部K1的至少一部分形状的方式,对金属层进行图案化,该异形边缘部BL1是边框区域NA中的用于形成切口部K1的分割线。
(变形例1及变形例2)
图3(a)是示出变形例1的显示设备中的切口部周围的边框区域的概要构成的剖视图,图3(b)是示出变形例2的显示设备中的切口部周围的边框区域的概要构成的剖视图。
与图2(a)所示的显示设备1相同的,在图3(a)所示的显示设备1a中,尽管金属图案M2以大致L型地形成在第二框状堤9b和显示设备1a的异形边缘部BL1之间,但不限于此,金属图案M2也可以以其他形状形成在显示区域DA和显示设备1a的异形边缘部BL1之间。
此外,如图3(a)所示,显示设备1a中,在紧挨着阻挡层(底涂膜)3的上方形成金属图案M2,其为与形成显示区域所具备的栅极电极的层相同的层。即,金属图案M2被夹在阻挡层3和无机绝缘膜16之间。
并且,如图1(b)所示的薄膜晶体管元件Tr为顶栅结构,栅极电极GE配置在紧挨着无机绝缘膜(栅极绝缘膜)16的上方。因此,在显示设备1a中,在显示区域中形成底栅结构的薄膜晶体管元件,栅极电极GE被配置在紧挨着阻挡层(底涂膜)3的上方,无机绝缘膜(栅极绝缘膜)16被配置在紧挨着栅极电极GE的上方。
在显示设备1a中,如图3(a)所示,金属图案M2形成在紧挨着阻挡层3的上方。通过这样做,能够在由阻挡层3、无机绝缘膜16、无机绝缘膜18、无机绝缘膜20、第一无机密封膜26、第二无机密封膜28构成的无机层叠膜上形成划分为如下结构的部分,即:阻挡层3;由无机绝缘膜16、无机绝缘膜18、无机绝缘膜20、第一无机密封膜26、第二无机密封膜28构成的无机层叠膜。由此,由于无机膜或无机层叠膜的厚度厚,能够抑制细微的裂缝(或划痕)朝向膜应力释放方向显著延伸。
此外,在显示设备1a中,由于在显示设备1a的异形边缘部BL1的所述弯曲部分附近的边框区域NA中设置有金属图案M2,因此,能够抑制周围的湿度或温度变化引起的树脂层的热膨胀或吸湿性膨胀导致的变形,也能够抑制细微裂缝(划痕)Cra朝向膜应力释放方向显著地延伸。
与图2(a)所示的显示设备1相同的,在图3(b)所示的显示设备1b中,尽管金属图案M3以大致L型地形成在第二框状堤9b和显示设备1b的异形边缘部BL1之间,但不限于此,金属图案M3也可以以其他形状形成在显示区域DA和显示设备1b的异形边缘部BL1之间。
此外,如图3(b)所示,在显示设备1b中,金属图案M3形成在紧挨着无机绝缘膜(第一绝缘膜)18的上方,其为与形成图1(b)所示的显示区域DA所具备的电容配线CE的层相同的层。即,金属图案M3被夹在无机绝缘膜(第一绝缘膜)18和无机绝缘膜(第二绝缘膜)20之间。
在显示设备1b中,如图3(b)所示,金属图案M3形成在紧挨着无机绝缘膜18的上方。通过这样做,能够在由阻挡层3、无机绝缘膜16、无机绝缘膜18、无机绝缘膜20、第一无机密封膜26、第二无机密封膜28构成的无机层叠膜上形成划分为:由阻挡层3、无机绝缘膜16、无机绝缘膜18构成的无机层叠膜;由无机绝缘膜20、第一无机密封膜26、第二无机密封膜28构成的无机层叠膜,的部分。由此,由于无机层叠膜的厚度厚,能够抑制细微的裂缝(或划痕)朝向膜应力释放方向显著延伸。
此外,在显示设备1b中,由于在显示设备1b的异形边缘部BL1的所述弯曲部分附近的边框区域NA中设置有金属图案M3,因此,能够抑制周围的湿度或温度变化引起的树脂层的热膨胀或吸湿性膨胀导致的变形,也能够抑制细微裂缝(划痕)Cra朝向膜应力释放方向显著地延伸。
