CN111855596A - 吸光分析装置及记录吸光分析装置用程序的程序记录介质 - Google Patents
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- 230000031700 light absorption Effects 0.000 title description 6
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 claims abstract description 156
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 43
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims abstract description 37
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 claims abstract description 34
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims abstract description 27
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims abstract description 22
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims abstract description 7
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 8
- 230000006870 function Effects 0.000 claims description 3
- 239000004576 sand Substances 0.000 claims description 2
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 claims 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 173
- 239000000463 material Substances 0.000 description 45
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 36
- 239000006200 vaporizer Substances 0.000 description 17
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 11
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 9
- 238000002309 gasification Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 4
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 101100023111 Schizosaccharomyces pombe (strain 972 / ATCC 24843) mfc1 gene Proteins 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 2
- 238000004847 absorption spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 239000011344 liquid material Substances 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/59—Transmissivity
- G01N21/61—Non-dispersive gas analysers
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/27—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands using photo-electric detection ; circuits for computing concentration
- G01N21/274—Calibration, base line adjustment, drift correction
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/31—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/31—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
- G01N21/314—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry with comparison of measurements at specific and non-specific wavelengths
-
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/59—Transmissivity
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N33/00—Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
- G01N33/0004—Gaseous mixtures, e.g. polluted air
- G01N33/0006—Calibrating gas analysers
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/31—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
- G01N21/314—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry with comparison of measurements at specific and non-specific wavelengths
- G01N2021/3166—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry with comparison of measurements at specific and non-specific wavelengths using separate detectors and filters
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2201/00—Features of devices classified in G01N21/00
- G01N2201/12—Circuits of general importance; Signal processing
- G01N2201/121—Correction signals
- G01N2201/1215—Correction signals for interfering gases
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2201/00—Features of devices classified in G01N21/00
- G01N2201/12—Circuits of general importance; Signal processing
- G01N2201/121—Correction signals
- G01N2201/1218—Correction signals for pressure variations
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2201/00—Features of devices classified in G01N21/00
- G01N2201/12—Circuits of general importance; Signal processing
- G01N2201/127—Calibration; base line adjustment; drift compensation
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Food Science & Technology (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
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Abstract
提供吸光分析装置及记录吸光分析装置用程序的程序记录介质。吸光分析装置具备检测器;总压传感器;吸光度计算部,基于检测器的输出值和预先设定的零基准值计算吸光度;分压‑吸光度关系存储部,存储表示调零时存在于检测器测定区域的干涉气体的分压与吸光度计算部算出的吸光度之间关系的分压‑吸光度关系数据;分压计算部,在已知浓度的干涉气体存在于测定区域的已知浓度状态下,基于由总压传感器测定的总压和浓度计算作为干涉气体的分压的干涉气体分压;吸光度推断部,基于干涉气体分压和分压‑吸光度关系数据推断作为干涉气体的吸光度的干涉气体吸光度;校正部,基于干涉气体吸光度和在已知浓度状态下的检测器的输出值进行更新零基准值的调零。
Description
技术领域
本发明涉及吸光分析装置及记录有吸光分析装置用程序的程序记录介质。
背景技术
以往,作为安装于半导体生产线且测定向成膜装置的腔室等供给的材料气体的浓度的吸光分析装置,具备检测透过气体的光的强度的检测器和测定该气体的总压的总压传感器。
应予说明,上述检测器的构造为具备例如:光源,将向气体照射光;滤光器,在从光源射出的光的波长的范围内透过材料气体吸收的波长(以下,也称为测定波长)的光;受光部,检测透过气体的测定波长的光的强度。
而且,在上述以往的吸光分析装置中,在对检测器进行调零的情况下,需要在检测器的测定区域中做出不存在吸收测定波长的光的气体(以下,也称为干涉气体)的状态。因此,在以往的吸光分析装置中,通过将检测器抽真空或者使用不吸收测定波长的光的气体(例如,N2气体)对检测器进行吹扫,从而做出上述状态而进行检测器的调零。
然而,通过上述以往的安装有吸光分析装置的半导体生产线,出于工艺流程上的原因,有无法做出上述状态的情况,这种情况下无法对检测器进行调零。应予说明,如果无法调零检测器的状态长时间持续,则存在漂移的影响变大,吸光分析装置测定精度降低的问题。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2014-224307号公报
