CN111656278B - 感光性组合物 - Google Patents

感光性组合物 Download PDF

Info

Publication number
CN111656278B
CN111656278B CN201980008387.6A CN201980008387A CN111656278B CN 111656278 B CN111656278 B CN 111656278B CN 201980008387 A CN201980008387 A CN 201980008387A CN 111656278 B CN111656278 B CN 111656278B
Authority
CN
China
Prior art keywords
photosensitive composition
mass
less
group
compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201980008387.6A
Other languages
English (en)
Other versions
CN111656278A (zh
Inventor
大河原昂广
奈良裕树
中村翔一
吉林光司
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Priority to CN202410505273.5A priority Critical patent/CN118311830A/zh
Publication of CN111656278A publication Critical patent/CN111656278A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN111656278B publication Critical patent/CN111656278B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/44Polymerisation in the presence of compounding ingredients, e.g. plasticisers, dyestuffs, fillers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/208Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/075Silicon-containing compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/075Silicon-containing compounds
    • G03F7/0752Silicon-containing compounds in non photosensitive layers or as additives, e.g. for dry lithography
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/075Silicon-containing compounds
    • G03F7/0755Non-macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2002Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
    • G03F7/2004Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by the use of a particular light source, e.g. fluorescent lamps or deep UV light
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/14601Structural or functional details thereof
    • H01L27/1462Coatings
    • H01L27/14621Colour filter arrangements

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)

Abstract

一种感光性组合物,其为用于利用波长300nm以下的光进行曝光的、包含色材及聚合性单体的感光性组合物,在感光性组合物的总固体成分中的聚合性单体与光聚合引发剂的合计的含量为15质量%以下。

