CN111712065B - 一种避免软硬结合板孔铜断裂的加工工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种软硬结合板的加工工艺,具体来说是一种避免软硬结合板孔铜断裂的加工工艺,包括以下步骤:软硬结合板制备,在软硬结合板上进行机械钻孔,在机械钻孔孔内和软硬结合板的上下表面进行镀铜,孔铜总铜厚为T,分两次或三次进行电镀,最后一次电镀的孔铜铜厚不少于12.5微米。本发明根据孔铜总厚度分多次进行不同厚度的镀铜,避免了后制程减铜过多导致的产品不良,有效解决了孔铜断裂异常,提升了产品信赖性。
Description
技术领域
本发明涉及一种软硬结合板的加工工艺,具体来说是一种避免软硬结合板孔铜断裂的加工工艺,尤其是汽车或工业控制应用的软硬结合板。
背景技术
印刷线路板分为硬板、软板和软硬结合板三大类,其中硬板材料都为FR4材料,软板大都为单面或是双面板,其钻孔、除胶和电镀后孔壁情况比较平整,且压合时都为同一种材料,所有不会存在因不同材料的CTE(热膨胀系数)值不同导致的孔铜在冷热冲击测试时断裂。但是软硬结合板则不同,其软板为PI材料(聚酰亚胺材料),硬板为FR4材料,经过钻孔、除胶和电镀后孔壁比较粗糙,而且PI材料的沉铜效果比较差,一般会在PI和FR4材料的交叠处存在一个微小拐角,且两种材料的CTE值相差近10倍,耐不住冷热冲击信赖性测试,表现的现象为孔铜断裂。
发明内容
本发明旨在解决上述问题,提供了一种避免软硬结合板孔铜断裂的加工工艺,可以有效解决孔铜断裂异常,提升产品信赖性。
按照本发明的技术方案,所述避免软硬结合板孔铜断裂的加工工艺,包括以下步骤,
A. 制作印刷线路软硬结合板的软板层:以软板为中间层,软板的上下均覆盖一层软板铜箔;
B. 制作第一介质层半固化片,第一介质层半固化片对应软区位置开设窗口;
C. 制作硬板层:以硬板为中间层,硬板的上下铺设硬板铜箔,铜箔上开有软硬交接线避让口;
D. 制作第二介质层半固化片;
E. 准备铜箔;
F. 按照铜箔、第二介质层半固化片、硬板层、第一介质层半固化片、软板层、第一介质层半固化片、硬板层、第二介质层半固化片、铜箔的顺序自上到下依次设置,经过压合后得到产品软硬结合板;
G. 在压合后的软硬结合板上进行机械钻孔;
H. 在机械钻孔孔内和软硬结合板的上下表面进行镀铜,孔铜总铜厚为T,分两次或三次进行电镀,最后一次电镀的孔铜铜厚不少于12.5微米。
进一步的,所述步骤A中软板层对应成品板需要弯折的区域点粘并压合覆盖膜。
进一步的,所述第二次介质层半固化片压合后填铜厚度为0.075mm。
进一步的,所述步骤H中,第一次电镀孔铜厚度T1为5-8微米;T-T1<20.5微米时,分两次进行电镀,第二次电镀孔铜厚度T2=T-T1,且T2≥12.5微米;T-T1≥20.5微米时,分三次进行电镀,第二次电镀孔铜厚度T2'为5-8微米,第三次电镀孔铜厚T3=T-T1-T2',且T3≥12.5微米。
本发明的有益效果在于:根据孔铜总厚度分多次进行不同厚度的镀铜,避免了后制程减铜过多导致的产品不良,有效解决了孔铜断裂异常,提升了产品信赖性。
附图说明
图1为本发明软硬结合板的结构示意图。
图2为实施例一中电镀后的软硬结合板的结构示意图。
图3为实施例二中电镀后的软硬结合板的结构示意图。
附图标记说明:1-软板层、1.1-软板、1.2-软板铜箔、2-第一介质层半固化片、2.1-窗口、3-硬板层、3.1-硬板、3.2-硬板铜箔、3.3-软硬交接线避让口、4-第二次介质层半固化片、5-铜箔、6-覆盖膜。
具体实施方式
下面结合具体实施例和附图对本发明作进一步说明。
实施例一
A. 制作印刷线路软硬结合板的软板层1:以软板1.1为中间层,软板1.1的上下均覆盖一层软板铜箔1.2,软板层1对应成品板需要弯折的区域点粘并压合覆盖膜6;
B. 制作第一介质层半固化片2,第一介质层半固化片2对应软区位置开设窗口2.1;
