CN111712746A - 光学装置 - Google Patents

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Abstract

本申请涉及光学装置。本申请的光学装置能够在改善外观缺陷的同时改变透射率并减少光损失。这样的光学装置可以用于各种应用，例如眼部佩戴物如太阳镜或AR(增强现实)或VR(虚拟现实)眼部佩戴物、建筑物外墙、或用于车辆的天窗。

Description

光学装置
技术领域
本申请要求基于2018年6月12日提交的韩国专利申请第10-2018-0067624号的优先权权益，其公开内容通过引用整体并入本文。
本申请涉及光学装置。
背景技术
各种各样的光学装置是已知的，所述光学装置被设计成使得可以使用液晶化合物来改变透射率。
例如，使用应用了主体材料和二色性染料客体的混合物的所谓的GH单元(guesthost cell，宾主单元)的透射率可变装置是已知的，并且在所述装置中，液晶化合物主要用作主体材料。
这样的透射率可变装置被应用于各种各样的应用，包括眼部佩戴物例如太阳镜和眼镜、建筑物的外墙、或车辆的天窗等。
发明内容
技术问题
本申请提供了能够在改善外观缺陷的同时改变透射率并减少光损失的光学装置。
技术方案
本申请是能够调节透射率的光学装置，其涉及例如能够至少在透明模式与黑色模式之间切换的光学装置。
透明模式是其中光学装置表现出相对高的透射率的状态，黑色模式是其中光学装置表现出相对低的透射率的状态。
在一个实例中，光学装置在透明模式下的透射率可以为约30％或更大、35％或更大、40％或更大、45％或更大、或者约50％或更大。此外，光学装置在黑色模式下的透射率可以为约20％或更小、15％或更小、或者约10％或更小。
在透明模式下的透射率越高越有利，在黑色模式下的透射率越低越有利，使得上限和下限中的每一个没有特别限制。在一个实例中，在透明模式下的透射率的上限可以为约100％、95％、90％、85％、80％、75％、70％、65％、或约60％。在黑色模式下的透射率的下限可以为约0％、1％、2％、3％、4％、5％、6％、7％、8％、9％、或约10％。
透射率可以为线性透光率。术语线性透光率可以为相对于沿预定方向入射在光学装置上的光，沿与入射方向相同的方向透过光学装置的光(线性光)的比率。在一个实例中，透射率可以为相对于沿平行于光学装置的表面法线的方向入射的光的测量结果(法线透光率)。
在本申请的光学装置中，其透射率被控制的光可以为UV-A区域紫外光、可见光或近红外光。根据常用的定义，UV-A区域紫外光用于意指波长在320nm至380nm范围内的辐射，可见光用于意指波长在380nm至780nm范围内的辐射，近红外光用于意指波长在780nm至2000nm范围内的辐射。
本申请的光学装置被设计为能够至少在透明模式与黑色模式之间切换。如果需要，光学装置还可以被设计为能够实现除透明模式和黑色模式之外的其他模式。例如，其还可以被设计为能够实现第三模式，所述第三模式可以表示在透明模式的透射率与黑色模式的透射率之间的任何透射率。
例如，由于光学装置包括液晶元件，因此可以实现这样的模式之间的切换。在此，液晶元件是能够在至少两个或更多个光轴取向状态(例如，第一取向状态和第二取向状态)之间切换的液晶元件。在此，光轴可以意指当包含在液晶元件中的液晶化合物为棒型时的长轴方向，以及可以意指当包含在液晶元件中的液晶化合物为盘型(discotic)时圆盘平面的法线方向。另一方面，当液晶元件包含光轴方向在任何取向状态下彼此不同的复数种液晶化合物时，液晶元件的光轴可以被定义为平均光轴(average optical axis)，并且在这种情况下，平均光轴可以意指液晶化合物的光轴的矢量和。
可以通过施加能量，例如通过施加电压来改变这样的液晶元件中的取向状态。即，液晶元件在没有电压施加的状态下可以具有第一取向状态和第二取向状态中的任一者，并且可以在施加电压时切换至另一种取向状态。
可以在第一取向状态和第二取向状态中的任一者下实现黑色模式，并且可以在另一种取向状态下实现透明模式。为方便起见，在本说明书中，除非另有说明，否则描述在第一取向状态下实现黑色模式。
液晶元件可以包括至少包含液晶化合物的液晶层。在一个实例中，液晶层是所谓的宾主液晶层，其可以为包含液晶化合物和二色性染料客体的液晶层。
液晶层是使用所谓的宾主效应的液晶层，其为其中二色性染料客体根据液晶化合物(下文中，可以称为液晶主体)的对准方向对准的液晶层。液晶主体的对准方向可以根据是否施加外部能量来调节。
用于液晶层中的液晶主体的类型没有特别限制，并且可以使用应用于实现宾主效应的一般类型的液晶化合物。
例如，作为液晶主体，可以使用近晶型液晶化合物、向列型液晶化合物、或胆甾型液晶化合物。通常，可以使用向列型液晶化合物。术语向列型液晶化合物意指液晶分子相对于位置不具有规则性但全部可以沿分子轴方向按顺序排列的液晶化合物。这样的液晶化合物可以呈棒形式或可以呈盘形式。
作为这样的向列型液晶化合物，可以选择具有例如约40℃或更高、50℃或更高、60℃或更高、70℃或更高、80℃或更高、90℃或更高、100℃或更高、或者约110℃或更高的清亮点，或者具有在以上范围内的相变点(即在向列相上到各向同性相的相变点)的液晶化合物。在一个实例中，清亮点或相变点可以为约160℃或更低、150℃或更低、或者约140℃或更低。
液晶化合物可以具有负数或正数的介电常数各向异性。考虑到该目的，可以适当地选择介电常数各向异性的绝对值。例如，介电常数各向异性可以大于约3或大于约7，或者可以小于约-2或小于约-3。
液晶化合物还可以具有约0.01或更大、或者约0.04或更大的光学各向异性(Δn)。在另一个实例中，液晶化合物的光学各向异性可以为约0.3或更小、或者约0.27或更小。
可以用作用于宾主液晶层的液晶主体的液晶化合物是本领域技术人员公知的，并且可以从其中自由选择液晶化合物。
液晶层包含与液晶主体一起的二色性染料客体。术语染料可以意指能够在可见光区域(例如，380nm至780nm的波长范围)中的至少一部分或整个范围内强烈吸收光和/或改变光的材料，术语二色性染料客体可以意指能够在可见光区域的至少一部分或整个范围内吸收光的材料。
作为二色性染料客体，例如，可以选择和使用已知具有可以根据液晶主体的对准状态而对准的特性的已知染料。例如，可以使用偶氮染料或蒽醌染料等作为二色性染料客体，并且液晶层还可以包含一种或两种或更多种染料以实现宽波长范围内的光吸收。
