CN111682053A - 显示面板及显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明是关于一种显示面板及显示装置，涉及显示技术领域。主要采用的技术方案为：显示面板，其包括：依次层叠设置的阵列基板、第一电极层、像素定义层、发光材料层、第二电极层、封装层；其中，所述像素定义层包括第一部分和第二部分，所述第一部分对应并位于所述显示面板的显示区，所述第二部分环设在所述第一部分的一周，所述第二部分设置有凹陷，所述凹陷的开口朝向所述发光材料层一侧，所述凹陷围绕所述第一部分一周并与所述第一部分相接。所述像素定义层由于凹陷的设置，在更换不同的精细金属掩膜蒸镀不同颜色的发光材料时，可以避免精细金属掩膜将位于显示区之外的发光材料带走并带入显示面板显示区，避免了显示面板存在异物的情况发生。

Description

显示面板及显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种显示面板及显示装置。
背景技术
有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)显示装置，其具有自发光、广视角、几乎无穷高的对比度、较低耗电、极高反应速度等优点被广泛的应用于高端显示设备中。
其中，在OLED显示装置的制造工艺中，低温多晶硅背板加上精细金属掩膜(FMMMask)方式是技术成熟且应用较多的一种。但是，为保证精细金属掩膜像素开口在刻蚀工艺过程中的均一性，精细金属掩膜的实际开口尺寸需大于面板的显示区即大于AA区；同时，为保证发光器件蒸镀过程中膜层厚度的均一性，起遮挡及分割像素作用的掩模肋也需要相应比面板AA区扩大一定尺寸。由于上述两个方面的限制，面板AA区周边与精细金属掩膜接触范围会存在一圈电致发光材料，在更换精细金属掩膜版进行蒸镀过程中，可能会与精细金属掩膜版发生接触摩擦，产生微粒，造成产品信赖性问题。
所以上述技术问题急需解决。
发明内容
本发明的主要目的在于，提供一种新型结构的显示面板及显示装置，使其能够解决面板AA区周边与精细金属掩膜接触范围存在一圈电致发光材料容易导致显示面板存在异物的技术问题。
本发明的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据本发明提出的一种显示面板，包括依次层叠设置的阵列基板、第一电极层、像素定义层、发光材料层、第二电极层、封装层；
所述像素定义层包括第一部分和第二部分，所述第一部分对应并位于所述显示面板的显示区，所述第二部分环设在所述第一部分的一周，所述第二部分设置有凹陷，所述凹陷的开口朝向所述发光材料层一侧，所述凹陷围绕所述第一部分一周并与所述第一部分相接。
本发明的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。
可选地，前述的显示面板，其还包括：
平坦层，所述平坦层位于所述第一电极层和所述像素定义层之间，所述平坦层设置有开口朝向所述像素定义层的凹槽，所述像素定义层覆盖在所述凹槽表面形成所述凹陷。
可选地，前述的显示面板，其中所述凹陷的纵向截面为矩形。
可选地，前述的显示面板，其中所述凹陷的深度为0.1μm-1.8μm。
可选地，前述的显示面板，其中所述凹陷的深度为0.7μm-1.8μm。
可选地，前述的显示面板，其中所述凹陷的向远离所述显示区方向的宽度为0.3mm-0.5mm。
可选地，前述的显示面板，其中所述凹陷的宽度为0.3mm。
可选地，前述的显示面板，其中环状的所述凹陷中间隔的设置有多个隔挡，所述隔挡具有预设厚度。
可选地，前述的显示面板，其中所述凹陷的数量为两个或多个，两个或者多个所述凹陷沿所述第一部分向第二部分方向，依次间隔的设置在所述第二部分上。
另外，本发明的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据本发明提出的一种显示装置，包括：显示面板；
所述显示面板包括依次层叠设置的阵列基板、第一电极层、像素定义层、发光材料层、第二电极层、封装层；
所述像素定义层包括第一部分和第二部分，所述第一部分对应并位于所述显示面板的显示区，所述第二部分环设在所述第一部分的一周，所述第二部分设置有凹陷，所述凹陷的开口朝向所述发光材料层一侧，所述凹陷围绕所述第一部分一周并与所述第一部分相接。
借由上述技术方案，本发明显示面板及显示装置组至少具有下列优点：
本发明技术方案中提供的显示面板，其在像素定义层位于显示区一周的第二部分设置凹陷，这样在蒸镀发光材料时，发光材料虽然可以通过精细金属掩膜位于显示区外部一周的开口蒸镀在像素定义层上，但是由于凹陷的设置，这部分发光材料可以容置在凹陷中，在更换不同的精细金属掩膜蒸镀不同颜色的发光材料时，可以避免精细金属掩膜将位于显示区之外的发光材料带走并带入显示面板显示区，避免了显示面板存在异物的情况发生。
上述说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本发明的较佳实施例并配合附图详细说明如后。
附图说明
图1是本发明的实施例提供的一种显示面板的截面结构示意图；
图2是本发明的实施例提供的一种显示面板的像素定义层的俯视结构示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效,以下结合附图及较佳实施例，对依据本发明提出的显示面板及显示装置，其具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如后。在下述说明中，不同的“一实施例”或“实施例”指的不一定是同一实施例。此外，一或多个实施例中的特定特征、结构、或特点可由任何合适形式组合。
实施例一
如图1-图2所示，本发明的实施例一提出的一种显示面板，包括：依次层叠设置的阵列基板1、第一电极层2、像素定义层3、发光材料层4、第二电极层5、封装层6；
其中，所述像素定义层3包括第一部分31和第二部分32，所述第一部分31对应并位于所述显示面板的显示区，所述第二部分32环设在所述第一部分31的一周，所述第二部分32设置有凹陷321，所述凹陷321的开口朝向所述发光材料层4一侧，所述凹陷321围绕所述第一部分31一周并与所述第一部分31相接。
具体地，本发明实施例提供的显示面板可以是被动式有机电激发光二极管(Passive matrix OLED，简称PMOLED)，也可以是主动式有机电激发光二极管(Activematrix OLED，简称AMOLED)。本发明实施例提供的显示面板其各个功能层的位置关系可以如上所述，各层的更进一步的结构可以参考已知技术，本发明不做具体限定。
本发明实施例提供的显示面板可以是顶出光也可以底出光形式，第一电极可以是阳极或阴极，第二电极则对应的可以为阴极或者阳极。发光材料层4的材料为电致发光材料，是在直流或交流电场作用下，依靠电流和电场的激发，将电能直接转换成光能的材料，即发光材料层4在第一电极层2和第二电极层5的电压的驱动下发光实现显示。封装层6是用于起到防水、防尘、防腐蚀的功能层，可以是单一的一层，例如有机层，也可以由多层构成，例如可以包括第一无机介质层、有机层、第二无机介质层，具体的封装工艺为技术人员所知，本发明实施例不做赘述。
像素定义层3是用于定义像素位置以及用于形成像素坑的一功能层，其第一部分31即上述的对应位于显示面板的显示区的部分，该部分具有像素坑，用于蒸镀发光材料形成像素。第二部分32即上述的环设于第一部分31一周的对应显示面板非显示区的部分，现有技术中该部分呈流平状态的薄膜，本发明实施例在第二部分32朝向于发光材料层4的一侧设置凹陷321，即凹陷321的开口方向与像素坑的开口方向相同，且需要凹陷321围绕在第二部分32一周并与第一部分31相接，即紧邻像素定义层3显示区域的一周为凹陷321，该凹陷321可以根据具体像素定义层3的厚度、像素坑的深度或者成型工艺，设置合适和的深度以及宽度。
本发明技术方案中提供的显示面板，其在像素定义层3位于显示区一周的第二部分32设置凹陷321，这样在蒸镀发光材料时，发光材料虽然可以通过精细金属掩膜位于显示区外部一周的开口蒸镀在像素定义层3上，但是由于凹陷321的设置，这部分发光材料可以容置在凹陷321中，在更换不同的精细金属掩膜蒸镀不同颜色的发光材料时，可以避免精细金属掩膜将位于显示区之外的发光材料带走并带入显示面板显示区，避免了显示面板存在异物的情况发生。
在具体实施中，其中本发明实施例提供的显示面板还包括：平坦层，所述平坦层位于所述第一电极层2和所述像素定义层3之间，所述平坦层设置有开口朝向所述像素定义层3的凹槽，所述像素定义层3覆盖在所述凹槽表面形成所述凹陷321。
具体地，平坦层的厚度以及使用的材质均可以参考传统技术，本发明实施例不做具体赘述。平坦层上设置的凹槽可以通过在平坦层成型时曝光、蚀刻后者雕刻等手段实现，平坦层上的凹槽可以是贯通平坦层的，也可以是类似于盲孔的非贯通凹槽。这样在制作像素定义层3时，像素定义层3的第二部分32可以直接覆盖在凹槽上，进而形成凹陷321。
在具体实施中，其中所述凹陷321的纵向截面为矩形。
具体地，由于凹陷321是形成在像素定义层3上的，所以凹陷321可以同像素坑一起成型，通过参考现有的工艺，以及考虑到凹陷321对发光材料的容置性能，因策优选将凹陷321的纵向截面设置为矩形。其中，纵向截面即垂直与像素定义层3同时垂直与凹陷321长度方向的平面做的截面。
进一步地，所述凹陷321的深度为0.1μm-1.8μm。
具体地，考虑到像素坑的深度，可以将凹陷321的深度设置为上述的0.1μm-1.8μm，优选的深度范围为0.7μm-1.8μm。其中优选的深度点值为0.7μm。上述的深度均可以满足容置发光材料的要求。
再进一步地，所述凹陷321的向远离所述显示区方向的宽度为0.3mm-0.5mm。
具体地，凹陷321不仅需要能够容置发光材料，还需要具有足够的宽度，需要将通过精细金属掩膜版非显示区域之外开口的发光材料全部容置，进而充分的避免更换精细金属掩膜版蒸镀发光材料时，精细金属掩膜版与上一道蒸镀在像素定义层3的发光材料接触，进而完全的避免显示面板进入异物的情况发生。
其中，优选的凹陷321的宽度为0.3mm。
