CN111757813A - 对固态材料打标的方法、从该方法形成的标记和根据该方法打标的固态材料 - Google Patents
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Abstract
一种形成肉眼不可见的不能以视觉方式检测鉴定的标记的方法，所述标记在由固态材料形成的制品的外表面处由多层级的多个凹进形成，所述方法包括下列步骤：在施加到由固态材料形成的制品的外表面的光致抗蚀剂的预定区域内形成多层级的多个凹进，其中，所述多层级的多个凹进通过灰度光刻形成，并且其中，所述一个或多个凹进至少部分地延伸穿过所述光致抗蚀剂并朝向由固态材料形成的所述制品的所述外表面延伸；和应用蚀刻过程，使得所述制品的所述外表面的至少一部分被曝光和蚀刻，以便形成多个被蚀刻部分，所述多个被蚀刻部分从所述制品的所述外表面延伸到所述制品中，并对应于所述多个凹进；其中，所述光致抗蚀剂的所述预定区域限定将施加到所述制品的所述外表面的可鉴定标记；其中，所述多个被蚀刻部分在所述制品的所述外表面上形成不能以视觉方式鉴定的标记。
Description
技术领域
本发明涉及固态材料的打标的领域，并且更具体地，涉及宝石(包括钻石)的打标。
背景技术
宝石的鉴定和分级长期以来由国际标准实验室建立，包括GIA、IGI、Gem-A和NGTC。鉴定和分级结果通常存储在诸如硬盘、磁带、光盘等的电子介质中，并且将纸质证书与对应的宝石一起签发。
当证书丢失时，或者当该宝石与其它宝石混合时，宝石的鉴定(identity)就会丢失，需要重新认证。
为了避免这种情况，对宝石(包括钻石)直接打标通常是一种简单明了的方法，并且允许重新鉴定。
本领域中用于为宝石(包括钻石)打标的常规技术包括激光打记和离子束打标。
但是，在使用激光打标时，会产生粗糙的图案，并在宝石上留下不可恢复的烧蚀标记，从而造成永久性损伤并可能使宝石贬值。
当使用离子束打标时，这种技术可用以在宝石表面上刻印精细的图案，这种图案可以比使用激光打标的图案小1000倍，但是这种过程通常相对较慢并且需要一定精度。
除了物品鉴定之外，对宝石打标还可以提供物品的可追溯性，诸如其来源、其所有者及其特征等。这样的打标技术还有助于防止伪造贵重制品，诸如艺术品或珠宝，并且有助于防盗。
发明内容
本发明的目的
本发明的目的在于提供一种为固态材料(包括宝石)打标的过程以及一种鉴定标记，其克服或至少部分改善了与现有技术相关联的至少一些缺陷。
发明概述
在第一方面，本发明提供了一种形成肉眼不可见的不能以视觉方式检测鉴定的标记的方法，所述标记在由固态材料形成的制品的外表面处由多层级的多个凹进形成，所述方法包括下列步骤：
(i)在施加到由固态材料形成的制品的外表面的光致抗蚀剂的预定区域内形成多层级的多个凹进，其中，所述多层级的多个凹进通过灰度光刻(grayscale lithography)形成，并且其中，所述一个或多个凹进至少部分地延伸穿过所述光致抗蚀剂，并朝向由固态材料形成的所述制品的所述外表面延伸；和
(ii)应用蚀刻过程，使得所述制品的所述外表面的至少一部分被曝光和蚀刻，以便形成多个被蚀刻部分，所述多个被蚀刻部分从所述制品的所述外表面延伸到所述制品中，并对应于所述多个凹进；
其中，所述光致抗蚀剂的所述预定区域限定将施加到所述制品的所述外表面的可鉴定标记；其中，所述多个被蚀刻部分在所述制品的所述外表面上形成不能以视觉方式鉴定的标记。
可以使用10倍小型放大镜(loupe)或20倍小型放大镜查看所述标记。可替代地，所述制品的所述被蚀刻部分的最大宽度小于200nm(纳米)，使得所述可鉴定标记在可见光谱中是不能以视觉方式检测的。
所述多个凹进可以延伸穿过所述光致抗蚀剂，以便在应用所述蚀刻过程之前提供穿过所述光致抗蚀剂的一个或多个孔口，并提供所述制品的所述外表面的一个或多个曝光部分，使得与所述一个或多个孔口相对应的被蚀刻部分深入到所述制品中的深度为大致相同深度。