考虑到二色性染料客体的使用目的，可以适当地选择二色性染料客体的二色性比。例如，二色性染料客体的二色性比可以为约5或更大至约20或更小。在p型染料的情况下，术语二色性比可以意指通过将平行于染料的长轴方向的偏振光的吸收除以平行于与该长轴方向垂直的方向的偏振光的吸收而获得的值。二色性染料客体可以在可见光区域的波长范围内的至少一个波长、一些范围的波长、或全部范围的波长内，例如在约380nm至约780nm或约400nm至约700nm的波长范围内具有二色性比。
考虑到二色性染料客体的使用目的，可以适当地选择液晶层中的二色性染料客体的含量。例如，基于液晶主体和二色性染料客体的总重量，二色性染料客体的含量可以在约0.1重量％至约10重量％的范围内选择。考虑到期望的透射率和二色性染料客体在液晶主体中的溶解度等，可以改变二色性染料客体的比率。
液晶层基本上包含液晶主体和二色性染料客体，并且如有必要，还可以包含根据已知形式的其他任选的添加剂。作为添加剂的实例，可以例示手性掺杂剂或稳定剂，但不限于此。
液晶层的各向异性度(R)可以为约0.5或更大。各向异性度(R)由平行于液晶主体的对准方向偏振的光束的吸光度(E(p))和垂直于液晶主体的对准方向偏振的光束的吸光度(E(s))根据以下方程式确定。
<各向异性度方程式>
各向异性度(R)＝[E(p)-E(s)]/[E(p)+2*E(s)]
以上使用的参照是在液晶层中不包含染料的另一相同设备。
具体地，各向异性度(R)可以由其中染料分子水平取向的液晶层的吸光度值(E(p))和其中染料分子垂直取向的相同液晶层的吸光度值(E(s))确定。与根本不包含任何染料但具有相同构造的液晶层相比，测量吸光度。在一个振动面的情况下，可以使用沿平行于对准方向的方向振动的偏振光束(E(p))和在后续测量中沿垂直于对准方向的方向振动的偏振光束(E(s))进行该测量。在测量期间不切换或旋转液晶层，因此可以通过使偏振入射光的振动面旋转来进行E(p)和E(s)的测量。
详细工序的一个实例如下所述。可以使用光谱仪(例如来自Perkin Elmer的Lambda 1050UV光谱仪)记录E(p)和E(s)的测量光谱。光谱仪配备有用于测量光束和参考光束二者中约250nm至约2500nm的波长范围的Glan-Thompson起偏振器。两个起偏振器由步进马达控制，并且沿相同的方向取向。起偏振器的起偏振器方向的变化，例如0度至90度的转换，总是同步地且在相对于测量光束和参考光束的相同方向上进行。可以使用T.Karstens1973年在维尔茨堡大学(University of Wurzburg)的论文中描述的方法来测量各个起偏振器的取向。
在该方法中，使起偏振器相对于取向的二色性样品逐步旋转5度，并且例如在最大吸收区域中的固定波长处记录吸光度。对于每个起偏振器位置执行新的零线。对于两个二色性光谱E(p)和E(s)的测量，涂覆有来自JSR的聚酰亚胺AL-1054的反平行摩擦测试单元位于测量光束和参考光束中。可以选择具有相同层厚度的两个测试单元。将包含纯主体(液晶化合物)的测试单元放在参照光束中。将包含染料在液晶中的溶液的测试单元放在测量光束中。用于测量光束和参考光束的两个测试单元沿相同的对准方向安装在光程中。为了确保光谱仪的最大可能精确度，E(p)可以处于其最大吸收波长范围，例如约0.5至约1.5的波长范围。这对应于30％至5％的透射率。这通过相应地调节层厚度和/或染料浓度来设定。
各向异性度(R)可以根据以上方程式由E(p)和E(s)的测量值计算，如参考文献[参见：“Polarized Light in Optics and Spectroscopy,”D.S.Kliger等,Academic Press,1990]所示。
在另一个实例中，各向异性度(R)可以为约0.55或更大、0.6或更大、或者约0.65或更大。各向异性度(R)可以为例如约0.9或更小、0.85或更小、0.8或更小、0.75或更小、或者约0.7或更小。
这样的各向异性度(R)可以通过控制液晶层的种类，例如，液晶化合物(主体)的种类、二色性染料客体的种类和比率，或液晶层的厚度等来实现。
可以经由在通过以上范围内的各向异性度(R)使用较低的能量的同时增加透明模式与黑色模式之间的透射率差来提供具有高对比度的光学装置。
考虑到例如期望的各向异性度等，可以适当地选择液晶层的厚度。在一个实例中，液晶层的厚度可以为约0.01μm或更大、0.05μm或更大、0.1μm或更大、0.5μm或更大、1μm或更大、1.5μm或更大、2μm或更大、2.5μm或更大、3μm或更大、3.5μm或更大、4μm或更大、4.5μm或更大、5μm或更大、5.5μm或更大、6μm或更大、6.5μm或更大、7μm或更大、7.5μm或更大、8μm或更大、8.5μm或更大、9μm或更大、或者约9.5μm或更大。通过以这种方式控制厚度，可以实现具有透明模式与黑色模式之间的大的透射率差的光学装置，即具有大的对比度的装置。厚度越厚，可以实现的对比度越高，因此厚度没有特别限制，但其通常可以为约30μm或更小、25μm或更小、20μm或更小、或者约15μm或更小。
在一个实例中，第一取向状态和第二取向状态可以各自选自水平取向、垂直取向、扭曲向列取向、或胆甾取向状态。例如，在黑色模式下，液晶元件或液晶层可以至少处于水平取向、扭曲向列取向或胆甾取向，在透明模式下，液晶元件或液晶层可以处于垂直取向状态、或具有不同于黑色模式的水平取向的方向的光轴的水平取向状态。液晶元件可以为常黑模式(normally black mode)的元件，其中黑色模式在不施加电压的状态下实现，或者可以实现常透明模式(normally transparent mode)，其中透明模式在不施加电压的状态下实现。
确定在液晶层的取向状态下形成液晶层的光轴的方向的方法是已知的。例如，液晶层的光轴的方向可以通过使用其光轴方向已知的另一偏光板来测量，所述液晶层的光轴的方向可以使用已知的测量仪器，例如偏光计如来自Jasco的P-2000测量。
通过调节液晶主体的介电常数各向异性或者用于使液晶主体取向的以下描述的配向膜的对准方向等来实现常透明模式或常黑模式的液晶元件的方法是已知的。
液晶元件可以包括彼此相对设置的两个基础膜和设置在两个基础膜之间的液晶层。
