CN111796485B - 一种光掩模边缘和侧面光刻胶的去除装置及方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开一种光掩模边缘和侧面光刻胶的去除装置及方法,涉及光掩模技术领域,包括依次设置于光掩模边缘的第一喷头和第二喷头,第一喷头和第二喷头沿光掩模边缘线性移动;第一喷头上设置有第一去胶溶剂喷嘴和第一真空吸入口,第一去胶溶剂喷嘴垂直设置于光掩模的侧面上部,第一真空吸入口垂直设置于光掩模的背面边缘;第二去胶溶剂喷嘴垂直设置于光掩模的正面边缘,第二真空吸入口垂直设置于光掩模的侧面;第一去胶溶剂喷嘴和第二去胶溶剂喷嘴均通过进液管连接有供液组件,第一真空吸入口和第二真空吸入口均通过真空管连接有真空系统。本发明同时清洗光掩模侧面残留光刻胶和边缘光刻胶,且在清洗过程中不会影响到其他区域的光刻胶。

Description

一种光掩模边缘和侧面光刻胶的去除装置及方法
技术领域
本发明涉及光掩模技术领域,特别是涉及一种光掩模边缘和侧面光刻胶的去除装置及方法。
背景技术
高端光掩模在涂完光刻胶后,侧面的光刻胶残留会污染曝光机;正面边缘的光刻胶会污染曝光机和光掩模的夹具;边缘光刻胶去除后光掩模在边缘部分还需要通过导线接地才能进行曝光工艺。
目前,高端的光掩模侧面和边缘的光刻胶无有效去除方法,对高端的光掩模边缘和侧面的光刻胶做不到定点线性清洗,同时不影响光掩模正面的光刻胶。
发明内容
本发明的目的是提供一种光掩模边缘和侧面光刻胶的去除装置及方法,以解决上述现有技术存在的问题,同时清洗光掩模侧面残留光刻胶和边缘光刻胶,且在清洗过程中不会影响到其他区域的光刻胶。
为实现上述目的,本发明提供了如下方案:本发明提供一种光掩模边缘和侧面光刻胶的去除装置,包括依次设置于光掩模边缘的第一喷头和第二喷头,所述第一喷头和所述第二喷头沿所述光掩模边缘线性移动;所述第一喷头上设置有第一去胶溶剂喷嘴和第一真空吸入口,所述第一去胶溶剂喷嘴垂直设置于光掩模的侧面上部,所述第一真空吸入口垂直设置于所述光掩模的背面边缘;所述第二喷头上设置有第二去胶溶剂喷嘴和第二真空吸入口,所述第二去胶溶剂喷嘴垂直设置于所述光掩模的正面边缘,所述第二真空吸入口垂直设置于所述光掩模的侧面;所述第一去胶溶剂喷嘴和所述第二去胶溶剂喷嘴均通过进液管连接有供液组件,所述第一真空吸入口和所述第二真空吸入口均通过真空管连接有真空系统。
优选的,所述第一去胶溶剂喷嘴、所述第二去胶溶剂喷嘴、所述第一真空吸入口和所述第二真空吸入口均靠近所述光掩模设置。
优选的,所述供液组件包括储液罐,所述储液罐通过进液管与所述第一去胶溶剂喷嘴或所述第二去胶溶剂喷嘴连接,所述进液管上设置有动力装置和流量控制组件。
优选的,所述动力装置采用PTFE材质的风囊泵或者压力罐,所述流量控制组件采用流量控制阀。
优选的,所述真空系统包括真空发生器,所述真空发生器通过所述真空管与所述第一真空吸入口或所述第二真空吸入口连接,所述真空发生器连接有发生控制器。