Description

感光性组合物
技术领域
本发明涉及一种包含色材的感光性组合物。更详细而言,涉及一种用于固体摄像元件或滤色器等的感光性组合物。
背景技术
在视频摄影机、数码相机、带有摄像功能的移动电话等中使用CCD(电荷耦合元件)或CMOS(互补金属氧化物半导体)等固体摄像元件。并且,对固体摄像元件正在使用包含滤色器等色材的膜。包含滤色器等色材的膜,例如可使用包含色材、聚合性单体及光聚合引发剂的感光性组合物来进行制造(参考专利文献1、2)。
以往技术文献
专利文献
专利文献1:日本特表2012-532334号公报
专利文献2:日本特开2010-097172号公报
发明内容
发明要解决的技术课题
关于包含色材的膜,若膜的固化不充分,则色材会从膜流出而颜色转移至其他膜等。因此,在制造包含色材的膜时,需要制造充分固化的膜。为了提高感光性组合物的固化性,以往使用了较多地包含聚合性单体及光聚合引发剂的感光性组合物。例如,在专利文献1的实施例6中,在感光性组合物的总固体成分中包含23.69质量%的聚合性单体及1质量%的光聚合引发剂。并且,在专利文献2的实施例1中,在感光性组合物的总固体成分中包含合计为20.5质量%的聚合性单体及5.8质量%的光聚合引发剂。
另一方面,近年来进行了关于包含色材的膜的薄膜化等的研究。例如,为了维持目的的分光特性的同时实现薄膜化,期望提高膜中的色材浓度。然而,以往的感光性组合物作为色材以外的成分,较多地包含聚合性单体及光聚合引发剂,因此难以维持充分的固化性的同时进一步增加色材等的含量。
因此,本发明的目的在于提供一种即使聚合性单体及光聚合引发剂的含量较少固化性也优异的感光性组合物。
用于解决技术课题的手段
本发明人对感光性组合物进行了深入研究的结果,发现了对感光性组合物照射波长300nm以下的光来进行了曝光时,令人惊讶地发现即使感光性组合物的总固体成分中的聚合性单体及光聚合引发剂的含量较少,也能够形成固化性良好且充分地经固化的膜,从而完成了本发明。由此,本发明提供以下。
<1>一种感光性组合物,其为用于利用波长300nm以下的光进行曝光的、包含色材及聚合性单体的感光性组合物,
在感光性组合物的总固体成分中的聚合性单体与光聚合引发剂的合计的含量为15质量%以下。
<2>根据<1>所述的感光性组合物,其中,
聚合性单体与光聚合引发剂的合计量中的聚合性单体的含量为50质量%以上。
<3>根据<1>所述的感光性组合物,其中,
聚合性单体与光聚合引发剂的合计量中的聚合性单体的含量为70质量%以上且90质量%以下。
<4>根据<1>至<3>中任一项所述的感光性组合物,其中,
感光性组合物的总固体成分中的聚合性单体的含量为13质量%以下。
<5>根据<1>至<3>中任一项所述的感光性组合物,其中,
感光性组合物的总固体成分中的光聚合引发剂的含量为5质量%以下。
<6>根据<1>至<5>中任一项所述的感光性组合物,其中,
光聚合引发剂的含量相对于色材100质量份为5质量份以下。
<7>根据<1>至<5>中任一项所述的感光性组合物,其中,
光聚合引发剂的含量相对于色材100质量份为1质量份以上且5质量份以下。
<8>根据<1>至<7>中任一项所述的感光性组合物,其中,
感光性组合物的总固体成分中的色材的含量为50质量%以上。
<9>根据<1>至<8>中任一项所述的感光性组合物,其中,
聚合性单体为2官能以上的聚合性单体。
<10>根据<1>至<9>中任一项所述的感光性组合物,其中,
聚合性单体包含具有芴骨架的聚合性单体。
<11>根据<1>至<10>中任一项所述的感光性组合物,其中,
色材包含彩色着色剂。
<12>根据<1>至<11>中任一项所述的感光性组合物,其还含有硅烷偶联剂。
<13>根据<1>至<12>中任一项所述的感光性组合物,其为脉冲曝光用感光性组合物。
<14>根据<1>至<13>中任一项所述的感光性组合物,其为固体摄像元件用感光性组合物。
<15>根据<1>至<14>中任一项所述的感光性组合物,其为滤色器用感光性组合物。
发明效果
根据本发明,能够提供一种固化性优异的感光性组合物。
具体实施方式
以下,对本发明的内容进行详细说明。
本说明书中,“~”是以将其前后所记载的数值作为下限值及上限值而包含的含义来使用。
本说明书中的基团(原子团)的标记中,未标有经取代及未经取代的标记包含不具有取代基的基团(原子团),并且还包含具有取代基的基团(原子团)。例如,“烷基”不仅包含不具有取代基的烷基(未经取代的烷基),而且还包含具有取代基的烷基(经取代的烷基)。
本说明书中,“(甲基)烯丙基”表示烯丙基及甲基烯丙基这两个或其中任一个,“(甲基)丙烯酸酯”表示丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯这两个或其中任一个,“(甲基)丙烯酸”表示丙烯酸及甲基丙烯酸这两个或其中任一个,“(甲基)丙烯酰基”表示丙烯酰基及甲基丙烯酰基这两个或其中任一个。
本说明书中,重均分子量及数均分子量为通过GPC(凝胶渗透色谱)法测量出的聚苯乙烯换算值。
本说明书中,所谓红外线是指波长700~2500nm的光。
本说明书中,总固体成分是指从组合物的所有成分中去除溶剂后的成分的总质量。
本说明书中,“工序”这一术语不仅包含独立的工序,即使在无法与其他工序明确区分的情况下,只要能够达成该工序的所期望的作用,则包含于本术语中。
<感光性组合物>
本发明的感光性组合物为用于利用波长300nm以下的光进行曝光的感光性组合物且包含色材及聚合性单体,所述感光性组合物的特征在于,
在感光性组合物的总固体成分中的聚合性单体与光聚合引发剂的合计的含量为15质量%以下。
本发明的感光性组合物中,通过利用波长300nm以下的光进行曝光,即使感光性组合物的总固体成分中的聚合性单体与光聚合引发剂的合计量较少,也可具有优异的固化性。作为得到这些效果的理由,可推测为如下。推测为,对所述感光性组合物照射KrF射线等波长300nm以下的光来进行曝光,由此从感光性组合物中所包含的聚合性单体等成分产生自由基等活性种而能够有效地固化聚合性单体,其结果推测为,即使感光性组合物的总固体成分中的聚合性单体与光聚合引发剂的合计量较少,也可得到优异的固化性。并且,本发明的感光性组合物中,能够减少聚合性单体与光聚合引发剂的合计量,因此配方设计的自由度较高。例如,提高感光性组合物的总固体成分中的色材的含量,从而能够形成色材浓度较高的膜,由此能够实现薄膜化。
本发明的感光性组合物中,感光性组合物的总固体成分中的聚合性单体与光聚合引发剂的合计的含量为15质量%以下,优选为12质量%以下,更优选为10质量%以下,进一步优选为8质量%以下。为了得到充分的固化性,下限优选为1质量%以上,更优选为2质量%以上,进一步优选为3质量%以上,更进一步优选为4质量%以上。
本发明的感光性组合物为用于利用波长300nm以下的光进行曝光的感光性组合物。用于曝光的光为波长300nm以下的光即可,优选为波长270nm以下的光,更优选为波长250nm以下的光。并且,前述的光优选为波长180nm以上的光。具体而言,可举出KrF射线(波长248nm)、ArF射线(波长193nm)等,从容易得到更优异的固化性等的理由考虑,优选KrF射线(波长248nm)。
并且,本发明的感光性组合物优选为脉冲曝光用感光性组合物。即,本发明的感光性组合物优选脉冲照射波长300nm以下的光来进行曝光(脉冲曝光)而使用。推测为,根据该方式曝光感光性组合物时,还能够从聚合性单体本身有效地产生自由基等活性种而有效地固化聚合性单体,其结果,即使感光性组合物的总固体成分中的聚合性单体与光聚合引发剂的合计量更少,也可得到优异的固化性。因此,能够维持良好的固化性的同时更能够降低感光性组合物的总固体成分中的聚合性单体与光聚合引发剂的合计量。另外,脉冲曝光是指在短时间(例如毫秒等级以下)的周期内反复光的照射与暂停来进行曝光的方式的曝光方法。
本发明的感光性组合物优选地用作着色像素、黑色像素、遮挡膜、红外线透射滤波器层的像素等的形成用组合物。作为着色像素,可举出选自红色、蓝色、绿色、青色、品红色及黄色中的色相的像素。作为红外线透射滤波器层的像素,可举出满足波长400~640nm的范围内的透射率的最大值为20%以下(优选15%以下,更优选10%以下),波长1100~1300nm的范围内的透射率的最小值为70%以上(优选75%以上,更优选80%以上)的分光特性的过滤器层的像素等。并且,还优选红外线透射滤波器层的像素为满足以下的(1)~(4)中的任一分光特性的过滤器层的像素。
(1):波长400~640nm的范围内的透射率的最大值为20%以下(优选15%以下,更优选10%以下)且波长800~1300nm的范围内的透射率的最小值为70%以上(优选75%以上,更优选80%以上)的过滤器层的像素。
(2):波长400~750nm的范围内的透射率的最大值为20%以下(优选15%以下,更优选10%以下)且波长900~1300nm的范围内的透射率的最小值为70%以上(优选75%以上,更优选80%以上)的过滤器层的像素。
(3):波长400~830nm的范围内的透射率的最大值为20%以下(优选15%以下,更优选10%以下)且波长1000~1300nm的范围内的透射率的最小值为70%以上(优选75%以上,更优选80%以上)的过滤器层的像素。
(4):波长400~950nm的范围内的透射率的最大值为20%以下(优选15%以下,更优选10%以下)且波长1100~1300nm的范围内的透射率的最小值为70%以上(优选75%以上,更优选80%以上)的过滤器层的像素。
将本发明的感光性组合物用作红外线透射滤波器层的像素形成用组合物的情况下,本发明的感光性组合物优选满足波长400~640nm的范围内的吸光度的最小值Amin与波长1100~1300nm的范围内的吸光度的最大值Bmax的比Amin/Bmax为5以上的分光特性。Amin/Bmax更优选为7.5以上,进一步优选为15以上,尤其优选为30以上。
任意波长λ下的吸光度Aλ通过以下式(1)来定义。
Aλ=-log(Tλ/100)……(1)
Aλ为波长λ下的吸光度,Tλ为波长λ下的透射率(%)。
在本发明中,吸光度的值可以是在溶液的状态下测量出的值,也可以是在使用感光性组合物制作出的膜的状态下测量出的值。在膜的状态下测量吸光度的情况下,优选通过旋转涂布等方法在玻璃基板上涂布感光性组合物,以使干燥后的膜的厚度成为规定的厚度,并使用利用加热板在100℃下干燥120秒钟而制备的膜来测量。
将本发明的感光性组合物用作红外线透射滤波器层的像素形成用组合物的情况下,本发明的感光性组合物更优选满足以下的(11)~(14)中的任一分光特性。
(11):波长400~640nm的范围内的吸光度的最小值Amin1与波长800~1300nm的范围内的吸光度的最大值Bmax1的比Amin1/Bmax1为5以上,优选为7.5以上,更优选为15以上,进一步优选为30以上。根据该方式,能够形成遮挡波长400~640nm的范围的光并能够透射波长720nm以上的光的膜。
(12):波长400~750nm的范围内的吸光度的最小值Amin2与波长900~1300nm的范围内的吸光度的最大值Bmax2的比Amin2/Bmax2为5以上,优选为7.5以上,更优选为15以上,进一步优选为30以上。根据该方式,能够形成遮挡波长400~750nm的范围的光且能够形成透射波长850nm以上的光的膜。
(13):波长400~850nm的范围内的吸光度的最小值Amin3与波长1000~1300nm的范围内的吸光度的最大值Bmax3的比Amin3/Bmax3为5以上,优选为7.5以上,更优选为15以上,进一步优选为30以上。根据该方式,能够形成遮挡波长400~850nm的范围的光且能够透射波长940nm以上的光的膜。
(14):波长400~950nm的范围内的吸光度的最小值Amin4与波长1100~1300nm的范围内的吸光度的最大值Bmax4的比Amin4/Bmax4为5以上,优选为7.5以上,更优选为15以上,进一步优选为30以上。根据该方式,能够形成遮挡波长400~950nm的范围的光且能够透射波长1040nm以上的光的膜。
本发明的感光性组合物能够优选用作固体摄像元件用感光性组合物。并且,本发明的感光性组合物能够优选用作滤色器用感光性组合物。具体而言,能够优选用作滤色器的像素形成用感光性组合物,能够更优选用作固体摄像元件中所使用的滤色器的像素形成用感光性组合物。
以下,对本发明的感光性组合物中所使用的各成分进行说明。
<<色材>>
本发明的感光性组合物包含色材。作为色材,可举出彩色着色剂、黑色着色剂、红外线吸收色素等。优选本发明的感光性组合物中所使用的色材至少包含彩色着色剂。
(彩色着色剂)
作为彩色着色剂,可举出红色着色剂、绿色着色剂、蓝色着色剂、黄色着色剂、紫色着色剂、橙色着色剂等。彩色着色剂可以是颜料,也可以是染料。优选颜料。颜料的平均粒径(r)优选为20nm≤r≤300nm,更优选为25nm≤r≤250nm,进一步优选为30nm≤r≤200nm。在此所谓“平均粒径”是指关于聚合有颜料的一次粒子的二次粒子的平均粒径。并且,能够使用的颜料的二次粒子的粒径分布(以下,简称为“粒径分布”。)在平均粒径±100nm的范围内所包含的二次粒子优选为整体的70质量%以上,更优选为80质量%以上。
颜料优选有机颜料。作为有机颜料可举出以下的颜料。
比色指数(C.I.)颜料黄(Pigment Yellow)1,2,3,4,5,6,10,11,12,13,14,15,16,17,18,20,24,31,32,34,35,35:1,36,36:1,37,37:1,40,42,43,53,55,60,61,62,63,65,73,74,77,81,83,86,93,94,95,97,98,100,101,104,106,108,109,110,113,114,115,116,117,118,119,120,123,125,126,127,128,129,137,138,139,147,148,150,151,152,153,154,155,156,161,162,164,166,167,168,169,170,171,172,173,174,175,176,177,179,180,181,182,185,187,188,193,194,199,213,214等(以上为黄色颜料)、
C.I.颜料橙(Pigment Orange)2,5,13,16,17:1,31,34,36,38,43,46,48,49,51,52,55,59,60,61,62,64,71,73等(以上为橙色颜料)、
C.I.颜料红(Pigment Red)1,2,3,4,5,6,7,9,10,14,17,22,23,31,38,41,48:1,48:2,48:3,48:4,49,49:1,49:2,52:1,52:2,53:1,57:1,60:1,63:1,66,67,81:1,81:2,81:3,83,88,90,105,112,119,122,123,144,146,149,150,155,166,168,169,170,171,172,175,176,177,178,179,184,185,187,188,190,200,202,206,207,208,209,210,216,220,224,226,242,246,254,255,264,270,272,279等(以上为红色颜料)、
C.I.颜料绿(Pigment Green)7,10,36,37,58,59,62,63等(以上为绿色颜料)、
C.I.颜料紫(Pigment Violet)1,19,23,27,32,37,42等(以上为紫色颜料)、
C.I.颜料蓝(Pigment Blue)1,2,15,15:1,15:2,15:3,15:4,15:6,16,22,60,64,66,79,80等(以上为蓝色颜料)。
这些有机颜料能够单独使用或者将多种组合使用。
并且,作为黄色颜料,也能够使用包含选自由下述式(I)表示的偶氮化合物及其互变异构结构的偶氮化合物中的至少1种阴离子、2种以上的金属离子及三聚氰胺化合物的金属偶氮颜料。
[化学式1]
式中,R1及R2分别独立地为-OH或-NR5R6,R3及R4分别独立地为=O或=NR7,R5~R7分别独立地为氢原子或烷基。R5~R7所表示的烷基的碳原子数优选1~10,更优选1~6,进一步优选1~4。烷基可以是直链、支链及环状中的任一种,优选为直链或支链,更优选为直链。烷基还可以具有取代基。取代基优选卤素原子、羟基、烷氧基、氰基及胺基。
式(I)中,R1及R2优选为-OH。并且,R3及R4优选为=O。
金属偶氮颜料中的三聚氰胺化合物优选为由下述式(II)表示的化合物。
[化学式2]
式中R11~R13分别独立地为氢原子或烷基。烷基的碳原子数优选1~10,更优选1~6,进一步优选1~4。烷基可以是直链、支链及环状中的任一种,优选直链或支链,更优选直链。烷基还可以具有取代基。取代基优选羟基。R11~R13中的至少一个优选为氢原子,R11~R13中的全部更优选为氢原子。
上述金属偶氮颜料优选为包含选自由上述的式(I)表示的偶氮化合物及其互变异构结构的偶氮化合物中的至少1种阴离子、至少包含Zn2+及Cu2+的金属离子及三聚氰胺化合物的方式的金属偶氮颜料。在该方式中,以金属偶氮颜料的总金属离子的1摩尔为基准,优选以合计含有95~100摩尔%的Zn2+及Cu2+,更优选含有98~100摩尔%,更优选含有99.9~100摩尔%,尤其优选含有100摩尔%。并且,金属偶氮颜料中的Zn2+与Cu2+的摩尔比优选为Zn2+:Cu2+=199:1~1:15,更优选为19:1~1:1,进一步优选为9:1~2:1。并且,在该方式中,金属偶氮颜料还可以包含除了Zn2+及Cu2+以外的二价或三价的金属离子(以下还称为金属离子Me1)。作为金属离子Me1,可举出Ni2+、Al3+、Fe2+、Fe3+、Co2+、Co3+、La3+、Ce3+、Pr3+、Nd2+、Nd3 +、Sm2+、Sm3+、Eu2+、Eu3+、Gd3+、Tb3+、Dy3+、Ho3+、Yb2+、Yb3+、Er3+、Tm3+、Mg2+、Ca2+、Sr2+、Mn2+、Y3+、Sc3 +、Ti2+、Ti3+、Nb3+、Mo2+、Mo3+、V2+、V3+、Zr2+、Zr3+、Cd2+、Cr3+、Pb2+、Ba2+,优选为选自Al3+、Fe2+、Fe3 +、Co2+、Co3+、La3+、Ce3+、Pr3+、Nd3+、Sm3+、Eu3+、Gd3+、Tb3+、Dy3+、Ho3+、Yb3+、Er3+、Tm3+、Mg2+、Ca2+、Sr2+、Mn2+及Y3+中的至少1种,更优选为选自Al3+、Fe2+、Fe3+、Co2+、Co3+、La3+、Ce3+、Pr3+、Nd3+、Sm3+、Tb3+、Ho3+及Sr2+中的至少1种,尤其优选为选自Al3+、Fe2+、Fe3+、Co2+及Co3+中的至少1种。以金属偶氮颜料的总金属离子的1摩尔为基准,金属离子Me1的含量优选为5摩尔%以下,更优选为2摩尔%以下,进一步优选为0.1莫耳%以下。
关于上述金属偶氮颜料,能够参考日本特开2017-171912号公报的0011~0062、0137~0276段、日本特开2017-171913号公报的0010~0062、0138~0295段、日本特开2017-171914号公报的0011~0062、0139~0190段、日本特开2017-171915号公报的0010~0065、0142~0222段的记载,这些内容援用于本说明中。
并且,作为红色颜料,能够使用具有在芳香族环上导入了键合有氧原子、硫原子或氮原子的基团的芳香族环基与二酮吡咯并吡咯骨架键合的结构的化合物。作为这样的化合物,优选为由式(DPP1)表示的化合物,更优选为由式(DPP2)表示的化合物。
[化学式3]
上述式中,R11及R13分别独立地表示取代基,R12及R14分别独立地表示氢原子、烷基、芳基或杂芳基,n11及n13分别独立地表示0~4的整数,X12及X14分别独立地表示氧原子、硫原子或氮原子,X12为氧原子或硫原子的情况下,m12表示1,X12为氮原子的情况下,m12表示2,X14为氧原子或硫原子的情况下,m14表示1,X14为氮原子的情况下,m14表示2。作为R11及R13所表示的取代基,可举出烷基、芳基、卤素原子、酰基、烷氧羰基、芳基氧羰基、杂芳基氧羰基、酰胺基、氰基、硝基、三氟甲基、亚砜基、磺基等作为优选的具体例。
并且,作为绿色颜料,也能够使用在1分子中的卤素原子数为平均10~14个、溴原子为平均8~12个及氯原子为平均2~5个的卤化锌酞菁颜料。作为具体例,可举出国际公开WO2015/118720号公报中所记载的化合物。
并且,作为蓝色颜料,也能够使用具有磷原子的铝酞菁化合物。作为具体例,可举出日本特开2012-247591号公报的0022~0030段、日本特开2011-157478号公报的0047段中所记载的化合物等。
作为染料并没有特别限制,能够使用公知的染料。例如能够举出吡唑偶氮系、苯氨基偶氮系、三芳基甲烷系、蒽醌系、蒽吡啶醌系、苯亚甲基系、氧杂菁系、吡唑并三唑偶氮系、吡啶酮偶氮系、花青系、啡噻嗪系、吡咯并吡唑次甲基偶氮系、呫吨系、酞菁系、苯并吡喃系、靛蓝系、吡咯亚甲基系等染料。并且,也可以使用这些染料的多聚体。并且,也能够使用日本特开2015-028144号公报、日本特开2015-034966号公报中所记载的染料。
(黑色着色剂)