在具体实施中，其中环状的所述凹陷321中间隔的设置有多个隔挡，所述隔挡具有预设厚度。
具体地，可以理解的凹陷321为一环状的凹槽结构，在凹陷321中间隔的设置多个隔挡可以增加凹陷321部位的整体强度，隔挡的厚度可以与凹陷321的深度或者宽度相同，或者根据实际的生产工艺而定。
在具体实施中，所述凹陷321的数量也可以为两个或多个，两个或者多个所述凹陷321沿所述第一部分31向第二部分32方向，依次间隔的设置在所述第二部分32上。
实施例二
如图1-图2所示，本发明的实施例二提出的一种显示装置，包括显示面板，所述显示面板包括：依次层叠设置的阵列基板1、第一电极层2、像素定义层3、发光材料层4、第二电极层5、封装层6；
其中，所述像素定义层3包括第一部分31和第二部分32，所述第一部分31对应并位于所述显示面板的显示区，所述第二部分32环设在所述第一部分31的一周，所述第二部分32设置有凹陷321，所述凹陷321的开口朝向所述发光材料层4一侧，所述凹陷321围绕所述第一部分31一周并与所述第一部分31相接。
具体地，显示装置可以是仅具有显示功能的显示屏，也可以是具有触控功能的显示屏。实施例二中所使用的显示面板可以直接使用上述实施例一提供的显示面板，具体的实现结构可参见上述实施例一中描述的相关内容，此处不再赘述。
本发明技术方案中提供的显示面板，其在像素定义层3位于显示区一周的第二部分32设置凹陷321，这样在蒸镀发光材料时，发光材料虽然可以通过精细金属掩膜位于显示区外部一周的开口蒸镀在像素定义层3上，但是由于凹陷321的设置，这部分发光材料可以容置在凹陷321中，在更换不同的精细金属掩膜蒸镀不同颜色的发光材料时，可以避免精细金属掩膜将位于显示区之外的发光材料带走并带入显示面板显示区，避免了显示面板存在异物的情况发生。
可以理解的是，上述装置中的相关特征可以相互参考。另外，上述实施例中的“第一”、“第二”等是用于区分各实施例，而并不代表各实施例的优劣。
在此处所提供的说明书中，说明了大量具体细节。然而，能够理解，本发明的实施例可以在没有这些具体细节的情况下实践。在一些实例中，并未详细示出公知的结构和技术，以便不模糊对本说明书的理解。
类似地，应当理解，为了精简本公开并帮助理解各个发明方面中的一个或多个，在上面对本发明的示例性实施例的描述中，本发明的各个特征有时被一起分组到单个实施例、图、或者对其的描述中。然而，并不应将该公开的装置解释成反映如下意图：即所要求保护的本发明要求比在每个权利要求中所明确记载的特征更多的特征。更确切地说，如权利要求书所反映的那样，发明方面在于少于前面公开的单个实施例的所有特征。因此，遵循具体实施方式的权利要求书由此明确地并入该具体实施方式，其中每个权利要求本身都作为本发明的单独实施例。
以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。

Claims (10)

1.一种显示面板，包括依次层叠设置的阵列基板、第一电极层、像素定义层、发光材料层、第二电极层、封装层，其特征在于，
所述像素定义层包括第一部分和第二部分，所述第一部分对应并位于所述显示面板的显示区，所述第二部分环设在所述第一部分的一周，所述第二部分设置有凹陷，所述凹陷的开口朝向所述发光材料层一侧，所述凹陷围绕所述第一部分一周并与所述第一部分相接。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，还包括：
平坦层，所述平坦层位于所述第一电极层和所述像素定义层之间，所述平坦层设置有开口朝向所述像素定义层的凹槽，所述像素定义层覆盖在所述凹槽表面形成所述凹陷。
3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，
所述凹陷的纵向截面为矩形。
4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，
所述凹陷的深度为0.1μm-1.8μm。
5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，
所述凹陷的深度为0.7μm-1.8μm。
6.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，
所述凹陷的向远离所述显示区方向的宽度为0.3mm-0.5mm。
7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，
所述凹陷的宽度为0.3mm。
8.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，
环状的所述凹陷中间隔的设置有多个隔挡，所述隔挡具有预设厚度。
9.根据权利要求1-7中任一所述的显示面板，其特征在于，
所述凹陷的数量为两个或多个，两个或者多个所述凹陷沿所述第一部分向第二部分方向，依次间隔的设置在所述第二部分上。
10.一种显示装置，其特征在于，其包括：
如权利要求1-9中任一所述显示面板。
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