此外，液晶元件还可以包括用于保持两个基础膜在两个基础膜之间的间距的间隔件和/或用于在保持彼此相对设置的两个基础膜的间距的状态下附接基础膜的密封剂。作为间隔件和/或密封剂的材料，可以使用已知材料而没有任何特别限制。
作为基础膜，例如，可以使用无机膜例如玻璃、或塑料膜。作为塑料膜，可以使用TAC(三乙酰纤维素)膜；COP(环烯烃共聚物)膜，例如降冰片烯衍生物；丙烯酸类膜，例如PMMA(聚(甲基丙烯酸甲酯))；PC(聚碳酸酯)膜；PE(聚乙烯)膜；PP(聚丙烯)膜；PVA(聚乙烯醇)膜；DAC(二乙酰纤维素)膜；Pac(聚丙烯酸酯)膜；PES(聚醚砜)膜；PEEK(聚醚醚酮)膜；PPS(聚苯砜)膜；PEI(聚醚酰亚胺)膜；PEN(聚萘二甲酸乙二醇酯)膜；PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)膜；PI(聚酰亚胺)膜；PSF(聚砜)膜；PAR(聚芳酯)膜；或氟树脂膜等，但不限于此。如有必要，在基础膜上还可以存在金、银或硅化合物(例如二氧化硅或一氧化硅)的涂层，或诸如抗反射层的功能层。
作为基础膜，可以使用具有预定范围内的相位差的膜。在一个实例中，基础膜的前相位差可以为约100nm或更小。在另一个实例中，前相位差可以为约95nm或更小、90nm或更小、85nm或更小、80nm或更小、75nm或更小、70nm或更小、65nm或更小、60nm或更小、55nm或更小、50nm或更小、45nm或更小、40nm或更小、35nm或更小、30nm或更小、25nm或更小、20nm或更小、15nm或更小、或者约10nm或更小。在另一个实例中，前相位差可以为约0nm或更大、1nm或更大、2nm或更大、3nm或更大、4nm或更大、5nm或更大、6nm或更大、7nm或更大、8nm或更大、9nm或更大、或者约9.5nm或更大。
基础膜的厚度方向相位差的绝对值可以为例如约200nm或更小。厚度方向相位差的绝对值可以为约190nm或更小、180nm或更小、170nm或更小、160nm或更小、150nm或更小、140nm或更小、130nm或更小、120nm或更小、110nm或更小、100nm或更小、90nm或更小、85nm或更小、或者约80nm或更小，并且可以为约0nm或更大、10nm或更大、20nm或更大、30nm或更大、40nm或更大、50nm或更大、60nm或更大、70nm或更大、或者约75nm或更大。如果绝对值在上述范围内，则厚度方向相位差可以为负的，或者可以为正的，例如，可以为负的。
在本说明书中，前相位差(Rin)为通过以下方程式1计算的数值，厚度方向相位差(Rth)为通过以下方程式2计算的数值。除非另有说明，否则前相位差和厚度方向相位差的参考波长为约550nm。
[方程式1]
前相位差(Rin)＝d×(nx-ny)
[方程式2]
厚度方向相位差(Rth)＝d×(nz-ny)
在方程式1和2中，d为基础膜的厚度，nx为在基础膜的慢轴方向上的折射率，ny为在基础膜的快轴方向上的折射率，nz为在基础膜的厚度方向上的折射率。
当基础膜为光学各向异性时，由彼此相对设置的基础膜的慢轴形成的角度可以例如在约-10度至约10度的范围内、在约-7度至约7度的范围内、在约-5度至约5度的范围内、或在约-3度至约3度的范围内，或者可以为大致平行的。
此外，由基础膜的慢轴和以下将描述的起偏振器的光吸收轴形成的角度可以例如在约-10度至约10度的范围内、在约-7度至约7度的范围内、在约-5度至约5度的范围内、或在约-3度至约3度的范围内，或者可以为大致平行的，或者可以在约80度至约100度的范围内、在约83度至约97度的范围内、在约85度至约95度的范围内、或在约87度至约92度的范围内，或者可以为大致垂直的。
可以通过相位差调节或慢轴的布置来实现光学上优异且均匀的透明模式和黑色模式。
基础膜的热膨胀系数可以为约100ppm/K或更小。在另一个实例中，热膨胀系数可以为约95ppm/K或更小、90ppm/K或更小、85ppm/K或更小、80ppm/K或更小、75ppm/K或更小、70ppm/K或更小、或者约65ppm/K或更小，或者可以为约10ppm/K或更大、20ppm/K或更大、30ppm/K或更大、40ppm/K或更大、50ppm/K或更大、或者约55ppm/K或更大。例如，基础膜的热膨胀系数可以根据ASTM D696的规定测量，可以通过以相关标准中提供的形式裁剪膜并测量每单位温度的长度变化来计算，或者可以通过已知方法例如TMA(热机械分析)来测量。
作为基础膜，可以使用断裂伸长率为约90％或更大的基础膜。断裂伸长率可以为约95％或更大、100％或更大、105％或更大、110％或更大、115％或更大、120％或更大、125％或更大、130％或更大、135％或更大、140％或更大、145％或更大、150％或更大、155％或更大、160％或更大、165％或更大、170％或更大、或者约175％或更大，并且可以为约1,000％或更小、900％或更小、800％或更小、700％或更小、600％或更小、500％或更小、400％或更小、300％或更小、或者约200％或更小。基础膜的断裂伸长率可以根据ASTM D882标准测量，以及可以通过以由相应标准提供的形式裁剪膜并使用能够测量应力-应变曲线(能够同时测量力和长度)的仪器来测量。
通过选择基础膜以具有这样的热膨胀系数和/或断裂伸长率，可以提供具有优异的耐久性的光学装置。
如上的基础膜的厚度没有特别限制，例如，可以在约50μm至约200μm左右的范围内。
在本文中提及的物理特性中，当测量温度或压力影响结果时，除非另有说明，否则相应的物理特性在常温和常压下测量。
术语常温是没有升温或冷却的自然温度，其通常可以为约10℃至约30℃范围内的任一温度，例如约23℃或约25℃左右的温度。除非另有说明，否则本说明书中的温度的单位为℃。
术语常压是没有降低或升高的自然压力，其通常意指约1atm左右的压力，例如大气压。
在液晶元件中，导电层和/或配向膜可以存在于基础膜的一侧上，例如，存在于面向液晶层的一侧上。
存在于基础膜的所述侧上的导电层是用于向液晶层施加电压的结构，可以向液晶层施加已知的导电层而没有任何特别限制。作为导电层，例如，可以应用导电聚合物、导电金属、导电纳米线、或金属氧化物如ITO(氧化铟锡)。可以应用于本申请的导电层的实例不限于上述物质，并且可以使用本领域中已知可应用于液晶元件的各种导电层。