C. 制作硬板层3:以硬板3.1为中间层,硬板3.1的上下铺设硬板铜箔3.2,铜箔3.2上开有软硬交接线避让口3.3;
D. 制作第二介质层半固化片4;第二次介质层半固化片4压合后填铜厚度为0.075mm。
E. 准备铜箔5;
F. 按照铜箔5、第二介质层半固化片4、硬板层3、第一介质层半固化片2、软板层1、第一介质层半固化片2、硬板层3、第二介质层半固化片4、铜箔5的顺序自上到下依次设置,经过压合后得到如图1所示的产品软硬结合板;
G. 在压合后的软硬结合板上进行机械钻孔;
H. 在机械钻孔孔内和软硬结合板的上下表面进行镀铜,孔铜总铜厚为T为21微米,分两次进行电镀,如图2所示,第一次电镀孔铜厚度T1为5微米,第二次电镀孔铜厚度T2为16微米,T2大于12.5微米,避免镀铜后的后制程减铜过多导致的产品不良。
实施例二
A. 制作印刷线路软硬结合板的软板层1:以软板1.1为中间层,软板1.1的上下均覆盖一层软板铜箔1.2,软板层1对应成品板需要弯折的区域点粘并压合覆盖膜6;
B. 制作第一介质层半固化片2,第一介质层半固化片2对应软区位置开设窗口2.1;
C. 制作硬板层3:以硬板3.1为中间层,硬板3.1的上下铺设硬板铜箔3.2,铜箔3.2上开有软硬交接线避让口3.3;
D. 制作第二介质层半固化片4;第二次介质层半固化片4压合后填铜厚度为0.075mm。
E. 准备铜箔5;
F. 按照铜箔5、第二介质层半固化片4、硬板层3、第一介质层半固化片2、软板层1、第一介质层半固化片2、硬板层3、第二介质层半固化片4、铜箔5的顺序自上到下依次设置,经过压合后得到如图1所示的产品软硬结合板;
G. 在压合后的软硬结合板上进行机械钻孔;
H. 在机械钻孔孔内和软硬结合板的上下表面进行镀铜,孔铜总铜厚为T为30微米,分三次电镀,如图3所示,第一次电镀孔铜厚度T1为8微米,第二次电镀孔铜厚度T2'为8微米,第三次电镀孔铜厚度T3为18微米,T3大于12.5微米,避免镀铜后的后制程减铜过多导致的产品不良。
Claims (3)
1.一种避免软硬结合板孔铜断裂的加工工艺,其特征在于,包括以下步骤,
A. 制作印刷线路软硬结合板的软板层(1):以软板(1.1)为中间层,软板(1.1)的上下均覆盖一层软板铜箔(1.2);
B. 制作第一介质层半固化片(2),第一介质层半固化片(2)对应软区位置开设窗口(2.1);
C. 制作硬板层(3):以硬板(3.1)为中间层,硬板(3.1)的上下铺设硬板铜箔(3.2),硬板铜箔(3.2)上开有软硬交接线避让口(3.3);
D. 制作第二介质层半固化片(4);
E. 准备铜箔(5);
F. 按照铜箔(5)、第二介质层半固化片(4)、硬板层(3)、第一介质层半固化片(2)、软板层(1)、第一介质层半固化片(2)、硬板层(3)、第二介质层半固化片(4)、铜箔(5)的顺序自上到下依次设置,经过压合后得到产品软硬结合板;
G. 在压合后的软硬结合板上进行机械钻孔;
H. 在机械钻孔孔内和软硬结合板的上下表面进行镀铜,孔铜总铜厚为T,分两次或三次进行电镀,最后一次电镀的孔铜铜厚不少于12.5微米;
所述步骤H中,第一次电镀孔铜厚度T1为5-8微米;T-T1<20.5微米时,分两次进行电镀,第二次电镀孔铜厚度T2=T-T1,且T2≥12.5微米;T-T1≥20.5微米时,分三次进行电镀,第二次电镀孔铜厚度T2'为5-8微米,第三次电镀孔铜厚T3=T-T1-T2',且T3≥12.5微米。
2.如权利要求1所述的避免软硬结合板孔铜断裂的加工工艺,其特征在于,所述步骤A中软板层(1)对应成品板需要弯折的区域点粘并压合覆盖膜(6)。
3.如权利要求1所述的避免软硬结合板孔铜断裂的加工工艺,其特征在于,所述第二介质层半固化片(4)压合后填铜厚度为:0.075mm。
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