优选的,所述真空管上设置有真空调速阀,所述真空调速阀连接有真空调压表,所述真空调压表与所述发生控制器连接。
优选的,所述第一真空吸入口以及所述第二真空吸入口与所述真空调速阀之间设置有气液分离器。
本发明还公开一种光掩模边缘和侧面光刻胶的去除方法,包括以下步骤:
步骤一、将第一喷头和第二喷头安装在光掩模的边缘;
步骤二、控制第二喷头和第一喷头依次沿光掩模边缘线性移动;
步骤三、通过第二喷头的第二去胶溶剂喷嘴喷出去胶溶剂,清除光掩模正面边缘的光刻胶,溶解完光刻胶的溶剂通过第二真空吸入口吸走回收;
步骤四、通过第一喷头的第一去胶溶剂喷嘴喷出去胶溶剂,清除光掩模侧面的光刻胶,溶解完光刻胶的溶剂通过第一真空吸入口吸走回收;
步骤五、溶解完光掩模侧面的光刻胶的溶剂在流入到光掩模背面边缘与第一真空吸入口之间时,对光掩模背面边缘的光刻胶进行清洗。
优选的,所述第一去胶溶剂喷嘴和所述第二去胶溶剂喷嘴的宽度为2mm。
优选的,所述第一真空吸入口和所述第二真空吸入口的宽度为3mm。
本发明相对于现有技术取得了以下技术效果:
本发明第一喷头和第二喷头以线性运动方式在光掩模正面清洗掉光刻胶,去胶溶剂的宽度按照设计进行选择,不会影响到其他地方的光刻胶,同时能将光掩模的侧面和背面残留的光刻胶清洗干净。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明光掩模边缘和侧面光刻胶的去除装置的结构示意图;
图2为本发明第一喷头的结构示意图;
图3为本发明第二喷头的结构示意图;
其中,1为光掩模石英基板,2为光刻胶,3为第一喷头,4为第二喷头,31为第一去胶溶剂喷嘴,32为第一真空吸入口,41为第二去胶溶剂喷嘴,42为第二真空吸入口。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
本发明的目的是提供一种光掩模边缘和侧面光刻胶的去除装置及方法,以解决上述现有技术存在的问题,实现了办公桌的可折叠,节约空间,而且方便使用、移动等。
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。
实施例一
如图1-3所示,本实施例提供一种光掩模边缘和侧面光刻胶的去除装置,包括依次设置于光掩模边缘的第一喷头3和第二喷头4,第一喷头3和第二喷头4沿光掩模边缘线性移动;其中,可以手动控制第一喷头3和第二喷头4移动,或者通过直线电机、伸缩杆等机械装置控制其移动;第一喷头3和第二喷头4可以通过固定杆等连接件固定连接,以实现同步移动,且第一喷头3和第二喷头4之间存在一定间距,保证彼此之间的喷嘴和真空起作用时不会混乱。
第一喷头3上设置有第一去胶溶剂喷嘴31和第一真空吸入口32,第一去胶溶剂喷嘴31垂直设置于光掩模的侧面上部,第一真空吸入口32垂直设置于光掩模的背面边缘;第二喷头4上设置有第二去胶溶剂喷嘴41和第二真空吸入口42,第二去胶溶剂喷嘴41垂直设置于光掩模的正面边缘,第二真空吸入口42垂直设置于光掩模的侧面;第一去胶溶剂喷嘴31和第二去胶溶剂喷嘴41均通过进液管连接有供液组件,第一真空吸入口32和第二真空吸入口42均通过真空管连接有真空系统。