作为黑色着色剂,可举出碳黑、金属氮氧化物(钛黑等)、金属氮化物(氮化钛等)等无机黑色着色剂、二苯并呋喃酮化合物、甲亚胺化合物、苝化合物、偶氮化合物等有机黑色着色剂。有机黑色着色剂优选二苯并呋喃酮化合物、苝化合物。作为双苯并呋喃酮化合物,可举出日本特表2010-534726号公报、日本特表2012-515233号公报、日本特表2012-515234号公报等中所记载的化合物,例如能够作为BASF公司制造的“Irgaphor Black”而获得。作为苝化合物,可举出C.I.颜料黑(Pigment Black)31、32等。作为次甲基偶氮化合物,可举出日本特开平1-170601号公报、日本特开平2-34664号公报等中所记载的物质,例如能够作为Dainichiseika Color&Chemicals Mfg.Co.,Ltd.制造的“CHROMO FINE BLACK A1103”而获得。二苯并呋喃酮化合物优选为由下述式中的任一个表示的化合物或它们的混合物。
[化学式4]
式中,R1及R2分别独立地表示氢原子或取代基,R3及R4分别独立地表示取代基,a及b分别独立地表示0~4的整数,a为2以上时,多个R3可以相同也可以不同,多个R3可以键合而形成环,b为2以上时,多个R4可以相同也可以不同,多个R4可以键合而形成环。
R1~R4所表示的取代基表示卤素原子、氰基、硝基、烷基、烯基、炔基、芳烷基、芳基、杂芳基、-OR301、-COR302、-COOR303、-OCOR304、-NR305R306、-NHCOR307、-CONR308R309、-NHCONR310R311、-NHCOOR312、-SR313、-SO2R314、-SO2OR315、-NHSO2R316或-SO2NR317R318,R301~R318分别独立地表示氢原子、烷基、烯基、炔基、芳基或杂芳基。
关于双苯并呋喃酮化合物的详细内容,能够参考日本特表2010-534726号公报的0014~0037段的记载,该内容被编入到本说明书中。
(红外线吸收色素)
作为红外线吸收色素,优选如下化合物。即在波长700~1300nm的范围,更优选在波长700~1000nm的范围内具有极大吸收波长。红外线吸收色素可以是颜料,也可以是染料。
在本发明中,作为红外线吸收色素,能够优选地使用具有包含单环或缩合环的芳香族环的π共轭平面的化合物。除构成红外线吸收色素所具有的π共轭平面的氢以外的原子数优选14个以上,更优选20个以上,进一步优选25个以上,尤其优选30个以上。上限例如优选80个以下,更优选50个以下。红外线吸收色素所具有的π共轭平面优选包含2个以上单环或缩合环的芳香族环,更优选包含3个以上所述芳香族环,进一步优选包含4个以上所述芳香族环,尤其优选包含5个以上所述芳香族环。上限优选100个以下,更优选50个以下,进一步优选30个以下。作为所述芳香族环,可举出苯环、萘环、并环戊二烯(pentalene)环、茚环、薁环、庚搭烯(heptalene)环、茚烯(indecene)环、苝环、稠五苯环、夸特锐烯(quaterrylene)环、乙烷合萘(acenaphthene)环、菲环、蒽环、稠四苯(naphthacene)环、(chrysene)环、联亚三苯(triphenylene)环、芴环、吡啶环、喹啉环、异喹啉环、咪唑环、苯并咪唑环、吡唑环、噻唑环、苯并噻唑环、三唑环、苯并三唑环、噁唑环、苯并噁唑环、咪唑啉环、吡嗪(pyrazine)环、喹噁啉(quinoxaline)环、嘧啶环、喹唑啉(quinazoline)环、嗒嗪(pyridazine)环、三嗪(triazine)环、吡咯环、吲哚环、异吲哚环、咔唑环及具有这些环的缩合环。
红外线吸收色素优选选自吡咯并吡咯化合物、花青化合物、方酸菁化合物、酞菁化合物、萘酞菁化合物、四萘嵌三苯化合物、部花青化合物、克酮鎓(croconium)化合物、氧杂菁(Oxonol)化合物、二亚胺(diimonium)化合物、二硫醇化合物、三芳基甲烷化合物、吡咯亚甲基化合物、甲亚胺化合物、蒽醌化合物及二苯并呋喃酮化合物中的至少一种,更优选选自吡咯并吡咯化合物、花青化合物、方酸菁化合物、酞菁化合物、萘酞菁化合物及二亚胺化合物中的至少一种,进一步优选选自吡咯并吡咯化合物、花青化合物及方酸菁化合物中的至少一种,尤其优选吡咯并吡咯化合物。
作为吡咯并吡咯化合物,可举出日本特开2009-263614号公报的0016~0058段中所记载的化合物、日本特开2011-068731号公报的0037~0052段中所记载的化合物、国际公开WO2015/166873号公报的0010~0033段中所记载的化合物等,这些内容被编入到本说明书中。
作为方酸菁化合物,可举出日本特开2011-208101号公报的0044~0049段中所记载的化合物、日本专利第6065169号公报的0060~0061段中所记载的化合物、国际公开WO2016/181987号公报的0040段中所记载的化合物、国际公开WO2013/133099号公报中所记载的化合物、国际公开WO2014/088063号公报中所记载的化合物、日本特开2014-126642号公报中所记载的化合物、日本特开2016-146619号公报中所记载的化合物、日本特开2015-176046号公报中所记载的化合物、日本特开2017-25311号公报中所记载的化合物、国际公开WO2016/154782号公报中所记载的化合物、日本专利5884953号公报中所记载的化合物、日本专利6036689号公报中所记载的化合物、日本专利5810604号公报中所记载的化合物、日本特开2017-068120号公报中所记载的化合物等,这些内容被编入到本说明书中。
作为花青化合物,可举出日本特开2009-108267号公报的0044~0045段中所记载的化合物、日本特开2002-194040号公报的0026~0030段中所记载的化合物、日本特开2015-172004号公报中所记载的化合物、日本特开2015-172102号公报中所记载的化合物、日本特开2008-088426号公报中所记载的化合物、日本特开2017-031394号公报中所记载的化合物等,这些内容援用于本说明中。
作为二亚胺化合物,例如可举出日本特表2008-528706号公报中所记载的化合物,该内容援用于本说明中。作为酞菁化合物,例如可举出日本特开2012-077153号公报的0093段中所记载的化合物、日本特开2006-343631号公报中所记载的酞菁氧钛、日本特开2013-195480号公报的0013~0029段中所记载的化合物,这些内容援用于本说明中。作为萘酞菁化合物,例如可举出日本特开2012-077153号公报的0093段中所记载的化合物,该内容援用于本说明中。
在本发明中,红外线吸收色素还能够使用市售品。例如,可举出SDO-C33(ArimotoChemical Co.Ltd.制造)、EX Color IR-14、EX Color IR-10A、EX Color TX-EX-801B、EXColor TX-EX-805K(Nippon Shokubai Co.,Ltd.制造)、ShigenoxNIA-8041、ShigenoxNIA-8042、ShigenoxNIA-814、ShigenoxNIA-820、ShigenoxNIA-839(HAKKO Chemical Co.,Ltd.制造)、EpoliteV-63、Epolight3801、Epolight3036(EPOLIN公司制造)、PRO-JET825LDI(FUJIFILM Co.,Ltd.制造)、NK-3027、NK-5060(Hayashibara Co.,Ltd.制造)、YKR-3070(Mitsui Chemicals,Inc.制造)等。
从所得到的膜的薄膜化的观点考虑,感光性组合物的总固体成分中的色材的含量优选为50质量%以上,更优选为54质量%以上,进一步优选为58质量%以上,尤其优选为60质量%以上。若色材的含量为50质量%以上,则容易形成薄膜且分光特性良好的膜。从制膜性的观点考虑,上限优选80质量%以下,更优选75质量%以下,进一步优选70质量%以下。
本发明的感光性组合物中所使用的色料优选包含选自彩色着色剂及黑色着色剂中的至少一种。并且,色料的总质量中的彩色着色剂及黑色着色剂的含量优选为30质量%以上,更优选为50质量%以上,进一步优选为70质量%以上。上限能够设为100质量%,也能够设为90质量%以下。
并且,本发明的感光性组合物中所使用的色料优选至少包含绿色着色剂。并且,色料的总质量中的绿色着色剂的含量优选为30质量%以上,更优选为40质量%以上,进一步优选为50质量%以上。上限能够设为100质量%,也能够设为75质量%以下。
本发明的感光性组合物中所使用的色料在色料的总质量中的颜料的含量优选为50质量%以上,更优选为70质量%以上,进一步优选为90质量%以上。若色材的总质量中的颜料的含量在上述范围内,则容易得到耐热性优异的膜。
将本发明的感光性组合物用作着色像素形成用组合物的情况下,感光性组合物的总固体成分中的彩色着色剂的含量优选为50质量%以上,更优选为54质量%以上,进一步优选为58质量%以上,尤其优选为60质量%以上。并且,色料的总质量中的彩色着色剂的含量优选为25质量%以上,更优选为45质量%以上,进一步优选为65质量%以上。上限能够设为100质量%,也能够设为75质量%以下。并且,上述色料优选至少包含绿色着色剂。并且,上述色料的总质量中的绿色着色剂的含量优选为35质量%以上,更优选为45质量%以上,进一步优选为55质量%以上。上限能够设为100质量%,也能够设为80质量%以下。
将本发明的感光性组合物用作黑色像素用或遮挡膜的形成用组合物的情况下,感光性组合物的总固体成分中的黑色着色剂(优选无机黑色着色剂)的含量优选为50质量%以上,更优选为54质量%以上,进一步优选为58质量%以上。并且,色料的总质量中的黑色着色剂的含量优选为30质量%以上,更优选为50质量%以上,进一步优选为70质量%以上。上限能够设为100质量%,也能够设为90质量%以下。
将本发明的感光性组合物用作红外线透射滤波器层的像素形成用组合物的情况下,本发明中所使用的色料优选满足以下的(1)~(3)中的至少一个要件。
(1):包含两种以上的彩色着色剂且以两种以上的彩色着色剂的组合形成黑色。优选由选自红色着色剂、蓝色着色剂、黄色着色剂、紫色着色剂及绿色着色剂中的两种以上的着色剂的组合形成黑色。
(2):包含有机黑色着色剂。
(3):上述(1)或(2)中,还包含红外线吸收色素。
作为上述(1)的方式的优选的组合,例如可举出以下。
(1-1)含有红色着色剂及蓝色着色剂的方式。
(1-2)含有红色着色剂、蓝色着色剂及黄色着色剂的方式。
(1-3)含有红色着色剂、蓝色着色剂、黄色着色剂及紫色着色剂的方式。
(1-4)含有红色着色剂、蓝色着色剂、黄色着色剂、紫色着色剂及绿色着色剂的方式。
(1-5)含有红色着色剂、蓝色着色剂、黄色着色剂及绿色着色剂的方式。
(1-6)含有红色着色剂、蓝色着色剂及绿色着色剂的方式。
(1-7)含有黄色着色剂及紫色着色剂的方式。
上述(2)的方式中,还优选进一步含有彩色着色剂。通过并用有机黑色着色剂及彩色着色剂,容易获得优异的分光特性。作为与有机黑色着色剂组合而使用的彩色着色剂,例如可举出红色着色剂、蓝色着色剂、紫色着色剂等,优选红色着色剂及蓝色着色剂。这些可以单独使用,也可以并用两种以上。并且,彩色着色剂与有机黑色着色剂的混合比例相对于有机黑色着色剂100质量份,彩色着色剂优选10~200质量份,更优选15~150质量份。
上述(3)的方式中,色料的总质量中的红外线吸收色素的含量优选为5~40质量%。上限优选30质量%以下,更优选25质量%以下。下限优选10质量%以上,更优选15质量%以上。
<<聚合性单体>>
本发明的感光性组合物含有聚合性单体。作为聚合性单体,可举出自由基聚合性单体、阳离子聚合性单体等。作为自由基聚合性单体,可举出具有乙烯基、(甲基)烯丙基、(甲基)丙烯酰基等烯属不饱和键基的化合物。作为阳离子聚合性单体,可举出具有环氧基、氧杂环丁基等环状醚基的化合物。从容易得到更优异的固化性的理由考虑,利用波长300nm以下的光进行曝光感光性组合物时,聚合性单体优选为自由基聚合性单体。
聚合性单体优选为2官能以上的聚合性单体,更优选为2~15官能的聚合性单体,更优选为2~10官能的聚合性单体,尤其优选为2~6官能的聚合性单体。
聚合性单体的分子量优选为小于2000,更优选为1500以下,进一步优选为1000以下。下限优选100以上,进一步优选150以上。
并且,本发明中,聚合性单体还优选使用具有芴骨架的聚合性单体。认为具有芴骨架的聚合性单体而言,相对于波长300nm以下的光的吸光度高,并且通过照射波长300nm以下的光,容易由聚合性单体产生自由基等活性种,其结果,利用波长300nm以下的光曝光感光性组合物时可得到更优异的固化性。
作为具有芴骨架的聚合性单体,可举出具有由下述式(Fr)表示的部分结构的化合物。
(Fr)
[化学式5]
式中波浪线表示键合键,Rf1及Rf2分别独立地表示取代基,m及n分别独立地表示0~5的整数。m为2以上的情况下,m个Rf1可以相同,也可以分别不同,m个Rf1中的2个Rf1也可以彼此键合而形成环。n为2以上的情况下,n个Rf2可以相同,也可以分别不同,n个Rf2中的2个Rf2也可以彼此键合而形成环。作为Rf1及Rf2所表示的取代基,可举出卤素原子、氰基、硝基、烷基、芳基、杂芳基、-ORf11、-CORf12、-COORf13、-OCORf14、-NRf15Rf16、-NHCORf17、-CONRf18Rf19、-NHCONRf20Rf21、-NHCOORf22、-SRf23、-SO2Rf24、-SO2ORf25、-NHSO2Rf26或-SO2NRf27Rf28。Rf11~Rf28分别独立地表示氢原子、烷基、芳基或杂芳基。
聚合性单体的聚合性基值优选为2mmol/g以上,更优选为6mmol/g以上,进一步优选为10mmol/g以上。上限优选为20mmol/g以下。若聚合性单体的聚合性基值为2mmol/g以上,则感光性组合物的固化性良好。另外,聚合性单体的聚合性基值通过将聚合性单体的1分子中所包含的聚合性基的数除以聚合性单体的分子量来计算。
并且,聚合性单体为具有烯属不饱和键基的化合物的情况下,聚合性单体的烯属不饱和键基值(以下,称为C=C值)优选为2mmol/g以上,更优选为6mmol/g以上,进一步优选为10mol/g以上。上限优选为13mmol/g以下。通过将自由基聚合性单体的1分子中所包含的烯属不饱和键基的数除以聚合性单体的分子量来计算了自由基聚合性单体的C=C值。
(自由基聚合性单体)
作为自由基聚合性单体,优选具有2个以上的烯属不饱和键基的化合物(2官能以上的化合物),更优选具有2~15个烯属不饱和键基的化合物(2~15官能的化合物),更优选具有2~10个烯属不饱和键基的化合物(2~10官能的化合物),尤其优选具有2~6个烯属不饱和键基的化合物(2~6官能的化合物)。具体而言,自由基聚合性单体优选为2官能以上的(甲基)丙烯酸酯化合物,更优选为2~15官能的(甲基)丙烯酸酯化合物,进一步优选为2~10官能的(甲基)丙烯酸酯化合物,尤其优选为2~6官能的(甲基)丙烯酸酯化合物。作为具体例,可举出日本特开2009-288705号公报的0095~0108段、日本特开2013-029760号公报的0227段、日本特开2008-292970号公报的0254~0257段中所记载的化合物,这些内容援用于本说明中。
自由基聚合性单体优选为具有芴骨架的自由基聚合性单体,更优选为具有由上述的式(Fr)表示的部分结构的自由基聚合性单体。并且,具有芴骨架的自由基聚合性单体优选为具有2个以上的烯属不饱和键基的化合物,更优选为具有2~15个烯属不饱和键基的化合物,更优选为具有2~10个烯属不饱和键基的化合物,尤其优选为具有2~6个烯属不饱和键基的化合物。作为具有芴骨架的自由基聚合性单体的具体例,可举出下述结构的化合物。并且,作为具有芴骨架的自由基聚合性单体的市售品,可举出OGSOL EA-0200、EA-0300(Osaka Gas Chemicals Co.,Ltd.制造、具有芴骨架的(甲基)丙烯酸酯单体)等。
[化学式6]
自由基聚合性单体也能够优选地使用由下述式(MO-1)~(MO-6)表示的化合物。另外,式中,T为氧化烯基的情况下,碳原子侧的末端与R键合。
[化学式7]
上述式中,n为0~14,m为1~8。在一分子内存在的多个R、T分别可以相同,也可以不同。
分别由上述式(MO-1)~(MO-6)表示的化合物中,多个R内的至少1个表示-OC(=O)CH=CH2、-OC(=O)C(CH3)=CH2、-NHC(=O)CH=CH2或-NHC(=O)C(CH3)=CH2
作为由上述式(MO-1)~(MO-6)表示的聚合性化合物的具体例,可举出日本特开2007-269779号公报的0248~0251段中所记载的化合物。
自由基聚合性单体还优选使用具有己内酯结构的化合物。具有己内酯结构的化合物优选由下述式(Z-1)表示的化合物。
[化学式8]
式(Z-1)中,6个R均为由式(Z-2)表示的基团或6个R中的1~5个是由式(Z-2)表示的基团,剩余为由式(Z-3)表示的基团、酸基或羟基。
[化学式9]
式(Z-2)中,R1表示氢原子或甲基,m表示1或2的数,“*”表示键合键。
[化学式10]
式(Z-3)中,R1表示氢原子或甲基,“*”表示键合键。
作为自由基聚合性单体,也能够使用由式(Z-4)或(Z-5)表示的化合物。
[化学式11]
式(Z-4)及(Z-5)中,E分别独立地表示-((CH2)yCH2O)-或-((CH2)yCH(CH3)O)-,y分别独立地表示0~10的整数,X分别独立地表示(甲基)丙烯酰基、氢原子或羧基。式(Z-4)中,(甲基)丙烯酰基的合计为3个或4个,m分别独立地表示0~10的整数,各m的合计为0~40的整数。式(Z-5)中,(甲基)丙烯酰基的合计为5个或6个,n分别独立地表示0~10的整数,各n的合计为0~60的整数。
式(Z-4)中,m优选0~6的整数,更优选0~4的整数。并且,各m的合计优选2~40的整数,更优选2~16的整数,尤其优选4~8的整数。
式(Z-5)中,n优选0~6的整数,更优选0~4的整数。并且,各n的合计优选3~60的整数,更优选3~24的整数,尤其优选6~12的整数。
并且,式(Z-4)或式(Z-5)中的-((CH2)yCH2O)-或-((CH2)yCH(CH3)O)-优选氧原子侧的末端与X键合的形态。
本发明中,作为自由基聚合性单体,优选并用具有芴骨架的自由基聚合性单体(优选具有芴骨架的2~15官能的自由基聚合性单体,更优选具有芴骨架的2~10官能的自由基聚合性单体,进一步优选具有芴骨架的2~6官能的自由基聚合性单体,尤其优选具有芴骨架的2官能的自由基聚合性单体)及不具有芴骨架的自由基聚合性单体(优选3官能以上的自由基聚合性单体,更优选3~15官能的自由基聚合性单体)。根据该方式,容易有效地反应聚合性单体,且容易得到更优异的固化性。
(阳离子聚合性单体)
阳离子聚合性单体优选为具有2个以上的环状醚基的化合物(2官能以上的化合物),更优选为具有2~15个环状醚基的化合物(2~15官能的化合物),更优选为具有2~10个环状醚基的化合物(2~10官能的化合物),尤其优选为具有2~6个环状醚基的化合物(2~6官能的化合物)。作为具体例,也能够使用日本特开2013-011869号公报的0034~0036段、日本特开2014-089408号公报的0085~0090段中所记载的化合物。这些内容援用于本说明中。
作为阳离子聚合性单体,可举出由下述式(EP1)表示的化合物。
[化学式12]
式(EP1)中,REP1~REP3分别表示氢原子、卤素原子、烷基,烷基可以具有环状结构,并且,也可以具有取代基。并且,REP1与REP2、REP2与REP3可以彼此键合而形成环结构。QEP表示单键或nEP价的有机基团。REP1~REP3可以与QEP键合而形成环结构。nEP表示2以上的整数,优选为2~10,更优选为2~6。其中,QEP为单键的情况下,nEP为2。关于REP1~REP3、QEP的详细内容,能够参考日本特开2014-089408号公报的0087~0088段的记载,该内容被编入到本说明书中。作为由式(EP1)表示的化合物的具体例,可举出日本特开2014-089408号公报的0090段中所记载的化合物、日本特开2010-054632号公报的0151段中所记载的化合物,这些内容被编入到本说明书中。
作为阳离子聚合性单体的市售品,可举出ADEKA CORPORATION制ADEKA Glycyrol系列(例如,ADEKA Glycyrol ED-505等)、Daicel Corporation制EPOLEAD系列(例如,EPOLEAD GT401等)等。
感光性组合物的总固体成分中的聚合性单体的含量优选为13质量%以下,更优选为10质量%以下,进一步优选为8质量%以下,进一步优选为6质量%以下。从固化性的观点考虑,下限优选1质量%以上,更优选2质量%以上,进一步优选3质量%以上。
并且,聚合性单体与光聚合引发剂的合计量中的聚合性单体的含量优选为50质量%以上,更优选为60质量%以上,进一步优选为70质量%以上。上限能够设为100质量%,但是从显影性及固化性的观点考虑,优选95质量%以下,更优选90质量%以下,进一步优选85质量%以下,尤其优选80质量%以下。
并且,聚合性单体的含量相对于色材100质量份优选为20质量份以下,更优选为10质量份以下,进一步优选为5质量份以下。并且,下限优选为1质量份以上。
<<光聚合引发剂>>
本发明的感光性组合物优选包含光聚合引发剂。作为光聚合引发剂,可举出光自由基聚合引发剂、光阳离子聚合引发剂等,优选根据聚合性单体的种类选择而使用。作为聚合性单体使用了自由基聚合性单体的情况下,作为光聚合引发剂优选使用光自由基聚合引发剂。并且,作为聚合性单体使用了阳离子聚合性单体的情况下,作为光聚合引发剂优选使用光阳离子聚合引发剂。光聚合引发剂优选在波长300nm以下的光进行反应而产生活性种的化合物,优选为在波长300nm以下的光进行反应而产生自由基的化合物。
