CN111896677A - 一种痕量气体分析装置以及方法 - Google Patents

Abstract

本申请提供一种痕量气体分析装置以及方法，其中，装置包括：采样管、采样室、气体分析单元、吸附单元、真空泵单元以及监测采样室真空度的真空计；采样管的出气口与采样室的进气口连通，采样管的进气口用于连通工艺腔室的出气口，工艺腔室输出的待测气体以分子流的流动状态经采样管输送至采样室；采样室的出气口与气体分析单元的进气口、吸附单元的进气口和真空泵组的抽气口分别连通。本申请待测气体以分子流的流动状态输送至采样室，从而消除了痕量气体采样时的分子歧视效应，痕量气体以外的气体被吸附单元吸附了，采样室内的痕量气体的分压和工艺腔室内的痕量气体的分压是相同的，即痕量气体具有较高的信号。因此，提高了痕量气体分析结果的准确度。

Description

一种痕量气体分析装置以及方法

技术领域

本申请涉及测量技术领域，具体涉及一种痕量气体分析装置以及方法。

背景技术

在工业生产领域中，常常需要分析各类工艺腔室的气体成分、分压和浓度，尤其是其中痕量气体的气体成分、分压和浓度，以判断生产工艺是否满足技术要求，并及时反馈控制，确保工业生产的正常运行。

例如：气体激光器在工业上具有广泛的应用，其性能与工质气体的成分与浓度，以及工质中的污染性痕量气体的含量密切相关，需要实时分析气体激光器放电腔内的痕量气体成分及浓度。再如，极紫外(EUV)光刻机真空系统包含许多个不同要求的工艺腔室，需要时刻对各真空腔内的痕量气体含量进行严密监测，如O₂和C_xH_y等气体的成分和分压。

因此，需要提供一种能够较为准确地分析工艺腔室气体成分、分压的痕量气体分析装置。

发明内容

本申请的目的是提供一种痕量气体分析装置以及方法。

本申请一方面提供一种痕量气体分析装置，包括：采样管、采样室、气体分析单元、吸附单元、真空泵单元以及监测所述采样室真空度的真空计；

所述采样管的出气口与所述采样室的进气口连通，所述采样管的进气口用于连通工艺腔室的出气口，所述工艺腔室输出的待测气体以分子流的流动状态经所述采样管输送至所述采样室；

所述采样室的出气口与所述气体分析单元的进气口、所述吸附单元的进气口和所述真空泵组的抽气口分别连通，其中，所述吸附单元用于吸附所述待测气体中的主体气体。

在本申请的一些实施方式中，所述采样管包括至少一段分子流段，所述分子流段的内径不大于λ/10，λ为经过所述分子流段的所述待测气体的分子自由程。

在本申请的一些实施方式中，所述分子流段为毛细管或微孔结构。

在本申请的一些实施方式中，所述采样管上位于所述采样管的进气口和所述分子流段之间的管段上开设有分压口，所述分压口与所述真空泵单元的抽气口连通。

在本申请的一些实施方式中，所述采样管上位于所述分压口与所述分子流段之间的管段上设有气压计。

在本申请的一些实施方式中，所述吸附单元包括气体第一吸附模块和第二吸附模块，所述第一吸附模块包括用于吸附所述待测气体中主体气体的吸附材料，所述第二吸附模块包括用于吸附水蒸气的吸附材料。