在本实施例中,第一去胶溶剂喷嘴31、第二去胶溶剂喷嘴41、第一真空吸入口32和第二真空吸入口42均靠近光掩模设置;去胶溶剂喷嘴将去胶溶剂按一定流量喷出到光掩模表面,喷头和光掩模的距离控制在较小距离,由于液体的表面张力,使去胶溶剂在喷嘴处形成一层液膜,液膜被液体表面张力限制在喷嘴的范围内,不会溢流到其他地方。
在本实施例中,供液组件包括用于储存去胶溶剂的储液罐,储液罐通过进液管与第一去胶溶剂喷嘴31或第二去胶溶剂喷嘴41连接,进液管上设置有动力装置和流量控制组件。其中,动力装置采用PTFE材质的风囊泵或者压力罐,流量控制组件采用流量控制阀;通过动力装置提供液体流量,再由流量控制组件来调整和稳定流量。
在本实施例中,真空系统包括真空发生器,用于提供真空度,真空发生器通过真空管与第一真空吸入口32或第二真空吸入口42连接,真空发生器连接有发生控制器。进一步,真空管上设置有真空调速阀,真空调速阀连接真空调压表调节真空的抽速,真空调压表与发生控制器连接,控制真空发生器产生的真空度。
在本实施例中,第一真空吸入口32以及第二真空吸入口42与真空调速阀之间设置有气液分离器,将抽过来的去胶溶剂进行气液分离,使液体不会抽入真空发生器内;气液分离器根据需要从现有装置中进行选择。
本实施例还公开一种光掩模边缘和侧面光刻胶的去除方法,包括以下步骤:
步骤一、将第一喷头3和第二喷头4安装在光掩模的边缘;
步骤二、控制第二喷头4和第一喷头3依次沿光掩模边缘线性移动;
步骤三、通过第二喷头4的第二去胶溶剂喷嘴41喷出去胶溶剂,清除光掩模正面边缘的光刻胶2,溶解完光刻胶2的溶剂通过第二真空吸入口42吸走回收;
步骤四、通过第一喷头3的第一去胶溶剂喷嘴31喷出去胶溶剂,清除光掩模侧面的光刻胶2,溶解完光刻胶2的溶剂通过第一真空吸入口32吸走回收;
步骤五、溶解完光掩模侧面的光刻胶2的溶剂在流入到光掩模背面边缘与第一真空吸入口32之间时,对光掩模背面边缘的光刻胶2进行清洗。
在本实施例中,喷出的去胶溶剂可以快速溶解光掩模上的光刻胶2;真空对溶剂形成吸力,溶解完光刻胶2的溶剂通过真空吸入口吸走回收,这样能保证去胶溶剂的流动方向可控,不会影响到其他地方。
在本实施例中,第一去胶溶剂喷嘴31和第二去胶溶剂喷嘴41的宽度为2mm,第一真空吸入口32和第二真空吸入口42的宽度为3mm。
在本实施例中,正面光刻胶2去胶的宽度由第二喷头4的第二去胶溶剂喷嘴41的宽度决定,背面清洗的宽度由第一真空吸入口32的宽度决定;侧面去胶是进行全覆盖的清洗。
本发明中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想;同时,对于本领域的一般技术人员,依据本发明的思想,在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处。综上所述,本说明书内容不应理解为对本发明的限制。

Claims (10)

1.一种光掩模边缘和侧面光刻胶的去除装置,其特征在于:包括依次设置于光掩模边缘的第一喷头和第二喷头,所述第一喷头和所述第二喷头沿所述光掩模边缘线性移动;所述第一喷头上设置有第一去胶溶剂喷嘴和第一真空吸入口,所述第一去胶溶剂喷嘴垂直设置于光掩模的侧面上部,所述第一真空吸入口垂直设置于所述光掩模的背面边缘,其中,所述第一去胶溶剂喷嘴能够喷出去胶溶剂,清除光掩模侧面的光刻胶,且溶解完光掩模侧面的光刻胶的去胶溶剂在流入到光掩模背面边缘与所述第一真空吸入口之间时,能够对光掩模背面边缘的光刻胶进行清洗;所述第二喷头上设置有第二去胶溶剂喷嘴和第二真空吸入口,所述第二去胶溶剂喷嘴垂直设置于所述光掩模的正面边缘,所述第二真空吸入口垂直设置于所述光掩模的侧面;所述第一去胶溶剂喷嘴和所述第二去胶溶剂喷嘴均通过进液管连接有供液组件,所述第一真空吸入口和所述第二真空吸入口均通过真空管连接有真空系统。
2.根据权利要求1所述的光掩模边缘和侧面光刻胶的去除装置,其特征在于:所述第一去胶溶剂喷嘴、所述第二去胶溶剂喷嘴、所述第一真空吸入口和所述第二真空吸入口均靠近所述光掩模设置。
3.根据权利要求1所述的光掩模边缘和侧面光刻胶的去除装置,其特征在于:所述供液组件包括储液罐,所述储液罐通过进液管与所述第一去胶溶剂喷嘴或所述第二去胶溶剂喷嘴连接,所述进液管上设置有动力装置和流量控制组件。
4.根据权利要求3所述的光掩模边缘和侧面光刻胶的去除装置,其特征在于:所述动力装置采用PTFE材质的风囊泵或者压力罐,所述流量控制组件采用流量控制阀。
5.根据权利要求1所述的光掩模边缘和侧面光刻胶的去除装置,其特征在于:所述真空系统包括真空发生器,所述真空发生器通过所述真空管与所述第一真空吸入口或所述第二真空吸入口连接,所述真空发生器连接有发生控制器。
6.根据权利要求5所述的光掩模边缘和侧面光刻胶的去除装置,其特征在于:所述真空管上设置有真空调速阀,所述真空调速阀连接有真空调压表,所述真空调压表与所述发生控制器连接。
7.根据权利要求6所述的光掩模边缘和侧面光刻胶的去除装置,其特征在于:所述第一真空吸入口以及所述第二真空吸入口与所述真空调速阀之间设置有气液分离器。
8.一种光掩模边缘和侧面光刻胶的去除方法,其特征在于:采用如权利要求1-7任一项所述的光掩模边缘和侧面光刻胶的去除装置,包括以下步骤:
步骤一、将第一喷头和第二喷头安装在光掩模的边缘;
步骤二、控制第二喷头和第一喷头依次沿光掩模边缘线性移动;
步骤三、通过第二喷头的第二去胶溶剂喷嘴喷出去胶溶剂,清除光掩模正面边缘的光刻胶,溶解完光刻胶的溶剂通过第二真空吸入口吸走回收;
步骤四、通过第一喷头的第一去胶溶剂喷嘴喷出去胶溶剂,清除光掩模侧面的光刻胶,溶解完光刻胶的溶剂通过第一真空吸入口吸走回收;
步骤五、溶解完光掩模侧面的光刻胶的溶剂在流入到光掩模背面边缘与第一真空吸入口之间时,对光掩模背面边缘的光刻胶进行清洗。
9.根据权利要求8所述的光掩模边缘和侧面光刻胶的去除方法,其特征在于:所述第一去胶溶剂喷嘴和所述第二去胶溶剂喷嘴的宽度为2mm。
10.根据权利要求9所述的光掩模边缘和侧面光刻胶的去除方法,其特征在于:所述第一真空吸入口和所述第二真空吸入口的宽度为3mm。
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN201188173Y (zh) * 2008-04-11 2009-01-28 北京京东方光电科技有限公司 去除玻璃基板边缘光刻胶的装置
WO2010129115A2 (en) * 2009-04-28 2010-11-11 Lam Research Corporation Apparatus and system for cleaning substrate
CN103913958A (zh) * 2014-03-18 2014-07-09 京东方科技集团股份有限公司 基板边缘光刻胶的去除装置
CN110426916A (zh) * 2019-08-05 2019-11-08 常州瑞择微电子科技有限公司 一种光掩模板保护膜胶印去除的装置及方法
CN110729180A (zh) * 2019-11-26 2020-01-24 上海华力集成电路制造有限公司 洗晶边工艺方法

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003266030A (ja) * 2002-03-15 2003-09-24 Seiko Epson Corp 被処理物の洗浄方法および装置並びにデバイスの製造方法およびデバイス

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN201188173Y (zh) * 2008-04-11 2009-01-28 北京京东方光电科技有限公司 去除玻璃基板边缘光刻胶的装置
WO2010129115A2 (en) * 2009-04-28 2010-11-11 Lam Research Corporation Apparatus and system for cleaning substrate
CN103913958A (zh) * 2014-03-18 2014-07-09 京东方科技集团股份有限公司 基板边缘光刻胶的去除装置
CN110426916A (zh) * 2019-08-05 2019-11-08 常州瑞择微电子科技有限公司 一种光掩模板保护膜胶印去除的装置及方法
CN110729180A (zh) * 2019-11-26 2020-01-24 上海华力集成电路制造有限公司 洗晶边工艺方法

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