光聚合引发剂还优选相对于波长265nm的光的量子产率为15%以上的化合物。本说明书中,光聚合引发剂的量子产率是通过将分解分子数除以吸收光子数来求出的值。关于吸收光子数,通过从KrF射线近似光源(波长:265nm、强度:3mW)下的曝光时间求出照射光子数,并将曝光前后的265nm的吸光度的平均换算成透射率,对照射光子数乘以(1-透射率)来求出了吸收光子数。关于分解分子数,通过从曝光后的光聚合引发剂的吸光度求出光聚合引发剂的分解率,对分解率乘以膜中的存在分子数,由此求出了分解分子数。作为相对于波长265nm的光的量子产率为15%以上的化合物,可举出IRGACURE-OXE01、OXE02、OXE03(以上为BASF公司制造)等。
光聚合引发剂优选包含选自烷基苯酮化合物、酰基膦化合物、二苯甲酮化合物、噻吨酮化合物、三嗪化合物及肟化合物中的至少1种化合物,更优选包含肟化合物。
作为烷基苯酮化合物,可举出苄基二甲基缩酮化合物、α-羟基烷基苯酮化合物、α-氨基烷基苯酮化合物等。
作为苄基二甲基缩酮化合物,可举出2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮等。作为市售品,可举出IRGACURE-651(BASF公司制造)等。
作为α-羟基烷基苯酮化合物,可举出1-羟基-环己基-苯基-酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮、1-[4-(2-羟基乙氧基)-苯基]-2-羟基-2-甲基-1-丙烷-1-酮、2-羟基-1-{4-[4-(2-羟基-2-甲基-丙酰基)-苄基]苯基}-2-甲基-丙烷-1-酮等。作为α-羟基烷基苯酮化合物的市售品,可举出IRGACURE-184、DAROCUR-1173、IRGACURE-500、IRGACURE-2959、IRGACURE-127(以上为BASF公司制造)等。
作为α-氨基烷基苯酮化合物,可举出2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉基丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉基苯基)-1-丁酮、2-二甲基氨基-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-吗啉基)苯基]-1-丁酮等。作为α-氨基烷基苯酮化合物的市售品,可举出IRGACURE-907、IRGACURE-369及IRGACURE-379(以上为BASF公司制造)等。
作为酰基膦化合物,可举出2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基-氧化膦、双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)-苯基氧化膦等。作为酰基膦化合物的市售品,可举出IRGACURE-819、IRGACURE-TPO(以上为BASF公司制造)等。
作为二苯甲酮化合物,可举出二苯甲酮、邻苯甲酰基苯甲酸甲酯、4-苯基二苯甲酮、4-苯甲酰基-4'-甲基二苯基硫醚、3,3',4,4'-四(叔丁基过氧羟基)二苯甲酮、2,4,6-三甲基二苯甲酮等。
作为噻吨酮化合物,可举出2-异丙基-噻吨酮、4-异丙基-噻吨酮、2,4-二乙基-噻吨酮、2,4-二氯-噻吨酮、1-氯-4-丙氧基-噻吨酮等。
作为三嗪化合物,可举出2,4-双(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯基)-1,3,5-三嗪、2,4-双(三氯甲基)-6-(4-甲氧基萘基)-1,3,5-三嗪、2,4-双(三氯甲基)-6-胡椒基-1,3,5-三嗪、2,4-双(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯基)-1,3,5-三嗪、2,4-双(三氯甲基)-6-[2-(5-甲基呋喃-2-基)乙烯基]-1,3,5-三嗪、2,4-双(三氯甲基)-6-[2-(呋喃-2-基)乙烯基]-1,3,5-三嗪、2,4-双(三氯甲基)-6-[2-(4-二乙胺基-2-甲基苯基)乙烯基]-1,3,5-三嗪、2,4-双(三氯甲基)-6-[2-(3,4-二甲氧基苯基)乙烯基]-1,3,5-三嗪等。
作为肟化合物,可举出日本特开2001-233842号公报中所记载的化合物、日本特开2000-080068号公报中所记载的化合物、日本特开2006-342166号公报中所记载的化合物、J.C.S.Perkin II(1979年、pp.1653-1660)中所记载的化合物、J.C.S.Perkin II(1979年、pp.156-162)中所记载的化合物、Journal of Photopolymer Science and Technology(1995年、pp.202-232)中所记载的化合物、日本特开2000-066385号公报中所记载的化合物、日本特开2000-080068号公报中所记载的化合物、日本特表2004-534797号公报中所记载的化合物、日本特开2006-342166号公报中所记载的化合物、日本特开2017-019766号公报中所记载的化合物、日本专利第6065596号公报中所记载的化合物、国际公开WO2015/152153号公报中所记载的化合物、国际公开WO2017/051680号公报中所记载的化合物等。作为肟化合物的具体例,例如可举出3-苯甲酰氧基亚氨基丁烷-2-酮、3-乙酰氧基亚氨基丁烷-2-酮、3-丙酰氧基亚氨基丁烷-2-酮、2-乙酰氧基亚氨基戊烷-3-酮、2-乙酰氧基亚氨基-1-苯基丙烷-1-酮、2-苯甲酰氧基亚氨基-1-苯基丙烷-1-酮、3-(4-甲苯磺酰氧基)亚氨基丁烷-2-酮及2-乙氧基羰氧基亚氨基-1-苯基丙烷-1-酮等。作为肟化合物的市售品,可举出IRGACURE-OXE01、IRGACURE-OXE02、IRGACURE-OXE03、IRGACURE-OXE04(以上为BASF公司制造)、TR-PBG-304(CHANGZHOU TRONLY NEW ELECTRONIC MATERIALS CO.,LTD制造)、ADECAOPTOMER N-1919(ADEKA CORPORATION制,日本特开2012-014052号公报中所记载的光聚合引发剂2)。并且,肟化合物还优选使用没有着色性的化合物、透明性高且不易使其他成分变色的化合物。作为市售品,可举出ADEKA ARKLS NCI-730、NCI-831、NCI-930(以上为ADEKACORPORATION制造)等。
在本发明中,作为光聚合引发剂,还能够使用具有芴环的肟化合物。作为具有芴环的肟化合物的具体例,可举出日本特开2014-137466号公报中所记载的化合物。该内容援用于本说明中。
在本发明中,作为光聚合引发剂,还能够使用具有氟原子的肟化合物。作为具有氟原子的肟化合物的具体例,可举出日本特开2010-262028号公报中所记载的化合物、日本特表2014-500852号公报中所记载的化合物24、36~40、日本特开2013-164471号公报中所记载的化合物(C-3)等。该内容援用于本说明中。
在本发明中,作为光聚合引发剂,能够使用具有硝基的肟化合物。具有硝基的肟化合物优选设为二聚体。作为具有硝基的肟化合物的具体例,可举出日本特开2013-114249号公报的0031~0047段、日本特开2014-137466号公报的0008~0012段、0070~0079段中所记载的化合物、日本专利4223071号公报的0007~0025段中所记载的化合物、ADEKA ARKLSNCI-831(ADEKA CORPORATION制造)。
在本发明中,作为光聚合引发剂,还能够使用具有苯并呋喃骨架的肟化合物。作为具体例,可举出国际公开WO2015/036910号公报中所记载的OE-01~OE-75。
以下示出本发明中优选使用的肟化合物的具体例,但本发明并不限定于这些。
[化学式13]
[化学式14]
本发明中,作为光聚合引发剂还可以使用2官能或3官能以上的光聚合引发剂。通过使用这些光聚合引发剂,从光聚合引发剂的1分子产生2个以上的自由基等活性种,因此可得到良好的灵敏度。并且,使用了非对称结构的化合物的情况下,结晶性降低且提高溶剂等中的溶解性,经时难以析出,并能够提高感光性组合物的经时稳定性。作为2官能或3官能以上的光聚合引发剂的具体例,可举出日本特表2010-527339号公报、日本特表2011-524436号公报、国际公开WO2015/004565号公报、日本特表2016-532675号公报的0412~0417段、国际公开WO2017/033680号公报的0039~0055段中所记载的肟化合物的二聚体、日本特表2013-522445号公报中所记载的化合物(E)及化合物(G)、国际公开WO2016/034963号公报中所记载的Cmpd1~7、日本特表2017-523465号公报的0007段中所记载的肟酯类光引发剂、日本特开2017-167399号公报的0020~0033段中所记载的光引发剂、日本特开2017-151342号公报的0017~0026段中所记载的光聚合引发剂(A)等。
并且,本发明中,作为光聚合引发剂还能够使用频哪醇化合物。作为频哪醇化合物,可举出苯并频哪醇、1,2-二甲氧基-1,1,2,2-四苯基乙烷、1,2-二乙氧基-1,1,2,2-四苯基乙烷、1,2-二苯氧基-1,1,2,2-四苯基乙烷、1,2-二甲氧基-1,1,2,2-四(4-甲基苯基)乙烷、1,2-二苯氧基-1,1,2,2-四(4-甲氧基苯基)乙烷、1,2-双(三甲基硅烷氧基)-1,1,2,2-四苯基乙烷、1,2-双(三乙基硅烷氧基)-1,1,2,2-四苯基乙烷、1,2-双(叔丁基二甲基硅烷氧基)-1,1,2,2-四苯基乙烷、1-羟基-2-三甲基硅烷氧基-1,1,2,2-四苯基乙烷、1-羟基-2-三乙基硅烷氧基-1,1,2,2-四苯基乙烷、1-羟基-2-叔丁基二甲基硅烷氧基-1,1,2,2-四苯基乙烷等。并且,关于频哪醇化合物,能够参考日本特表2014-521772号公报、日本特表2014-523939号公报及日本特表2014-521772号公报的记载,这些内容援用于本说明中。
从容易抑制图案粗细的理由考虑,感光性组合物的总固体成分中的光聚合引发剂的含量优选5质量%以下,更优选4质量%以下,进一步优选3质量%以下。从固化性的观点考虑,下限优选0.1质量%以上,更优选0.3质量%以上,进一步优选0.5质量%以上。并且,从容易抑制图案粗细的理由考虑,光聚合引发剂的含量相对于色材100质量份优选为5质量份以下,更优选为3.5质量份以下,进一步优选为2质量份以下。从固化性的观点考虑,下限优选0.5质量份以上,更优选1质量份以上。本发明的感光性组合物并用2种以上的光聚合引发剂的情况下,优选这些合计量在上述范围内。
并且,本发明的感光性组合物还能够实质上不包含光聚合引发剂。本发明的感光性组合物实质上不包含光聚合引发剂的情况是指感光性组合物的总固体成分中的光聚合引发剂的含量为0.1质量%以下,优选为0.05质量%以下,更优选不包含。
<<树脂>>
本发明的感光性组合物能够含有树脂。另外,本发明中树脂是指色材以外的有机化合物且分子量为2000以上的有机化合物。树脂以例如在组合物中分散颜料等粒子的用途或粘合剂的用途来掺合。另外,将主要用于分散颜料等粒子的树脂也称为分散剂。但是,树脂的这种用途为一例,还能够以该种用途以外的目的使用。
树脂的重均分子量(Mw)优选2000~2000000。上限优选1000000以下,更优选500000以下。下限优选3000以上,更优选5000以上。
作为树脂,可举出(甲基)丙烯酸树脂、环氧树脂、烯-硫醇树脂、聚碳酸酯树脂、聚醚树脂、聚芳酯树脂、聚砜树脂、聚醚砜树脂、聚亚苯基树脂、聚亚芳基醚氧化膦树脂、聚酰亚胺树脂、聚酰胺酰亚胺树脂、聚烯烃树脂、环状烯烃树脂、聚酯树脂、苯乙烯树脂等。可以从这些树脂中单独使用一种,也可以将两种以上混合使用。
作为环氧树脂,例如可举出苯酚化合物的环氧丙基醚化物即环氧树脂、各种酚醛清漆树脂的环氧丙基醚化物即环氧树脂、脂环式环氧树脂、脂肪族系环氧树脂、杂环式环氧树脂、环氧丙基酯系环氧树脂、环氧丙基胺系环氧树脂、对卤化苯酚类进行环氧丙基化的环氧树脂、具有环氧基的硅化合物与除此以外的硅化合物的缩合物、具有环氧基的聚合性不饱和化合物与除此以外的其他聚合性不饱和化合物的共聚物等。环氧树脂的环氧当量优选310~3300g/eq,更优选310~1700g/eq,进一步优选310~1000g/eq。作为环氧树脂的市售品,例如可举出EHPE3150(Daicel Corporation制造)、EPICLON N-695(DIC Corporation制造)、Marproof G-0150M、G-0105SA、G-0130SP、G-0250SP、G-1005S、G-1005SA、G-1010S、G-2050M、G-01100、G-01758(以上为NOF CORPORATION制造,含环氧基的聚合物)等。关于环氧树脂,能够使用日本特开2014-043556号公报的0153~0155段、日本特开2014-089408号公报的0092段中所记载的环氧树脂,这些内容援用于本说明中。
作为环状烯烃树脂,从提高耐热性的观点而言,能够优选使用降冰片烯树脂。作为降冰片烯树脂的市售品,例如可举出JSR Corporation制造的ARTON系列(例如,ARTONF4520)等。
并且,树脂也能够使用国际公开WO2016/088645号公报的实施例中所记载的树脂、日本特开2017-057265号公报中所记载的树脂、日本特开2017-032685号公报中所记载的树脂、日本特开2017-075248号公报中所记载的树脂、日本特开2017-066240号公报中所记载的树脂,这些内容援用于本说明中。并且,作为聚合性聚合物,还能够使用具有芴骨架的树脂。作为具有芴骨架的树脂,可举出下述结构的树脂。以下的结构式中,A为选自均苯四甲酸二酐、二苯基酮四羧酸二酐、联苯四羧酸二酐及二苯基醚四羧酸二酐的羧酸二酐的残基,M为苯基或苄基。关于具有芴骨架的树脂,能够参考美国专利申请公开第2017/0102610号公报的记载,该内容援用于本说明中。
[化学式15]
本发明中,作为树脂优选使用具有酸基的树脂。根据该方式,能够提高感光性组合物的显影性,从而容易形成矩形性优异的像素。作为酸基,可举出羧基、磷酸基、磺酸基、酚性羟基等,优选羧基。具有酸基的树脂例如能够用作碱可溶性树脂。
具有酸基的树脂优选包含在侧链具有酸基的重复单元,更优选在树脂的总重复单元中包含5~70摩尔%的在侧链具有酸基的重复单元。在侧链具有酸基的重复单元的含量的上限优选为50摩尔%以下,更优选为30摩尔%以下。在侧链具有酸基的重复单元的含量的下限优选为10摩尔%以上,更优选为20摩尔%以上。
具有酸基的树脂优选为包含在侧链具有羧基的重复单元的树脂。作为具体例,可举出甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸共聚物、衣康酸共聚物、巴豆酸共聚物、马来酸共聚物、部分酯化马来酸共聚物、酚醛清漆树脂等碱可溶性酚醛树脂、在侧链具有羧基的酸性纤维素衍生物、在具有羟基的聚合物中使酸酐加成而得到的树脂。尤其,(甲基)丙烯酸和能够与其共聚合的其他单体的共聚物优选地作为碱可溶性树脂。作为能够与(甲基)丙烯酸共聚合的其他单体,可举出(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸芳基酯、乙烯基化合物等。作为(甲基)丙烯酸烷基酯及(甲基)丙烯酸芳基酯,可举出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸甲苯酯、(甲基)丙烯酸萘酯、(甲基)丙烯酸环己酯等,作为乙烯基化合物,可举出苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、丙烯腈、乙酸乙烯酯、N-乙烯基吡咯烷酮、甲基丙烯酸四氢糠基酯、聚苯乙烯大分子单体、聚甲基丙烯酸甲酯大分子单体等。并且,其他单体也能够使用日本特开平10-300922号公报中所记载的N位取代马来酰亚胺单体,例如N-苯基马来酰亚胺、N-环己基马来酰亚胺等。能够与这些(甲基)丙烯酸共聚合的其他单体可以仅为一种,也可以是两种以上。关于具有酸基的树脂,能够参考日本特开2012-208494号公报的0558~0571段(相当于美国专利申请公开第2012/0235099号说明书的0685~0700段)的记载、日本特开2012-198408号公报的0076~0099段的记载,这些内容被编入到本说明书中。并且,具有酸基的树脂也能够使用市售品。例如,可举出Acrybase FF-426(FUJIKURAKASEI CO.,LTD.制造)等。
具有酸基的树脂的酸值优选30~200mgKOH/g。下限优选50mgKOH/g以上,更优选70mgKOH/g以上,进一步优选100mgKOH/g以上。上限优选180mgKOH/g以下,更优选150mgKOH/g以下。
本发明中,作为树脂优选使用具有聚合性基的树脂。根据该方式,容易形成矩形性及与支撑体的密合性更加优异的像素。作为聚合性基,可举出乙烯基、(甲基)烯丙基、(甲基)丙烯酰基等烯属不饱和键基,优选(甲基)丙烯酰基。
具有聚合性基的树脂的重均分子量优选5000~20000。上限优选17000以下,更优选14000以下。下限优选7000以上,更优选9000以上。若具有聚合性基的树脂的重均分子量在上述范围内,则容易形成显影性良好且矩形性良好的像素。
具有聚合性基的树脂的聚合性基值优选为0.5~3mmol/g。上限优选为2.5mmol/g以下,更优选为2mmol/g以下。下限优选为0.9mmol/g以上,更优选为1.2mmol/g以上。另外,树脂的聚合性基值为表示每1g树脂的固体成分的聚合性基值的摩尔量的数值。并且,具有聚合性基的树脂的C=C值优选为0.6~2.8mmol/g。上限优选为2.3mmol/g以下,更优选为1.8mmol/g以下。下限优选为1.0mmol/g以上,更优选为1.3mmol/g以上。另外,树脂的C=C值为表示每1g树脂的固体成分的烯属不饱和键基的摩尔量的数值。
具有聚合性基的树脂优选包含在侧链具有聚合性基(优选乙烯性不饱和键基)的重复单元,更优选在树脂的总重复单元中包含5~80摩尔%的在侧链具有聚合性基的重复单元。在侧链具有聚合性基的重复单元的含量的上限优选为60摩尔%以下,更优选为40摩尔%以下。在侧链具有聚合性基的重复单元的含量的下限优选为15摩尔%以上,更优选为25摩尔%以上。
具有聚合性基的树脂还优选进一步包含在侧链具有酸基的重复单元。根据该方式,更容易形成矩形性优异的像素。在树脂的总重复单元中,在侧链具有酸基的重复单元的含量优选10~60摩尔%。上限优选为40摩尔%以下,更优选为25摩尔%以下。下限优选为10摩尔%以上,更优选为20摩尔%以上。
本发明中所使用的树脂还优选包含如下重复单元,该重复单元源自包含由下述式(ED1)表示的化合物和/或由下述式(ED2)表示的化合物(以下,有时将这些化合物也称为“醚二聚体”。)的单体成分。
[化学式16]
式(ED1)中,R1及R2分别独立地表示氢原子或也可以具有取代基的碳原子数1~25的烃基。
[化学式17]
式(ED2)中,R表示氢原子或碳原子数1~30的有机基团。关于式(ED2)的详细内容,能够参考日本特开2010-168539号公报的记载,该内容被编入到本说明书中。
作为醚二聚体的具体例,例如能够参考日本特开2013-029760号公报的0317段,该内容被编入到本说明书中。
本发明中所使用的树脂还优选包含源自由下述式(X)表示的化合物的重复单元。
[化学式18]
式(X)中,R1表示氢原子或甲基,R2表示碳原子数2~10的亚烷基,R3表示氢原子或可以包含苯环的碳原子数1~20的烷基。n表示1~15的整数。
作为具有酸基和/或聚合性基的树脂,例如可举出下述结构的树脂等。以下的结构式中,Me表示甲基。
[化学式19]
本发明的感光性组合物也能够包含作为分散剂的树脂。分散剂可举出酸性分散剂(酸性树脂)、碱性分散剂(碱性树脂)。在此,酸性分散剂(酸性树脂)表示酸基的量多于碱性基的量的树脂。酸性分散剂(酸性树脂)优选将酸基的量与碱性基的量的总量设为100摩尔%时酸基的量占据70摩尔%以上的树脂,更优选实质上仅包含酸基的树脂。酸性分散剂(酸性树脂)所具有的酸基优选羧基。酸性分散剂(酸性树脂)的酸值优选40~105mgKOH/g,更优选50~105mgKOH/g,进一步优选60~105mgKOH/g。并且,碱性分散剂(碱性树脂)表示碱性基的量多于酸基的量的树脂。碱性分散剂(碱性树脂)优选将酸基的量与碱性基的量的总量设为100摩尔%时碱性基的量超过50摩尔%的树脂。碱性分散剂所具有的碱性基优选氨基。
用作分散剂的树脂优选包含具有酸基的重复单元。通过用作分散剂的树脂包含具有酸基的重复单元,能够作为显影性优异的感光性组合物,且在通过光微影法形成像素时,能够有效地抑制产生显影残渣等。
用作分散剂的树脂还优选接枝共聚物。接枝共聚物通过接枝链而具有与溶剂的亲和性,因此颜料的分散性及经时后的分散稳定性优异。接枝共聚物的详细内容能够参考日本特开2012-255128号公报的0025~0094段的记载,该内容被编入到本说明书中。并且,作为接枝共聚物的具体例可举出下述树脂。以下树脂也是具有酸基的树脂(碱可溶性树脂)。并且,作为接枝共聚物,可举出日本特开2012-255128号公报的0072~0094段中所记载的树脂,该内容被编入到本说明书中。