在一个实例中，配向膜存在于基础膜的所述侧上。例如，可以首先在基础膜的一侧上形成导电层，并且可以在其上部上形成配向膜。
配向膜是用于控制包含在液晶层中的液晶主体的取向的结构，并且可以应用已知的配向膜而没有特别限制。作为工业中已知的配向膜，存在摩擦配向膜或光配向膜等，并且可以用于本申请中的配向膜是已知的配向膜，其没有特别限制。
可以控制配向膜的对准方向以实现上述光轴的取向。例如，形成在彼此相对设置的两个基础膜的每一侧上的两个配向膜的对准方向可以彼此形成在约-10度至约10度范围内的角度、在约-7度至约7度范围内的角度、在约-5度至约5度范围内的角度、或在约-3度至约3度范围内的角度，或者可以为彼此大致平行。在另一个实例中，两个配向膜的对准方向可以形成在约80度至约100度范围内的角度、在约83度至约97度范围内的角度、在约85度至约95度范围内的角度、或在约87度至约92度范围内的角度，或者可以为彼此大致垂直。
由于液晶层的光轴的方向是根据这样的对准方向确定的，因此可以通过检查液晶层的光轴的方向来知晓对准方向。
具有这样的结构的液晶元件的形状没有特别限制，其可以根据光学装置的应用来确定，并且通常为膜或片的形式。
光学装置还可以包括起偏振器和液晶元件。作为起偏振器，例如，可以使用吸收型线性起偏振器，即具有沿一个方向形成的光吸收轴和与所述方向大致垂直而形成的光透射轴的起偏振器。
假设在液晶层的第一取向状态下实现阻挡状态，可以将起偏振器设置在光学装置中使得由第一取向状态的平均光轴(光轴的矢量和)和起偏振器的光吸收轴形成的角度为约80度至约100度、或约85度至约95度，或者其为大致垂直的，或者可以将起偏振器设置在光学装置中使得该角度为约35度至约55度、或约40度至约50度、或约45度。
当配向膜的对准方向用作参考时，如上所述形成在彼此相对设置的两个基础膜的每侧上的配向膜的对准方向可以彼此形成在约-10度至约10度范围内的角度、在约-7度至约7度范围内的角度、在约-5度至约5度范围内的角度、或在约-3度至约3度范围内的角度，或者在彼此大致平行的情况下，由两个配向膜中的任一者的对准方向和起偏振器的光吸收轴形成的角度可以为约80度至约100度、或约85度至约95度，或者可以为大致垂直的。
在另一个实例中，两个配向膜的对准方向可以形成在约80度至约100度范围内的角度、在约83度至约97度范围内的角度、在约85度至约95度范围内的角度、或在约87度至约92度范围内的角度，或者在彼此大致垂直的情况下，由两个配向膜中的更靠近起偏振器设置的配向膜的对准方向和起偏振器的光吸收轴形成的角度可以为约80度至约100度、或约85度至约95度，或者可以为大致垂直的。
例如，如图1所示，液晶元件10和起偏振器20可以以这样的状态设置：层合在彼此之上使得液晶元件10中第一对准方向的光轴(平均光轴)和起偏振器20的光吸收轴成为上述关系。
可以应用于本申请的光学装置的起偏振器的种类没有特别限制。例如，作为起偏振器，可以使用用于常规LCD等的常规材料，例如PVA(聚(乙烯醇))起偏振器，或者通过涂覆方法实现的起偏振器，例如包含溶致液晶(lyotropic liquid crystal，LLC)或反应性液晶元(reactive mesogen，RM)和二色性染料的偏振涂层。在本说明书中，如上所述通过涂覆方法实现的起偏振器可以称为偏振涂层。作为溶致液晶，可以使用已知的液晶而没有任何特别限制，例如，可以使用能够形成二色性比为约30至约40左右的溶致液晶层的溶致液晶。另一方面，当偏振涂层包含反应性液晶元(RM)和二色性染料时，作为二色性染料，可以使用线性染料，或者还可以使用盘形染料。
本申请的光学装置可以仅包括如上所述的液晶元件和起偏振器中的每一者。因此，光学装置可以仅包括一个液晶元件，并且可以仅包括一个起偏振器。
光学装置包括彼此相对设置的两个外基底。在本说明书中，为了方便起见，两个外基底中的一者可以被称为第一外基底，而另一者可以被称为第二外基底，但是第一和第二的表述并不限定外基底的顺序或垂直关系。在一个实例中，与液晶元件一起包括的起偏振器可以位于两个外基底之间。例如，如图2所示，有源液晶元件10和起偏振器20可以存在于彼此相对设置的两个基底30之间。
作为外基底，例如，可以使用无机基底例如玻璃、或塑料基底。作为塑料基底，可以使用TAC(三乙酰纤维素)膜；COP(环烯烃共聚物)膜，例如降冰片烯衍生物；丙烯酸类膜，例如PMMA(聚(甲基丙烯酸甲酯))；PC(聚碳酸酯)膜；PE(聚乙烯)膜；PP(聚丙烯)膜；PVA(聚乙烯醇)膜；DAC(二乙酰纤维素)膜；Pac(聚丙烯酸酯)膜；PES(聚醚砜)膜；PEEK(聚醚醚酮)膜；PPS(聚苯砜)膜；PEI(聚醚酰亚胺)膜；PEN(聚萘二甲酸乙二醇酯)膜；PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)膜；PI(聚酰亚胺)膜；PSF(聚砜)膜；PAR(聚芳酯)膜；或氟树脂膜等，但不限于此。如有必要，外基底上还可以存在金、银或硅化合物(例如二氧化硅或一氧化硅)的涂层，或诸如抗反射层的功能层。
作为外基底，可以使用具有预定范围内的相位差的基底。在一个实例中，外基底的前相位差可以为约100nm或更小。在另一个实例中，前相位差可以为约95nm或更小、90nm或更小、85nm或更小、80nm或更小、75nm或更小、70nm或更小、65nm或更小、60nm或更小、55nm或更小、50nm或更小、45nm或更小、40nm或更小、35nm或更小、30nm或更小、25nm或更小、20nm或更小、15nm或更小、或者约10nm或更小。在另一个实例中，前相位差可以为约0nm或更大、1nm或更大、2nm或更大、3nm或更大、4nm或更大、5nm或更大、6nm或更大、7nm或更大、8nm或更大、9nm或更大、或者约9.5nm或更大。
外基底的厚度方向相位差的绝对值可以为例如约200nm或更小。厚度方向相位差的绝对值可以为约190nm或更小、180nm或更小、170nm或更小、160nm或更小、150nm或更小、140nm或更小、130nm或更小、120nm或更小、110nm或更小、100nm或更小、90nm或更小、85nm或更小、或者约80nm或更小，并且可以为约0nm或更大、5nm或更大、10nm或更大、20nm或更大、30nm或更大、40nm或更大、50nm或更大、60nm或更大、70nm或更大、或者约75nm或更大。如果绝对值在上述范围内，则厚度方向相位差可以为负的，或者可以为正的，例如，可以为负的。