发明内容
技术问题
因此,本发明的主要课题在于,在吸光分析装置中,即使在检测器的测定区域中存在干涉气体也能够进行调零。
技术方案
即,本发明的吸光分析装置具备:检测器,检测透过气体的光的强度;总压传感器,测定上述气体的总压;吸光度计算部,基于上述检测器的输出值和预先设定的零基准值计算吸光度;分压-吸光度关系存储部,对表示当调零时存在于上述检测器的测定区域的干涉气体的分压与通过上述吸光度计算部算出的吸光度之间的关系的分压-吸光度关系数据进行存储;分压计算部,在已知的浓度的上述干涉气体存在于上述测定区域中的已知浓度状态下,基于通过上述总压传感器测定的总压和上述浓度来计算作为上述干涉气体的分压的干涉气体分压;吸光度推断部,基于上述干涉气体分压和上述分压-吸光度关系数据推断作为上述干涉气体的吸光度的干涉气体吸光度;校正部,基于上述干涉气体吸光度和在上述已知浓度状态下的上述检测器的输出值进行更新上述零基准值的调零。
若是如此,在测定区域中存在具有已知的浓度的干涉气体的已知浓度状态下,基于通过总压传感器测定的总压和上述浓度来计算作为该干涉气体的分压的干涉气体分压,基于该干涉气体的分压和预先存储的表示该干涉气体的分压与吸光度之间的关系的分压-吸光度关系数据,推断作为该干涉气体的吸光度的干涉气体吸光度,基于该干涉气体吸光度和在上述已知浓度状态下的检测器的输出值,由于以进行更新零基准值的调零的方式构成,所以即使做出在检测器的测定区域中不存在干涉气体的状态,也能够进行调零。结果,能够在不使工艺流程停止的情况下定期地对检测器进行调零,能够维持吸光分析装置的分析精度不降低。
应予说明,用于本发明的调零时的干涉气体在检测器的测定波长处具有吸收且具有已知的浓度。
而且,作为上述校正部的具体的构成,可举出上述校正部进行将上述零基准值更新为由以下的数学式1算出的I0的调零。
【数学式1】
I0=I×10A
其中,I是在上述已知浓度状态下检测到的检测器的输出值,A是上述干涉气体吸光度。
而且,在除了进行上述检测器的调零以外还进行跨度校正的情况下,可以是上述吸光度计算部基于上述检测器的输出值、上述零基准值和预先设定的跨度吸光度来计算归一化吸光度;上述分压-吸光度关系存储部对表示当调零时存在于所述检测器的测定区域的干涉气体的分压与通过所述吸光度计算部算出的归一化吸光度之间的关系的分压-归一化吸光度关系数据进行存储;上述分压计算部在第1分压状态下和第2分压状态下分别计算上述干涉气体分压,上述第1分压状态是具有已知的浓度的所述干涉气体以预定分压存在于所述测定区域,上述第2分压状态是具有已知的浓度的上述干涉气体以与所述预定分压不同的分压存在于上述测定区域中;上述吸光度推断部基于所述各干涉气体分压和所述分压-归一化吸光度关系数据,推断在所述第1分压状态下和所述第2分压状态下的作为所述干涉气体的归一化吸光度的干涉气体归一化吸光度;上述校正部基于所述各干涉气体归一化吸光度以及在所述第1分压状态下和所述第2分压状态下的检测器的输出值,进行更新上述零基准值的调零和更新上述跨度吸光度的跨度校正。
若是如此,即使不做出在检测器的测定区域中不存在干涉气体的状态,也不仅能够调零还能够进行跨度校正。结果,能够在不使工艺流程停止的情况下定期地对检测器进行调零,能够维持吸光分析装置的分析精度不降低。
而且,作为上述检测器的具体的构成,可举出上述校正部进行将上述跨度吸光度更新为由以下的数学式2计算的AS的跨度校正以及将上述零基准值更新为由以下的数学式2和数学式3计算的I0的调零。
【数学式2】
【数学式3】
在这里,Ar1是在上述第1分压状态下的干涉气体归一化吸光度,Ar2是在上述第2分压状态下的干涉气体归一化吸光度,I1是在上述第1分压状态下检测到的检测器的输出值,I2是在上述第2分压状态下检测到的检测器的输出值。
而且,本发明的吸光分析装置用程序用于吸光分析装置,该吸光分析装置具备:检测器,检测透过气体的光的强度;总压传感器,测定上述气体的总压;吸光度计算部,基于上述检测器的输出值和预先设定的零基准值计算吸光度,上述程序记录介质发挥作为分压-吸光度关系存储部、分压计算部、吸光度推断部和校正部的功能,分压-吸光度关系存储部,对表示当调零时存在于上述检测器的测定区域的干涉气体的分压与通过上述吸光度计算部算出的吸光度之间的关系的分压-吸光度关系数据进行存储;分压计算部,在已知的浓度的上述干涉气体存在于上述测定区域中的已知浓度状态下,基于通过上述总压传感器测定的总压和上述浓度来算出作为上述干涉气体的分压的干涉气体分压;吸光度推断部,基于上述干涉气体分压和上述分压-吸光度关系数据推断作为上述干涉气体的吸光度的干涉气体吸光度;校正部,基于上述干涉气体吸光度和在上述已知浓度状态下的上述检测器的输出值进行更新上述零基准值的调零。应予说明,吸光分析装置用程序可以以电子方式发信,也可以记录于CD、DVD、闪存等程序记录介质。
根据如此构成的吸光分析装置,即使在检测器的测定区域中做出不存在干涉气体的状态,也能够调零检测器。
附图说明
图1是表示实施方式的连接有吸光分析装置的气化装置的示意图。
图2是表示实施方式的检测器的示意图。
图3是表示实施方式的检测器的变形例的示意图。
图4是表示实施方式的吸光分析装置的框图。
图5是表示实施方式的吸光分析装置的动作的流程图。
符号说明
100:气化装置
10:气化罐
L1:载气供给路径
L2:材料气体导出路径
L3:迂回流路
L4:稀释气体供给路径
20:切换机构
MFC1:第一流量控制装置
MFC2:第二流量控制装置
200:吸光分析装置
30:总压传感器
40:检测器
50:吸光度计算部
60:控制部
61:分压-吸光度关系存储部
62:已知浓度存储部
63:分压计算部
64:吸光度推断部
65:校正部
具体实施方式