[化学式20]
并且,本发明中,作为树脂(分散剂)还优选使用在主链及侧链中的至少一个中包含氮原子的寡聚亚胺系分散剂。作为寡聚亚胺系分散剂,优选具有如下结构单元和包含原子数40~10,000的侧链Y的侧链,并且在主链及侧链中的至少一个中具有碱性氮原子的树脂,该结构单元含有具有pKa14以下的官能团的部分结构X。碱性氮原子只要是呈碱性的氮原子,则并没有特别限制。关于寡聚亚胺系分散剂,能够参考日本特开2012-255128号公报的0102~0166段的记载,该内容被编入到本说明书中。作为寡聚亚胺系分散剂,能够使用下述结构的树脂或日本特开2012-255128号公报的0168~0174段中所记载的树脂。
并且,用作分散剂的树脂还优选为包含在侧链具有烯属不饱和键基的重复单元的树脂。在侧链具有烯属不饱和键基的重复单元的含量在树脂的总重复单元中优选为10摩尔%以上,更优选为10~80摩尔%,进一步优选为20~70摩尔%。
分散剂还能够作为市售品而获得,作为这种具体例,可举出Disperbyk-111、161(BYK Chemie GmbH制造)等。并且,也能够使用日本特开2014-130338号公报的0041~0130段中所记载的颜料分散剂,该内容被编入到本说明书中。并且,也能够将上述具有酸基的树脂等用作分散剂。
感光性组合物的总固体成分中的树脂的含量优选5~25质量%。从制膜性的观点考虑,下限优选7质量%以上,更优选9质量%以上,进一步优选11质量%以上。从液体的适性粘度的观点考虑,上限优选22质量%以下,更优选19质量%以下,进一步优选16质量%以下。
并且,感光性组合物的总固体成分中的具有酸基的树脂的含量优选3~23质量%。从显影性的观点考虑,下限优选4质量%以上,更优选6质量%以上,进一步优选8质量%以上。从膜的耐显影性的观点考虑,上限优选21质量%以下,更优选18质量%以下,进一步优选15质量%以下。
并且,从显影性的观点考虑,树脂总量中的具有酸基的树脂的含量优选50质量%以上,更优选70质量%以上,进一步优选80质量%以上。上限能够设为100质量%,也能够设为95质量%,也能够设为90质量%以下。
并且,感光性组合物的总固体成分中的聚合性单体与树脂的合计含量优选10~40质量%。从固化性的观点考虑,下限优选13质量%以上,更优选16质量%以上,进一步优选19质量%以上。上限优选37质量%以下,更优选34质量%以下,进一步优选31质量%以下。并且,相对于聚合性聚合物的100质量份,优选含有25~400质量份的树脂。从兼顾固化性及显影性的观点考虑,下限优选50质量份以上,更优选75质量份以上。从液体的适合粘度的观点考虑,上限优选300质量份以下,更优选200质量份以下。
<<硅烷偶联剂>>
本发明的感光性组合物能够含有硅烷偶联剂。根据该方式,能够提高所得到的膜与支撑体的密合性。本发明中,偶联剂是指具有水解性基和其以外的官能团的硅烷化合物。并且,水解性基是指与硅原子直接连接且能够通过进行水解反应及缩合反应中的至少任意一种反应而产生硅氧烷键的取代基。作为水解性基,例如可举出卤素原子、烷氧基、酰氧基等,优选烷氧基。即,硅烷偶联剂优选具有烷氧基硅基的化合物。并且,作为除了水解性以外的官能团,例如可举出乙烯基、(甲基)烯丙基、(甲基)丙烯酰基、巯基、环氧基、氧杂环丁基、氨基、脲基、硫醚基、异氰酸酯基、苯基等,优选氨基、(甲基)丙烯酰基及环氧基。作为硅烷偶联剂的具体例,可举出日本特开2009-288703号公报的0018~0036段中所记载的化合物、日本特开2009-242604号公报的0056~0066段中所记载的化合物,这些内容被编入到本说明书中。
硅烷偶联剂在感光性组合物的总固体成分的含量优选0.1~5质量%。上限优选3质量%以下,更优选2质量%以下。下限优选0.5质量%以上,更优选1质量%以上。硅烷偶联剂可以仅为一种,也可以是两种以上。两种以上的情况下,优选总量成为上述范围。
<<颜料衍生物>>
本发明的感光性组合物还能够包含颜料衍生物。作为颜料衍生物,可举出具有将颜料的一部分经酸基、碱性基、具有盐结构的基团或酞酰亚胺甲基取代的结构的化合物。作为颜料衍生物,优选由式(B1)表示的化合物。
[化学式21]
式(B1)中,P表示色素结构,L表示单键或连结基,X表示酸基、碱性基、具有盐结构的基团或酞酰亚胺甲基,m表示1以上的整数,n表示1以上的整数,当m为2以上时,多个L及X可以互不相同,当n为2以上时,多个X可以互不相同。
作为P所表示的色素结构,优选选自吡咯并吡咯色素结构、二酮吡咯并吡咯色素结构、喹吖啶酮色素结构、蒽醌色素结构、二蒽醌色素结构、苯并异吲哚色素结构、噻嗪靛蓝色素结构、偶氮色素结构、喹酞酮色素结构、酞菁色素结构、萘酞菁色素结构、二噁嗪色素结构、苝色素结构、紫环酮色素结构、苯并咪唑酮色素结构、苯并噻唑色素结构、苯并咪唑色素结构及苯并噁唑色素结构中的至少一种,更优选选自吡咯并吡咯色素结构、二酮吡咯并吡咯色素结构、喹吖啶酮色素结构及苯并咪唑酮色素结构中的至少一种。
作为L所表示的连接基,可举出烃基、杂环基、-NR-、-SO2-、-S-、-O-、-CO-或由这些组合构成的基团。R表示氢原子、烷基或芳基。
作为X所表示的酸基,可举出羧基、磺酸基、羧酸酰胺基、磺酸酰胺基、酰亚胺酸基等。作为羧酸酰胺基,优选由-NHCORX1表示的基团。作为磺酸酰胺基,优选由-NHSO2RX2表示的基团。作为酰亚胺酸基,优选由-SO2NHSO2RX3、-CONHSO2RX4、-CONHCORX5或-SO2NHCORX6表示的基团。RX1~RX6分别独立地表示烃基或杂环基。RX1~RX6所表示的烃基及杂环基还可以具有取代基。作为进一步的取代基,优选卤素原子,更优选氟原子。作为X所表示的碱性基可举出氨基。作为X所表示的盐结构,可举出上述酸基或碱性基的盐。
作为颜料衍生物,可举出下述结构的化合物。并且,还能够使用日本特开昭56-118462号公报、日本特开昭63-264674号公报、日本特开平01-217077号公报、日本特开平03-009961号公报、日本特开平03-026767号公报、日本特开平03-153780号公报、日本特开平03-045662号公报、日本特开平04-285669号公报、日本特开平06-145546号公报、日本特开平06-212088号公报、日本特开平06-240158号公报、日本特开平10-030063号公报、日本特开平10-195326号公报、国际公开WO2011/024896号公报的0086~0098段、国际公开WO2012/102399号公报的0063~0094段、国际公开WO2017/038252号公报的0082段等中所记载的化合物,该内容被编入到本说明书中。
[化学式22]
颜料衍生物的含量相对于颜料100质量份优选1~50质量份。下限值优选3质量份以上,更优选5质量份以上。上限值优选40质量份以下,更优选30质量份以下。若颜料衍生物的含量在上述范围,则能够提高颜料的分散性而有效地抑制颜料的聚集。颜料衍生物可以仅使用一种,也可以使用两种以上。当使用两种以上时,总量优选成为上述范围。
<<溶剂>>
本发明的感光性组合物能够含有溶剂。作为溶剂,可举出有机溶剂。溶剂只要满足各成分的溶解性或组合物的涂布性,则基本上并没有特别限制。作为有机溶剂的例子,例如可举出酯类、醚类、酮类、芳香族烃类等。关于这些的详细内容,能够参考国际公开WO2015/166779号公报的0223段,该内容被编入到本说明书中。并且,也能够优选地使用环状烷基经取代的酯系溶剂、环状烷基经取代的酮系溶剂。作为有机溶剂的具体例,可举出聚乙二醇单甲醚、二氯甲烷、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙基溶纤剂乙酸酯、乳酸乙酯、二乙二醇二甲醚、乙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、2-庚酮、环己酮、乙酸环己酯、环戊酮、乙基卡必醇乙酸酯、丁基卡必醇乙酸酯、丙二醇单甲醚及丙二醇单甲醚乙酸酯等。本发明中,有机溶剂可以单独使用一种,也可以组合使用两种以上。并且,就提高溶解性的观点而言,还优选3-甲氧基-N,N-二甲基丙酰胺、3-丁氧基-N,N-二甲基丙酰胺。但是,有时出自环境方面等原因,减少作为溶剂的芳香族烃类(苯、甲苯、二甲苯、乙苯等)为宜(例如,相对于有机溶剂总量,能够设为50质量ppm(百万分率(parts per million))以下,也能够设为10质量ppm以下,也能够设为1质量ppm以下)。
本发明中,优选使用金属含量少的溶剂,溶剂的金属含量例如优选为10质量ppb(十亿分率(parts per billion))以下。根据需要也可以使用质量ppt(兆分率(parts pertrillion))级别的溶剂,这种高纯度溶剂例如由TOYO Gosei Co.,Ltd.提供(化学工业日报,2015年11月13日)。
作为从溶剂中去除金属等杂质的方法,例如能够举出蒸馏(分子蒸馏或薄膜蒸馏等)或使用过滤器的过滤。作为过滤中所使用的过滤器的过滤器孔径,优选10μm以下,更优选5μm以下,进一步优选3μm以下。过滤器的材质优选聚四氟乙烯、聚乙烯或尼龙。
溶剂可以包含异构物(原子数相同但结构不同的化合物)。并且,异构物可以仅包含一种,也可以包含多种。
本发明中,有机溶剂中过氧化物的含有率优选0.8mmol/L以下,更优选实质上不包含过氧化物。
溶剂在感光性组合物中的含量优选为10~95质量%,更优选为20~90质量%,进一步优选为30~90质量%。
并且,从环境管制的观点考虑,本发明的感光性组合物优选实质上不包含环境管制物质。另外,本发明中,实质上不包含环境管制物质是指感光性组合物中的环境管制物质的含量为50质量ppm以下,优选为30质量ppm以下,更优选为10质量ppm以下,尤其优选为1质量ppm以下。环境管制物质例如可举出苯;甲苯、二甲苯等烷基苯类;氯苯等卤化苯类等。这些依据REACH(Registration Evaluation Authorization and Restriction ofCHemicals)规则、PRTR(Pollutant Release and Transfer Register)法、VOC(VolatileOrganic Compounds)管制等作为环境管制物质而注册,使用量和操作方法被严格管制。这些化合物在制造本发明的感光性组合物中所使用的各成分等时,有时会用作溶剂,有时作为残留溶剂而混入感光性组合物中。从对人的安全性及考虑对环境的观点而言,优选尽可能减少这些物质。作为减少环境管制物质的方法,可举出对系统内部进行加热或减压来设为环境管制物质的沸点以上并从系统内部对环境管制物质进行蒸馏来减少的方法。并且,对少量的环境管制物质进行蒸馏的情况下,为了提高效率而与具有和该溶剂相等的沸点的溶剂共沸也是有用的。并且,含有具有自由基聚合性的化合物的情况下,为了在减压蒸馏中抑制进行自由基聚合反应而在分子间进行交联,也可以添加聚合抑制剂等而进行减压蒸馏。这些蒸馏方法能够在原料的阶段、使原料进行反应的生成物(例如聚合之后的树脂溶液或多官能单体溶液)的阶段或混合这些化合物来制作的组合物的阶段中的任一阶段中进行。
<<聚合抑制剂>>
本发明的感光性组合物能够含有聚合抑制剂。作为聚合抑制剂,可举出对苯二酚、对甲氧基苯酚、二-叔丁基-对甲酚、邻苯三酚、叔丁基邻苯二酚、苯醌、4,4’-硫代双(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、2,2’-亚甲基双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、N-亚硝基苯基羟基胺盐(铵盐、亚铈盐等)。其中,优选对甲氧基苯酚。聚合抑制剂在感光性组合物的总固体成分中的含量优选0.001~5质量%。
<<表面活性剂>>
本发明的感光性组合物能够含有表面活性剂。作为表面活性剂,能够使用氟系表面活性剂、非离子系表面活性剂、阳离子系表面活性剂、阴离子系表面活性剂、硅系表面活性剂等各种表面活性剂。关于表面活性剂能够参考国际公开WO2015/166779号公报的0238~0245段,该内容被编入到本说明书中。
本发明中,表面活性剂优选氟系表面活性剂。通过在感光性组合物中含有氟系表面活性剂,溶液特性(尤其,流动性)得到进一步提高,能够进一步提高省液性。并且,还能够形成厚度不均匀少的膜。
氟系表面活性剂中的氟含有率优选3~40质量%,更优选5~30质量%,尤其优选7~25质量%。氟含有率在该范围内的氟系表面活性剂在涂布膜的厚度的均匀性或省液性的观点上有效,在组合物中的溶解性也良好。
作为氟系表面活性剂,可举出日本特开2014-041318号公报的0060~0064段(相当于国际公开2014/017669号公报的0060~0064段)等中所记载的表面活性剂、日本特开2011-132503号公报的0117~0132段中所记载的表面活性剂,这些内容被编入到本说明书中。作为氟系表面活性剂的市售品,例如可举出MEGAFACE F171、F172、F173、F176、F177、F141、F142、F143、F144、R30、F437、F475、F479、F482、F554、F780、EXP、MFS-330(以上为DICCorporation制造)、Fluorad FC430、FC431、FC171(以上为Sumitomo 3M Limited制造)、Surflon S-382、SC-101、SC-103、SC-104、SC-105、SC-1068、SC-381、SC-383、S-393、KH-40(以上为AGC.INC.制造)、PolyFox PF636、PF656、PF6320、PF6520、PF7002(以上为OMNOVASolutions Inc.制造)等。
并且,氟系表面活性剂也能够适当地使用丙烯酸系化合物,该丙烯酸系化合物为具有含有氟原子的官能团的分子结构且施加热时含有氟原子的官能团的部分被切断而氟原子被挥发。作为这种氟系表面活性剂,可举出DIC Corporation制造的MEGAFACE DS系列(化学工业日报,2016年2月22日)(日经产业新闻,2016年2月23日),例如MEGAFACE DS-21。
并且,氟系表面活性剂还优选使用具有氟化烷基或氟化亚烷基醚基的含氟原子的乙烯基醚化合物及亲水性乙烯基醚化合物的聚合物。关于这种氟系表面活性剂,能够参考本日本特开2016-216602号公报的记载,该内容被编入到本说明书中。
氟系表面活性剂也能够使用嵌段聚合物。例如可举出日本特开2011-89090号公报中所记载的化合物。氟系表面活性剂也能够优选地使用含氟高分子化合物,该含氟高分子化合物包含源自具有氟原子的(甲基)丙烯酸酯化合物的重复单元和源自具有2个以上(优选5个以上)亚烷氧基(优选亚乙氧基、亚丙氧基)的(甲基)丙烯酸酯化合物的重复单元。下述化合物也可以作为本发明中所使用的氟系表面活性剂而进行例示。
[化学式23]
上述化合物的重均分子量优选为3,000~50,000,例如为14,000。上述化合物中,表示重复单元的比例的%为摩尔%。
并且,氟系表面活性剂也能够使用在侧链具有烯属不饱和键基的含氟聚合物。作为具体例,可举出日本特开2010-164965号公报的0050~0090段及0289~0295段中所记载的化合物,例如DIC Corporation制造的MEGAFACE RS-101、RS-102、RS-718K、RS-72-K等。氟系表面活性剂也能够使用日本特开2015-117327号公报的0015~0158段中所记载的化合物。
作为非离子系表面活性剂,可举出甘油、三羟甲基丙烷、三羟甲基乙烷及它们的乙氧基化物及丙氧基化物(例如,甘油丙氧基化物、甘油乙氧基化物等)、聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯硬脂基醚、聚氧乙烯油基醚、聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯壬基苯基醚、聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬脂酸酯、脱水山梨糖醇脂肪酸酯、Pluronic L10、L31、L61、L62、10R5、17R2、25R2(BASF公司制造)、Tetronic 304、701、704、901、904、150R1(BASF公司制造)、Solsperse 20000(Lubrizol Japan Limited.制造)、NCW-101、NCW-1001、NCW-1002(FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制造)、PIONIN D-6112、D-6112-W、D-6315(Takemoto Oil&Fat Co.,Ltd.制造)、Olfine E1010、Surfynol 104、400、440(NissinChemical Co.,Ltd.制造)等。
作为硅系表面活性剂,例如可举出Toray Silicone DC3PA、Toray SiliconeSH7PA、Toray Silicone DC11PA、Toray Silicone SH21PA、Toray Silicone SH28PA、ToraySilicone SH29PA、Toray Silicone SH30PA、Toray Silicone SH8400(以上为Dow CorningToray Co.,Ltd.制造)、TSF-4440、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4460、TSF-4452(以上为Momentive Performance Materials Inc.制造)、KP-341、KF-6001、KF-6002(以上为Shin-Etsu Chemical Co.,LTD.制造)、BYK307、BYK323、BYK330(以上为BYK-Chemie Corporation制造)等。并且,硅系表面活性剂也能够使用下述结构的化合物。
[化学式24]
表面活性剂在感光性组合物的总固体成分中的含量优选0.001质量%~5.0质量%,更优选0.005~3.0质量%。表面活性剂可以仅为一种,也可以是两种以上。两种以上的情况下,优选总量成为上述范围。
<<紫外线吸收剂>>
本发明的感光性组合物能够含有紫外线吸收剂。紫外线吸收剂能够使用共轭二烯化合物、氨基二烯化合物、水杨酸酯化合物、二苯甲酮化合物、苯并三唑化合物、丙烯腈化合物、羟苯基三嗪化合物、吲哚化合物、三嗪化合物等。关于这些详细内容,能够参考日本特开2012-208374号公报的0052~0072段、日本特开2013-068814号公报的0317~0334段、日本特开2016-162946号公报的0061~0080段的记载,这些内容被编入到本说明书中。作为紫外线吸收剂的具体例,可举出下述结构的化合物等。作为紫外线吸收剂的市售品,例如可举出UV-503(DAITO CHEMICAL CO.,LTD.制造)等。并且,作为苯并三唑化合物,可举出MIYOSHIOIL&FAT CO.,LTD.制造的MYUA系列(化学工业日报,2016年2月1日)。
[化学式25]
紫外线吸收剂在感光性组合物的总固体成分中的含量优选0.01~10质量%,更优选0.01~5质量%。本发明中,紫外线吸收剂可以仅使用一种,也可以使用两种以上。使用两种以上的情况下,优选总量成为上述范围。
<<抗氧化剂>>
本发明的感光性组合物能够含有抗氧化剂。作为抗氧化剂,可举出酚化合物、亚磷酸酯化合物、硫醚化合物等。作为酚化合物,能够使用作为酚系抗氧化剂而已知的任意的酚化合物。作为优选的酚化合物,可举出受阻酚化合物。在与酚性羟基相邻的部位(邻位)优选具有取代基的化合物。作为所述取代基,优选碳原子数1~22的经取代或未经取代的烷基。并且,抗氧化剂还优选在同一分子内具有酚基和亚磷酸酯基的化合物。并且,抗氧化剂也能够适当地使用磷系抗氧化剂。作为磷系抗氧化剂,可举出三[2-[[2,4,8,10-四(1,1-二甲基乙基)二苯并[d,f][1,3,2]二噁磷杂庚英(dioxaphosphepin)-6-基]氧基]乙基]胺、三[2-[(4,6,9,11-四-叔丁基二苯并[d,f][1,3,2]二噁磷杂庚英-2-基)氧基]乙基]胺、双(2,4-二-叔丁基-6-甲基苯酚)亚磷酸乙酯等。作为抗氧化剂的市售品,例如可举出ADKSTAB AO-20、ADKSTAB AO-30、ADKSTAB AO-40、ADKSTAB AO-50、ADKSTAB AO-50F、ADKSTAB AO-60、ADKSTAB AO-60G、ADKSTAB AO-80、ADKSTAB AO-330(以上为ADEKA CORPORATION)等。
抗氧化剂在感光性组合物的总固体成分中的含量优选为0.01~20质量%,更优选为0.3~15质量%。抗氧化剂可以仅使用一种,也可以使用两种以上。使用两种以上的情况下,优选总量成为上述范围。
<<其他成分>>
根据需要,本发明的感光性组合物可以含有增感剂、固化促进剂、填料、热固化促进剂、增塑剂及其他助剂类(例如,导电性粒子、填充剂、消泡剂、阻燃剂、流平剂、剥离促进剂、香料、表面张力调节剂、链转移剂等)。通过适当含有这些成分,能够调整膜物性等性质。这些成分例如能够参考日本特开2012-003225号公报的0183段以后(相当于美国专利申请公开第2013/0034812号说明书的0237段)的记载、日本特开2008-250074号公报的0101~0104段、0107~0109段等的记载,这些内容被编入到本说明书中。并且,根据需要,本发明的感光性组合物也可以含有潜在抗氧化剂。作为潜在抗氧化剂,可举出作为抗氧化剂而发挥功能的部位被保护基保护的化合物且在100~250℃下进行加热或在酸/碱催化剂存在下在80~200℃下进行加热来脱离保护基作为抗氧化剂而发挥功能的化合物。作为潜在抗氧化剂,可举出国际公开WO2014/021023号公报、国际公开WO2017/030005号公报、日本特开2017-008219号公报中所记载的化合物。作为市售品,可举出ADEKA ARKLSGPA-5001(ADEKACORPORATION制造)等。