可以以相同的方式计算外基底的前相位差(Rin)和厚度方向相位差(Rth)，不同之处在于在以上方程式1和2中，用外基底的厚度(d)、在慢轴方向上的折射率(nx)、在快轴方向上的折射率(ny)和在厚度方向上的折射率(nz)分别代替基础膜的厚度(d)、在慢轴方向上的折射率(nx)、在快轴方向上的折射率(ny)和在厚度方向上的折射率(nz)以计算它们。
当外基底为光学各向异性时，由彼此相对设置的外基底的慢轴形成的角度可以例如在约-10度至约10度的范围内、在约-7度至约7度的范围内、在约-5度至约5度的范围内、或在约-3度至约3度的范围内，或者可以为大致平行的。
此外，在上述基础膜为光学各向异性的情况下，由外基底的慢轴和基础膜的慢轴形成的角度可以例如在约-10度至约10度的范围内、在约-7度至约7度的范围内、在约-5度至约5度的范围内、或在约-3度至约3度的范围内，或者可以为大致平行的，或者可以在约80度至约100度的范围内、在约83度至约97度的范围内、在约85度至约95度的范围内、或在约87度至约92度的范围内，或者可以为大致垂直的。
可以通过相位差调节或慢轴的布置来实现光学上优异且均匀的透明模式和黑色模式。
作为外基底，可以使用热膨胀系数为约100ppm/K或更小的基底。在另一个实例中，热膨胀系数可以为约95ppm/K或更小、90ppm/K或更小、85ppm/K或更小、80ppm/K或更小、75ppm/K或更小、70ppm/K或更小、65ppm/K或更小、60ppm/K或更小、50ppm/K或更小、40ppm/K或更小、30ppm/K或更小、20ppm/K或更小、或者约15ppm/K或更小，或者可以为约1ppm/K或更大、2ppm/K或更大、3ppm/K或更大、4ppm/K或更大、5ppm/K或更大、6ppm/K或更大、7ppm/K或更大、8ppm/K或更大、9ppm/K或更大、或者约10ppm/K或更大。
测量外基底的热膨胀系数的方法与如上所述测量基础膜的热膨胀系数的方法相同。
通过选择外基底以具有这样的热膨胀系数，可以提供具有优异的耐久性的光学装置。
如上的外基底的厚度没有特别限制，例如，可以为约0.3mm或更大。在另一个实例中，厚度可以为约0.5mm或更大、1mm或更大、1.5mm或更大、或者约2mm或更大左右，并且还可以为约10mm或更小、9mm或更小、8mm或更小、7mm或更小、6mm或更小、5mm或更小、4mm或更小、或者约3mm或更小左右。
外基底可以为平坦基底，或者可以为具有弯曲表面形状的基底。例如，两个外基底可以同时为平坦基底，同时具有弯曲表面形状，或者任一个可以为平坦基底而另一个可以为具有弯曲表面形状的基底。
在此，在同时具有弯曲表面形状的情况下，各个曲率或曲率半径也可以相同或不同。
在本说明书中，曲率或曲率半径可以以工业中已知的方式测量，例如，可以使用非接触式设备例如2D轮廓激光传感器、彩色共聚焦线传感器或3D测量共聚焦显微镜来测量。使用这样的设备测量曲率或曲率半径的方法是已知的。
此外，关于外基底，例如，当前表面和背表面处的曲率或曲率半径彼此不同时，各个面向表面的曲率或曲率半径，即在第一外基底的情况下面向第二外基底的表面的曲率或曲率半径和在第二外基底的情况下面向第一外基底的表面的曲率或曲率半径可以为参考。此外，当相关表面具有曲率或曲率半径不恒定且不同的部分时，最大曲率或曲率半径可以为参考，最小曲率或曲率半径可以为参考，或者平均曲率或平均曲率半径可以为参考。
两个外基底都可以具有在约10％以内、在9％以内、在8％以内、在7％以内、在6％以内、在5％以内、在4％以内、在3％以内、在2％以内、或在约1％以内的曲率或曲率半径之差。当大的曲率或曲率半径为CL，小的曲率或曲率半径为CS时，曲率或曲率半径之差是由100×(CL-CS)/CS计算的值。此外，曲率或曲率半径之差的下限没有特别限制。由于两个外基底的曲率或曲率半径之差可以相同，因此曲率或曲率半径之差可以为约0％或更大，或者可以大于约0％。
这样的曲率或曲率半径在其中用以下将描述的复数个可固化粘合剂膜和不可固化的粘合剂膜封装液晶装置和/或起偏振器的结构中是有用的。在本申请中，术语密封(或封装)可以意指用粘合剂膜覆盖液晶元件和/或起偏振器的顶表面。
当第一外基底和第二外基底二者均为弯曲表面时，两个曲率可以具有相同的符号。换言之，两个外基底可以沿相同方向弯曲。即，在以上情况下，第一外基底的曲率中心和第二外基底的曲率中心二者均存在于第一外基底和第二外基底的上部和下部的相同部分中。
图3为示出了包括液晶元件等的封装部400存在于第一外基底30与第二外基底30之间的光学装置的侧面的示例性图，其中第一外基底30和第二外基底30二者中的曲率中心均存在于图中的下部。
第一外基底和第二外基底的各曲率或曲率半径的具体范围没有特别限制。在一个实例中，各基底的曲率半径可以为约100R或更大、200R或更大、300R或更大、400R或更大、500R或更大、600R或更大、700R或更大、800R或更大、或者约900R或更大，或者可以为约10000R或更小、9000R或更小、8000R或更小、7000R或更小、6000R或更小、5000R或更小、4000R或更小、3000R或更小、2000R或更小、1900R或更小、1800R或更小、1700R或更小、1600R或更小、1500R或更小、1400R或更小、1300R或更小、1200R或更小、1100R或更小、或者约1050R或更小。在此，R表示半径为1mm的圆的弯曲度。因此，在此，例如，100R是半径为100mm的圆的弯曲度或者这样的圆的曲率半径。当然，在平坦表面的情况下，曲率为零而曲率半径为无穷大。
第一外基底和第二外基底可以具有以上范围内的相同或不同的曲率半径。在一个实例中，当第一外基底和第二外基底的曲率彼此不同时，其中具有大曲率的基底的曲率半径可以在以上范围内。
在一个实例中，当第一外基底和第二外基底的曲率彼此不同时，其中具有大曲率的基底可以为在使用光学装置时在重力方向上设置的基底。
当如上所述控制基底之间的曲率或曲率半径时，即使由粘合剂膜引起的粘合力降低，作为回复力和重力之和的净力也可以起到防止变宽的作用，以及还起到承受与高压釜相同的过程压力的作用。