以下,基于附图对本发明的吸光分析装置进行说明。
本发明的吸光分析装置例如安装于半导体生产线等而被使用。具体而言,吸光分析装置用于测定通过半导体生产线的气化装置生成并供给到腔室的气体的浓度。因此,在以下的实施方式中对设置于气化装置的状态的吸光分析装置进行说明。
〈实施方式〉
首先,对本实施方式的气化装置100进行详细说明。气化装置100是所谓的稀释式(流量式)。具体而言,如图1所示,气化装置100具备:气化罐10,储存液体或固体的材料;载气供给路径L1,向气化罐10供给载气;材料气体导出路径L2,将材料经气化的材料气体由气化罐10导出并供给到腔室CH;迂回流路L3,连接载气供给路径L1和材料气体导出路径L2;稀释气体供给路径L4,将稀释材料气体的稀释气体供给到材料气体导出路径L2;以及切换机构20,用于切换向腔室CH供给材料气体的材料气体供给模式和向腔室CH只供给载气的载气供给模式。
在上述载气供给路径L1中设置有控制载气的流量的第一流量控制装置MFC1。第一流量控制装置MFC1是具备例如热式的流量传感器、压电阀等流量调节阀和具备CPU和/或存储器等的控制电路的质量流量控制器。应予说明,载气供给路径L1以供给含有已知的浓度的干涉气体的载气的方式构成。
在上述材料气体导出路径L2中设置有后述的吸光分析装置200。应予说明,具体而言,吸光分析装置200设置于比材料气体导出路径L2与稀释气体供给路径L4的连接位置靠近下游侧的位置。
在上述稀释气体供给路径L4中设置有控制稀释气体的流量的第二流量控制装置MFC2。第二流量控制装置MFC2与第一流量控制装置MFC1相同,是具备例如热式的流量传感器、压电阀等流量调节阀和具备CPU和/或存储器等的控制电路的质量流量控制器。
上述切换机构20具有接收阀切换信号而进行开闭的多个阀V1~V4。并且,例如使用者通过使切换机构20的阀V1~V4在预先设定的时刻进行开闭,从而切换为材料气体供给模式或载气供给模式。
具体而言,上述切换机构20具备:第1阀V1,设置于比载气供给路径L1与迂回流路L3的连接位置靠近下游侧的位置;第2阀V2,设置于比材料气体导出路径L2与迂回流路L3的连接位置靠近上游侧的位置;第3阀V3,设置于迂回流路L3;第4阀V4,设置于稀释气体供给路径L4。
并且,上述切换机构20构成为通过打开第1阀V1、第2阀V2和第4阀V4并且关闭第3阀V3,从而切换为从材料气体导出路径L2向腔室CH的供给材料气体的材料气体供给模式。
另一方面,上述切换机构20构成为通过关闭第1阀V1、第2阀V2和第4阀V4并且打开第3阀V3,从而切换为从材料气体导出路径L2到腔室CH只供给载气的载气供给模式。
应予说明,上述气化装置100具备未图示的浓度控制部,如果切换为材料气体供给模式,则所述浓度控制部以使通过吸光分析装置200测定的材料气体的浓度接近预先设定的设定浓度的方式对第一流量控制装置MFC1和第二流量控制装置MFC2进行反馈控制。
接下来,对本实施方式的吸光分析装置200进行说明。上述吸光分析装置200具备设置于材料气体导出路径L2的总压传感器30和检测器40、基于检测器40的输出值计算吸光度的吸光度计算部50以及控制部60。应予说明,检测器40设置于比总压传感器30靠近下游侧的位置。
上述总压传感器30测定流经材料气体导出路径L2的气体的总压。
上述检测器40检测透过流经材料气体导出路径L2的气体的光的强度。具体而言,如图2所示,检测器40具备:光源41,向流经材料气体导出路径L2的气体照射光;滤光器42,在从光源41射出的光的波长的范围内透过材料气体(测定对象气体)吸收的波长(以下,也称为测定波长)的光;受光部43,检测透过滤光器42的测定波长的光的强度。应予说明,检测器40在将从材料气体导出路径L2中的光源41射出的光所透过的区域作为测定区域Z的情况下,在测定区域Z的一侧配置有光源41,在测定区域Z的另一侧配置有滤光器42和受光部43。另外,在光源41和材料气体导出路径L2之间以及滤光器42和材料气体导出路径L2之间分别设置有窗部件44。由此,光源41、滤光器42和受光部43不会和流经材料气体导出路径L2的气体直接接触。并且,检测器40将表示透过存在于测定区域Z的气体的光的强度的受光部43的输出信号作为输出值进行输出。
应予说明,如图3所示,上述检测器40在测定区域Z的另一侧除了可以具备滤光器42和受光部43以外,还可以具备透过材料气体不吸收的波长的光的参考用滤光器42r和检测透过参考用滤光器42r的波长的光的强度的参考用受光部43r。在这种情况下,作为检测器40的输出值,可以使用受光部43的输出信号与参考用受光部43r的输出信号之比。
另外,上述吸光度计算部50基于检测器40的输出值和预先设定的零基准值计算吸光度。在这里,零基准值是在不存在干涉气体的状态下检测到的检测器40的输出值。应予说明,具体而言,吸光度计算部50基于如下数学式4计算吸光度A。
【数学式4】
A=log(I0/I)
在这里,I是检测器的输出值,I0是零基准值。
上述控制部60在接收到调零实施信号的情况下,进行更新零基准值的调零。应予说明,控制部60在气化装置100切换为载气供给模式的状态下,换言之,在从材料气体导出路径L2向腔室CH供给含有已知的浓度的干涉气体的载气的状态下进行调零。具体而言,控制部60在气化装置100切换为载气供给模式之后,在压力等足够稳定的时刻接收从气化装置100向控制部60发送的调零实施信号来进行调零。
具体而言,上述控制部60与总压传感器30和检测器40连接,是具有CPU、存储器、AD转换器、DA转换器、输入部等的计算机。并且,控制部60构成为通过使用CPU来执行存储于上述存储器的程序,从而如图4所示,发挥分压-吸光度关系存储部61、已知浓度存储部62、分压计算部63、吸光度推断部64和校正部65等的功能。