例如,在通过涂布形成膜的情况下,本发明的感光性组合物的粘度(23℃)优选1~100mPa·s。下限更优选2mPa·s以上,进一步优选3mPa·s以上。上限更优选50mPa·s以下,进一步优选30mPa·s以下,尤其优选15mPa·s以下。
<容纳容器>
作为本发明的感光性组合物的容纳容器,并无特别限定,能够使用公知的容纳容器。并且,作为容纳容器,还优选以抑制杂质混入原材料或组合物中为目的,使用由6种6层的树脂构成容器内壁的多层瓶或将6种树脂设为7层结构的瓶。作为这种容器,例如可举出日本特开2015-123351号公报中所记载的容器。
<感光性组合物的制备方法>
本发明的感光性组合物能够混合所述成分来制备。制备感光性组合物时,可以将总成分同时溶解或分散于溶剂中而制备感光性组合物,也可以根据需要预先制备适当掺合各成分的两种以上的溶液或分散液之后,使用时(涂布时)混合这些作为感光性组合物而制备。
并且,在本发明的感光性组合物包含颜料等的粒子的情况下,优选包含使粒子分散的过程。在使粒子分散的过程中,作为用于粒子的分散的机械力,可举出压缩、挤压、冲击、剪断、气蚀等。作为这些过程的具体例,可举出珠磨、砂磨、辊磨、球磨、涂料搅拌器、微射流、高速叶轮、混砂、喷射流混合、高压湿式微粒化、超声波分散等。并且,在砂磨(珠磨)中的粒子的粉碎中,优选以如下条件处理:通过使用直径较小的微珠,且提高微珠的填充率等来提高粉碎效率。并且,优选在粉碎处理之后通过过滤、离心分离等来去除粗粒子。并且,关于使粒子分散的过程及分散机,能够优选地使用“分散技术大全集、株式会社资讯机构发行,2005年7月15日”或“围绕悬浮液(固体/液体分散体系)的分散技术与工业上的实际应用综合资料集,经营开发中心出版部发行,1978年10月10日”、日本特开2015-157893号公报的0022段中记载的过程及分散机。并且,分散粒子的过程中,盐磨工序中也可以进行粒子的微细化处理。关于盐磨工序中所使用的原材料、设备、处理条件等,例如能够参考日本特开2015-194521号公报、日本特开2012-046629号公报的记载。
制备本发明的感光性组合物时,为了去除异物或降低缺陷等,优选利用过滤器过滤感光性组合物。作为过滤器,只要是从以往用于过滤用途等的过滤器,则能够无特别限制地使用。例如,可举出使用了聚四氟乙烯(PTFE)等氟树脂、尼龙(例如尼龙-6、尼龙-6,6)等聚酰胺系树脂、聚乙烯、聚丙烯(PP)等聚烯烃树脂(包含高密度、超高分子量的聚烯烃树脂)等原材料的过滤器。在这些原材料中,优选聚丙烯(包含高密度聚丙烯)及尼龙。过滤器的孔径为0.01~7.0μm左右为宜,优选0.01~3.0μm左右,进一步优选0.05~0.5μm左右。若过滤器的孔径在上述范围,则能够可靠地去除微细的异物。并且,还优选使用纤维状过滤材料。作为纤维状过滤材料,例如可举出聚丙烯纤维、尼龙纤维、玻璃纤维等。具体而言,可举出ROKI TECHNO CO.,LTD.制SBP型系列(SBP008等)、TPR型系列(TPR002、TPR005等)、SHPX型系列(SHPX003等)的滤芯。当使用过滤器时,可以组合不同的过滤器(例如,第1过滤器和第2过滤器等)。此时,各过滤器中的过滤可以仅为1次,也可以进行2次以上。并且,在上述的范围内也可以组合不同的孔径的过滤器。并且,第1过滤器中的过滤仅对分散液进行,混合其他成分之后,也可以由第2过滤器进行过滤。
<滤光器的制造方法>
接着,对使用本发明的感光性组合物而成的滤光器的制造方法进行说明。作为滤光器的种类,可举出滤色器、红外线透射滤波器等。
本发明中的滤光器的制造方法优选包括如下工序,即,在支撑体上适用上述本发明的感光性组合物来形成感光性组合物层的工序(感光性组合物层形成工序)、对感光性组合物层照射波长300nm以下的光来曝光成图案状的工序(曝光工序)及显影去除未曝光部的感光性组合物层来形成像素的工序(显影工序)。以下对各工序进行说明。
(感光性组合物层形成工序)
在感光性组合物层形成工序中,在支撑体上适用上述的本发明的感光性组合物来形成感光性组合物层。作为支撑体,例如可举出由硅、无碱玻璃、钠玻璃、PYREX(注册商标)玻璃、石英玻璃等的材质构成的基板。并且,还优选使用InGaAs基板等。并且,支撑体上可以形成有电荷耦合元件(CCD)、互补金属氧化物半导体(CMOS)、透明导电膜等。并且,有时在支撑体上形成有将各像素隔离的黑矩阵(black matrix)。并且,支撑体上根据需要为了改善与上部的层的密合性、防止物质的扩散或基板表面的平坦化而可以设置底涂层。
作为在支撑体上应用感光性组合物的方法,能够使用公知的方法。例如,可举出滴加法(滴铸);狭缝涂布法;喷雾法;辊涂法;旋转涂布法(旋涂法);流延涂布法;狭缝旋涂法;预湿法(例如,日本特开2009-145395号公报中所记载的方法);喷墨(例如按需方式、压电方式、热方式)、喷嘴喷射等喷出系印刷、柔版印刷、网版印刷、凹版印刷、逆转偏移印刷、金属遮罩印刷法等各种印刷法;使用模具等的转印法;纳米压印法等。作为基于喷墨的适用方法并没有特别限定,例如可举出“可推广、使用的喷墨-专利中出现的无限可能性-、2005年2月发行、Sumitbe Techon Research Co.,Ltd.”所示的方法(尤其第115~第133页)、或日本特开2003-262716号公报、日本特开2003-185831号公报、日本特开2003-261827号公报、日本特开2012-126830号公报、日本特开2006-169325号公报等中所记载的方法。并且,关于感光性组合物的适用方法,能够使用国际公开WO2017/030174号公报、国际公开WO2017/018419号公报的记载,这些内容编入本说明书中。
在支撑体上适用感光性组合物之后,可以进一步进行干燥(预烘烤)。当进行预烘烤时,预烘烤温度优选150℃以下,更优选120℃以下,进一步优选110℃以下。下限例如能够设为50℃以上,也能够设为80℃以上。预烘烤时间优选10~3000秒钟,更优选40~2500秒钟,进一步优选80~2200秒钟。干燥能够利用加热板、烘箱等来进行。
(曝光工序)
接着,对如上述那样形成的支撑体上的感光性组合物层照射波长300nm以下的光来曝光成图案状。隔着具有预定的遮罩图案的遮罩,对感光性组合物层进行曝光,由此能够将感光性组合物层曝光成图案状。由此,能够固化感光性组合物层的曝光部分。
进行曝光时所使用的光为波长300nm以下的光即可,优选为波长270nm以下的光,更优选为波长250nm以下的光。并且,前述的光优选为波长180nm以上的光。具体而言,可举出KrF射线(波长248nm)、ArF射线(波长193nm)等,从难以切断感光性组合物中所包含的色材等的键合等的理由考虑,优选KrF射线(波长248nm)。并且,优选使用KrF射线扫描曝光机进行曝光。根据该方式,曝光的对准精度良好,容易形成微细的像素。作为光源,可举出准分子激光光源、远紫外线灯等,从能够以高强度的光瞬间曝光且有利于固化性的理由考虑,优选准分子激光光源。
并且,曝光时,也可以连续照射波长300nm以下的光来进行曝光,也可以脉冲照射来进行曝光(脉冲曝光),但是从容易得到更优异的固化性的理由考虑,优选脉冲照射来进行曝光(脉冲曝光)。另外,脉冲曝光是指在短时间(例如,毫秒等级以下)的周期内反复光的照射与暂停来曝光的方式的曝光方法。脉冲曝光的情况下,从容易瞬间大量地产生自由基等活性种的理由考虑,脉冲宽度优选为100纳秒(ns)以下,更优选为50纳秒以下,进一步优选为30纳秒以下。脉冲宽度的下限并无特别限定,但是能够设为1飞秒(fs)以上,也能够设为10飞秒以上。从通过曝光热容易促进热聚合的理由考虑,频率优选为1kHz以上,更优选为2kHz以上,进一步优选为4kHz以上。从容易抑制因曝光热而引起的基板等变形的理由考虑,频率的上限优选为50kHz以下,更优选为20kHz以下,进一步优选为10kHz以下。从固化性的观点考虑,最大瞬间照度优选为50000000W/m2以上,更优选为100000000W/m2以上,进一步优选为200000000W/m2以上。并且,从抑制高照度失效的观点考虑,最大瞬间照度的上限优选为1000000000W/m2以下,更优选为800000000W/m2以下,进一步优选为500000000W/m2以下。另外,脉冲宽度是指照射脉冲周期中的光的时间的长度。并且,频率是指每1秒钟的脉冲周期的次数。并且,最大瞬间照度是指在脉冲周期中照射光的时间内的平均照度。并且,脉冲周期是指将脉冲曝光中的光的照射与暂停设为1周期的周期。
曝光量例如优选1~2000mJ/cm2。上限优选1000mJ/cm2以下,更优选500mJ/cm2以下。下限优选5mJ/cm2以上,更优选10mJ/cm2以上,进一步优选20mJ/cm2以上。并且,脉冲曝光时,优选15~300mJ/cm2。上限优选250mJ/cm2以下,更优选150mJ/cm2以下。下限优选25mJ/cm2以上,更优选35mJ/cm2以上,进一步优选45mJ/cm2以上。
关于曝光时的氧浓度,能够适当选择,除了在大气下进行曝光以外,例如可以在氧浓度为19体积%以下的低氧环境下(例如,15体积%、5体积%、实质上无氧)进行曝光,也可以在氧浓度超过21体积%的高氧环境下(例如,22体积%、30体积%、50体积%)进行曝光。
(显影工序)
接着,显影去除曝光工序后的感光性组合物层中的未曝光部的感光性组合物层来形成像素(图案)。未曝光部的感光性组合物层的显影去除能够使用显影液来进行。从而,未曝光部的感光性组合物层溶出于显影液中,在上述曝光工序中仅光固化的部分残留于支撑体上。显影液的温度例如优选20~30℃。显影时间优选20~180秒钟。并且,为了提高残渣去除性,可以重复多次每隔60秒钟甩掉显影液,进一步供给新的显影液的工序。
显影液优选将碱剂在纯水中稀释而得到的碱性水溶液。作为碱剂,例如可举出氨、乙胺、二乙胺、二甲基乙醇胺、二甘醇胺、二乙醇胺、羟基胺、乙二胺、氢氧化四甲基铵、氢氧化四乙基铵、氢氧化四丙基铵、氢氧化四丁基铵、氢氧化乙基三甲基铵、氢氧化苄基三甲基铵、氢氧化二甲基双(2-羟基乙基)铵、胆碱、吡咯、哌啶、1,8-二吖双环[5.4.0]-7-十一烯等有机碱性化合物或氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸氢钠、硅酸钠、偏硅酸钠等无机碱性化合物。碱剂在环境方面及安全方面而言,优选分子量较大的化合物。碱性水溶液的碱剂的浓度优选0.001~10质量%,更优选0.01~1质量%。并且,显影液可以进而含有表面活性剂。作为表面活性剂,可举出上述表面活性剂,优选非离子表面活性剂。从方便输送或保管等观点而言,显影液可以暂时制造成浓缩液,并在使用时稀释成所需要的浓度。稀释倍率并没有特别限定,例如能够设定为1.5~100倍的范围。另外,当使用了包括这种碱性水溶液的显影液时,优选显影后用纯水清洗(冲洗)。
显影后,还能够在实施干燥之后进行追加曝光处理、加热处理(后烘烤)。追加曝光处理、后烘烤为用于使膜完全固化的显影后的处理。在进行追加曝光处理的情况下,曝光中所使用的光优选g射线、h射线、i射线等,更优选i射线。并且,也可以是将它们组合多个而得到的光。
作为所形成的像素(图案)的膜厚,优选根据像素的种类适当选择。例如,优选2.0μm以下,更优选1.0μm以下,进一步优选0.3~1.0μm。上限优选0.8μm以下,更优选0.6μm以下。下限值优选0.4μm以上。
并且,作为所形成的像素(图案)的尺寸(线宽),优选根据用途或像素的种类适当选择。例如优选2.0μm以下。上限优选1.0μm以下,更优选0.9μm以下。下限值优选0.4μm以上。
制造具有多种的像素的滤光器的情况下,经由上述的工序形成至少一种像素即可,优选经由上述的工序来形成最初所形成的像素(第1种像素)。关于第2个以后所形成的像素(第2种以后的像素),也可以经由与上述相同的工序来形成,也可以通过曝光波长超过300nm的光(例如i射线等)来形成像素。
实施例
以下,举出实施例对本发明进行进一步具体的说明。以下实施例所示的材料、使用量、比例、处理内容、处理顺序等,只要不脱离本发明的宗旨,则能够适当变更。因此,本发明的范围并不限定于以下所示的具体例。
<树脂的重均分子量(Mw)的测量>
通过凝胶渗透色谱法(GPC)在以下的条件下测量了树脂的重均分子量。
管柱的种类:连接TOSOH TSKgel Super HZM-H、TOSOH TSKgel Super HZ4000及TOSOH TSKgel Super HZ2000的管柱
展开溶剂:四氢呋喃
管柱温度:40℃
流量(样品注入量):1.0μL(样品浓度:0.1质量%)
装置名:TOSOH CORPORATION制HLC-8220GPC
检测器:RI(折射率)检测器
校准曲线基础树脂:聚苯乙烯树脂
<感光性组合物的制备>
混合了下述表中所记载的原料之后,通过孔径0.45μm的尼龙制过滤器(NIHONPALL LTD.制造)进行过滤,从而制备了固体成分浓度20质量%的感光性组合物(组合物1~25)。另外,通过改变丙二醇单甲醚乙酸酯(PGMEA)的掺合量来调整了感光性组合物的固体成分浓度。
上述表中所记载的原料如下。
(颜料分散液)
A1:通过以下方法制备的颜料分散液
在混合了9质量份的C.I.Pigment Green 58、6质量份的C.I.Pigment Yellow185、2.5质量份的颜料衍生物Y1、5质量份的分散剂D1及77.5质量份的丙二醇单甲醚乙酸酯(PGMEA)的混合液中,添加直径为0.3mm的氧化锆微珠230质量份,利用涂料搅拌器进行3小时的分散处理,并通过过滤分离微珠而制备了颜料分散液A1。该颜料分散液A1的固体成分浓度为22.5质量%,颜料含量为15质量%。
颜料衍生物Y1:下述结构的化合物。
[化学式26]
分散剂D1:下述结构的树脂(Mw=24000,在主链上标记的数值为摩尔比,在侧链上标记的数值为重复单元的数量。)
[化学式27]
A7:通过以下方法制备的颜料分散液
在混合了12质量份的C.I.Pigment Blue 15:6、3质量份的日本特开2015-041058号公报的0292段中所记载的V染料1、2.7质量份的颜料衍生物Y1、4.8质量份的分散剂D1及77.5质量份的PGMEA的混合液中,添加直径0.3mm的氧化锆微珠230质量份,利用涂料搅拌器进行3小时的分散处理,并通过过滤分离微珠而制备了颜料分散液A7。该颜料分散液A7的固体成分浓度为22.5质量%,色材含量(颜料和染料的总量)为15质量%。
(树脂)
B1:下述结构的树脂(在主链上标记的数值为摩尔比。Mw=10,000、酸值=70mgKOH/g、C=C值=1.4mmol/g)
B2:下述结构的树脂(在主链上标记的数值为摩尔比。Mw=40,000、酸值=95mgKOH/g、C=C值=6.8mmol/g)
[化学式28]
(聚合性单体)
M1:OGSOL EA-0300(Osaka Gas Chemicals Co.,Ltd.制造、具有芴骨架的(甲基)丙烯酸酯单体、C=C值=2.1mmol/g)
M2:下述结构的化合物(C=C值=10.4mmol/g)
[化学式29]
M3:OGSOL EA-0200(Osaka Gas Chemicals Co.,Ltd.制造、具有芴骨架的(甲基)丙烯酸酯单体、C=C值=3.55mmol/g)
M4:下述结构的化合物(C=C值=6.24mmol/g)
[化学式30]
(光聚合引发剂)
I1~I5:下述结构的化合物
[化学式31]
(表面活性剂)
W1:下述化合物
[化学式32]
W2:下述结构的化合物(Mw=14000、表示重复单元的比例的%的数值为摩尔%)
[化学式33]
(添加材料)
T1:EHPE3150(Daicel Corporation制造、环氧树脂)
T2:下述结构的化合物(硅烷偶联剂)
[化学式34]
[固化性的评价]
(试验例1~25)
后烘烤CT-4000L(FUJIFILM Electronic Materials Co.,Ltd.制造)之后使用旋涂机将其涂布于玻璃基板上,以使其厚度成为0.1μm,并使用加热板在220℃下加热300秒钟形成底涂层,从而得到了附有底涂层的玻璃基板(支撑体)。接着,通过旋涂法涂布了各感光性组合物(组合物1~25),以使后烘烤后的膜厚成为下述表中所记载的膜厚。接着,使用加热板在100℃下后烘烤了2分钟。接着,使用KrF扫描曝光机,隔着具有以像素(图案)尺寸为1μm四方来形成的拜耳图案的遮罩,以200mJ/cm2的曝光量通过KrF射线进行了脉冲曝光(最大瞬间照度:250000000W/m2(平均照度:30,000W/m2)、脉冲宽度:30纳秒、频率:4kHz)。接着,使用氢氧化四甲铵(TMAH)0.3质量%水溶液,在23℃下进行了60秒钟的旋覆浸没显影。之后,通过旋转喷淋进行冲洗,进而通过纯水进行了水洗。接着,使用加热板在200℃下加热5分钟,由此形成了像素(图案)。
(试验例R1)
后烘烤CT-4000L(FUJIFILM Electronic Materials Co.,Ltd.制造)之后使用旋涂机将其涂布于玻璃基板上,以使其厚度成为0.1μm,并使用加热板在220℃下加热300秒钟形成底涂层,从而得到了附有底涂层的玻璃基板(支撑体)。接着,通过旋涂法涂布了组合物3的感光性组合物,以使后烘烤后的膜厚成为下述表中所记载的膜厚。接着,使用加热板在100℃下后烘烤了2分钟。接着,使用i射线步进机曝光装置FPA-3000i5+(Canon Co.,Ltd.制),隔着具有以像素(图案)尺寸为1μm四方来形成的拜耳图案的遮罩,以200mJ/cm2的曝光量利用i射线进行了曝光。接着,使用氢氧化四甲铵(TMAH)0.3质量%水溶液,在23℃下进行了60秒钟的旋覆浸没显影。之后,通过旋转喷淋进行冲洗,进而通过纯水进行了水洗。接着,使用加热板在200℃下加热5分钟,由此形成了像素(图案)。
(评价方法)
将所得到的膜浸渍于25℃的丙二醇单甲醚乙酸酯(PGMEA)5分钟。观察浸渍于PGMEA前后的膜在波长665nm下的吸光度的变化度,由以下的基准评价了固化性。
吸光度的变化度=|浸渍于PGMEA之前的膜在波长665nm下的吸光度-浸渍于PGMEA之后的膜在波长665nm下的吸光度|
A:吸光度的变化度小于0.01。
B:吸光度的变化度为0.01以上且小于0.05。
C:吸光度的变化度为0.05以上且小于0.1。
D:吸光度的变化度为0.1以上。
[残渣的评价]
(试验例1~25)
后烘烤CT-4000L(FUJIFILM Electronic Materials Co.,Ltd.制造)之后使用旋涂机将其涂布于8英寸(20.32cm)硅晶片上,以使其厚度成为0.1μm,并使用加热板在220℃下加热300秒钟形成底涂层,从而得到了附有底涂层的硅晶片(支撑体)。接着,通过旋涂法涂布了各感光性组合物(组合物1~25),以使后烘烤后的膜厚成为下述表中所记载的膜厚。接着,使用加热板在100℃下后烘烤了2分钟。接着,使用KrF扫描曝光机,隔着具有以像素(图案)尺寸为1μm四方来形成的拜耳图案的遮罩照射光并在上述的条件下进行了脉冲曝光。接着,使用氢氧化四甲铵(TMAH)0.3质量%水溶液,在23℃下进行了60秒钟的旋覆浸没显影。之后,通过旋转喷淋进行冲洗,进而通过纯水进行了水洗。接着,使用加热板在200℃下加热5分钟,由此形成了像素(图案)。
(评价方法)
关于所得到的像素,使用高分辨率FEB(Field Emission Beam)测长装置(HITACHICD-SEM)S9380II(Hitachi High-Technologies Corporation制造),观察了非图像部(像素间)的残渣。
A:完全看不到残渣。
B:在非图像部的超过0%且小于5%的区域可以看到残渣。
C:在非图像部的5%以上且小于10%的区域可以看到残渣。
D:在非图像部的10%以上的区域可以看到残渣。
[最小密接线宽的评价]
各试验例中,使用了具有以像素图案为0.7μm四方、0.8μm四方、0.9μm四方、1.0μm四方、1.1μm四方、1.2μm四方、1.3μm四方、1.4μm四方、1.5μm四方、1.7μm四方、2.0μm四方、3.0μm四方、5.0μm四方、10.0μm四方来形成的拜耳图案的遮罩,除此以外,通过与残渣的评价相同的方法评价了像素(图案)。使用高分辨率FEB测长装置(HITACHI CD-SEM)S9380II(Hitachi High-Technologies Corporation制造)观察0.7μm四方、0.8μm四方、0.9μm四方、1.0μm四方、1.1μm四方、1.2μm四方、1.3μm四方、1.4μm四方、1.5μm四方、1.7μm四方、2.0μm四方、3.0μm四方、5.0μm四方、10.0μm四方的图案,将形成有未剥离的图案的最小的图案尺寸设为最小密接线宽。
[表2]
如上述表所述,利用波长300nm以下的光曝光组合物1~25来制造膜,由此即使感光性组合物的总固体成分中的聚合性单体与光聚合引发剂的合计量较少固化性也优异(试验例1~25)。
相对于此,以i射线(超过波长300nm的光)曝光的试验例R1的固化性不充分。