本申请的光学装置包括复数个粘合剂膜。复数个粘合剂膜可以为可固化粘合剂膜和不可固化的粘合剂膜。
在本申请中，可固化粘合剂膜意指包含能够引起化学固化反应的组分或官能团的粘合剂膜，不可固化的粘合剂膜意指不包含能够引起化学固化反应的组分或官能团的粘合剂膜。
可固化粘合剂膜没有特别限制，其中可以使用已知的可固化粘合剂膜。在一个实例中，可固化粘合剂膜可以为乙烯-乙酸乙烯酯粘合剂膜，或者可以包含环氧粘合剂树脂、丙烯酸酯粘合剂树脂或有机硅粘合剂树脂。在乙烯-乙酸乙烯酯粘合剂膜的情况下，其可以在固化之前在室温下以粘合剂膜的状态存在，其可以为所谓的热熔粘合剂膜。当通过使用另外的环氧粘合剂树脂、丙烯酸酯粘合剂树脂或有机硅粘合剂树脂形成粘合剂膜时，包含树脂的粘合剂在室温下也可以为膜的形式，或为液相，并且在液相的情况下，其可以在固化之后形成粘合剂膜。
不可固化的粘合剂膜没有特别限制，其中可以使用已知的不可固化的粘合剂膜。在一个实例中，不可固化的粘合剂膜可以为热塑性聚氨酯粘合剂膜或聚烯烃粘合剂膜。
另一方面，在不可固化的粘合剂膜中，厚度方向相位差(Rth)的绝对值可以为例如约50nm或更小。在另一个实例中，绝对值可以为约45nm或更小、40nm或更小、35nm或更小、30nm或更小、或者约25nm或更小，并且可以为约0nm或更大、大于约0nm。
如果绝对值在以上范围内，则厚度方向相位差可以为负的，或者可以为正的，例如，可以为负的。
可以以相同方式计算粘合剂膜的厚度方向相位差(Rth)，不同之处在于在以上方程式2中，用粘合剂膜的厚度(d)、在快轴方向上的折射率(ny)和在厚度方向上的折射率(nz)代替基础膜的厚度(d)、在快轴方向上的折射率(ny)和在厚度方向上的折射率(nz)以计算其。
液晶元件和/或起偏振器可以使用粘合剂膜在高温和高压下通过高压釜过程来粘结和/或封装。此时，在仅使用复数个可固化粘合剂膜或不可固化的粘合剂膜作为粘合剂膜的情况下，可能发生光损失或者可能发生光学装置外观缺陷。
在一个实施方案中，当仅使用可固化粘合剂膜(在下文中，可以称为第一粘合剂膜)作为粘合剂膜时，可能发生由于粘合剂膜自身引起的光损失。在一个实施方案中，当可固化粘合剂膜的厚度方向相位差(Rth)的绝对值为100nm或更大时，穿过第一粘合剂膜的光可以为双折射的，并且当双折射光穿过光学元件或起偏振器时，仅一部分由粘合剂膜产生的双折射光可以穿过光学元件或起偏振器。因此，由于第一粘合剂膜自身引起的光损失可以由已经穿过第一粘合剂膜的光中的未穿过光学元件或起偏振器的光产生。
另一方面，当仅使用不可固化的粘合剂膜(在下文中，可以称为第二粘合剂膜)作为粘合剂膜时，不可固化的粘合剂膜可以通过高温和高压而部分再熔融，因此，在光学装置中可能发生外观缺陷，例如外基底与粘合剂膜之间变宽或在粘合剂膜中产生褶皱等。
当复数地混合和使用第一粘合剂膜和第二粘合剂膜时，可以解决以上问题。即，通过组合使用第一粘合剂膜和第二粘合剂膜来制造光学装置，由此可以防止光学装置的外观缺陷发生并且还可以减少光损失。具体地，可以通过使用第一粘合剂膜防止外观缺陷，例如外基底与粘合剂膜之间变宽或在粘合剂膜中产生褶皱等，并且即使当第一粘合剂膜的厚度方向相位差(Rth)的绝对值为100nm或更大时，也可以通过使用厚度方向相位差(Rth)的绝对值为50nm或更小的第二粘合剂膜来减少由于粘合剂膜自身引起的光损失。
在本申请的光学装置中，许多可固化粘合剂膜和不可固化的粘合剂膜可以定位在彼此相对设置的第一外基底和第二外基底之间。在一个实例中，许多可固化粘合剂膜和不可固化的粘合剂膜可以定位在第一外基底与液晶元件之间，并且可以定位在第二外基底与液晶元件之间，或者可以全部定位在第一外基底与液晶元件之间以及第二外基底与液晶元件之间。
在另一个实例中，如图4所示，第一粘合剂膜40a可以定位在第一外基底30与液晶元件10之间，并且第二粘合剂膜40b可以定位在第二外基底30与液晶元件10之间。
在另一个实例中，第一粘合剂膜可以定位在第一外基底与液晶元件之间，第二粘合剂膜可以定位在第二外基底与液晶元件之间，并且第一粘合剂膜、第二粘合剂膜、或者第一粘合剂膜和第二粘合剂膜可以定位在液晶元件的侧面上，合适地，定位在所有侧面上。在一个实施方案中，如图5所示，第一粘合剂膜40a可以定位在第一外基底30与液晶元件10之间，第二粘合剂膜40b可以定位在第二外基底30与液晶元件10之间，并且第一粘合剂膜40a和第二粘合剂膜40b可以定位在液晶元件10的侧面上。
第一粘合剂膜和第二粘合剂膜可以将第一外基底30和液晶元件10、以及液晶元件10和第二外基底30彼此粘结，并且第一粘合剂膜和/或第二粘合剂膜可以一起封装液晶元件10。
当光学装置还包括上述起偏振器时，许多可固化粘合剂膜和不可固化的粘合剂膜可以定位在第一外基底与起偏振器之间，并且可以定位在第二外基底与起偏振器之间，或者可以全部定位在第一外基底与起偏振器之间以及第二外基底与起偏振器之间。
在一个实例中，如图6所示，第一粘合剂膜40a可以定位在第一外基底30与液晶元件10之间以及起偏振器20与第二外基底30之间，并且第二粘合剂膜40b可以定位在液晶元件10与起偏振器20之间。
在另一个实例中，第一粘合剂膜可以定位在第一外基底与液晶元件之间以及起偏振器与第二外基底之间，第二粘合剂膜可以定位在液晶元件与起偏振器之间，并且第一粘合剂膜、第二粘合剂膜、或者第一粘合剂膜和第二粘合剂膜可以定位在液晶元件和起偏振器的侧面上，合适地，定位在所有侧面上。在一个实施方案中，如图7所示，第一粘合剂膜40a可以定位在第一外基底30与液晶元件10之间以及起偏振器20与第二外基底30之间，第二粘合剂膜40b可以定位在液晶元件10与起偏振器20之间，并且第一粘合剂膜40a可以定位在液晶元件10和起偏振器20的侧面上。
第一粘合剂膜和第二粘合剂膜可以将第一外基底30和液晶元件10、液晶元件10和起偏振器20、以及起偏振器20和第二外基底30彼此粘结，并且第一粘合剂膜和/或第二粘合剂膜可以一起封装液晶元件10和起偏振器20。
在这些位置中层合有第一粘合剂膜40a和第二粘合剂膜40b的光学装置可以更有效地防止光学装置的外观缺陷发生，并且还可以更有效地减少光损失。