上述分压-吸光度关系存储部61存储表示调零时存在于检测器40的测定区域Z的干涉气体的分压与通过吸光度计算部50计算出的吸光度之间的关系的分压-吸光度关系数据。应予说明,本实施方式的分压-吸光度关系存储部61存储表示在吸光分光装置200的出厂前获取的干涉气体的分压与吸光度之间的关系的分压-吸光度关系数据。
上述已知浓度存储部62存储干涉气体的已知的浓度。本实施方式的已知浓度存储部62存储从载气供给路径L1供给的载气所含的干涉气体的已知的浓度。应予说明,上述浓度可以选自0~100%中的任意的值。
上述分压计算部63在检测器40的测定区域中存在具有已知的浓度的干涉气体的已知浓度状态下,基于通过总压传感器30测定的总压和存储于已知浓度存储部62的干涉气体的已知的浓度,计算作为干涉气体的分压的干涉气体分压。应予说明,本实施方式的分压计算部63在接收到调零实施信号的情况下计算干涉气体分压。
上述吸光度推断部64基于通过分压计算部63算出的干涉气体分压和存储于分压-吸光度关系存储部61的分压-吸光度关系数据,推断作为干涉气体的吸光度的干涉气体吸光度。应予说明,本实施方式的吸光度推断部64推断载气所含的干涉气体吸光度。
上述校正部65基于通过吸光度推断部64推断出的干涉气体吸光度,以及在测定区域Z中已知的浓度的干涉气体所存在的已知浓度状态下通过该检测器40检测到的输出值,进行更新零基准值的调零。具体而言,校正部65将通过吸光度推断部64推断出的干涉气体吸光度A,以及在上述已知浓度状态下检测到的检测器40的输出值I代入到上述数学式1中来计算I0,进行将零基准值更新为该I0的调零。应予说明,本实施方式的校正部65将通过吸光度推断部64推断出的干涉气体吸光度A,以及在调零实施信号接收时检测到的检测器40的输出值I代入到上述数学式1中来计算I0,进行将零基准值更新为该I0的调零。
其次,对本实施方式的吸光分析装置200的校正动作进行说明。
首先,吸光分析装置200从气化装置100接收调零实施信号(步骤S1)。这样,分压计算部63获取通过总压传感器30测定的载气的总压,并且校正部65获取检测器40的输出值I(步骤S2)。
接着,分压计算部63基于获取到的总压和存储于已知浓度存储部62的载气所含的干涉气体的已知的浓度,算出作为载气所含的干涉气体的分压的干涉气体分压(步骤S3)。
接着,吸光度推断部64基于通过分压计算部53计算的干涉气体分压和存储于分压-吸光度关系存储部61的分压-吸光度关系数据,推断作为载气所含的干涉气体的吸光度的干涉气体吸光度(步骤S4)。
然后,校正部65将获取到的检测器40的输出值I和通过吸光度推断部64推断出的干涉气体吸光度A代入到上述数学式1中来计算I0,进行将零基准值更新为该I0的调零(步骤S5)。
据此,即使是从气化装置100向腔室CH持续恒定供给载气或材料气体中的任意一个的工艺流程,在气化装置100切换为载气供给模式的状态下也能够进行检测器40的调零。其结果,能够维持吸光分析装置200的测定精度。
应予说明,在进行本实施方式的检测器40的调零的情况下,对于设置有吸光分析装置200的材料气体导出路径L2,可以做出供含有已知的浓度的干涉气体的气体流通的状态。
因此,即使是下述的变形例也能够进行检测器40的调零。即,例如从稀释气体供给路径L4供给与载气相同成分的稀释气体。然后,构成为通过切换机构20,针对腔室CH,在供给材料气体的材料气体供给模式与仅供给稀释气体的稀释气体供给模式之间进行切换。据此,通过将气化装置100切换为稀释气体供给模式,从而能够做出从材料气体导出路径L2向腔室CH流通含有已知的浓度的干涉气体的稀释气体的状态,能够进行检测器40的调零。
另外,构成为通过切换机构20,针对腔室CH,在供给材料气体的材料气体供给模式与供给载气和稀释气体以已知的比例混合的混合气体的混合气体供给模式之间进行切换。据此,通过将气化装置200切换为混合气体供给模式,从而能够做出从材料气体导出路径L2向腔室CH流通含有已知的浓度的干涉气体的混合气体的状态,能够进行检测器40的调零。
应予说明,在上述实施方式中,虽然在从材料气体导出路径L2向腔室CH流通含有已知的浓度的干涉气体的气体的状态下进行调零,但是例如也可以在该气体流过材料气体导出路径L2之后,利用未图示的开关阀等对总压传感器30的上游侧和检测器40的下游侧进行密封,从而能够在该状态下进行调零。
〈其他的实施方式〉
作为其他的实施方式,可举出吸光度计算部50基于检测器40的输出值、预先设定的零基准值和预先设定的跨度吸光度来计算归一化吸光度,校正部65进行除了更新零基准值的调零以外,还进行更新跨度吸光度的跨度校正。应予说明,在这个情况下,具体而言,吸光度计算部50基于下述的数学式5计算归一化吸光度Ar。
【数学式5】
Ar=log(I0/I)/As
在这里,I为检测器的输出值,I0为零基准值,AS为跨度吸光度。
具体而言,在上述实施方式中,在将气化装置100切换为载气供给模式的状态下,做出第1分压状态和第2分压状态,所述第1分压状态是以干涉气体变为预定分压的条件向材料气体导出路径L2供给载气,所述第2分压状态是以干涉气体变为与上述预定分压不同的分压的条件向材料气体导出路径L2供给载气。具体而言,改变从载气供给路径L1供给的载气的压力,或者改变从载气供给路径L1供给的载气所含的干涉气体的浓度等,从而做出上述第1分压状态和上述第2分压状态。
另外,在分压-吸光度关系存储部61中,对表示在调零时存在于测定区域Z的干涉气体的分压与通过吸光度计算部50算出的归一化吸光度之间的关系的分压-归一化吸光度关系数据进行存储。