(变形例3及变形例4)
图4(a)是示出变形例3的显示设备1c中的切口部周围的边框区域的概要构成的剖视图,图4(b)是示出变形例4的显示设备1d中的切口部周围的边框区域的概要构成的剖视图,图4(c)是示出变形例4的显示设备1d中的折叠狭缝CL及端子部TMn的概要构成的剖视图。
与图2(a)所示的显示设备1相同的,在图4(a)所示的显示设备1c中,尽管金属图案M4以大致L型地形成在第二框状堤9b和显示设备1c的异形边缘部BL1之间,但不限于此,金属图案M4也可以以其他形状形成在显示区域DA和显示设备1c的异形边缘部BL1之间。
此外,如图4(a)所示,在显示设备1c中,金属图案M4形成在紧挨着无机绝缘膜(第二绝缘膜)20的上方,其为与形成图1(b)所示的显示区域DA所具备的源极及漏极配线SH的层相同的层。即,金属图案M4被夹在无机绝缘膜(第二绝缘膜)20和第一无机密封膜26之间。
在显示设备1c中,如图4(a)所示,金属图案M4形成在紧挨着无机绝缘膜20的上方。通过这样做,能够在由阻挡层3、无机绝缘膜16、无机绝缘膜18、无机绝缘膜20、第一无机密封膜26、第二无机密封膜28构成的无机层叠膜上形成划分为:由阻挡层3、无机绝缘膜16、无机绝缘膜18、无机绝缘膜20构成的无机层叠膜;由第一无机密封膜26、第二无机密封膜28构成的无机层叠膜,的部分。由此,由于无机层叠膜的厚度厚,能够抑制细微的裂缝(或划痕)朝向膜应力释放方向显著延伸。
此外,在显示设备1c中,由于在显示设备1c的异形边缘部BL1的所述弯曲部分附近的边框区域NA中设置有金属图案M4,因此,能够抑制周围的湿度或温度变化引起的树脂层的热膨胀或吸湿性膨胀导致的变形,也能够抑制细微裂缝(划痕)Cra朝向膜应力释放方向显著地延伸。
与图2(a)所示的显示设备1相同的,在图4(b)所示的显示设备1d中,尽管金属图案M5以大致L型地形成在第二框状堤9b和显示设备1d的异形边缘部BL1之间,但不限于此,金属图案M5也可以以其他形状形成在显示区域DA和显示设备1d的异形边缘部BL1之间。
此外,如图4(b)所示,在显示设备1d中,金属图案M5形成在与形成图1(b)所示的显示区域DA所具备的源极及漏极配线SH的层相同的层中。
并且,在图4(b)所示的显示设备1d中,第一无机密封膜26及第二无机密封膜28形成至与第二框状堤9b重叠的位置为止,在第二框状堤9b的外侧未形成第一无机密封膜26及第二无机密封膜28,这一点与图1(b)所示的显示设备1的构成不同。
因此,在图4(b)所示的显示设备1d中,由阻挡层3、无机绝缘膜16、无机绝缘膜18、无机绝缘膜20构成的无机层叠膜的端部形成于比树脂层12的端部更靠近显示区域DA侧(图中的左侧),并以覆盖无机层叠膜的端部的方式形成平坦化膜31,其中,该无机层叠膜是形成金属图案M5的金属层的下层。并且,以覆所示盖无机层叠膜中的无机绝缘膜20和平坦化膜31之间的界面的方式形成金属图案M5。然后,以覆盖金属图案M5、无机绝缘膜20、平坦化膜31的方式形成有层间绝缘膜21。
如图4(c)所示,在显示设备1d中,在显示区域DA和端子部TM1至TMn之间的第二框状堤9b的外侧,形成有用于折叠显示设备1d的折叠狭缝CL。
端子部TM1至TMn中的每一个经由多个第一接触孔CON1每一个,与引出配线TW1至TWn中的每一个电连接。
折叠狭缝CL被作为树脂层的平坦化膜31填充,在被平坦化膜31填充的折叠狭缝CL上,每一个导电部件JW1至JWn形成为岛状。导电部件JW1至JWn的每一个经由多个第二接触孔CON2的每一个,与来自显示区域DA的配线HW1至HWn的每一个电连接,并经由多个第三接触孔CON3的每一个,与引出配线TW1至TWn的每一个电连接。
并且,以覆盖平坦化膜31、导电部件JW1至JWn中的每个以及无机绝缘膜20的方式形成层间绝缘膜21,并且层间绝缘膜21中形成有多个开口21c,以使端子部TM1至TMn的每一个暴露。
作为平坦化膜31的的材料,例如,可举出聚酰亚胺树脂、环氧树脂、聚酰胺树脂等,但不限于此。
并且,在显示设备1d中,在相同工序中形成:覆盖由阻挡层3、无机绝缘膜16、无机绝缘膜18、无机绝缘膜20构成的无机层叠膜的端部的平坦化膜31;以及填充折叠狭缝CL的平坦化膜31。
此外,在显示设备1d中,由于在显示设备1d的异形边缘部BL1的所述弯曲部分附近的边框区域NA中设置有金属图案M5,因此,能够抑制周围的湿度或温度变化引起的树脂层的热膨胀或吸湿性膨胀导致的变形,也能够抑制细微裂缝(划痕)Cra朝向膜应力释放方向显著地延伸。
并且,本实施方式中,将金属图案M1至M5的每一个由一层形成的情况作为示例进行了说明,但不限于此,例如,也可以将如图2(b)所示的金属图案M1和图4(a)所示的金属图案M4组合并形成在显示设备的异形边缘部BL1附近的边框区域NA。此外,例如,也可以将图2(b)所示的金属图案M1、图3(b)所示的金属图案M3以及图4(a)所示的金属图案M4组合并形成在显示设备的异形边缘部BL1附近的边框区域NA。进一步,也可以形成在显示设备的异形边缘部BL1的所述弯曲部分附近的边框区域NA,进一步,也可以将金属图案M1和金属图案M4重叠形成,也可以将金属图案M1、金属图案M3、金属图案M4重叠形成。
〔第二实施方式〕
接下来,基于图5说明本发明的第二实施方式。本实施方式的显示设备50中,金属图案M6在与相邻切口部K1的直线部分正交的方向上具有端部ED1或端部ED2,金属图案M6的宽度形成为越接近端部ED1或端部ED2而变小,这些点不同于第一实施方式,其他部分与第一实施方式中的说明相同。为了便于说明,对与在第一实施方式中说明的构件具有相同功能的构件,标注相同的附图标记,省略其说明。
图5(a)是示出第一实施方式的显示设备1中的切口部K1周围的边框区域NA的俯视图,图5(b)是示出第二实施方式的显示设备50中的切口部K1周围的边框区域NA的俯视图。
如图5(a)所示,金属图案M1的两端部接近显示设备1的异形边缘部BL1的情况下,在金属图案M1的两端部附近(图中,D部分及E部分)中,由于具有金属图案M1的部分和不具有金属图案M1的部分之间的热膨胀率的差异,可能在无机膜中产生裂缝。
因此,优选将金属图案M1与显示设备1的异形边缘部BL1隔开约100μm,但是,当将金属图案M1配置在远离显示设备1的异形边缘部BL1的位置时,相应地难以制造边框宽度小的显示设备。
因此,在如图5(b)所示的显示设备50中,为了减少金属图案M6的两端部ED1/ED2附近的影响,金属图案M6在与相邻切口部K1的直线部分正交的方向上具有端部ED1及端部ED2,金属图案M6的宽度形成为越接近端部ED1或端部ED2而变小。即,将金属图案M6设置为,越接近用于限定金属图案M6的总长度的两端部ED1/ED2的每一个,金属图案M6的宽度变小。并且,金属图案M6的总长度是沿着端部ED1和端部ED2之间的金属图案M6的距离。
如图5(b)所示,从金属图案M6的两端部ED1/ED2的每一个到相邻的显示设备50的异形边缘部BL1的直线部分中,可以画出与相邻的显示设备50的异形边缘部BL1的直线部分正交的直线KL1/KL2。本实施方式中,以如下形状形成金属图案M6:沿着直线KL1的、金属图案M6的端部ED1和相邻的显示设备50的异形边缘部BL1之间的距离为100μm以上,并且,沿着直线KL2的、金属图案M6的端部ED2和相邻的显示设备50的异形边缘部BL1之间的距离也是100μm以上。
但是不限于此,金属图案M6也可以形成为,越接近端部ED1及端部ED2中的任意一个,金属图案M6的宽度变小。
通过这样形成金属图案M6,能够抑制金属图案M6的两端部ED1/ED2附近的无机膜中产生裂缝,并且能够实现显示设备50的窄边框化。
此外,金属图案M6可以形成在任何层之间,只要它在阻挡层和无机绝缘膜16之间、无机绝缘膜16和无机绝缘膜18之间、无机绝缘膜18和无机绝缘膜20之间、无机绝缘膜20和第一无机密封膜26之间即可。
并且,在本实施方式中,金属图案M6沿着显示设备50的异形边缘部BL1的弯曲部分的形状以大致L型地形成,但不限于此,金属图案M6也可以以其他形状形成。
〔第三实施方式〕
接下来,基于图6说明本发明的第三实施方式。在本实施方式的显示设备60的切口部的周围的边框区域中,由阻挡层3、无机绝缘膜16、无机绝缘膜18、无机绝缘膜20构成的无机层叠膜的端部形成于比树脂层12的端部更靠近显示区域DA侧(图中的左侧),其中,该无机层叠膜是形成金属图案M7的金属层的下层。并且,金属图案M7被形成为覆盖所述无机层叠膜的端部,这一点与第一及第二实施方式不同,其他部分与第一及第二实施方式中的说明相同。为了便于说明,对与在第一及第二实施方式中说明的构件具有相同功能的构件,标注相同的附图标记,省略其说明。
图6是示出显示设备60中的切口部周围的边框区域的概要构成的剖视图。
与图2(a)所示的显示设备1相同的,在图6(a)所示的显示设备60中,尽管金属图案M7以大致L型地形成在第二框状堤9b和显示设备1c的异形边缘部BL1之间,但不限于此,金属图案M7也可以以其他形状形成在显示区域DA和显示设备60的异形边缘部BL1之间。
此外,在显示设备60中,金属图案M7形成在与形成图1(b)所示的显示区域DA所具备的源极及漏极配线SH的层相同的层中。
并且,在图6所示的显示设备60中,第一无机密封膜26及第二无机密封膜28形成至与第二框状堤9b重叠的位置为止,在第二框状堤9b的外侧未形成第一无机密封膜26及第二无机密封膜28,这一点与图1(b)所示的显示设备1的构成不同。
因此,在图6所示的显示设备60中,由阻挡层3、无机绝缘膜16、无机绝缘膜18、无机绝缘膜20构成的无机层叠膜的端部形成于比树脂层12的端部更靠近显示区域DA侧(图中的左侧),并以覆盖所述无机层叠膜的端部的方式形成金属图案M7,其中,该无机层叠膜是形成金属图案M7的金属层的下层。然后,以覆盖无机绝缘膜20和金属图案M7的方式形成有相间绝缘膜21。
在显示设备60中,由于在显示设备60的异形边缘部BL1的所述弯曲部分附近的边框区域NA中设置有金属图案M7,因此,在该部分中,能够抑制周围的湿度或温度变化引起的树脂层的热膨胀或吸湿性膨胀导致的变形,也能够抑制细微裂缝(划痕)Cra朝向膜应力释放方向显著地延伸。
〔总结〕
〔第一方面〕
一种具备显示区域、所述显示区域的周围的边框区域以及设置在所述边框区域的切口部的显示设备,其特征在于,所述显示设备具备:树脂层;多个无机绝缘膜,其形成在所述树脂层上;金属层,其形成在所述多个无机绝缘层中的一个无机绝缘膜的上方并与之接触,并在所述显示设备的异形边缘部和所述显示区域之间形成有由所述金属层形成的金属图案,其中,所述异形边缘部是所述边框区域且用于形成所述切口部,所述金属图案以沿着所述切口部的至少一部分形状的方式形成,所述金属图案与所述显示区域的配线没有电连接。
〔第二方面〕
如第一方面所述的显示设备,其特征在于,所述异形边缘部具有弯曲部分,所述金属图案具有沿着所述异形边缘部的弯曲部分的形状的部分。
〔第三方面〕
如第一或第二方面所述的显示设备,其特征在于,所述金属图案在与相邻的所述切口部的直线部分正交的方向上具有端部,所述金属图案的宽度形成为越接近所述端部而变小。
〔第四方面〕
如第一至第三方面的任意一个所述的显示设备,其特征在于,在所述树脂层上依次层叠包括在所述多个无机绝缘膜中的底涂膜、栅极绝缘膜、第一绝缘膜以及第二绝缘膜,所述显示区域具备晶体管元件和电容元件,其中,所述晶体管元件包括:形成为与所述栅极绝缘膜接触的栅极电极;以及包括在形成于所述第二绝缘膜上的源极及漏极配线中的源极电极及漏极电极,所述电容电极包括:包括在形成于所述第一绝缘膜上的电容配线中的电容电极;所述第一绝缘膜;与所述电容电极重叠的方式形成于所述第一绝缘膜的下方的电容相对电极,所述金属图案在所述切口部的周围的所述边框区域中,由第一金属层、第二金属层、第三金属层中的至少一层形成,其中,所述第一金属层是与形成所述栅极电极的层相同的层,所述第二金属层是与形成所述电容配线的层相同的层,所述第三金属层是与形成所述源极及漏极配线的层相同的层。
〔第五方面〕
如第四方面所述的显示设备,其特征在于,所述栅极电极形成在紧挨着所述底涂膜的上方,所述金属图案是所述第一金属层,并形成在所述底涂膜的上方。
〔第六方面〕
如第四方面所述的显示设备,其特征在于,所述栅极电极形成在所述栅极绝缘膜的上方,所述金属图案是所述第一金属层,并形成在所述栅极绝缘膜的上方。
〔第七方面〕
如第四方面所述的显示设备,其特征在于,所述金属图案是所述第二金属层,并形成在所述第一绝缘膜的上方。
〔第八方面〕
如第四方面所述的显示设备,其特征在于,所述金属图案是所述第三金属层,并形成在所述第二绝缘膜的上方。
〔第九方面〕
如第八方面所述的显示设备,其特征在于,在所述切口部的周围的所述边框区域中,在所述第三金属层的下层的所述多个无机绝缘膜中,至少所述第二绝缘膜的端部形成于比所述异形边缘部更靠近所述显示区域侧,以覆盖所述第二绝缘膜的端部和所述第二绝缘膜的一部分表面的方式形成平坦化膜,所述金属图案以横跨所述平坦化膜和所述第二绝缘膜的方式形成在所述平坦化膜和所述第二绝缘膜的表面上。
〔第十方面〕
如第八方面所述的显示设备,其特征在于,在所述切口部的周围的所述边框区域中,在所述第三金属层的下层的所述多个无机绝缘膜中,至少所述第二绝缘膜的端部形成于比所述异形边缘部更靠近所述显示区域侧,所述金属图案以横跨所述树脂层和所述第二绝缘膜的方式形成在所述树脂层和所述第二绝缘膜的表面上。
〔第十一方面〕
如第一至第十方面中任一项所述的显示设备,其特征在于,在所述边框区域中以包围所述显示区域的方式形成有突起部,所述金属图案形成在所述突起部和所述异形边缘部之间。
〔第十二方面〕
如第十一方面所述的显示设备,其特征在于,所述突起部包括包围所述显示区域的第一突起部和包围所述第一突起部的第二突起部,所述金属图案形成在所述第二突起部和所述异形边缘部之间。
〔第十三方面〕
如第五至第八方面中任一项所述的显示设备,其特征在于,所述金属图案被夹在所述多个无机绝缘膜中。
〔第十四方面〕
如第一至第十三方面中任一项所述的显示设备,其特征在于,所述树脂层是聚酰亚胺树脂层。
〔第十五方面〕
一种用于制造具备显示区域、所述显示区域的周围的边框区域以及设置在所述边框区域的切口部的显示设备的制造方法,其特征在于,所述制造方法包括:树脂层形成工序;在所述树脂层上形成多个无机绝缘膜的工序;形成金属层的工序,其中,所述金属层与所述多个无机绝缘层中的一个无机绝缘膜的上方接触地形成;形成金属图案的工序,其中,在所述边框区域即形成所述切口部的所述显示设备的异形边缘部和所述显示区域之间,以沿着所述切口部的至少一部分形状的方式,对所述金属层进行图案化。
〔附记事项〕
本发明不限于上述各实施方式,能在权利要求所示的范围中进行各种变更,将在不同的实施方式中分别公开的技术手段适当组合而得到的实施方式也包含于本发明的技术范围。而且,能够通过组合各实施方式分别公开的技术方法来形成新的技术特征。
本发明可利用在显示设备及显示设备的制造方法中。
附图标记说明
1/1a/1b/1c/1d/50/60显示设备、3阻挡层(底涂膜)、4 TFT层、5有机EL元件层、6密封层、9a第一突起部(第一堤)、9b第二突起部(第二堤)、10基底基板、11粘接剂层、12树脂层、16无机绝缘膜(栅极绝缘膜)、18无机绝缘膜(第一绝缘膜)、20无机绝缘膜(第二绝缘膜)、21层间绝缘膜、26第一无机密封膜、27有机密封膜、28第二无机密封膜、31平坦化膜、M1至M7金属图案、BL1异形边缘部、K1切口部、DA显示区域、NA边框区域、TM1至TMm端子部、TW1至TWn引出配线、HWn自显示区域的配线、JWn导电部件、CON1第一接触孔、CON2第二接触孔、CON3第三接触孔、Tr薄膜晶体管元件、GE栅极电极(第一金属层)、SH源极及漏极配线(第三金属层)、CE电容配线(第二金属层)、CL折叠狭缝。
Claims (15)
1.一种具备显示区域、所述显示区域的周围的边框区域以及设置在所述边框区域的切口部的显示设备,其特征在于,
所述显示设备具备:树脂层;多个无机绝缘膜,其形成在所述树脂层上;金属层,其形成在所述多个无机绝缘层中的一个无机绝缘膜的上方并与之接触,
在所述边框区域即形成所述切口部的所述显示设备的异形边缘部和所述显示区域之间形成有由所述金属层形成的金属图案,其中,所述金属图案以沿着所述切口部的至少一部分形状的方式形成,所述金属图案与所述显示区域的配线没有电连接。
2.如权利要求1所述的显示设备,其特征在于,
所述异形边缘部具有弯曲部分,所述金属图案包括沿着所述异形边缘部的弯曲部分的形状的部分。
3.如权利要求1或2所述的显示设备,其特征在于,
所述金属图案在与相邻的所述切口部的直线部分正交的方向上具有端部,所述金属图案的宽度形成为越接近所述端部而变小。
4.如权利要求1至3中任一项所述的显示设备,其特征在于,
在所述树脂层上依次层叠包括在所述多个无机绝缘膜中的底涂膜、栅极绝缘膜、第一绝缘膜以及第二绝缘膜,
所述显示区域具备晶体管元件和电容元件,其中,所述晶体管元件包括:形成为与所述栅极绝缘膜接触的栅极电极;以及包括在形成于所述第二绝缘膜上的源极及漏极配线中的源极电极及漏极电极,所述电容电极包括:包括在形成于所述第一绝缘膜上的电容配线中的电容电极;所述第一绝缘膜;与所述电容电极重叠的方式形成于所述第一绝缘膜的下方的电容相对电极并,
所述金属图案在所述切口部的周围的所述边框区域中,由第一金属层、第二金属层、第三金属层中的至少一层形成,其中,所述第一金属层是与形成所述栅极电极的层相同的层,所述第二金属层是与形成所述电容配线的层相同的层,所述第三金属层是与形成所述源极及漏极配线的层相同的层。
5.如权利要求4所述的显示设备,其特征在于,
所述栅极电极形成在紧挨着所述底涂膜的上方,所述金属图案是所述第一金属层,并形成在所述底涂膜的上方。
6.如权利要求4所述的显示设备,其特征在于,
所述栅极电极形成在所述栅极绝缘膜的上方,所述金属图案是所述第一金属层,并形成在所述栅极绝缘膜的上方。
7.如权利要求4所述的显示设备,其特征在于,
所述金属图案是所述第二金属层,并形成在所述第一绝缘膜的上方。
8.如权利要求4所述的显示设备,其特征在于,
所述金属图案是所述第三金属层,并形成在所述第二绝缘膜的上方。
9.如权利要求8所述的显示设备,其特征在于,
在所述切口部的周围的所述边框区域中,在所述第三金属层的下层的所述多个无机绝缘膜中,至少所述第二绝缘膜的端部形成于比所述异形边缘部更靠近所述显示区域侧,
以覆盖所述第二绝缘膜的端部和所述第二绝缘膜的一部分表面的方式形成平坦化膜,
所述金属图案以横跨所述平坦化膜和所述第二绝缘膜的方式形成在所述平坦化膜和所述第二绝缘膜的表面上。
10.如权利要求8所述的显示设备,其特征在于,
在所述切口部的周围的所述边框区域中,在所述第三金属层的下层的所述多个无机绝缘膜中,至少所述第二绝缘膜的端部形成于比所述异形边缘部更靠近所述显示区域侧,
所述金属图案以横跨所述树脂层和所述第二绝缘膜的方式形成在所述树脂层和所述第二绝缘膜的表面上。
11.如权利要求1至10中任一项所述的显示设备,其特征在于,
在所述边框区域中以包围所述显示区域的方式形成有突起部,
所述金属图案形成在所述突起部和所述异形边缘部之间。
12.如权利要求11所述的显示设备,其特征在于,
所述突起部包括包围所述显示区域的第一突起部和包围所述第一突起部的第二突起部,
所述金属图案形成在所述第二突起部和所述异形边缘部之间。
13.如权利要求5至8中任意一项所述的显示设备,其特征在于,
所述金属图案被夹在所述多个无机绝缘膜中。
14.如权利要求1至13中任意一项所述的显示设备,其特征在于,
所述树脂层是聚酰亚胺树脂层。
15.一种显示设备的制造方法,该显示设备具备显示区域、所述显示区域的周围的边框区域以及设置在所述边框区域的切口部,其特征在于,
所述制造方法包括:
形成树脂层的工序;
在所述树脂层上形成多个无机绝缘膜的工序;
形成金属层的工序,其中,所述金属层形成在所述多个无机绝缘层中的一个无机绝缘膜的上方并与之接触;
形成金属图案的工序,其中,在所述边框区域即形成所述切口部的所述显示设备的异形边缘部和所述显示区域之间,以沿着所述切口部的至少一部分形状的方式,对所述金属层进行图案化。
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