在一个实例中，作为许多可固化粘合剂膜和不可固化的粘合剂膜，可以使用各自具有在约0.1Mpa至约100MPa范围内的杨氏模量的那些。杨氏模量可以以ASTM D882中规定的方式测量，并且可以通过以由相应标准提供的形式裁剪膜并使用能够测量应力-应变曲线(能够同时测量力和长度)的设备来测量。通过选择第一粘合剂膜和第二粘合剂膜以具有这样的杨氏模量，可以提供具有优异的耐久性的光学装置。
在一个实例中，复数个可固化粘合剂膜和不可固化的粘合剂膜的厚度没有特别限制，例如，第一粘合剂膜和第二粘合剂膜的厚度可以各自在约200μm至约1270μm左右的范围内。在另一个实例中，在此，第一粘合剂膜40a的厚度可以为外基底30与液晶元件10之间的厚度，例如，两者之间的距离，或者可以为起偏振器20与外基底30之间的厚度，例如，两者之间的距离。在此，第二粘合剂膜40b的厚度可以为液晶元件10与起偏振器20之间的厚度，例如，两者之间的距离。
光学装置还可以包括缓冲层。这样的缓冲层可以存在于液晶元件的一侧或两侧上。图8示出了其中缓冲层50存在于液晶元件10的两侧上的结构，但是缓冲层50也可以仅存在于液晶元件10的一侧上。
这样的缓冲层可以减轻由其中液晶元件通过第一粘合剂膜和/或第二粘合剂膜封装的结构中的层之间的热膨胀系数的差异引起的负压，并且使得能够可以实现更耐用的装置。
在一个实例中，作为缓冲层，可以使用杨氏模量为约1MPa或更小的层。在另一个实例中，缓冲层的杨氏模量可以为约0.9MPa或更小、0.8MPa或更小、0.7MPa或更小、0.6MPa或更小、0.5MPa或更小、0.4MPa或更小、0.3MPa或更小、0.2MPa或更小、0.1MPa或更小、0.09MPa或更小、0.08MPa或更小、0.07MPa或更小、或者约0.06MPa或更小。在另一个实例中，杨氏模量为约0.001MPa或更大、0.002MPa或更大、0.003MPa或更大、0.004MPa或更大、0.005MPa或更大、0.006MPa或更大、0.007MPa或更大、0.008MPa或更大、0.009MPa或更大、0.01MPa或更大、0.02MPa或更大、0.03MPa或更大、0.04MPa或更大、或者约0.045MPa或更大。在此，杨氏模量的测量方法与上述粘合剂膜的测量方法相同。
作为具体种类的缓冲层，可以使用显示出上述杨氏模量的透明材料而没有特别限制，例如，可以使用基于丙烯酸酯、基于氨基甲酸酯、基于橡胶或基于硅的低聚物或聚合物材料等。
缓冲层的厚度没有特别限制，其可以在可以通过表现出以上范围内的杨氏模量而有效降低装置内部产生的负压的范围内选择。
除了以上配置之外，光学装置还可以包括任何必需的配置，例如，在适当的位置包括已知的配置，例如延迟层、光学补偿层、抗反射层或硬涂层。
本申请还涉及光学装置，其包括第一外基底；第二外基底；定位在第一外基底与第二外基底之间的液晶元件；定位在第二外基底与液晶元件之间的起偏振器；以及将液晶元件和起偏振器封装在第一外基底与第二外基底之间的复数个粘合剂膜，其中复数个粘合剂膜包括可固化粘合剂膜和不可固化的粘合剂膜，并且不可固化的粘合剂膜定位在液晶元件与起偏振器之间。
另一方面，在不可固化的粘合剂膜(或第二粘合剂膜)中，厚度方向相位差(Rth)的绝对值可以为50nm或更小。
通过将厚度方向相位差(Rth)的绝对值为50nm或更小的不可固化的粘合剂膜定位在液晶元件与起偏振器之间，可以更有效地减少由于粘合剂膜自身引起的光损失。
另一方面，可固化粘合剂膜可以定位在选自第二外基底与起偏振器之间的间隙、以及第一外基底与液晶元件之间的间隙的一个或更多个位置处。
不可固化的粘合剂膜(或第二粘合剂膜)可以在高温和高压下部分再熔融，使得当第二粘合剂膜定位在选自第二外基底与起偏振器之间的间隙以及第一外基底与液晶元件之间的间隙的一个或更多个位置处时，在光学装置中可能发生外观缺陷，例如外基底与粘合剂膜之间变宽、或在粘合剂膜中产生褶皱等。然而，可固化粘合剂膜(或第一粘合剂膜)不会通过高温和高压引起再熔融。因此，当第一粘合剂膜定位在选自第二外基底与起偏振器之间的间隙、以及第一外基底与液晶元件之间的间隙的一个或更多个位置处时，可以更有效地防止光学装置的外观缺陷发生。
制造本申请的光学装置的方法没有特别限制。在一个实例中，光学装置可以通过以下步骤制造：使用包括可固化粘合剂膜和不可固化的粘合剂膜的复数个粘合剂膜将液晶元件粘结在彼此相对设置的第一外基底和第二外基底之间。
如上所述，可固化粘合剂膜和不可固化的粘合剂膜可以为第一粘合剂膜和第二粘合剂膜。
在此，粘结方法没有特别限制，并且可以使用公知的粘结方法。在一个实例中，粘结方法可以使用高压釜过程。
高压釜过程可以通过根据期望的结构在外基底之间布置复数个可固化粘合剂膜和不可固化的粘合剂膜、液晶元件和/或起偏振器，并对它们进行加热/压制来进行。
例如，如图4所示的光学装置可以通过如下来形成：在高压釜过程中对其中按此顺序布置有外基底30、第一粘合剂膜40a、液晶元件10、第二粘合剂膜40b和外基底30的层合体进行加热/压制。或者，如图5所示的光学装置可以通过如下来形成：在高压釜过程中对其中按此顺序布置有外基底30、第一粘合剂膜40a、液晶元件10、第二粘合剂膜40b和外基底30且在液晶元件10的侧面上也设置有第一粘合剂膜40a和第二粘合剂膜40b的层合体进行加热/压制。
此外，例如，如图6所示的光学装置可以通过如下来形成：在高压釜过程中对其中按此顺序布置有外基底30、第一粘合剂膜40a、液晶元件10、第二粘合剂膜40b、起偏振器20、第一粘合剂膜40a和外基底30的层合体进行加热/压制。或者，如图7所示的光学装置可以通过如下来形成：在高压釜过程中对其中按此顺序布置有外基底30、第一粘合剂膜40a、液晶元件10、第二粘合剂膜40b、起偏振器20、第一粘合剂膜40a和外基底30且在液晶元件10和起偏振器20的侧面上也设置有第一粘合剂膜40a的层合体进行加热/压制。
高压釜过程的条件没有特别限制，例如，该过程可以根据所应用的第一粘合剂膜和第二粘合剂膜的种类在适当的温度和压力下进行。典型的高压釜过程的温度为约80℃或更高、90℃或更高、或者约100℃或更高，并且压力为约2atm或更大，但不限于此。过程温度的上限可以为约200℃或更低、190℃或更低、180℃或更低、或者约170℃或更低左右，并且过程压力的上限可以为约10atm或更小、9atm或更小、8atm或更小、7atm或更小、或者约6atm或更小左右。
在光学装置中，通过在如上位置层合第一粘合剂膜40a和第二粘合剂膜40b并通过高压釜过程制造光学装置，可以更有效地防止光学装置的外观缺陷发生，并且还可以更有效地减少光损失。这样的光学装置可以用于各种应用，例如，可以用于眼部佩戴物如太阳镜或AR(增强现实)或VR(虚拟现实)眼部佩戴物、建筑物外墙、或用于车辆的天窗等。
在一个实例中，光学装置自身可以为用于车辆的天窗。
例如，在包括其中形成有至少一个开口的车体的汽车中，可以安装和使用附接至所述开口的光学装置或用于车辆的天窗。
有益效果
本申请可以提供能够在改善外观缺陷的同时改变透射率并减少光损失的光学装置。这样的光学装置可以用于各种应用，例如眼部佩戴物如太阳镜或AR(增强现实)或VR(虚拟现实)眼部佩戴物、建筑物外墙、或用于车辆的天窗。
附图说明
图1至图8为用于说明本申请的光学装置的说明性图。
图9为示出了实施例1和比较例1的结果的图。
具体实施方式
在下文中，将通过实施例1和比较例1详细描述本申请，但本申请的范围不限于以下实施例1。
测量外观缺陷的方法
外观缺陷通过如下来测量：将实施例1和比较例1中制造的光学装置应用于高温长期耐久性测试(保持在100℃的温度下约168小时)并确认在光学装置的外观上是否产生褶皱。
实施例1
光学装置通过如下来生产：用可固化粘合剂膜和不可固化的粘合剂膜将作为液晶元件的宾主液晶元件(单元间隙：约12μm，基础膜类型：PET(聚(对苯二甲酸乙二醇酯)膜)，液晶/染料混合物类型：来自Merck的MAT-16-969液晶和二色性染料(BASF，X12)的混合物)和基于PVA(聚乙烯醇)的起偏振器封装在两个外基底之间。
所使用的可固化粘合剂膜(第一粘合剂膜)为乙烯乙酸乙烯酯粘合剂膜(厚度：约400μm，制造商：SKC，产品名：EF2N)，并且所使用的不可固化的粘合剂膜(第二粘合剂膜)为厚度方向相位差(Rth)的绝对值为约15nm的热塑性聚氨酯粘合剂膜(厚度：约0.38mm，制造商：Argotec，产品名：ArgoFlex)。
在此，作为外基底，使用厚度为约3mm左右的玻璃基底，其中使用曲率半径为约2470R的基底(第一外基底)和曲率半径为约2400R的基底(第二外基底)。
层合体通过如下来生产：按此顺序层合第一外基底、第一粘合剂膜、液晶元件、第二粘合剂膜、起偏振器、第一粘合剂膜和第二外基底，并将第一粘合剂膜设置在液晶元件和起偏振器的所有侧面上(与第一外基底相比，在重力方向上布置第二外基底)。
其后，通过在约100℃的温度和约2atm左右的压力下进行高压釜过程来生产光学装置。
比较例1
以与实施例1中相同的方式生产光学装置，不同之处在于，在第一外基底与液晶元件之间以及在起偏振器与第二外基底之间使用第二粘合剂膜代替第一粘合剂膜，并且在液晶元件和起偏振器的所有侧面上使用第二粘合剂膜代替第一粘合剂膜。
图9为耐久性测试之后的装置照片，其中左侧为实施例1的装置照片，右侧为比较例1的装置照片。可以确认，已经稳定地生产了实施例1的装置而不会引起外观缺陷，例如边缘处的褶皱，相比之下，可以确认，在比较例1的装置中，发生了外观缺陷，例如边缘处的褶皱。

Claims (18)

1.一种光学装置，包括：
彼此相对设置的第一外基底和第二外基底；
定位在所述第一外基底与所述第二外基底之间的液晶元件；以及
将所述液晶元件封装在所述第一外基底与所述第二外基底之间的复数个粘合剂膜，
其中所述复数个粘合剂膜包括可固化粘合剂膜和不可固化的粘合剂膜。
2.根据权利要求1所述的光学装置，其中所述外基底为玻璃基底。
3.根据权利要求1所述的光学装置，其中所述第一外基底和所述第二外基底的曲率之差在10％以内。
4.根据权利要求1所述的光学装置，其中所述液晶元件包含液晶主体和二色性染料客体，并且所述液晶元件具有能够在第一取向状态与第二取向状态之间切换的液晶层。
5.根据权利要求1所述的光学装置，其中所述液晶元件包括彼此相对设置的两个基础膜和设置在所述两个基础膜之间的液晶层。
6.根据权利要求5所述的光学装置，其中所述基础膜还包括在面向所述液晶层的表面上的导电层或配向膜。
7.根据权利要求1所述的光学装置，其中所述可固化粘合剂膜为乙烯-乙酸乙烯酯粘合剂膜，或者包含环氧粘合剂树脂、丙烯酸酯粘合剂树脂或有机硅粘合剂树脂。
8.根据权利要求1所述的光学装置，其中所述不可固化的粘合剂膜为热塑性聚氨酯粘合剂膜或聚烯烃粘合剂膜。
9.根据权利要求1所述的光学装置，其中所述不可固化的粘合剂膜的厚度方向相位差(Rth)的绝对值为50nm或更小。
10.根据权利要求1所述的光学装置，其中所述可固化粘合剂膜定位在所述第一外基底与所述液晶元件之间、以及所述第二外基底与所述液晶元件之间。
11.根据权利要求1所述的光学装置，还包括定位在所述第一外基底与所述第二外基底之间的起偏振器。
12.一种光学装置，包括：
第一外基底；
第二外基底；
定位在所述第一外基底与所述第二外基底之间的液晶元件；
定位在所述第二外基底与所述液晶元件之间的起偏振器；以及
将所述液晶元件和所述起偏振器封装在所述第一外基底与所述第二外基底之间的复数个粘合剂膜，
其中所述复数个粘合剂膜包括可固化粘合剂膜和不可固化的粘合剂膜，并且
所述不可固化的粘合剂膜定位在所述液晶元件与所述起偏振器之间。
13.根据权利要求12所述的光学装置，其中所述不可固化的粘合剂膜的厚度方向相位差(Rth)的绝对值为50nm或更小。
14.根据权利要求12所述的光学装置，其中所述可固化粘合剂膜定位在选自所述第二外基底与所述起偏振器之间的间隙、以及所述第一外基底与所述液晶元件之间的间隙的一个或更多个位置处。
15.根据权利要求14所述的光学装置，其中定位在所述液晶元件与所述起偏振器之间的所述不可固化的粘合剂膜、以及定位在所述第二外基底与所述起偏振器之间的所述可固化粘合剂膜一起封装所述起偏振器。
16.根据权利要求14所述的光学装置，其中定位在所述液晶元件与所述起偏振器之间的所述不可固化的粘合剂膜、以及定位在所述第一外基底与所述液晶元件之间的所述可固化粘合剂膜一起封装所述液晶元件。
17.一种制造光学装置的方法，包括以下步骤：使用包括可固化粘合剂膜和不可固化的粘合剂膜的复数个粘合剂膜将液晶元件粘结在彼此相对设置的第一外基底与第二外基底之间。
18.一种汽车，包括其上形成有一个或更多个开口的车体；以及安装在所述开口上的根据权利要求1至16所述的光学装置。
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