并且,可以是分压计算部63在第1分压状态下和第2分压状态下分别计算上述干涉气体分压,吸光度推断部64基于各干涉气体分压和分压-归一化吸光度关系数据,推断在第1分压状态下和第2分压状态下的作为干涉气体的归一化吸光度的干涉气体归一化吸光度,校正部65基于各干涉气体归一化吸光度以及在第1分压状态下和第2分压状态下的检测器40的输出值,进行更新零基准值的调零和更新跨度吸光度的跨度校正。
具体而言,可以是校正部65将第1分压状态下的检测器40的输出值I1和干涉气体归一化吸光度Ar1以及第2分压状态下的检测器40的输出值I2和干涉气体归一化吸光度Ar2代入到数学式2和数学式3中来计算I0和AS,进行将零基准值更新为该I0的调零和将跨度吸光度更新为该AS的跨度校正。
另外,作为其他的实施方式,气化装置100也可以另行具备向材料气体导出路径L2供给已知的浓度的干涉气体的干涉气体供给路径。在这种情况下,如果干涉气体为已知的浓度,则也可以是任意的气体。例如,干涉气体可以是与材料气体相同成分的气体,也可以是与载气相同成分的气体,还可以是其他的校正用气体。
另外,本发明不限于上述各实施方式,当然可以在不脱离其主旨的范围内进行各种改变。
Claims (5)
1.一种吸光分析装置,其特征在于,具备:
检测器,检测透过气体的光的强度;
总压传感器,测定所述气体的总压;
吸光度计算部,基于所述检测器的输出值和预先设定的零基准值计算吸光度;
分压-吸光度关系存储部,对表示当调零时存在于所述检测器的测定区域的干涉气体的分压与通过所述吸光度计算部算出的吸光度之间的关系的分压-吸光度关系数据进行存储;
分压计算部,在已知的浓度的所述干涉气体存在于所述测定区域中的已知浓度状态下,基于通过所述总压传感器测定的总压和所述浓度来计算作为所述干涉气体的分压的干涉气体分压;
吸光度推断部,基于所述干涉气体分压和所述分压-吸光度关系数据推断作为所述干涉气体的吸光度的干涉气体吸光度;以及
校正部,基于所述干涉气体吸光度和在所述已知浓度状态下的所述检测器的输出值进行更新所述零基准值的调零。
2.根据权利要求1所述的吸光分析装置,其特征在于,所述校正部进行将所述零基准值更新为由以下的数学式1算出的I0的调零,
【数学式1】
I0=I×10A
I:在所述已知浓度状态下检测到的所述检测器的输出值
A:所述干涉气体吸光度。
3.根据权利要求1所述的吸光分析装置,其特征在于,所述吸光度计算部基于所述检测器的输出值、所述零基准值和预先设定的跨度吸光度来计算归一化吸光度,
所述分压-吸光度关系存储部对表示当调零时存在于所述检测器的测定区域的干涉气体的分压与通过所述吸光度计算部算出的归一化吸光度之间的关系的分压-归一化吸光度关系数据进行存储,
所述分压计算部在第1分压状态下和第2分压状态下分别计算所述干涉气体分压,所述第1分压状态是具有已知的浓度的所述干涉气体以预定分压存在于所述测定区域,所述第2分压状态是具有已知的浓度的所述干涉气体以与所述预定分压不同的分压存在于所述测定区域中,
所述吸光度推断部基于所述各干涉气体分压和所述分压-归一化吸光度关系数据,推断在所述第1分压状态下和所述第2分压状态下的作为所述干涉气体的归一化吸光度的干涉气体归一化吸光度,
所述校正部基于所述各干涉气体归一化吸光度以及在所述第1分压状态下和所述第2分压状态下的检测器的输出值,进行更新所述零基准值的调零和更新所述跨度吸光度的跨度校正。
5.一种记录吸光分析装置用程序的程序记录介质,其特征在于,用于吸光分析装置,所述吸光分析装置具备:检测器,检测透过气体的光的强度;总压传感器,测定所述气体的总压;吸光度计算部,基于所述检测器的输出值和预先设定的零基准值计算吸光度,
所述程序记录介质发挥作为分压-吸光度关系存储部、分压计算部、吸光度推断部和校正部的功能,
所述分压-吸光度关系存储部,对表示当调零时存在于所述检测器的测定区域的干涉气体的分压与通过所述吸光度计算部算出的吸光度之间的关系的分压-吸光度关系数据进行存储,
所述分压计算部,在已知的浓度的所述干涉气体存在于所述测定区域中的已知浓度状态下,基于通过所述总压传感器测定的总压和所述浓度来计算作为所述干涉气体的分压的干涉气体分压,
所述吸光度推断部,基于所述干涉气体分压和所述分压-吸光度关系数据推断作为所述干涉气体的吸光度的干涉气体吸光度,
所述校正部,基于所述干涉气体吸光度和在所述已知浓度状态下的所述检测器的输出值进行更新所述零基准值的调零。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019-085100 | 2019-04-26 | ||
JP2019085100A JP7221127B2 (ja) | 2019-04-26 | 2019-04-26 | 吸光分析装置、及び、吸光分析装置用プログラム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN111855596A true CN111855596A (zh) | 2020-10-30 |
Family
ID=72921470
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202010206450.1A Pending CN111855596A (zh) | 2019-04-26 | 2020-03-23 | 吸光分析装置及记录吸光分析装置用程序的程序记录介质 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11493443B2 (zh) |
JP (1) | JP7221127B2 (zh) |
KR (1) | KR20200125427A (zh) |
CN (1) | CN111855596A (zh) |