在应用所述蚀刻过程之前，所述凹进可以按彼此不同的深度延伸穿过所述光致抗蚀剂，使得所述被蚀刻部分深入到所述制品中的深度是变化的。
所述灰度光刻过程可以使用具有不同尺寸和形状的孔的掩膜。
所述灰度光刻图案优选地通过激光干涉光刻来产生。
所述灰度光刻图案可以通过在所述光致抗蚀剂中激光直写来产生。
在光致抗蚀剂的所述预定区域内，所述多个凹进中的凹进可以相对于彼此以周期性且均匀的布置方式来布置。可替代地，在光致抗蚀剂的所述预定区域内，所述多个凹进中的凹进相对于彼此以非周期性且非均匀的布置方式布置。
所述光致抗蚀剂可以具有均匀厚度，或者可以具有不均匀厚度。
所述制品的所述外表面可以是平坦表面，或者可以是不平坦表面。
所述多个凹进的凹进可以具有相同宽度，或者所述多个凹进可以具有不均匀宽度。
一个或多个凹进可以由多个相邻的凹进形成。
优选地，所述蚀刻过程是等离子体蚀刻过程。
所述多个凹进中的一个或多个凹进可以相对于制品的外表面倾斜。
所述多个凹进中的一个或多个凹进可以相对于制品的外表面在至少一个平面内弯曲。
所述固态材料优选地选自由钻石、珍珠、硅和合成蓝宝石组成的宝石的组。
在第二方面，本发明提供了一种由固态材料形成的制品，在所述固态材料上具有肉眼不可见的不能以视觉方式检测鉴定的标记，其中，所述不能以视觉方式检测鉴定的标记通过根据第一方面所述的方法施加到所述固态材料。
所述固态材料优选地选自包括钻石、珍珠、硅和合成蓝宝石的宝石的组。
可以使用10倍小型放大镜或20倍小型放大镜查看和检查所述标记。可替代地，所述标记在可见光谱下可以是不能以视觉方式检测的。
附图说明
为了可以获得对上述发明的更精确的理解，将通过参考在附图中示出的本发明的具体实施例来对上文简要描述的本发明进行更具体的说明。本文中呈现的附图可能未按比例绘制，并且附图或以下说明中对尺寸的任何引用都特定于所公开的实施例。
附图示出了本发明并解释其原理。在图中，相同附图标记始终指示相同部分：
图1示出了适合灰度光刻用途的光致抗蚀剂的特征；
图2示出了示出光致抗蚀剂在不同激励条件下的响应的图示；
图3示出了用于在灰度光刻中产生2.5D图案的光致抗蚀剂掩膜；
图4示出了可以如何将激光干涉应用于灰度光刻；
图5示出了在非平坦表面上施加灰度光刻；以及
图6示出了在制品上创造标记的完整过程。
具体实施方式
为了能够获得对上述发明的更精确的理解，将通过参考在附图中示出的本发明的具体实施例来对上文简要描述的本发明进行更具体的说明。本文中呈现的附图可能未按比例绘制，并且附图或以下说明中对尺寸的任何引用都特定于所公开的实施例。
本发明涉及一种在由固态材料形成的制品的外表面上提供不能以视觉方式检测鉴定的标记的方法。虽然下文的说明和示例涉及对宝石，特别是对钻石的打标，但是本发明也可应用于对任何固态材料的表面打标。
根据本发明，在固态材料制品的表面上打标的过程包括下列两个过程步骤：
(i)在制品的表面上形成光致抗蚀剂掩膜，和
(ii)之后，蚀刻制品的表面。
在施加到制品的外表面上的光致抗蚀剂的预定区域内形成多个凹进，所述多个凹进组成掩膜。
所述多个凹进通过灰度光刻形成，并且一个或多个凹进从光致抗蚀剂的外表面至少部分地延伸穿过光致抗蚀剂，并朝向由固态材料形成的制品的在其上施加有掩膜的所述外表面延伸。
蚀刻过程是等离子体蚀刻，其可以是微波等离子体蚀刻、反应离子蚀刻(RIE)，或者电感耦合等离子体(ICP)蚀刻。
蚀刻过程去除所述制品的外表面的至少一部分，以形成多个被蚀刻部分，所述多个被蚀刻部分从所述制品的外表面延伸到所述制品中，并且对应于在光致抗蚀剂中形成的所述多个凹进。
有利地，本发明人已经利用灰度光刻的性质，使得设置在固态材料制品的外表面上的光致抗蚀剂在预定区域处具有不均匀的厚度。这样，要产生的图案呈多层级(multi-level)，即呈两个半维度(2.5D)。
然后，蚀刻过程以恒定速率去除制品表面上的材料，无论所述材料是光致抗蚀剂还是基底。