在本申请的一些实施方式中，所述第一吸附模块的出气口和所述第二吸附模块的出气口分别与所述真空泵单元的抽气口连通。

在本申请的一些实施方式中，所述装置还包括对所述采样管和所述采样室加热的加热器。

本申请另一方面提供一种痕量气体分析方法，包括：

采用真空泵单元对采样室进行抽真空；

使工艺腔室内的待测气体通过采样管输送至所述采样室，吸附单元吸附所述待测气体中痕量气体以外的气体，直至采样室内痕量气体的分压稳定不变；

利用气体分析单元对所述采样室内的所述痕量气体进行分析。

在本申请的一些实施方式中，所述使工艺腔室内的待测气体通过采样管输送至所述采样室，还包括：

确定所述工艺腔室的出气口输出的待测气体的气压是否大于预设气压阈值，

若大于，则开启所述真空泵单元抽取部分所述工艺腔室输出的待测气体，以使通过所述采样管输送的所述待测气体的气压不大于所述预设气压阈值。

相较于现有技术，本申请提供的痕量气体分析装置以及方法，首先将工艺腔室内的待测气体以分子流的流动状态输送至采样室，也就是说，气体的流动靠采样管内分子密度梯度推动进行，待测气体中的不同气体分子单独运动，不同气体之间的碰撞少到可以忽略的程度，从而避免了不同气体成分在传输时的相互干扰，从而消除了痕量气体采样时的分子歧视效应。同时，对于工艺腔室内的待测气体是常压或真空气体时，采样室内痕量气体以外的气体被吸附单元吸附了，待采样室内的痕量气体的分压稳定后，采样室内的痕量气体的分压和工艺腔室内的痕量气体的分压是相同的，故痕量气体具有较高的信号。因此，本申请的痕量气体分析装置提高了分析结果的正确度。

进一步地，对于工艺腔室内的待测气体是高压气体时，可以首先对待测气体的气压进行等比衰减，由于气压衰减后的待测气体以分子流的流动状态输送至采样室，故工艺腔室内的痕量气体的分压和采样室内测得的痕量气体的分压有比例关系，从而实现了对高压的待测气体中的痕量气体的分析。

附图说明

通过阅读下文优选实施方式的详细描述，各种其他的优点和益处对于本领域普通技术人员将变得清楚明了。附图仅用于示出优选实施方式的目的，而并不认为是对本申请的限制。而且在整个附图中，用相同的参考符号表示相同的部件。在附图中：

图1示出了本申请的一些实施方式所提供的一种痕量气体分析装置的结构示意图；

图2示出了本申请的一些实施方式所提供的另一种痕量气体分析装置的结构示意图；

图3示出了本申请的一些实施方式所提供的一种痕量气体分析方法的流程图；

其中，附图标记为：1、工艺腔室；2、采样管；21、毛细管；22、微孔结构；23、分压口；3、采样室；4、吸附单元；41、第一吸附模块；42、第二吸附模块；5、气体分析单元；6、真空泵单元；7、真空计；81、第一阀门；82、第二阀门；83、第三阀门；84、第四阀门；85、第五阀门；86、第六阀门；87、第七阀门；88、第八阀门；89、第九阀门；9、气压计。

具体实施方式

下面将参照附图更详细地描述本公开的示例性实施方式。虽然附图中显示了本公开的示例性实施方式，然而应当理解，可以以各种形式实现本公开而不应被这里阐述的实施方式所限制。相反，提供这些实施方式是为了能够更透彻地理解本公开，并且能够将本公开的范围完整的传达给本领域的技术人员。

需要注意的是，除非另有说明，本申请使用的技术术语或者科学术语应当为本申请所属领域技术人员所理解的通常意义。

另外，术语“第一”和“第二”等是用于区别不同对象，而不是用于描述特定顺序。此外，术语“包括”和“具有”以及它们任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。例如包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备没有限定于已列出的步骤或单元，而是可选地还包括没有列出的步骤或单元，或可选地还包括对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。

本申请实施例提供一种痕量气体分析装置，下面结合实施例及附图1至2进行示例性说明。

如图1所示，本申请的痕量气体分析装置，可以包括：采样管2、采样室3、气体分析单元5、吸附单元4、真空泵单元6以及监测采样室3真空度的真空计7；

采样管2的出气口与采样室3的进气口连通，采样管2的进气口用于连通工艺腔室1的出气口，其中，工艺腔室1输出的待测气体以分子流的流动状态经采样管2输送至采样室3；

采样室3的出气口与气体分析单元5的进气口、吸附单元4的进气口和真空泵组的抽气口分别连通，其中，吸附单元4用于吸附待测气体中的主体气体。

其中，工艺腔室1为待测气体的容器，例如准分子激光器放电腔、极紫外(EUV)光刻机的真空腔等，也可以是其它高压、常压和真空容器。工艺腔室1的出气口是工艺腔室1内的待测气体(气体样本)的出气口。

痕量气体是指待测气体内含量极低的气体，如含量低于10ppm的气体。例如，极紫外光刻工艺气体中的HBr、O2、碳氢化合物等都属于痕量气体。

待测气体中的主体气体是指待测气体中含量较大的气体，也即痕量气体以外的气体，例如，极紫外光刻工艺气体中的氢气、氩气等。当然，工艺腔室不同，工艺腔室内的主体气体也不同。