TW (1) | TW202043736A (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN117388204A (zh) * | 2023-12-13 | 2024-01-12 | 杭州泽天春来科技股份有限公司 | 一氧化氮气体分析系统、方法及计算机可读存储介质 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7281285B2 (ja) * | 2019-01-28 | 2023-05-25 | 株式会社堀場エステック | 濃度制御装置、及び、ゼロ点調整方法、濃度制御装置用プログラム |
KR102553345B1 (ko) * | 2021-11-30 | 2023-07-07 | 한국생산기술연구원 | 레이저 흡수분광법을 이용한 반응영역 내 oh라디칼 농도 측정 방법 |
CN114544868B (zh) * | 2022-01-20 | 2024-03-26 | 上海工程技术大学 | 一种消除干扰气体影响的气体检测方法与系统 |
CN117368424B (zh) * | 2023-12-08 | 2024-02-27 | 广东立腾医疗科技有限公司 | 气体浓度检测补偿方法、装置、气体检测设备及存储介质 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3116344A1 (de) * | 1981-04-24 | 1982-11-18 | Kernforschungszentrum Karlsruhe Gmbh, 7500 Karlsruhe | Verfahren zum erhoehen der messgenauigkeit eines gasanalysators |
JPS62156543A (ja) * | 1985-12-27 | 1987-07-11 | Nippon Steel Corp | 気体の濃度および分圧測定方法およびその装置 |
US5886348A (en) * | 1997-02-14 | 1999-03-23 | American Intell-Sensors Corporation | Non-dispersive infrared gas analyzer with interfering gas correction |
CN1721838A (zh) * | 2004-07-16 | 2006-01-18 | 大塚电子株式会社 | 气体中杂质的定量方法及装置 |
CA2680798A1 (en) * | 2007-03-14 | 2008-09-18 | Spectrasensors, Inc. | Pressure-invariant trace gas detection |
CN101331391A (zh) * | 2005-12-16 | 2008-12-24 | 丰田自动车株式会社 | 废气分析方法和废气分析装置 |
CN102007397A (zh) * | 2008-04-15 | 2011-04-06 | 株式会社岛津制作所 | 装载有校正用气室的气体分析装置 |
US20130135619A1 (en) * | 2011-11-28 | 2013-05-30 | Yokogawa Electric Corporation | Laser gas analyzer |
CN105651729A (zh) * | 2014-12-02 | 2016-06-08 | 株式会社堀场Stec | 分解检测装置、浓度测量装置和浓度控制装置 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3685346A (en) * | 1970-01-16 | 1972-08-22 | Yellow Springs Instr | Direct reading quantitative gas measuring device |
DE2727976C3 (de) * | 1977-06-22 | 1980-05-29 | Kernforschungszentrum Karlsruhe Gmbh, 7500 Karlsruhe | Vorrichtung zur Messung der Konzentration mindestens einer Komponente eines Gasgemisches und Verfahren zum Eichen derselben |
US4336031A (en) * | 1979-12-20 | 1982-06-22 | Hellige Gmbh | Method for the calibration of an oxygen sensing unit and calibration agent therefor |
US5046018A (en) * | 1989-09-11 | 1991-09-03 | Nellcor, Inc. | Agent gas analyzer and method of use |
FI96993C (fi) * | 1992-01-30 | 1996-09-25 | Vaisala Oy | Kalibrointimenetelmä kaasujen pitoisuuden mittausta varten |
JPH09196846A (ja) * | 1996-01-16 | 1997-07-31 | Horiba Ltd | ガス濃度検出方法 |
CN100494983C (zh) | 2005-08-12 | 2009-06-03 | 深圳迈瑞生物医疗电子股份有限公司 | 利用红外光吸收特性自动校准和测量气体浓度的方法和装置 |
US7835005B2 (en) | 2008-02-21 | 2010-11-16 | Thermo Fisher Scientific Inc. | Gas analyzer system |
JP5424636B2 (ja) | 2008-12-25 | 2014-02-26 | トヨタ自動車株式会社 | Ftir法を用いたガス分析装置及びこれに用いるプログラム |
JP6019496B2 (ja) * | 2012-12-25 | 2016-11-02 | 国立研究開発法人海洋研究開発機構 | 二酸化炭素分圧測定装置及び二酸化炭素分圧測定装置用セルユニット |
JP2014224307A (ja) | 2013-04-25 | 2014-12-04 | 株式会社堀場エステック | 材料ガス濃度制御システム、材料ガス濃度制御装置、及び、制御プログラム |
JP6513762B2 (ja) | 2016-12-15 | 2019-05-15 | 株式会社堀場製作所 | 分析装置、分析装置用プログラム及び分析方法 |
-
2019
- 2019-04-26 JP JP2019085100A patent/JP7221127B2/ja active Active
-
2020
- 2020-03-17 KR KR1020200032686A patent/KR20200125427A/ko active Search and Examination
- 2020-03-23 CN CN202010206450.1A patent/CN111855596A/zh active Pending
- 2020-04-01 TW TW109111361A patent/TW202043736A/zh unknown
- 2020-04-15 US US16/849,381 patent/US11493443B2/en active Active
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3116344A1 (de) * | 1981-04-24 | 1982-11-18 | Kernforschungszentrum Karlsruhe Gmbh, 7500 Karlsruhe | Verfahren zum erhoehen der messgenauigkeit eines gasanalysators |
JPS62156543A (ja) * | 1985-12-27 | 1987-07-11 | Nippon Steel Corp | 気体の濃度および分圧測定方法およびその装置 |
US5886348A (en) * | 1997-02-14 | 1999-03-23 | American Intell-Sensors Corporation | Non-dispersive infrared gas analyzer with interfering gas correction |
CN1721838A (zh) * | 2004-07-16 | 2006-01-18 | 大塚电子株式会社 | 气体中杂质的定量方法及装置 |
CN101331391A (zh) * | 2005-12-16 | 2008-12-24 | 丰田自动车株式会社 | 废气分析方法和废气分析装置 |
CA2680798A1 (en) * | 2007-03-14 | 2008-09-18 | Spectrasensors, Inc. | Pressure-invariant trace gas detection |
CN102007397A (zh) * | 2008-04-15 | 2011-04-06 | 株式会社岛津制作所 | 装载有校正用气室的气体分析装置 |
US20130135619A1 (en) * | 2011-11-28 | 2013-05-30 | Yokogawa Electric Corporation | Laser gas analyzer |
CN103134772A (zh) * | 2011-11-28 | 2013-06-05 | 横河电机株式会社 | 激光气体分析仪 |
CN105651729A (zh) * | 2014-12-02 | 2016-06-08 | 株式会社堀场Stec | 分解检测装置、浓度测量装置和浓度控制装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN117388204A (zh) * | 2023-12-13 | 2024-01-12 | 杭州泽天春来科技股份有限公司 | 一氧化氮气体分析系统、方法及计算机可读存储介质 |
CN117388204B (zh) * | 2023-12-13 | 2024-04-12 | 杭州泽天春来科技股份有限公司 | 一氧化氮气体分析系统、方法及计算机可读存储介质 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7221127B2 (ja) | 2023-02-13 |
US20200340918A1 (en) | 2020-10-29 |
US11493443B2 (en) | 2022-11-08 |
KR20200125427A (ko) | 2020-11-04 |
TW202043736A (zh) | 2020-12-01 |
JP2020180912A (ja) | 2020-11-05 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination |