CN111801602A - 使用激光减少透明固体的反射、采用透明固体的涂层和设备 - Google Patents

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Abstract

公开了使用激光减少透明固体在光谱中的反射的方法和设备、使用透明固体的涂层和设备。激光用于通过将材料的温度升高至熔融温度附近使透明固体材料的表面成形，从而在表面上生成期望的目标纳米结构二维抗反射图案阵列。选择激光能量密度值、波长、重复率、脉冲持续时间和每焦斑的连续激光脉冲数，并确定透明固体材料表面上期望的焦斑分布。透明固体材料被相对平移以生成期望的纳米结构二维图案阵列。

Description

使用激光减少透明固体的反射、采用透明固体的涂层和设备
技术领域
本公开涉及用于减少反射的方法和设备并且更具体地涉及用于减少透明固体的反射的方法和设备，以及采用这种透明固体的涂层和设备。
背景技术
透明固体上的抗反射涂层用于提高光电和电光设备中太阳能电池的光收集或者增强透明介质的性能。适用于此目的的涂层是那些在透明固体处降低表面反射并提高广谱光透射率的涂层。
涂覆到透明固体上的化合物在目标表面上采用一个或多个薄层。结果，由于表面折射率的平滑增加，经涂覆的表面表现出增加的抗反射特性。另一方面，这些化合物不是环境友好的(环保，environmental friendly)，它们产生有毒的化学废物，并且它们难以在工业规模上进行大表面积的整合，从而导致生产成本增加。化学涂层的另一缺点是薄层的稳定性受损(屈服，yields)，从长远来看，这最终会导致涂层性能缺失和涂层降解。
发明内容
本发明的目的是提供一种简单有效的产生抗反射表面的方法。通过用激光处理透明固体，可在表面上产生(伪)周期性纳米结构，从而提高抗反射特性。所提出的技术是一步式免化学物质(chemical free)的技术，其可容易地被整合到使用工业高功率和可重复性激光器的工业规模。
在第一方面中，提出了使透明固体材料的表面成形以减少光谱中的反射的方法。方法包括在保持器上提供透明固体材料；确定透明固体材料表面上期望的目标纳米结构二维抗反射图案阵列；确定透明固体材料表面上期望的焦斑(聚焦光斑，focus spot)分布；确定透明固体材料的熔融温度；从激光能量密度值(激光注量值，laser fluence values)的范围中选择激光能量密度值；分别从波长、重复率和脉冲持续时间的范围中选择激光脉冲的波长、重复率和脉冲持续时间；选择在激光表面上每焦斑施加的连续激光脉冲的数量；将透明固体材料的表面暴露于具有所选波长、重复率、脉冲持续时间和连续激光脉冲数的聚焦激光辐射，以将透明材料的温度升高至熔融温度附近，从而使表面的至少一部分成形并产生期望的目标纳米结构二维图案阵列的至少部分；使透明固体材料相对平移以产生期望的纳米结构二维图案阵列。
通过用激光脉冲处理透明固体表面，可以形成自组装激光诱导周期性表面结构(Laser Induced Periodic Surface Structures)(LIPSS)。这些结构的形成导致透明固体表面的反射减少。
在一些实例中，透明固体材料的表面暴露于聚焦的圆偏振激光辐射。通过用圆偏振激光辐射照射透明固体，可在沿着高斯焦斑的所有方向上形成纳米波纹(nano-ripple)，这最终导致在所处理的表面上形成纳米锥(nano-spike)。纳米锥结构是伪周期性的并且沿着表面随机分布。伪周期性结构的优点在于，这些结构在所有平面方向上都呈现抗反射特性，不像纳米波纹在入射平面垂直于纳米波纹取向的方向时倾向于表现出抗反射特性。
在一些实例中，确定透明固体材料表面上期望的焦斑分布可包括确定预先选择的百分比的相邻焦斑的重叠。预先选择的重叠百分比可以是89％或更低。
在一些实例中，方法可进一步包括在静止的(不动的，stationary)透明固体材料上使激光束扫描和/或使激光束光栅化。通过每次(per pass)使用少量脉冲(例如三到五个)以高速度多次扫描进行扫描，材料熔融并重新固化，从而在没有任何结构形成的情况下创建非常小的表面粗糙度。间距(节距，step)可被设置为接近斑点直径。
在一些实例中，透明固体材料可包括至少玻璃片。玻璃片可在电子设备上。电子设备可包括太阳能电池(SC)、显示器、屏幕、发光二极管(LED)和/或传感器。
在一些实例中，入射光束的波长可选自200nm至1100nm的范围。这可取决于待成形的材料。
在一些实例中，可在3.8J/cm2至1.47J/cm2的范围内选择激光能量密度(激光注量，laser fluence)。然后重复率可选自1kHz至1MHz的范围，并且可选择多达10ps的脉冲持续时间。该组合可取决于所选择的激光能量密度、待形成的纳米结构的高度以及表面材料的熔点。
另一方面，公开了一种使透明固体材料的表面成形以减少光谱中的反射的制造配置。制造配置可包括照射模块。照射模块可具有脉冲激光源和用于聚焦来自脉冲激光源的激光束的光学系统。制造配置可进一步包括被配置以保持透明固体材料的保持器。制造配置还可包括控制器，该控制器用于：从激光能量密度值的范围中设置激光能量密度值；分别从激光脉冲波长、重复率和持续时间的范围中设置激光脉冲波长、激光脉冲重复率和激光脉冲持续时间；在激光表面上设置每焦点斑点施加的连续激光脉冲的数量；以及在用来自脉冲激光源的激光束进行激光暴露期间，设置透明固体材料沿第一方向的相对平移顺序以生成期望的纳米结构二维抗反射图案阵列。
在一些实例中，光学系统可包括至少反射器(镜，mirror)以将来自脉冲激光源的激光束引导至透明固体材料，和至少透镜以将激光束聚焦在透明固体材料上。在一些实例中，脉冲激光源可以是皮秒激光源或飞秒激光源。
在一些实例中，平移模块可被配置以使透明固体材料保持器移位而同时照射模块保持静止。在其它实例中，光学系统可被配置以使激光束移位而同时透明固体材料保持器保持静止。在又其它实例中，平移模块可被配置以使照射模块移位而同时透明固体材料保持器保持静止。
另一方面，公开了抗反射透明固体材料。可使用根据本文公开的实例的成形方法使抗反射透明固体材料成形，并且该抗反射透明固体材料可在表面上包括纳米结构二维抗反射图案阵列。
又一方面，公开了设备。设备可包括根据本文公开的实例的抗反射透明固体材料。
又一方面，公开了用于使透明固体材料的表面成形以减少透明材料表面的光谱中的反射的系统。系统可包括用于在保持器上提供透明固体材料的装置；用于确定透明固体材料表面上期望的目标纳米结构二维抗反射图案阵列的装置；用于确定透明固体材料表面上期望的焦斑分布的装置；用于确定透明固体材料的熔融温度的装置；用于从激光能量密度值的范围中设置激光能量密度值的装置；用于分别从波长、重复率和脉冲持续时间的范围中设置激光脉冲的波长、重复率和脉冲持续时间的装置；用于在激光表面上设置每焦斑施加的连续激光脉冲的数量的装置；这样的装置：其用于将透明固体材料的表面暴露于具有所选波长、重复率、脉冲持续时间和连续激光脉冲数的聚焦激光辐射下，以将透明材料的温度升高至熔融温度附近，从而使表面的至少一部分成形并生成期望的目标纳米结构二维图案阵列的至少部分；和用于使透明固体材料相对平移以生成期望的纳米结构二维图案阵列的装置。
又一方面，公开了非暂时性计算机程序产品，其令照射配置执行使透明固体材料的表面成形。非暂时性计算机程序产品可具有指令以：在保持器上提供透明固体材料；确定透明固体材料表面上期望的目标纳米结构二维抗反射图案阵列；确定透明固体材料表面上期望的焦斑分布；确定透明固体材料的熔融温度；从激光能量密度值的范围中选择激光能量密度值；分别从波长、重复率和脉冲持续时间的范围中选择激光脉冲的波长、重复率和脉冲持续时间；选择在激光表面上每焦斑施加的连续激光脉冲的数量；使透明固体材料表面暴露于具有所选波长、重复率、脉冲持续时间和连续激光脉冲数的聚焦激光辐射，以将透明材料的温度升高至熔融温度附近，从而使表面的至少一部分成形并生成期望的目标纳米结构二维图案阵列的至少部分；使透明固体材料相对平移以生成期望的纳米结构二维图案阵列。
又另一方面，公开了一种计算机程序产品。计算机程序产品可包括用于令辐射配置执行根据本文公开的实例的使透明固体材料表面成形的方法的程序指令。
计算机程序产品可体现在存储介质(例如，CD-ROM、DVD、USB驱动器、计算机存储器或只读存储器)上或者承载于载波信号(例如，电载波信号或光载波信号)上。
计算机程序的形式可以是源代码、目标代码、介于源代码和目标码之间的代码，诸如部分编译的形式，或适用于过程的实施的任意其它形式。载体可以是能够承载计算机程序的任意实体或设备。
例如，载体可包括存储介质，如ROM，例如CD ROM或半导体ROM，或者磁记录介质，例如硬盘。此外，载体可以是可传送的载体，如电信号或光信号可经由电缆或光缆或通过其它手段来传输。
当计算机程序体现在可通过缆线或其它设备或装置直接传输的信号时，载体可由这样的缆线或其它设备或装置构成。
可选地，载体可以是嵌入了计算机程序的集成电路，该集成电路适用于执行相关方法或适用于相关方法的性能。
附图说明
下面将参考附图描述本公开的非限制性实例，其中：
图1示意性地示例了根据一个实例的在多次扫描之后纳米锥形成的演变。
图2是根据一个实例的使透明固体材料表面成形以减少光谱中的反射的方法的流程图。
图3A示意性地示例了成形的熔融石英(石英玻璃，fused silica)表面的扫描电子显微镜图像。
图3B示意性地示例了图3A的表面的横截面的像素强度。
图4示意性地示例了利用高斯形状超快激光脉冲的区域扫描的表示，其中阴影区域指示斑点的重叠。
图5示意性地示例了根据一个实例的使用成形方法成形的抗反射透明固体材料。
图6A和6B示意性地示例了平坦熔融石英(Flat Fused silica)表面和纳米结构化熔融石英表面的透射比和反射光谱。
图7示意性地示例了根据一个实例的制造配置。
具体实施方式
图1示意性地示例了根据一个实例的在多次扫描之后纳米锥形成的演变。在第一次扫描A期间，超快激光脉冲照射透明固体。在该第一次通过期间，固体的温度可能上升，但可能未达到熔点。因此，固体表面的相变可能还没有发生，并且还没有形成纳米结构。在进一步扫描B期间，当激光脉冲靶向特定点时，已经热的表面可能熔融，并随着激光束从该点移走而重新固化，从而创建非常小的表面粗糙度而没有任何结构形成。继续接下来的扫描C，可在先前形成的粗糙度有利于纳米锥初步形成的位置再次照射表面。随着扫描的继续，纳米锥可以逐渐形成其期望的形状和尺寸，以向表面提供抗反射特性。随后多次进行相同的程序，直到表面完全且均匀地结构化，如扫描D所示。
图2是根据一个实例的使透明固体材料的表面成形以减少光谱中的反射的方法的流程图。在框205中，将透明固体材料提供在保持器上。在框210中，确定透明固体材料的表面上期望的目标纳米结构二维抗反射图案阵列。在框215中，确定透明固体材料的表面上期望的焦斑分布。在框220中，确定透明固体材料的熔融温度。在框225中，从激光能量密度值的范围中选择激光能量密度值。在框230中，分别从波长、重复率和脉冲持续时间的范围中选择激光脉冲的波长、重复率和脉冲持续时间。在框235中，选择在激光表面上每焦斑施加的连续激光脉冲的数量。在框240中，将透明固体材料的表面暴露于具有所选波长、重复率、脉冲持续时间和连续激光脉冲数的聚焦激光辐射下，以将透明材料的温度升高至熔融温度附近，从而使表面的至少一部分成形并产生期望的目标纳米结构二维图案阵列的至少一部分。在框245中，透明固体材料被相对平移以产生期望的纳米结构二维图案阵列。
图3A示意性地示例了成形的熔融石英表面的扫描电子显微镜图像。在图3A的实例中，该表面是在1026nm和60kHz重复率下用线性偏振(白色双箭头指示激光束偏振方向)照射后的产品，其中能量密度FI＝3.4J/cm2，脉冲数NP＝15，以及脉冲持续时间PD＝170fs。此过程导致形成自组装激光诱导周期性表面结构(LIPSS)，如图3A所示。图3B示意性地示例了沿图3A的表面的横截面的像素强度。
这些结构的周期性被定义为如图3B所示的两个或更多个连续结构之间的距离。LIPSS的形成可通过粗糙表面的不均匀的能量吸收连同导致熔融材料在照射期间和紧接照射之后的流体运动的流体动力学来描述。
实际上，由于折射率的空间上的渐增，具有亚微米范围(regime)尺寸的表面结构在可见光谱中可产生有效的抗反射特性，而同时材料保持透明。一个值得注意的实例是蝴蝶中的宽纹黑脉绡蝶(透翅蝶，Greta Oto)翅膀的抗反射，该翅膀的表面装饰有亚微米尺寸的纳米柱。
用于产生抗反射纳米结构的关键参数是入射光束的偏振态。如前所述，通过用高斯形状的线性偏振超快激光脉冲照射透明固体，在表面上形成纳米波纹，其中这些结构的方向垂直于入射电场方向。利用圆偏振，沿着高斯斑点在所有方向上形成纳米波纹，最终导致在经处理的表面上形成纳米锥。纳米锥结构是伪周期性的并且沿表面随机分布。伪周期性结构的优点在于，这些结构在所有平面方向上都呈现抗反射特性，不像纳米波纹在入射平面垂直于纳米波纹取向的方向时才倾向于表现出抗反射特性。
纳米锥的尺寸和周期性可通过激光参数控制。能量密度和脉冲数的影响很小，然而纳米锥的尺寸和周期性强烈取决于入射光束的波长。纳米锥的尺寸和周期性最终可以确定结构化表面将表现出抗反射行为的光谱范围。因此，取决于应用，此技术显示出高通用性，因为可以适当地调节抗反射光谱范围。
为了在大表面积上产生纳米锥，将透明固体于机动化的x-y-z载物台(stage)上放置、固定并调平，以便成行地(in lines)扫描样品。可选地，可使用Galvo系统代替机动化载物台以加快处理时间。入射光束聚焦在表面上，能量密度被设置为接近材料的烧蚀阈值，并且成行地照射表面。在焦点位于表面下方或上方的情况下，来自表面杂质的自聚焦条件随后可能显著地损坏表面。术语损坏的表面指的是材料片从表面分离的情况，这导致形成陷口(crater)。这些陷口增加了局部吸收和光散射，最终导致表面粗糙度的增加和透射比的降低。
处理大表面积引入对于产生光滑和清洁的纳米结构化表面重要的参数。图4示意性地示例了利用高斯形状超快激光脉冲的区域扫描的表示，其中阴影区域指示斑点的重叠。扫描速度是载物台沿轴移动的速度。取决于扫描速度，两个脉冲的中心之间的距离d是可变的，并且被定义为：
Figure BDA0002654595220000051
其中v是扫描速度，而RR是激光重复率。因此该距离与扫描速度成比例，这导致如图4所示的不同重叠。另一个参数是描述图4所示的照射线之间距离的间距。间距可小于斑点直径。
对于每斑点区域三个或更多数量的脉冲，形成纳米锥。尽管由于高重叠(在连续激光脉冲之间)，因此表面上的温度升高到熔点以上，但是损坏可能发生在小区域上。可采用少于三个的脉冲数以使损坏区域最小化。但是对于少于三个的脉冲，由于较低的脉冲重叠，因此没有结构形成。少量脉冲与多次扫描相结合是此问题的解决方案，其中间距被设置为接近斑点直径。
如图5和图6A-6B所示，使用此技术可以产生可见光谱中的抗反射表面。图5示意性地示例了根据一个实例的使用成形方法成形的抗反射透明固体材料。图6A和图6B分别示意性地示例了平坦熔融石英表面和纳米结构化熔融石英表面的透射比和反射光谱。透明固体的反射性未处理平面框在图5(A)中显示，而(B)显示了抗反射的激光处理的区域，其中材料被放置在白光源下。图5(C)-(E)是具有纳米结构(纳米锥)的示例性熔融石英表面的SEM图像。表面上形成的纳米锥的特征是：对于三次扫描，周期是200-400nm，半径是60-100nm，并且高度是200-300nm。第一次扫描中形成的纳米锥的高度相比于第三次扫描是32±5％，而对于第二次扫描，纳米锥的高度相比于第三次扫描是85±10％。此外，光学分析显示，材料在可见光和近IR光谱中呈现抗反射特性，如图6所示。确实，如图6B所示，与图6A中所示的未处理表面的特性相比，抗反射特性得到了提高，而这是通过降低250-1200nm的光谱范围中的材料反射率实现的。与此同时，在500-1200nm的光谱范围中，透射比增加了2-3％，而在紫外区中，透射比降低。
图7示意性地示例了根据一个实例的使透明固体材料表面成形以减少光谱中的反射的制造配置。制造配置700可包括照射模块705。照射模块705可包括产生激光束的脉冲激光源710和用于聚焦来自脉冲激光源710的激光束或脉冲712的光学系统715。制造配置700可进一步包括被配置以保持透明固体材料725的保持器720。控制器730可耦接至照射模块705并且耦接至保持器720。控制器730可包括存储器735和处理器740。控制器730可从储存在存储器735中并且与透明固体材料725相关联的激光能量密度值的范围中设置照射模块705的激光能量密度值。此外，控制器可基于在透明固体材料725上待形成的纳米结构图案，分别从类似地储存在存储器735中并且与透明固体材料725相关联的激光脉冲波长、重复率和持续时间的范围中设置激光脉冲波长、激光脉冲重复率和激光脉冲持续时间以及设置在激光表面上每焦点光斑施加的连续激光脉冲的数量。最后，在用来自脉冲激光源710的激光束进行激光暴露期间，控制器730可通过例如控制保持器720的移动来设置透明固体材料的相对平移顺序，以在透明固体材料725表面上产生期望的纳米结构二维抗反射图案阵列。
尽管本文仅公开了数个实例，但是其其它的可选方案、修改、用途和/或等同物也是可能的。此外，还涵盖了所描述的实例的所有可能的组合。因此，本公开的范围不应由特定实例限制，而是应仅通过公正地阅读所附权利要求来确定。如果与附图相关的参考标记被置于权利要求中的括号中，则它们仅用于试图增加权利要求的可理解性，并且不应被解释为限制权利要求的范围。
此外，尽管参考附图描述的实例包括计算装置/系统和在计算装置/系统中执行的过程，但是本发明还扩展到适合将该系统付诸实践的计算机程序，特别是在载体上或载体中的计算机程序。

Claims (24)

1.使透明固体材料的表面成形以减少光谱中的反射的方法，包括：
在保持器上提供所述透明固体材料；
确定所述透明固体材料的表面上期望的目标纳米结构二维抗反射图案阵列；
确定所述透明固体材料的表面上期望的焦斑分布；
确定所述透明固体材料的熔融温度；
从激光能量密度值的范围中选择激光能量密度值；
分别从波长、重复率和脉冲持续时间的范围中选择激光脉冲的波长、重复率和脉冲持续时间；
选择在激光表面上每焦斑施加的连续激光脉冲的数量；
使所述透明固体材料的表面暴露于具有所选波长、重复率、脉冲持续时间和连续激光脉冲数的聚焦激光辐射，以将所述透明材料的温度升高至所述熔融温度附近，从而使所述表面的至少一部分成形并产生所述期望的目标纳米结构二维图案阵列的至少部分；
使所述透明固体材料相对平移以产生所述期望的纳米结构二维图案阵列。
2.根据权利要求1所述的方法，进一步包括使所述透明固体材料的表面暴露于聚焦的圆偏振激光辐射。
3.根据权利要求1所述的方法，其中确定所述透明固体材料的表面上期望的焦斑分布包括确定预先选择的百分比的相邻焦斑的重叠。
4.根据权利要求3所述的方法，其中所述预先选择的百分比是89％或更低。
5.根据前述权利要求中任一项所述的成形方法，进一步包括：
在静止的透明固体材料上使所述激光束扫描和/或使所述激光束光栅化。
6.根据前述权利要求中任一项所述的成形方法，其中所述透明固体材料包括至少玻璃片。
7.根据权利要求6所述的成形方法，其中使所述透明固体材料成形包括使电子设备上的玻璃片成形，所述电子设备包括太阳能电池(SC)、显示器、屏幕、发光二极管(LED)和传感器。
8.根据前述权利要求中任一项所述的成形方法，其中所述波长选自200nm至1100nm的范围。
9.根据前述权利要求中任一项所述的成形方法，其中所述重复率选自1kHz至1MHz的范围。
10.根据前述权利要求中任一项所述的成形方法，其中选择多达10ps的所述脉冲持续时间。
11.根据前述权利要求中任一项所述的成形方法，其中从3.8J/cm2至1.47J/cm2的范围中选择所述激光能量密度。
12.使透明固体材料的表面成形以减少光谱中的反射的制造配置，包括：
照射模块，具有：
脉冲激光源；
用于聚焦来自所述脉冲激光源的激光束的光学系统；
被配置以保持所述透明固体材料的保持器；
控制器，用于：
从激光能量密度值的范围中设置激光能量密度值；
分别从激光脉冲波长、重复率和持续时间的范围中设置激光脉冲波长、激光脉冲重复率和激光脉冲持续时间；
设置在激光表面上每焦点斑点施加的连续激光脉冲的数量；
在用来自所述脉冲激光源的激光束进行激光暴露期间，设置所述透明固体材料的相对平移顺序以产生期望的纳米结构二维抗反射图案阵列。
13.根据权利要求12所述的制造配置，其中所述光学系统包括至少反射器以将来自所述脉冲激光源的激光束引导至所述透明固体材料，以及至少透镜以将所述激光束聚焦在所述透明固体材料上。
14.根据权利要求12至13中任一项所述的制造配置，其中所述脉冲激光源是皮秒激光源或飞秒激光源。
15.根据权利要求12至14中任一项所述的制造配置，其中平移模块被配置以使所述透明固体材料保持器移位而同时所述照射模块保持静止。
16.根据权利要求12至15中任一项所述的制造配置，其中所述光学系统被配置以使所述激光束移位而同时所述透明固体材料保持器保持静止。
17.根据权利要求12至16中任一项所述的制造配置，其中平移模块被配置以使所述照射模块移位而同时所述透明固体材料保持器保持静止。
18.抗反射透明固体材料，其使用根据权利要求1至11中任一项所述的成形方法成形并且表面上包括纳米结构二维抗反射图案阵列。
19.设备，其包括根据权利要求18所述的抗反射透明固体材料。
20.用于使透明固体材料的表面成形以减少透明材料表面的光谱中的反射的系统，包括：
用于在保持器上提供所述透明固体材料的装置；
用于确定所述透明固体材料表面上期望的目标纳米结构二维抗反射图案阵列的装置；
用于确定所述透明固体材料表面上期望的焦斑分布的装置；
用于确定所述透明固体材料的熔融温度的装置；
用于从激光能量密度值的范围中设置激光能量密度值的装置；
用于分别从波长、重复率和脉冲持续时间的范围中设置激光脉冲的波长、重复率和脉冲持续时间的装置；
用于设置在激光表面上每焦斑施加的连续激光脉冲的数量的装置；
这样的装置：其用于使所述透明固体材料的表面暴露于具有所选波长、重复率、脉冲持续时间和连续激光脉冲数的聚焦激光辐射，以将所述透明材料的温度升高至所述熔融温度附近，从而使所述表面的至少一部分成形并产生所述期望的目标纳米结构二维图案阵列的至少部分；
用于使所述透明固体材料相对平移以产生所述期望的纳米结构二维图案阵列的装置。
21.非暂时性计算机程序产品，其令照射配置执行使透明固体材料的表面成形，所述非暂时性计算机程序产品具有指令以：
在保持器上提供所述透明固体材料；
确定所述透明固体材料的表面上期望的目标纳米结构二维抗反射图案阵列；
确定所述透明固体材料的表面上期望的焦斑分布；
确定所述透明固体材料的熔融温度；
从激光能量密度值的范围中选择激光能量密度值；
分别从波长、重复率和脉冲持续时间的范围中选择激光脉冲的波长、重复率和脉冲持续时间；
选择在激光表面上每焦斑施加的连续激光脉冲的数量；
使所述透明固体材料的表面暴露于具有所选波长、重复率、脉冲持续时间和连续激光脉冲数的聚焦激光辐射，以将所述透明材料的温度升高至所述熔融温度附近，从而使所述表面的至少一部分成形并产生所述期望的目标纳米结构二维图案阵列的至少部分；
使所述透明固体材料相对平移以产生所述期望的纳米结构二维图案阵列。
22.计算机程序产品，包括用于令辐射配置执行根据权利要求1至11中任一项所述的方法的程序指令。
23.根据权利要求22所述的计算机程序产品，其体现在存储介质上。
24.根据权利要求22所述的计算机程序产品，其承载于载波信号上。
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