这使得在所述光致抗蚀剂的预定区域处产生多个被蚀刻部分，从而在制品的外表面上形成不能以视觉方式检测鉴定的标记。
在本发明的实施例中，制品的被蚀刻部分的最大宽度可以小于200nm，使得标记在可见光谱下是不能以视觉方式检测的，并且不会改变制品的外观或导致难看的标记。这种不能以视觉方式检测的标记被称为“不可见标记”。
参考图1，其中示出了本发明的一种在由固态材料10形成的制品的外表面处形成不能以视觉方式检测鉴定的标记的方法的示意图。
在灰度光刻中，光致抗蚀剂的选择是关键且至关重要的。在常规光刻中，要求理想的光致抗蚀剂在曝光时具有不同的响应。当暴露于辐射(诸如UV或可见光)时，无论光照强度如何，光致抗蚀剂都会发生化学变化。需要这种类型的响应来制作具有高尺寸精度和高对比度的图案。
参考图1，在实践中，通常的光致抗蚀剂具有如图所示的响应曲线101。直到达到某个阈值，光致抗蚀剂才会反应。然后，显影速率与曝光剂量成比例，并达到饱和。通过这种响应行为，通常必须过量使用(over-dose)以便产生可靠的图案。
但是，这样的高曝光可能损伤将要施加标记的基底或制品，并且所产生的图案通常限于二维图案。
灰度光刻中使用的光致抗蚀剂可以具有若干特征。首先，光致抗蚀剂不是具有在常规光刻中有利的尖锐响应曲线，而是优选地具有宽曝光剂量窗口，从而可以通过曝光剂量来控制显影速率。这种响应行为由图1的响应曲线102示出，其中实线响应曲线102示出了光致抗蚀剂的显影速率与曝光剂量成比例。
灰度光刻中使用的光致抗蚀剂的另一特征在于，光致抗蚀剂可以在曝光时改变其吸收率或透射率。在说明这种性质的一个示例中，光致抗蚀剂AZ 9260对UV(紫外线)是半透过(semi-transparent)的，并且UV曝光的典型穿透深度为1至2微米。
在UV曝光剂量的作用下，光致抗蚀剂的吸收率改变，使得所述光致抗蚀剂变为透过的。描述这种行为的另一术语是“光漂白”。当所述光致抗蚀剂的顶层被漂白时，UV曝光可以更深地进入到光致抗蚀剂中以继续反应。
图2a、图2b和图2c示出了普通光致抗蚀剂和用于灰度显影的光致抗蚀剂的显影。在图2a中，示出了普通的光致抗蚀剂201被激励202曝光。当剂量高于显影阈值时，光致抗蚀剂203起反应。
相比之下，在灰度强度上，显影速率由曝光剂量E控制，曝光剂量可以表示为：
E＝I t，
其中，I是曝光通量，t是曝光时间。
这一构思在图2b和图2c中例示和绘出，其中调整了所述两个参数。
参考图2b，窄箭头204表示弱曝光通量，而宽箭头205表示强曝光通量。如图所示，在强曝光下，光致抗蚀剂可以被完全漂白。
参考图2c，箭头的长度与曝光时间t成比例。在维持恒定曝光通量的同时，较短的曝光时间206将仅使光致抗蚀剂的表面层曝光，而当曝光时间是如箭头207所示那样足够长时，可以将光致抗蚀剂完全漂白。
对于具有大照射面积或者具有不可调整的强度和定时的激励源来说，不能通过将光致抗蚀剂直接暴露于激励源来产生图案。因此，需要灰度掩膜来控制对光致抗蚀剂的曝光剂量。
如图3中呈现和描绘的，在下面的实施例中示出了一种实现这种控制的方法，在该实施例中，光致抗蚀剂掩膜布置在照射(illumination)和涂覆有光致抗蚀剂的基底之间，通过横跨光致抗蚀剂掩膜的孔的尺寸来调整剂量。
如图3中所示，示出了掩膜的示例，由此在光致抗蚀剂掩膜301上压印了四组方孔矩阵303。这些孔303具有不同的尺寸，因此穿过掩膜301到达光致抗蚀剂304的光量可以由开口303来控制。
重新参考曝光剂量表达式，这种灰度掩膜方法在激励302对光致抗剂曝光时改变了对于光致抗蚀剂的曝光通量I，使得在基底305上的光致抗蚀剂304的不同部分处具有不同的显影速率。最终图案是如图所示的阶梯状结构。
这种掩膜方法产生2.5D图案的一个缺点在于，最终图案的分辨率受到掩膜的制作方法和掩膜的质量的限制。
即使有技术可以产生高分辨率的掩膜，也必须考虑激励在小孔处的衍射，因为这会破坏分辨率。
因此，用于灰度光刻的更实际方法是使用其中激励源的强度和定时可以调整的所述激励源。
