CN111850465A - 一种蒸镀遮罩结构和蒸镀遮罩结构免清洗的工艺方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及蒸镀技术领域，特别涉及一种蒸镀遮罩结构和蒸镀遮罩结构免清洗的工艺方法，包括金属掩膜板，金属掩膜板的非镂空区域的一侧面上依次层叠设有可剥离的有机物层和蒸镀薄膜层，有机物层分别与金属掩膜板和有机薄膜层接触，外设的玻璃基板位于蒸镀薄膜层的上方，外设的蒸发源位于金属掩膜板的下方，通过在金属掩膜板的非镂空区域的一侧面上依次层叠设置可剥离的有机物层和蒸镀薄膜层，这样使得能够使用激光剥离装置对金属掩膜板上的有机物层进行剥离，得到一个全新干净的金属掩膜板，再通过涂布机重新涂布有机物层，进行重复利用，免去清洗的步骤，提高了工业效率，为企业节省开支。
Description
技术领域
本发明涉及蒸镀技术领域，特别涉及一种蒸镀遮罩结构和蒸镀遮罩结构免清洗的工艺方法。
背景技术
有机发光二极管(英文全称为Organic Light Emitting Diode，缩写为OLED)显示器具备低功耗、宽视角、响应速度快、超轻期薄和抗震性好等特点，在高性能的显示区域，作为自主发光的器件发展越来越迅速；
目前采用蒸镀方式制备OLED器件，在蒸镀成膜过程中，真空腔体内加热有机小分子(有机蒸镀材料)，使其升华或者熔融气化成材料蒸汽，透过金属掩膜板的镂空区域沉积在玻璃基板上，这种金属掩膜板多采用Invar合金制作，具有精细、脆弱和超薄等特点，经过一段时间的蒸镀，金属掩膜板上面的有机材料累积的越来越厚，有机薄膜有脱落的风险，需要定期清洗。目前金属掩膜板清洗工艺普遍采用湿式药液浸泡清洗，清洗后的药液采取直接排放污染环境，清洗效率低且价格昂贵；现有的蒸镀技术，金属掩膜板随着沉积薄膜时间越来越长，一定程度需要拆卸送外定期清洗，此清洗过程浪费人力，清洗效率低，清洗后的药液容易污染环境。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是：提供一种蒸镀遮罩结构和蒸镀遮罩结构免清洗的工艺方法。
为了解决上述技术问题，本发明采用的第一种技术方案为：
一种蒸镀遮罩结构，包括金属掩膜板，所述金属掩膜板的非镂空区域的一侧面上依次层叠设有可剥离的有机物层和蒸镀薄膜层，所述有机物层分别与金属掩膜板和有机薄膜层接触，外设的玻璃基板位于蒸镀薄膜层的上方，外设的蒸发源位于金属掩膜板的下方。
本发明采用的第二种技术方案为：
一种蒸镀遮罩结构免清洗的工艺方法，包括以下步骤：
S1、提供一金属掩膜板；
S2、形成可剥离的有机物层，且覆盖在所述金属掩膜板的非镂空区域的一侧面上；
S3、形成蒸镀薄膜层，且覆盖在所述有机物层远离金属掩膜板的一侧面上；
S4、将所述蒸镀薄膜层与有机物层分离，得到第一蒸镀掩膜结构；所述第一蒸镀掩膜结构包括相互贴合的可剥离的有机物层和金属掩膜板；
S5、对所述第一蒸镀掩膜结构进行激光剥离处理后，将所述相互贴合的可剥离的有机物层和金属掩膜板进行分离，得到第二蒸镀掩膜结构。
本发明的有益效果在于：
通过在金属掩膜板的非镂空区域的一侧面上依次层叠设置可剥离的有机物层和蒸镀薄膜层，这样使得能够使用激光剥离装置对金属掩膜板上的有机物层进行剥离，得到一个全新干净的金属掩膜板，再通过涂布机重新涂布有机物层，进行重复利用，免去清洗的步骤，提高了工业效率，为企业节省开支。
附图说明
图1为根据本发明的一种蒸镀遮罩结构的结构示意图；
图2为根据本发明的一种蒸镀遮罩结构免清洗的工艺方法的步骤流程图；
标号说明：
1、金属掩膜板；2、有机物层；3、蒸镀薄膜层；4、玻璃基板；5、蒸发源。
具体实施方式
为详细说明本发明的技术内容、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图予以说明。
请参照图1，本发明提供的一种技术方案：
一种蒸镀遮罩结构，包括金属掩膜板，所述金属掩膜板的非镂空区域的一侧面上依次层叠设有可剥离的有机物层和蒸镀薄膜层，所述有机物层分别与金属掩膜板和有机薄膜层接触，外设的玻璃基板位于蒸镀薄膜层的上方，外设的蒸发源位于金属掩膜板的下方。
从上述描述可知，本发明的有益效果在于：
通过在金属掩膜板的非镂空区域的一侧面上依次层叠设置可剥离的有机物层和蒸镀薄膜层，这样使得能够使用激光剥离装置对金属掩膜板上的有机物层进行剥离，得到一个全新干净的金属掩膜板，再通过涂布机重新涂布有机物层，进行重复利用，免去清洗的步骤，提高了工业效率，为企业节省开支。
进一步的，所述有机物层的厚度为2μm-4μm。
由上述描述可知，将机物层的厚度设为2μm-4μm，能够使得有机物层的化学性能稳定，在激光照射下易剥离，从而剥离的更加干净。
进一步的，所述有机物层的材质为聚酰亚胺。
由上述描述可知，聚酰亚胺的耐高温，化学性能稳定，在激光照射下易剥离，从而剥离的更加干净。
进一步的，所述蒸镀薄膜层的厚度为2μm-3μm。
请参照图2，本发明提供的另一种技术方案：
一种蒸镀遮罩结构免清洗的工艺方法，包括以下步骤：
S1、提供一金属掩膜板；
S2、形成可剥离的有机物层，且覆盖在所述金属掩膜板的非镂空区域的一侧面上；
S3、形成蒸镀薄膜层，且覆盖在所述有机物层远离金属掩膜板的一侧面上；
S4、将所述蒸镀薄膜层与有机物层分离，得到第一蒸镀掩膜结构；所述第一蒸镀掩膜结构包括相互贴合的可剥离的有机物层和金属掩膜板；
S5、对所述第一蒸镀掩膜结构进行激光剥离处理后，将所述相互贴合的可剥离的有机物层和金属掩膜板进行分离，得到第二蒸镀掩膜结构。
从上述描述可知，本发明的有益效果在于：
在金属掩膜板的非镂空区域的一侧面上沉积一定厚度的可剥离的有机物层，然后上机蒸镀薄膜层，当蒸镀一段时间后，金属掩膜板积累一定程度的有机薄膜之后，将蒸镀薄膜层与有机物层分离，使用激光剥离装置对金属掩膜板上的有机物层进行剥离，得到一个全新干净的金属掩膜板，再通过涂布机重新涂布有机物层，进行重复利用，免去清洗的步骤，提高了工业效率，为企业节省开支。
进一步的，所述步骤S5中进行激光剥离处理所用的激光能量功率为1W-10W。
进一步的，还包括以下步骤：
S6、采用纯度为98％的酒精对所述第二蒸镀掩膜结构进行清洗，得到第三蒸镀掩膜结构。
从上述描述可知，采用纯度为98％的酒精能够清理金属掩膜板表面的颗粒物，提高剥离的效果，剥离地更加干净。
进一步的，所述有机物层的厚度为2μm-4μm。
从上述描述可知，将机物层的厚度设为2μm-4μm，能够使得有机物层的化学性能稳定，在激光照射下易剥离，从而剥离的更加干净。
进一步的，所述有机物层的材质为聚酰亚胺。
从上述描述可知，聚酰亚胺的耐高温，化学性能稳定，在激光照射下易剥离，从而剥离的更加干净。
进一步的，所述蒸镀薄膜层的厚度为2μm-3μm。
请参照图1，本发明的实施例一为：
一种蒸镀遮罩结构，包括金属掩膜板1，所述金属掩膜板1的非镂空区域的一侧面上依次层叠设有可剥离的有机物层2和蒸镀薄膜层3，所述有机物层2分别与金属掩膜板1和有机薄膜层接触，外设的玻璃基板4位于蒸镀薄膜层3的上方，外设的蒸发源5位于金属掩膜板1的下方。
所述有机物层2的厚度为2μm-4μm，优选为3μm。
所述有机物层2的材质为聚酰亚胺。
所述蒸镀薄膜层3的厚度为2μm-3μm，优选为2.5μm。
蒸镀是在真空环境下，通过加热坩埚内有机材料或者金属(即蒸发源5)，使其变成气态粒子或原子，以较大自由程近匀速直线运动，通过特定的金属掩膜板1在衬底玻璃(即玻璃基板4)上沉积形成特定图案薄膜。
请参照图2，本发明的实施例二为：
一种蒸镀遮罩结构免清洗的工艺方法，包括以下步骤：
S1、提供一金属掩膜板1；
S2、形成可剥离的有机物层2，且覆盖在所述金属掩膜板1的非镂空区域的一侧面上；
S3、形成蒸镀薄膜层3，且覆盖在所述有机物层2远离金属掩膜板1的一侧面上；
S4、将所述蒸镀薄膜层3与有机物层2分离，得到第一蒸镀掩膜结构；所述第一蒸镀掩膜结构包括相互贴合的可剥离的有机物层2和金属掩膜板1；
S5、对所述第一蒸镀掩膜结构进行激光剥离处理后，将所述相互贴合的可剥离的有机物层2和金属掩膜板1进行分离，得到第二蒸镀掩膜结构；
所述步骤S5中进行激光剥离处理所用的激光能量功率为1W-10W，优选激光能量功率为3W。
还包括以下步骤：
S6、采用纯度为98％的酒精对所述第二蒸镀掩膜结构进行清洗，得到第三蒸镀掩膜结构。
所述有机物层2的厚度为2μm-4μm，优选为3μm。
所述有机物层2的材质为聚酰亚胺。
所述蒸镀薄膜层3的厚度为2μm-3μm，优选为2.5μm，所述蒸镀薄膜层3的材质可以为有机物或金属银或金属镁。
本方案的具体实施例为：
在金属掩膜板1还未使用前，采用喷涂的方法，往金属掩膜板1(或遮挡板)上喷涂可剥离的有机物材料，当表面喷涂上有机物的金属掩膜板1(或遮挡板)上机蒸镀一段时间后，积累了一定厚度的薄膜，然后拆卸金属掩膜板1，把拆卸后的金属掩膜板1放入激光剥离机(LLO)下进行激光剥离，激光能量功率为1-10W，优选激光能量功率为3W，经过激光剥离机(LLO)剥离工艺之后，手动分离有机物层2和金属掩膜板1，不限于采用吸盘将带有薄膜的PI(聚酰亚胺)与金属掩膜板1剥离，剥离后，采用纯度98％的酒精清理金属掩膜板1表面的颗粒物，然后把金属掩膜板1放入Coater(涂布机)中进行重复PI(聚酰亚胺)涂胶，固化，重复上机，重复利用，本方案解决了金属掩膜板1定期送外清洗的的程序，为公司节省大量的人力和物力，节省送外清洗的时间，提高了机台的生产效率。
综上所述，本发明提供的一种蒸镀遮罩结构和蒸镀遮罩结构免清洗的工艺方法，通过在金属掩膜板的非镂空区域的一侧面上依次层叠设置可剥离的有机物层和蒸镀薄膜层，这样使得能够使用激光剥离装置对金属掩膜板上的有机物层进行剥离，得到一个全新干净的金属掩膜板，再通过涂布机重新涂布有机物层，进行重复利用，免去清洗的步骤，提高了工业效率，为企业节省开支。
以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等同变换，或直接或间接运用在相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。
Claims (10)
1.一种蒸镀遮罩结构，其特征在于，包括金属掩膜板，所述金属掩膜板的非镂空区域的一侧面上依次层叠设有可剥离的有机物层和蒸镀薄膜层，所述有机物层分别与金属掩膜板和有机薄膜层接触，外设的玻璃基板位于蒸镀薄膜层的上方，外设的蒸发源位于金属掩膜板的下方。
2.根据权利要求1所述的蒸镀遮罩结构，其特征在于，所述有机物层的厚度为2μm-4μm。
3.根据权利要求1所述的蒸镀遮罩结构，其特征在于，所述有机物层的材质为聚酰亚胺。
4.根据权利要求1所述的蒸镀遮罩结构，其特征在于，所述蒸镀薄膜层的厚度为2μm-3μm。
5.一种蒸镀遮罩结构免清洗的工艺方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1、提供一金属掩膜板；
S2、形成可剥离的有机物层，且覆盖在所述金属掩膜板的非镂空区域的一侧面上；
S3、形成蒸镀薄膜层，且覆盖在所述有机物层远离金属掩膜板的一侧面上；
S4、将所述蒸镀薄膜层与有机物层分离，得到第一蒸镀掩膜结构；所述第一蒸镀掩膜结构包括相互贴合的可剥离的有机物层和金属掩膜板；
S5、对所述第一蒸镀掩膜结构进行激光剥离处理后，将所述相互贴合的可剥离的有机物层和金属掩膜板进行分离，得到第二蒸镀掩膜结构。
6.根据权利要求5所述的蒸镀遮罩结构免清洗的工艺方法，其特征在于，所述步骤S5中进行激光剥离处理所用的激光能量功率为1W-10W。
7.根据权利要求5所述的蒸镀遮罩结构免清洗的工艺方法，其特征在于，还包括以下步骤：
S6、采用纯度为98％的酒精对所述第二蒸镀掩膜结构进行清洗，得到第三蒸镀掩膜结构。
8.根据权利要求5所述的蒸镀遮罩结构免清洗的工艺方法，其特征在于，所述有机物层的厚度为2μm-4μm。
9.根据权利要求5所述的蒸镀遮罩结构免清洗的工艺方法，其特征在于，所述有机物层的材质为聚酰亚胺。
10.根据权利要求5所述的蒸镀遮罩结构免清洗的工艺方法，其特征在于，所述蒸镀薄膜层的厚度为2μm-3μm。
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| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
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Application publication date: 20201030 |