吸附单元4能吸附待测气体中痕量气体以外的气体，吸附单元4包括吸附材料，吸附材料根据待测气体的不同而不同。

分子流是气体在气体输送管内流动时的一种流动状态，当气体输送管中气体压力进一步降低到气体分子平均自由程和气体输送管直径相当时，气体间的碰撞少到可以忽略的程度，气体分子只与管壁碰撞，气体的流动靠管内分子密度梯度推动进行，是大量分子单独运动的综合效果。

气体分析单元5(如四极质谱计、飞行时间质谱计、离子阱质谱计或其它气体分析仪器等)对采样室3内待测气体的分析结果可以包括痕量气体的分压、待测气体中的痕量气体的成分等。

本实施例的痕量气体分析装置对待测气体分析时，采样管2的进气口连通工艺腔室1的出气口，待测气体在采样管2内以分子流的流动状态输送至采样室3内，采样室3内待测气体中的痕量气体以外的气体被吸附单元4吸附了，待采样室3内的痕量气体的分压稳定后，即采样室3内的痕量气体的分压和工艺腔室1内的痕量气体的分压达到基本一致，采用气体分析单元5对采样室3内的痕量气体进行分析。

相较于现有技术，本申请提供的痕量气体分析装置，首先将工艺腔室1内的待测气体以分子流的流动状态输送至采样室3，当气体流态是分子流时，不同气体成分的输运特性仅与气体分子自身和管径有关，不同气体分子之间互不影响。也就是说，气体的流动靠采样管2内分子密度梯度推动进行，待测气体中的不同气体分子单独运动，不同气体之间的碰撞少到可以忽略的程度，从而避免了不同气体成分在传输时的相互干扰，从而消除了痕量气体采样时的分子歧视效应。同时，采样室3内痕量气体以外的气体被吸附单元4吸附了，待采样室3内的痕量气体的分压稳定后，采样室3内的痕量气体的分压和工艺腔室1内的痕量气体的分压是相同的，故痕量气体具有较高的信号。可见，本申请提供的痕量气体分析装置，消除了痕量气体的分子歧视，且痕量气体具有较高的信号，故提高了痕量气体分析结果的准确度。

进一步地，采样管2上设有第一阀门81，连通真空泵单元6的抽气口和采样室3的出气口的气体输送管上设有第二阀门82。连通真空计7和采样室3的出气口的气体输送管上设有第三阀门83，当然连通吸附单元4和采样室3的出气口的气体输送管上也设有阀门。在本申请中，阀门可以是采用球阀、针阀或波纹管截止阀等。

更进一步地，为尽可能降低装置本底，采样管2材质优先选用不锈钢或石英玻璃，也可选用硅基材料或其它材料。

在本申请实施例的一些变更实施方式中，采样管2包括至少一段分子流段，分子流段的内径不大于λ/10，λ为经过分子流段的待测气体的分子自由程。

也就是，分子流段的直径d与气体分子自由程λ满足如下关系式：

d≤λ/10

其中，平均自由程是指：在一定的条件下，一个气体分子在连续两次碰撞之间可能通过的各段自由程的平均值，微粒的平均自由程是指微粒与其他微粒碰撞所通过的平均距离。用符号λ表示，单位为米。

由于气体在管内的流态与管径有关，故为了更好的实现气体分子的分子流的流动状态，采样管2包括至少一段分子流段。本实施例中，可以是整个采样管2的内径均不大于λ/10，也可以是采样管2上部分管段(即分子流段)的内径不大于λ/10。

进一步地，分子流段为毛细管21或微孔结构22。

一般情况下，气体分子自由程λ很小，故分子流段的直径更小，大多采用毛细管21(即内径不大于1mm的细管)。

当然，工艺腔室1内待测气体的气压越大，其分子自由程λ越小，从而分子流段的内径也越小，故此时分子流段可以是易于制造地微孔结构22(即孔径是几十纳米，甚至几纳米的孔)，即采用微孔结构22进行气体的分子流采样，之后再进行气体分析。

在本申请实施例的一些变更实施方式中，采样管2上位于采样管2的进气口和分子流段之间的管段上开开设有分压口23，分压口23与真空泵单元6的抽气口连通。

其中，连通真空泵单元6的抽气口和分压口23的气体输送管上设有第四阀门84。

原则上，当工艺腔室1内的气压较大时，待测气体的分子自由程λ可以低至百纳米甚至十纳米级别，故要求分子流段具有更小的内径，其制作困难、易于堵塞且成本较高。

本实施例中，工艺腔室1内的待测气体的气压较高时，先将工艺腔室1的气压进行等比衰减再利用分子流段(毛细管21或微孔结构22)进行分子流采样，之后再进行气体分析。由于待测气体以分子流的流动状态输送至采样室3，从而工艺腔室1内的痕量气体的分压和采样室3内测得的痕量气体的分压有确定的比例关系，故可以根据该比例关系得到待测气体中的痕量气体的分压，从而实现了高压待测气体的痕量气体的分析。

其中，分子自由程非常小，工艺腔室1至分压口23之间的气体流动为连续流，气体传输没有选择性。采样室3内待测气体中的任一种痕量气体的分压与工艺腔室1内同种痕量气体的实际分压满足如下公式：

式中，P₁是工艺腔室1内待测气体的气压；

P₂是待测气体衰减后的气压；

P₃是气体分析单元5测得采样室3内的某种痕量气体分压；

P₄是工艺腔室1内同种痕量气体的实际分压。

进一步地，如图2所示，采样管2上位于分压口23与分子流段之间的管段上设有气压计9。

其中，连通气压计9和分压口23的气体输送管上设有第五阀门85，气压计9用于测量衰减后的气压P₂。

在本申请实施例的一些变更实施方式中，吸附单元4包括气体第一吸附模块41和第二吸附模块42，第一吸附模块41包括用于吸附待测气体中主体气体的吸附材料，第二吸附模块42包括用于吸附水蒸气的吸附材料。

其中，上述吸附材料仅对痕量气体以外的气体有吸附作用，并且对痕量气体成分没有任何作用，既不吸附痕量气体，也不产生痕量气体，上述吸附作用包括物理吸附和化学吸附。连通第一吸附模块41的进气口和采样室3的出气口的气体输送管上设有第六阀门86；连通第二吸附模块42的进气口和采样室3的出气口的气体输送管连上设有第七阀门87。

说明，第一吸附模块的吸附材料能吸附待测气体中主体气体，可以根据主体气体的种类包括不同种类的吸附材料。当然，第二吸附模块主要用于吸附水蒸气，不代表第一吸附模块没有能吸附水蒸气的吸附材料，只是第一吸附模块的吸附材料的主要作用是吸附待测气体中痕量气体和水蒸气以外的气体。第二吸附模块的吸附材料的主要作用是吸附水蒸气。

进一步地，第一吸附模块41的出气口和第二吸附模块42的出气口分别与真空泵单元6的抽气口连通。

其中，连通第一吸附模块41的出气口与真空泵单元6的抽气口的气体输送管上设有第八阀门88，连通第二吸附模块42的出气口与真空泵单元6的抽气口的气体输送管上设有第九阀门89。

本实施例中，第一吸附模块41中的吸附材料和第二吸附模块42中的吸附材料都可以进行再生，以便多次重复使用。吸附材料进行再生操作时，会释放出原来吸附的大量气体，此时，可以打开第八阀门88和第九阀门89，以使真空泵单元6抽走吸附材料再生时释放的气体。

在本申请实施例的一些变更实施方式中，装置还包括对采样管2和采样室3加热的加热器。

本实施例中，加热器可以对采样管2和采样室3进行烘烤除气，以获得良好的本底，提高气体分析准确性。另外，加热器对采样室3烘烤除气还可以消除或减轻碳氢化合物等对采样室3的干扰。

在本申请实施例的一些变更实施方式中，气体分析单元5为四极质谱计、飞行时间质谱计或离子阱质谱计。

在本申请实施例的一些变更实施方式中，真空泵单元6包括分子泵、离子泵、罗茨泵、螺杆泵、涡旋干泵之一或组合。

本申请实施例提供一种痕量气体分析方法，该方法可以应用于上述的痕量气体分析装置，下面结合实施例及附图3进行示例性说明。

如图1至3所示，本申请的痕量气体分析方法，可以包括：

步骤101、采用真空泵单元6对采样室3进行抽真空。

如图1所示，在将痕量气体输入采样室3之前，首先关闭第一阀门81、第四阀门84、第五阀门85，打开第二阀门82、第三阀门83，开启真空计7和真空泵组，对采样室3抽真空，直至采样室3达到预定的真空度(如小于0.01Pa)，开启气体分析单元5实时监测系统本底。