通过辐射装置的受激发射而进行的光放大(通常被称为激光)是这种应用的常见解决方案。
如今，可以针对任何激光装置容易地调整激光辐射的强度，并且可以使用适当的透镜组将激光光斑的大小聚焦到微米级。
然后，可以用正确的一组参数来调节(tuned)通量I。对于曝光时间t，超快激光器可以产生飞秒级的激光脉冲。通过控制要发射的激光脉冲数目，可以在飞秒的时间级上微调曝光时间t。这意味着对光致抗蚀剂的曝光剂量具有超高分辨率。
在灰度光刻中，通过激光直写对光致抗蚀剂进行曝光是常见的方法，但是，可以通过其它光学技术来完成对光致抗蚀剂的曝光。
激光干涉光刻是用于灰度光刻的另一种光致抗蚀剂曝光方法，其原理如图4中所示。相干光源(诸如激光)的光束通过分束元件(诸如光栅、偏振器、分束器等)分成两部分。
这两个分开的光束被引导到不同的路径以进行调制。参考光束401直接照射到光致抗蚀剂405，而另一光束402被引导到一组光学调制组件403，并且被发射为相位和/或强度被改变的光束404。
光束401和光束404重新组合并干涉。所得光束在基底406上的光致抗蚀剂405的整个表面上具有不均匀的强度分布。曝光通量I的这种变化引起对光致抗蚀剂405的不同曝光剂量，并且在显影之后在光致抗蚀剂405上产生2.5D图案。
灰度光刻的另一特征在于，可以在具有不平坦或不均匀表面的基底上产生光致抗蚀剂的图案，如图5中所示。
在常规光刻中，对于不平坦或不均匀的基底表面，通常无法控制在基底上涂覆的光致抗蚀剂层的厚度。由于常规光刻不能精确地控制曝光深度和显影速率，因此在现有技术的工艺中不能在光致抗蚀剂上刻精准地写出精确图案。
灰度光刻的使用提供了一种对不平坦基底表面上的光致抗蚀剂进行显影的解决方案。如图5中所示，不平坦表面502涂覆有光致抗蚀剂层503。由于光致抗蚀剂层的厚度不均匀，因此通过表面扫描仪测量具有光致抗蚀剂层的基底的表面形态，以便计算在基底的不同部分处的曝光剂量501。所述曝光剂量可以通过激励通量或曝光时间来调整。
一旦用期望图案掩腌的光致抗蚀剂被制备出，则样品基底准备好用于下一过程步骤，在下一过程步骤中，样品基底被蚀刻以去除光致抗蚀剂，并且从基底表面去除非常薄的材料层，以便形成根据本发明的标记。
参考图6a、图6b和图6c，示出了根据本发明的对固态材料提供标记的完整过程的说明性示例。
首先，如图6a中所示，在固态材料602形成的基底的外表面上涂覆薄的光致抗蚀剂层601。借助于灰度光刻，通过控制指定区域处的曝光剂量603从而以期望图案对光致抗蚀剂601曝光。在该示例中，光致抗蚀剂是正性光致抗蚀剂，因此在曝光之后，经曝光的光致抗蚀剂变得更可溶，易于被溶剂洗去。
参考图6b，如图所示，剩余的光致抗蚀剂图案604留在基底的表面上。
因此，下一过程步骤是对固态材料602形成的基底的表面应用等离子体蚀刻。未曝光的光致抗蚀剂604在固态材料602的指定区域的表面上起到保护层的作用。由于等离子体蚀刻可以是非选择性过程，因此固态材料602的表面上的材料将与位置无关地被以恒定速率去除。因此，光致抗蚀剂层601将首先被去除，然后去除其下方的固态材料602的材料。通过控制曝光剂量605，可以在由固态材料602形成的基底的表面606上形成期望的2.5D图案，如图6c中所示。
在作为典型等离子体蚀刻技术的反应离子蚀刻(RIE)过程中，产生有大量离子，这些离子通过溅射和相关过程被朝向目标加速以去除材料。已知这种过程具有低选择性。
与RIE相比，电感耦合等离子体(ICP)蚀刻是一种化学过程，其中，使用等离子体将蚀刻气体分解成自由基和离子的混合物。这样，尽管在本发明内可以实施其它的蚀刻过程，但是ICP蚀刻是具有高选择性的化学蚀刻过程，并且在本发明的优选实施例中是优选蚀刻技术。
本发明提供了对固态材料的打标，特别是对宝石(包括钻石)打标。
为了增强维持宝石(包括钻石)鉴定的安全性，必须提高制作和刻印标记的技术挑战性。