Claims (14)

1.一种感光性组合物,其为用于利用波长300nm以下的光进行曝光的、包含色材、聚合性单体、树脂及光聚合引发剂的感光性组合物,
所述聚合性单体包含具有芴骨架的2~15官能的自由基聚合性单体以及不具有芴骨架的3~15官能的自由基聚合性单体,
所述树脂包含C=C值为0.6mmol/g~2.8mmol/g的具有烯属不饱和键基的树脂,
所述光聚合引发剂为在波长300nm以下的光进行反应而产生活性种的化合物,
所述聚合性单体与所述光聚合引发剂的合计量中的所述聚合性单体的含量为50质量%以上,
所述感光性组合物的总固体成分中的聚合性单体与光聚合引发剂的合计的含量为1质量%以上且10质量%以下,
所述感光性组合物的总固体成分中的色材的含量为50质量%以上,
所述感光性组合物的总固体成分中的树脂的含量为5质量%~25质量%。
2.根据权利要求1所述的感光性组合物,其中,
聚合性单体与光聚合引发剂的合计量中的聚合性单体的含量为70质量%以上且90质量%以下。
3.根据权利要求1或2所述的感光性组合物,其中,
所述感光性组合物的总固体成分中的所述聚合性单体的含量为8质量%以下。
4.根据权利要求1或2所述的感光性组合物,其中,
所述光聚合引发剂的含量相对于所述色材100质量份为5质量份以下。
5.根据权利要求1或2所述的感光性组合物,其中,
所述光聚合引发剂的含量相对于所述色材100质量份为1质量份以上且5质量份以下。
6.根据权利要求1或2所述的感光性组合物,其中,
所述感光性组合物的总固体成分中的所述色材的含量为54质量%以上。
7.根据权利要求1或2所述的感光性组合物,其中,
所述感光性组合物的总固体成分中的所述色材的含量为58质量%以上。
8.根据权利要求1或2所述的感光性组合物,其中,
所述聚合性单体为2官能以上的聚合性单体。
9.根据权利要求1或2所述的感光性组合物,其中,
所述色材包含彩色着色剂。
10.根据权利要求1或2所述的感光性组合物,其还含有硅烷偶联剂。
11.根据权利要求1或2所述的感光性组合物,其为脉冲曝光用感光性组合物。
12.根据权利要求1或2所述的感光性组合物,其为固体摄像元件用感光性组合物。
13.根据权利要求1或2所述的感光性组合物,其为滤色器用感光性组合物。
14.根据权利要求1或2所述的感光性组合物,其中,所述感光性组合物是用于在支撑体上适用感光性组合物来形成感光性组合物层、对所述感光性组合物层照射波长300nm以下的光来曝光成图案状、显影去除未曝光部的所述感光性组合物层来形成像素的感光性组合物。
CN201980008387.6A 2018-02-16 2019-02-13 感光性组合物 Active CN111656278B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202410505273.5A CN118311830A (zh) 2018-02-16 2019-02-13 感光性组合物