步骤102、使工艺腔室1内待测气体通过采样管2输送至采样室3，吸附单元4吸附待测气体中痕量气体以外的气体，直至采样室3内痕量气体的分压稳定不变。

在该步骤中，打开第一阀门81，工艺腔室1内的待测气体进入采样室3，痕量气体以外的气体被吸附单元4吸附，残余气体只有待测的痕量气体，从而形成合适的真空环境。由于采样管2内的气流是分子流，痕量气体的流动与主要气体成分互不干扰，经过一定时间的积累，采样室3与工艺腔室1的痕量气体达到平衡，具有相同的气体分压。利用气体分析单元5测量采样室3内的痕量气体即可得到工艺腔室1内痕量气体的分压。

步骤103、利用气体分析单元5对采样室3内的痕量气体进行分析。

在该步骤中，当采样室3内痕量气体的分压稳定不变后，利用气体分析单元5对采样室3内的痕量气体进行分析，记录数据。

进一步地，待测气体分析完毕后，关闭第一阀门81、第一吸附模块41和第二吸附模块42，打开第二阀门82，利用真空泵单元6对装置抽真空。如果气体分析单元5监测到装置中没有污染性气体，则连续抽真空直至获得良好的装置本底。否则即开启加热器对装置进行烘烤除气，以消除或减轻污染，直至获得良好的系统本底。

待测气体排除完毕后，关闭痕量气体分析装置，使其保持真空状态，以利于下一次测试时获得良好的装置本底。还可以在气体采样分析装置内充入高纯度的保护性气体，如99.999％的氮气。

在本申请实施例的一些变更实施方式中，步骤102中，使工艺腔室内的待测气体通过采样管输送至采样室，还包括：

确定工艺腔室1的出气口输出的待测气体的气压是否大于预设气压阈值，

若大于，则开启真空泵单元6抽取部分工艺腔室1输出的待测气体，以使通过采样管2输送的待测气体的气压不大于预设气压阈值。

其中，预设气压阈值根据分子流段的内径能达到的最小尺寸确定。

如图2所示，打开第四阀门84、第五阀门85，真空泵单元6抽走部分待测气体，以使流经分子流段的待测气体的压力减小，从而分子流段的内径可以减小。

在本申请实施例的一些变更实施方式中，方法还包括，在使工艺腔室1通过采样管2向至采样室3输送待测气体，之前还包括：

采用气体分析单元5确定采样管2和/或采样室3内是否有污染性气体，

若有，则采用加热器对采样管2和/或采样室3进行加热。

如果气体分析单元5监测到系统本底很干净，没有污染性气体(如水蒸气、碳氢类气体)，则连续抽真空直至获得良好的装置本底，并记录本底数据。否则即开启加热器对装置进行烘烤除气，以消除或减轻污染，直至获得良好的装置本底。

需要说明的是，附图中的流程图和框图显示了根据本申请的多个实施例的系统、方法和计算机程序产品的可能实现的体系架构、功能和操作。在这点上，流程图或框图中的每个方框可以代表一个模块、程序段或代码的一部分，所述模块、程序段或代码的一部分包含一个或多个用于实现规定的逻辑功能的可执行指令。也应当注意，在有些作为替换的实现中，方框中所标注的功能也可以以不同于附图中所标注的顺序发生。例如，两个连续的方框实际上可以基本并行地执行，它们有时也可以按相反的顺序执行，这依所涉及的功能而定。也要注意的是，框图和/或流程图中的每个方框、以及框图和/或流程图中的方框的组合，可以用执行规定的功能或动作的专用的基于硬件的系统来实现，或者可以用专用硬件与计算机指令的组合来实现。

所属领域的技术人员可以清楚地了解到，为描述的方便和简洁，上述描述的系统、装置和单元的具体工作过程，可以参考前述方法实施例中的对应过程，在此不再赘述。

在本申请所提供的几个实施例中，应该理解到，所揭露的装置和方法，可以通过其它的方式实现。以上所描述的装置实施例仅仅是示意性的，例如，所述单元的划分，仅仅为一种逻辑功能划分，实际实现时可以有另外的划分方式，又例如，多个单元或组件可以结合或者可以集成到另一个系统，或一些特征可以忽略，或不执行。另一点，所显示或讨论的相互之间的耦合或直接耦合或通信连接可以是通过一些通信接口，装置或单元的间接耦合或通信连接，可以是电性，机械或其它的形式。

所述作为分离部件说明的单元可以是或者也可以不是物理上分开的，作为单元显示的部件可以是或者也可以不是物理单元，即可以位于一个地方，或者也可以分布到多个网络单元上。可以根据实际的需要选择其中的部分或者全部单元来实现本实施例方案的目的。

另外，在本申请各个实施例中的各功能单元可以集成在一个处理单元中，也可以是各个单元单独物理存在，也可以两个或两个以上单元集成在一个单元中。

所述功能如果以软件功能单元的形式实现并作为独立的产品销售或使用时，可以存储在一个计算机可读取存储介质中。基于这样的理解，本申请的技术方案本质上或者说对现有技术做出贡献的部分或者该技术方案的部分可以以软件产品的形式体现出来，该计算机软件产品存储在一个存储介质中，包括若干指令用以使得一台计算机设备(可以是个人计算机，服务器，或者网络设备等)执行本申请各个实施例所述方法的全部或部分步骤。而前述的存储介质包括：U盘、移动硬盘、只读存储器(ROM，Read-Only Memory)、随机存取存储器(RAM，Random Access Memory)、磁碟或者光盘等各种可以存储程序代码的介质。

最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本申请的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本申请进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例技术方案的范围，其均应涵盖在本申请的权利要求和说明书的范围当中。

Claims (10)

1.一种痕量气体分析装置，其特征在于，包括：采样管、采样室、气体分析单元、吸附单元、真空泵单元以及监测所述采样室真空度的真空计；

所述采样管的出气口与所述采样室的进气口连通，所述采样管的进气口用于连通工艺腔室的出气口，所述工艺腔室输出的待测气体以分子流的流动状态经所述采样管输送至所述采样室；

所述采样室的出气口与所述气体分析单元的进气口、所述吸附单元的进气口和所述真空泵组的抽气口分别连通，其中，所述吸附单元用于吸附所述待测气体中的主体气体。

2.根据权利要求1所述的痕量气体分析装置，其特征在于，所述采样管包括至少一段分子流段，所述分子流段的内径不大于λ/10，λ为经过所述分子流段的所述待测气体的分子自由程。

3.根据权利要求2所述的痕量气体分析装置，其特征在于，所述分子流段为毛细管或微孔结构。

4.根据权利要求2所述的痕量气体分析装置，其特征在于，所述采样管上位于所述采样管的进气口和所述分子流段之间的管段上开设有分压口，所述分压口与所述真空泵单元的抽气口连通。

5.根据权利要求3所述的痕量气体分析装置，其特征在于，所述采样管上位于所述分压口与所述分子流段之间的管段上设有气压计。

6.根据权利要求1所述的痕量气体分析装置，其特征在于，所述吸附单元包括气体第一吸附模块和第二吸附模块，所述第一吸附模块包括用于吸附所述待测气体中主体气体的吸附材料，所述第二吸附模块包括用于吸附水蒸气的吸附材料。

7.根据权利要求6所述的痕量气体分析装置，其特征在于，所述第一吸附模块的出气口和所述第二吸附模块的出气口分别与所述真空泵单元的抽气口连通。

8.根据权利要求1所述的痕量气体分析装置，其特征在于，所述装置还包括对所述采样管和所述采样室加热的加热器。

9.一种痕量气体分析方法，用于权利要求1至8任一所述的痕量气体分析装置，其特征在于，包括：

采用真空泵单元对采样室进行抽真空；

使工艺腔室内的待测气体通过采样管输送至所述采样室，吸附单元吸附所述待测气体中痕量气体以外的气体，直至采样室内痕量气体的分压稳定不变；

利用气体分析单元对所述采样室内的所述痕量气体进行分析。

10.根据权利要求9所述的痕量气体分析方法，其特征在于，所述使工艺腔室内的待测气体通过采样管输送至所述采样室，还包括：

确定所述工艺腔室输出的待测气体的气压是否大于预设气压阈值，

若大于，则开启所述真空泵单元抽取部分所述工艺腔室输出的待测气体，以使通过所述采样管输送的所述待测气体的气压不大于所述预设气压阈值。

Images