本发明提供了一种产生非光学可见的可鉴定标记的新型过程。用这种方法产生的标记图案呈多层级，这大大增加了伪造的难度，在图案设计中允许更大的灵活性和独特性，并提高了这种标记所刻印的信息量。
该标记可以做得足够小以使肉眼不可见，并且不会改变施加有该标记的制品(诸如宝石，特别是钻石)的光学性质。
在本发明的一些实施例中，可以施加用10倍小型放大镜或20倍小型放大镜可见和检查到的标记。
在本发明的一些实施例中，可以施加在可见光谱下不能以视觉方式检测的标记。
本发明的特定优点包括：
-提供多层级的标记，并消除了对多个掩膜的需求，
-允许提供高度复杂的标记，
-允许将变化引入到标记中，使得在一些实施例中，标记是独特的，
-对形状精度没有限制，以及
-高的空间分辨率，以产生精确的表面轮廓。
这些优点提供了增强的安全性，并且为标记的复制设置了很大的技术障碍，因此提供了增强的防伪属性。
本发明的打标方法和通过这种方法形成的标记提供了下列进一步优点：
(i)标记不影响美观，且不会容易看到；
(ii)标记在施加给诸如贵重石头或宝石之类的制品时，允许出于安全目的以及出于对制品的追踪和溯源进行鉴定；
(iii)安全目的，可以用于规避(mitigate)或识别伪造以及不正当行为(包括盗窃等)；
(iv)对固态材料打标，但没有与其它破坏性和侵入性打标方法(诸如消融、铣削、雕刻等)相关联的缺点；
(v)其方法和产品不会改变固态材料的光学质量或性质，并且不会损害固态材料的净度或颜色；
(vi)其方法和产品不会将污染物或杂质引入到固态材料；
(vii)其方法和产品不需要从固态材料的表面大量去除材料；以及
(viii)其方法和产品没有相关联的化学残留物。
应注意的是，虽然标记是通常的三维结构，但是如本领域技术人员已知的，使用术语“2.5D”或“两个半维度”涉及一种结构：这种结构可以具有变化的高度，但不包括“底切”。因此，术语“多层级(multi-level)”被认为与2.5D同义。还应注意的是，“多层级”也包括倾斜表面，并且本发明的标记的表面不需要彼此平行，并且可以在一个或多个平面中弯曲。
应注意并理解的是，本发明的实施例说明了思想和原理，而不是限制。在这些实施例中，在不脱离本发明范围的情况下，方法或实现机制可以修改或替代以用于高效呈现。因而，所附权利要求书不受实施例的限制。
在整个说明书和权利要求书中使用术语“标记(marking)”，本领域技术人员将应理解这种“标记”与提供给制品表面的“标记(mark)”有关，并且这些术语彼此同义，并且可以在不改变含义或解释的情况下互换使用。
Claims (25)
1.一种形成肉眼不可见的不能以视觉方式检测鉴定的标记的方法，所述标记在由固态材料形成的制品的外表面处由多层级的多个凹进形成，所述方法包括下列步骤：
(i)在施加到由固态材料形成的制品的外表面的光致抗蚀剂的预定区域内形成多层级的多个凹进，其中，多层级的所述多个凹进通过灰度光刻形成，并且其中，所述一个或多个凹进至少部分地延伸穿过所述光致抗蚀剂，并朝向由固态材料形成的所述制品的所述外表面延伸；和
(ii)应用蚀刻过程，使得所述制品的所述外表面的至少一部分被曝光和蚀刻，以便形成多个被蚀刻部分，所述多个被蚀刻部分从所述制品的所述外表面延伸到所述制品中，并对应于所述多个凹进；
其中，所述光致抗蚀剂的所述预定区域限定将施加到所述制品的所述外表面的可鉴定标记；其中，所述多个被蚀刻部分在所述制品的所述外表面上形成不能以视觉方式鉴定的标记。
2.根据权利要求1所述的方法，其中，能够使用10倍小型放大镜或20倍小型放大镜查看所述标记。
3.根据权利要求1所述的方法，所述制品的所述被蚀刻部分的最大宽度小于200nm，使得所述可鉴定标记在可见光谱中是不能以视觉方式检测的。
4.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中，所述多个凹进延伸穿过所述光致抗蚀剂，以便在应用所述蚀刻过程之前提供穿过所述光致抗蚀剂的一个或多个孔口，并提供所述制品的所述外表面的一个或多个曝光部分，使得与所述一个或多个孔口相对应的被蚀刻部分深入到所述制品中的深度为大致相同的深度。
5.根据权利要求1至3中的任一项所述的方法，其中，在应用所述蚀刻过程之前，所述凹进以彼此不同的深度延伸穿过所述光致抗蚀剂，使得所述被蚀刻部分深入到所述制品中的深度是变化的。
6.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中，所述灰度光刻过程使用的掩膜具有不同尺寸和形状的孔。
7.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中，所述灰度光刻图案通过激光干涉光刻来产生。
8.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中，所述灰度光刻图案通过在所述光致抗蚀剂中进行激光直写而产生。
9.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中，在所述光致抗蚀剂的所述预定区域内，所述多个凹进中的凹进相对于彼此以周期性且均匀的布置方式布置。
10.根据权利要求1至8中的任一项所述的方法，其中，在所述光致抗蚀剂的所述预定区域内，所述多个凹进中的凹进相对于彼此以非周期性且非均匀的布置方式布置。
11.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中，所述光致抗蚀剂具有均匀厚度。
12.根据权利要求1至10中的任一项所述的方法，其中，所述光致抗蚀剂具有不均匀厚度。
13.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中，所述制品的所述外表面是平坦表面。
14.根据权利要求1至12中的任一项所述的方法，其中，所述制品的所述外表面是不平坦表面。
15.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中，所述多个凹进中的凹进是相同宽度。
16.根据权利要求1至14中的任一项所述的方法，其中，所述多个凹进中的凹进具有不均匀宽度。
17.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中，一个或多个凹进由多个相邻的凹进形成。
18.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中，所述蚀刻过程是等离子体蚀刻过程。
19.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中，所述多个凹进中的一个或多个凹进相对于制品的所述外表面倾斜。
20.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中，所述多个凹进中的一个或多个凹进相对于制品的所述外表面在至少一个平面中弯曲。
21.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中，所述固态材料选自包括钻石、珍珠、硅和合成蓝宝石的宝石的组。
22.一种由固态材料形成的制品，在所述固态材料上具有肉眼不可见的不能以视觉方式检测鉴定的标记，其中，所述不能以视觉方式检测鉴定的标记通过根据权利要求1至20中的任一项所述的方法施加到所述固态材料。
23.根据权利要求22所述的制品，其中，所述固态材料选自包括钻石、珍珠、硅和合成蓝宝石的宝石的组。
24.根据权利要求22或23所述的制品，其中，能够使用10倍小型放大镜或20倍小型放大镜查看所述标记。
25.根据权利要求22或23所述的制品，其中，可以施加在可见光谱下可以是不能以视觉方式检测的标记。
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