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018-026163 2018-02-16
JP2018026163 2018-02-16
PCT/JP2019/005035 WO2019159950A1 (ja) 2018-02-16 2019-02-13 感光性組成物

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202410505273.5A Division CN118311830A (zh) 2018-02-16 2019-02-13 感光性组合物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN111656278A CN111656278A (zh) 2020-09-11
CN111656278B true CN111656278B (zh) 2024-04-05

Family

ID=67619003

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201980008387.6A Active CN111656278B (zh) 2018-02-16 2019-02-13 感光性组合物
CN202410505273.5A Pending CN118311830A (zh) 2018-02-16 2019-02-13 感光性组合物

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202410505273.5A Pending CN118311830A (zh) 2018-02-16 2019-02-13 感光性组合物

Country Status (6)

Country Link
US (2) US20200341375A1 (zh)
JP (2) JPWO2019159950A1 (zh)
KR (2) KR20200087265A (zh)
CN (2) CN111656278B (zh)
TW (1) TWI787462B (zh)
WO (1) WO2019159950A1 (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7569213B2 (ja) * 2019-12-26 2024-10-17 住友化学株式会社 感光性組成物

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102073216A (zh) * 2009-11-18 2011-05-25 富士胶片株式会社 着色感光性树脂组合物、图案形成方法、滤色器的制造方法、滤色器及显示装置
CN103365080A (zh) * 2012-03-30 2013-10-23 住友化学株式会社 着色感光性树脂组合物
JP2015052754A (ja) * 2013-09-09 2015-03-19 富士フイルム株式会社 樹脂硬化物の製造方法、並びにこれを用いた固体撮像素子および液晶表示装置の製造方法
JP2017058558A (ja) * 2015-09-17 2017-03-23 東洋インキScホールディングス株式会社 カラーフィルタ用感光性着色組成物、感光性着色組成物の製造方法、およびカラーフィルタ
TW201734642A (zh) * 2016-03-25 2017-10-01 Fujifilm Corp 感光性組成物、彩色濾光片、圖案形成方法、固體攝像元件及圖像顯示裝置
CN107430340A (zh) * 2015-03-30 2017-12-01 富士胶片株式会社 着色感光性组合物、固化膜、图案形成方法、带遮光膜的红外光截止滤色器、固体成像元件、图像显示装置及红外传感器
WO2018021313A1 (ja) * 2016-07-29 2018-02-01 富士フイルム株式会社 着色組成物、カラーフィルタ、パターン形成方法、固体撮像素子、および、画像表示装置

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07201727A (ja) * 1993-11-26 1995-08-04 Hitachi Ltd パターン形成方法
KR100481014B1 (ko) 2002-10-04 2005-04-07 주식회사 동진쎄미켐 포토폴리머를 이용한 감광성 수지 조성물
JP5105867B2 (ja) 2006-12-28 2012-12-26 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法
EP2116527A4 (en) * 2007-01-23 2011-09-14 Fujifilm Corp OXIME COMPOUND, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, COLOR FILTER, METHOD FOR MANUFACTURING THE COLOR FILTER, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT
JP2009003330A (ja) * 2007-06-25 2009-01-08 Toppan Printing Co Ltd 黒色感光性樹脂組成物及びそれを用いたブラックマトリクスの製造法及びカラーフィルタ並びに液晶表示装置
WO2009145032A1 (ja) * 2008-05-28 2009-12-03 凸版印刷株式会社 カラーフィルタの製造方法、パターン付き基板の製造方法及び小型フォトマスク
JP2010044273A (ja) * 2008-08-14 2010-02-25 Fujifilm Corp カラーフィルタ及びその形成方法、並びに固体撮像素子
JP5371507B2 (ja) 2008-09-22 2013-12-18 富士フイルム株式会社 着色感光性組成物、カラーフィルタ、および液晶表示装置
JP5618118B2 (ja) * 2009-01-09 2014-11-05 日立化成株式会社 感光性樹脂組成物,並びにこれを用いた感光性エレメント,ソルダーレジスト及びプリント配線板
CN102770809A (zh) * 2009-07-02 2012-11-07 东友精细化工有限公司 用于制备利用300nm以下超短波长曝光器的固体摄像元件的彩色滤光片的着色感光性树脂组合物、利用其的彩色滤光片以及含有该彩色滤光片的固体摄像元件
KR20120046462A (ko) * 2010-11-02 2012-05-10 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물, 이를 포함하는 컬러필터 및 액정표시장치
CN103608704B (zh) * 2011-09-14 2016-03-16 富士胶片株式会社 着色放射线敏感性组合物、图案形成方法、彩色滤光片及其制备方法以及固态图像传感器
JP5954892B2 (ja) * 2012-06-06 2016-07-20 富士フイルム株式会社 感放射線性組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法
TWI663218B (zh) * 2014-09-04 2019-06-21 日商富士軟片股份有限公司 組成物、組成物的製造方法、硬化性組成物、硬化膜、近紅外線截止濾波器、固體攝像元件、紅外線感測器、照相機模組及化合物
KR20170008581A (ko) * 2015-07-14 2017-01-24 삼성에스디아이 주식회사 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
TWI553410B (zh) * 2015-10-08 2016-10-11 新應材股份有限公司 組成物、紅外線透過濾光片及其製造方法以及紅外線感測器
KR102374880B1 (ko) * 2017-09-29 2022-03-16 후지필름 가부시키가이샤 착색 감광성 조성물 및 광학 필터의 제조 방법

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102073216A (zh) * 2009-11-18 2011-05-25 富士胶片株式会社 着色感光性树脂组合物、图案形成方法、滤色器的制造方法、滤色器及显示装置
CN103365080A (zh) * 2012-03-30 2013-10-23 住友化学株式会社 着色感光性树脂组合物
JP2015052754A (ja) * 2013-09-09 2015-03-19 富士フイルム株式会社 樹脂硬化物の製造方法、並びにこれを用いた固体撮像素子および液晶表示装置の製造方法
CN107430340A (zh) * 2015-03-30 2017-12-01 富士胶片株式会社 着色感光性组合物、固化膜、图案形成方法、带遮光膜的红外光截止滤色器、固体成像元件、图像显示装置及红外传感器
JP2017058558A (ja) * 2015-09-17 2017-03-23 東洋インキScホールディングス株式会社 カラーフィルタ用感光性着色組成物、感光性着色組成物の製造方法、およびカラーフィルタ
TW201734642A (zh) * 2016-03-25 2017-10-01 Fujifilm Corp 感光性組成物、彩色濾光片、圖案形成方法、固體攝像元件及圖像顯示裝置
WO2018021313A1 (ja) * 2016-07-29 2018-02-01 富士フイルム株式会社 着色組成物、カラーフィルタ、パターン形成方法、固体撮像素子、および、画像表示装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2019159950A1 (ja) 2021-02-04
KR20200087265A (ko) 2020-07-20
US20240295813A1 (en) 2024-09-05
CN118311830A (zh) 2024-07-09
US20200341375A1 (en) 2020-10-29
WO2019159950A1 (ja) 2019-08-22
JP2022183247A (ja) 2022-12-08
JP7516477B2 (ja) 2024-07-16
TWI787462B (zh) 2022-12-21
TW201937281A (zh) 2019-09-16
CN111656278A (zh) 2020-09-11
KR20230093354A (ko) 2023-06-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7462708B2 (ja) 感光性組成物
CN111133381B (zh) 着色感光性组成物及滤光器的制造方法
US20240295813A1 (en) Photosensitive composition
TW201944170A (zh) 圖案的製造方法、光學濾波器的製造方法、固體攝像元件的製造方法、圖像顯示裝置的製造方法、光硬化性組成物及膜
JP7074838B2 (ja) 感光性組成物
JP7297119B2 (ja) 感光性組成物
KR20200122349A (ko) 감광성 조성물
CN111149021A (zh) 滤光器的制造方法
CN111771164B (zh) 感光性组合物
JP7112592B2 (ja) 樹脂組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、近赤外線透過フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ
TW202010758A (zh) 硬化性組成物、硬化性組成物的製造方法、膜、濾色器、濾色器的製造方法、固體攝像元件及圖像顯示裝置
JP7389900B2 (ja) マゼンタ色感光性樹脂組成物、膜、カラーフィルタ、固体撮像素子及び画像表示装置
TWI857948B (zh) 感光性組成物
CN115052936A (zh) 着色组合物、膜、滤光器、固体摄像元件及图像显示装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant