CN111533456A - 一种窑变釉底釉及其制备方法、瓷器 - Google Patents

一种窑变釉底釉及其制备方法、瓷器 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种窑变釉底釉，所述底釉的组分及各组分的质量百分比为：熔块70%~75%、高岭土5%~8%、氧化锌4%~7%、碳酸钡1%~2%、三氧化二铁10%~13%，本发明还公开了一种窑变釉底釉制备方法、瓷器。一种窑变釉底釉及其制备方法、瓷器，采用独特的底釉配方，通过各组分及其含量相互配合、共同作用，实现窑变釉底釉在瓷器上的良好应用，得到色调丰富、纹理多变的瓷器，釉料耐磨不易脱落，对环境污染少。本发明适用于陶瓷技术领域。

Description

一种窑变釉底釉及其制备方法、瓷器
技术领域
本发明涉及陶瓷技术领域，尤其涉及一种窑变釉底釉及其制备方法、瓷器。
背景技术
窑变釉是陶瓷釉料在烧成过程中产生窑变效果的艺术釉的统称。属于无机非金属材料的陶瓷釉料技术领域，用于日用陶瓷和艺术陶瓷的整个釉面和局部装饰上。由于现有窑变釉底釉粘度较差，影响窑变釉瓷器的釉面质量，限制了该种底釉窑变釉在日用陶瓷上的推广。因此，很有必要研制一种适用性广泛的底釉，使其适应日用陶瓷使用，丰富陶瓷釉料装饰，美化生活。
发明内容
本发明旨在一定程度上解决相关记述中的技术问题。为此，本发明的一个目的是提供一种窑变釉底釉及其制备方法、瓷器，改善现有窑变釉底釉与面釉的结合，实现窑变釉底釉在瓷器上的良好应用，釉料耐磨不易脱落，对环境污染少。
为实现上述目的，第一方面，本发明提供了一种窑变釉底釉，所述底釉的组分及各组分的质量百分比为：熔块70%~75%、高岭土5%~8%、氧化锌4%~7%、碳酸钡1%~2%、三氧化二铁10%~13%。
作为上述方案的进一步改进，所述底釉主要化学成分包括：SiO2、Fe2O3、Al2O3、B2O3、Na2O、ZnO、BaO、CaO、K2O，所述底釉主要化学成分的重量百分比为：SiO2 45%~50%、Fe2O3 10%~13%、Al2O3 10%~12%、B2O3 9%~11%、Na2O 6%~8%、ZnO 4%~7%、BaO 1%~2%、CaO 1%~2%、K2O0.4%~1.2%。
作为上述方案的进一步改进，所述底釉主要化学成分包括：SiO2、Fe2O3、Al2O3、B2O3、Na2O、ZnO、BaO、CaO、K2O，所述底釉主要化学成分的重量百分比为：SiO2 49.66%、Fe2O311.16%、Al2O3 10.95%、B2O3 10.02%、Na2O 7.53%、ZnO 5.06%、BaO 1.85%、CaO 1.28%、K2O0.93%。
第二方面，本发明还提供了一种窑变釉底釉制备方法，用于第一方面所述的窑变釉底釉，所述方法包括步骤：
配比称重：按照底釉原料配方进行配比称重；
原料球磨：将配制好的底釉原料放入球磨机中，进行湿式球磨，制成底釉釉浆；
检测细度：检测所述底釉釉浆细度是否达到底釉釉浆阈值；
过筛：将所述底釉釉浆过筛，得到底釉釉料。
作为上述方案的进一步改进，所述原料球磨步骤具体包括：将配制好的底釉原料放入球磨机中，进行湿式球磨，球磨时间为16小时至18小时，制成底釉釉浆。
作为上述方案的进一步改进，所述底釉釉浆阈值为300目至325目。
作为上述方案的进一步改进，所述过筛步骤具体包括：将所述底釉釉浆过300目至325目的网筛，筛余小于0.2%，得到底釉釉料。
作为上述方案的进一步改进，所述底釉釉料的浓度为70%~75%。
第三方面，本发明还提供了一种窑变釉瓷器，所述瓷器包括坯体和如第一方面所述的窑变釉底釉。
本发明提供的一种窑变釉底釉及其制备方法、瓷器，采用独特的底釉配方，通过各组分及其含量相互配合、共同作用，改善现有窑变釉底釉与面釉的结合，实现窑变釉底釉在瓷器上的良好应用，得到色调丰富、纹理多变的瓷器，釉料耐磨不易脱落，对环境污染少。
附图说明
图1是本发明窑变釉底釉制备方法流程示意图；
图2是本发明喷涂夹持装置实施例结构示意图；
图3是图2中A-A向剖视结构示意图；
图4是本发明夹持组件实施例结构示意图；
图5是本发明釉料喷涂系统实施例结构示意图。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明进行具体描述，以便于所属技术领域的人员对本发明的理解。有必要在此特别指出的是，实施例只是用于对本发明做进一步说明，不能理解为对本发明保护范围的限制，所属领域技术熟练人员，根据上述发明内容对本发明作出的非本质性的改进和调整，应仍属于本发明的保护范围。同时下述所提及的原料未详细说明的，均为市售产品；未详细提及的工艺步骤或制备方法为均为本领域技术人员所知晓的工艺步骤或制备方法。
实施例一
本发明实施例提供一种窑变釉底釉，其组分及各组分的质量百分比为：熔块70%~75%、高岭土5%~8%、氧化锌4%~7%、碳酸钡1%~2%、三氧化二铁10%~13%。
按照本实施例底釉配方制得的底釉，其化学成分包括：SiO2、Fe2O3、Al2O3、B2O3、Na2O、ZnO、BaO、CaO、K2O、Cl、SO3、P2O5、ZrO2、SrO、MnO、PbO、Li2O；底釉化学成分的重量百分比为：SiO2 45%~50%、Fe2O3 10%~13%、Al2O3 10%~12%、B2O3 9%~11%、Na2O 6%~8%、ZnO 4%~7%、BaO1%~2%、CaO 1%~2%、K2O 0.4%~1.2%、Cl 0.05%~0.1%、SO3 0.05%~0.1%、P2O5 0.05%~0.1%、ZrO2 0.05%~0.1%、SrO 0.01%~0.05%、MnO 0.01%~0.05%、PbO 0.01%~0.05%、Li2O <0.01%；其酌减率低于1.50%。
图1是本发明窑变釉底釉制备方法流程示意图，参照图1，本实施例底釉的制备方法包括步骤：
配比称重：按照底釉原料配方进行配比称重；
原料球磨：将配制好的底釉原料放入球磨机中，进行湿式球磨，球磨时间为16小时至18小时，制成底釉釉浆；
检测细度：检测底釉釉浆细度是否达到底釉釉浆阈值；底釉釉浆阈值为300目至325目。
过筛：将底釉釉浆过300目至325目的网筛，筛余小于0.2%，得到底釉釉料，底釉釉料的浓度为70%~75%。
底釉的施釉方法可以是浸釉、喷釉，本实施例中优选采用釉料喷涂设备向素坯进行喷涂底釉，待底釉干燥后，再喷上面釉，待面釉干燥后，放入窑内1100℃至1200℃烧制。
实施例二
本发明实施例提供一种窑变釉底釉，其组分及各组分的质量百分比为：熔块73.9%，高岭土8.0%，氧化锌5.0%，碳酸钡1.9%，三氧化二铁11.2%。
按照上述底釉配方配得的底釉，其化学成分的重量百分比为：SiO2 49.66%、Fe2O311.20%、Al2O3 10.95%、B2O3 10.02%、Na2O 7.53%、ZnO 5.00%、BaO 1.85%、CaO 1.28%、K2O0.93%、Cl 0.08%、SO3 0.06%、P2O5 0.05%、ZrO2 0.05%、SrO 0.04%、MnO 0.03%、PbO 0.01%、Li2O <0.01%；其酌减率低于1.26%
本实施例底釉的制备方法包括步骤：
配比称重：按照底釉原料配方进行配比称重；
原料球磨：将配制好的底釉原料放入球磨机中，进行湿式球磨，球磨时间为18小时，制成底釉釉浆；
检测细度：检测底釉釉浆细度是否达到325目；
过筛：将底釉釉浆过325目的网筛，筛余小于0.1%，得到底釉釉料，底釉釉料的浓度为72%。
底釉的施釉方法可以是浸釉、喷釉，待底釉干燥后，再喷上面釉，待面釉干燥后，放入窑内1140℃烧制。
在烧成过程中，采用独特的底釉配方，通过各组分及其含量相互配合、共同作用，底釉和面釉之间物理化学变化和釉本身高温流动作用，所烧制出的瓷器表面形成斑点花纹，实现窑变釉底釉在瓷器上的良好应用，釉料耐磨不易脱落，对环境污染少。
实施例三
本发明实施例提供一种窑变釉底釉，其组分及各组分的质量百分比为：熔块72.00%，高岭土8.00%，氧化锌5.74%，碳酸钡1.96%，三氧化二铁12.30%。
按照上述底釉配方配得的底釉，其化学成分的重量百分比为：SiO2 48.76%、Fe2O312.30%、Al2O3 10.2%、B2O3 10.02%、Na2O 7.25%、ZnO 5.74%、BaO 1.96%、CaO 1.32%、K2O0.93%、Cl 0.08%、SO3 0.06%、P2O5 0.04%、ZrO2 0.05%、SrO 0.03%、MnO 0.02%、PbO 0.01%、Li2O <0.01%；其酌减率低于1.25%。
本实施例底釉的制备方法包括步骤：
配比称重：按照底釉原料配方进行配比称重；
原料球磨：将配制好的底釉原料放入球磨机中，进行湿式球磨，球磨时间为18小时，制成底釉釉浆；
检测细度：检测底釉釉浆细度是否达到325目；
过筛：将底釉釉浆过325目的网筛，筛余小于0.1%，得到底釉釉料，底釉釉料的浓度为70%。
底釉的施釉方法可以是浸釉、喷釉，待底釉干燥后，再喷上面釉，待面釉干燥后，放入窑内1150℃烧制。
在烧成过程中，采用独特的底釉配方，通过各组分及其含量相互配合、共同作用，底釉和面釉之间物理化学变化、及烧成过程中新产生的釉料不均匀乳浊性，所烧制出的瓷器表面形成流纹或皮毛状效果，实现窑变釉底釉在瓷器上的良好应用，釉料耐磨不易脱落，对环境污染少。
实施例四
本发明实施例还公开了一种窑变釉瓷器，其包括坯体和上述任一实施例所述的窑变釉底釉，采用釉料喷涂设备将窑变釉底釉喷涂在坯体上，使待喷涂坯体的整体喷釉均匀。
图2是本发明喷涂夹持装置实施例结构示意图，图3是图2中A-A向剖视结构示意图，参照图2和图3，一种喷涂夹持装置，包括伺服电机100、转轴110和横梁120，伺服电机100通过转轴110与横梁120转动连接，在横梁120的两端分别安装有支架140，支架140上设置有旋转支撑单元，旋转支撑单元包括用于放置待喷涂坯体的第一转盘140和位于第一转盘140顶面上、用于夹持待喷涂坯体的夹持组件150。
具体的，在横梁120两端的顶部安装分度盘160，分度盘160的输出端与第二转盘170的底面中部固定连接，第二转盘170的两端分别设置有第一转盘140，第二转盘170的顶面两端分别安装有第一齿轮171，通过第一齿轮171与第一转盘140连接，带动第一转盘140进行360度转动。该旋转支撑单元还包括第二齿轮172和电机173，其中，电机173安装在支架140上，电机173的输出轴穿过第二转盘170与第二齿轮172连接，第二齿轮172与第一齿轮171啮合，通过电机173驱动第二齿轮172转动，第二齿轮172传动第一齿轮171转动，进而带动第一转盘140实现360度转动。第一转盘140的旋转可以带动待喷涂坯体旋转，使得待喷涂坯体喷涂更加均匀，提高喷涂质量。当第二转盘170一端的待喷涂坯体喷涂完成后，通过转轴110转动360度，切换第二转盘170另一端的待喷涂坯体至待喷涂位置，通过统计旋转转轴的旋转圈数，从而统计喷涂的坯体件数。
本实施例中，在第一转盘140和第二转盘170之间设置三个气缸174，三个气缸174在第一转盘140下方呈三角分布，通过控制气缸174进而控制第一转盘140倾斜一定的角度。
图4是本发明夹持组件实施例结构示意图，参照图3，夹持组件150包括至少三个连接板151、夹持气缸152和弧形夹持块153，本实施例中，连接板151优选四个，四个连接板151在第一转盘140的顶面呈圆周均布、并固定在第一转盘140的顶面上。夹持气缸152的推杆穿过连接板151与弧形夹持块153连接，夹持气缸152推动弧形夹持块153夹紧待喷涂坯体。
本实施例中，优选的，在弧形夹持块153的内壁面上固定有弧形缓冲层154。
本实施例的喷涂夹持装置，将待喷涂坯体夹持牢固并进行旋转，使待喷涂坯体喷涂更加均匀。同时，通过统计转轴的旋转圈数，从而统计喷涂的坯体件数。
图5是本发明釉料喷涂系统实施例结构示意图，参照图5，一种釉料喷涂系统，包括上述的喷涂夹持装置和喷涂机器人，其中，喷涂机器人包括：
电控机箱200，与喷涂夹持装置电性连接；
釉料箱210，设置在电控机箱200的后端，用于储存釉料；
喷涂组件220，与釉料箱230联连通；
机械臂230，设置在电控机箱200上，用于调整喷涂组件220的位置，喷涂组件220设置在机械臂230上。
本实施例中，喷涂组件220包括喷嘴221和导管222，喷嘴221通过导管222与釉料箱210连通。通过机械臂230带动喷头221运动，对放置在喷涂夹持装置上的待喷涂坯体喷涂釉料。
本实施例中，优选的，喷涂机器人还包括厚度检测仪230，厚度检测仪230设置在机械臂230上、位于喷嘴221附近，厚度检测仪230通过机械臂230与电控机箱200电性连接。机械臂230带动喷头221喷涂的同时，也带动厚度检测仪230跟随喷头221移动，厚度检测仪230实时检测待喷涂坯体表面的釉层厚度，反馈给电控机箱230，电控机箱230实时调整喷嘴221的喷涂参数，保证喷涂质量。
本实施例的釉料喷涂系统，通过电控机箱控制机械臂调整喷涂组件的位置，结合电控机箱控制喷涂夹持装置旋转进而带动待喷涂坯体旋转，实现对待喷涂坯体多方位喷涂，保证待喷涂坯体的整体喷釉均匀，提高喷涂效率，保证喷涂质量。
本发明实施例提供的窑变釉瓷器，采用独特的底釉配方，通过各组分及其含量相互配合、共同作用，改善现有窑变釉底釉与面釉的结合，实现窑变釉底釉在瓷器上的良好应用，得到色调丰富、纹理多变的瓷器，釉料耐磨不易脱落，对环境污染少，采用釉料喷涂系统对坯体进行底釉喷涂，实现对待喷涂坯体多方位喷涂，保证待喷涂坯体的整体喷釉均匀，提高喷涂效率，保证喷涂质量。
最后说明的是，以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非限制，尽管参照较佳实施例对本发明进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本技术方案的宗旨和范围，其均应涵盖在本发明的权利要求范围当中。

Claims (9)

1.一种窑变釉底釉，其特征在于，所述底釉的组分及各组分的质量百分比为：熔块70%~75%、高岭土5%~8%、氧化锌4%~7%、碳酸钡1%~2%、三氧化二铁10%~13%。
2.根据权利要求1所述的一种窑变釉底釉，其特征在于，所述底釉主要化学成分包括：SiO2、Fe2O3、Al2O3、B2O3、Na2O、ZnO、BaO、CaO、K2O，所述底釉主要化学成分的重量百分比为：SiO2 45%~50%、Fe2O3 10%~13%、Al2O3 10%~12%、B2O3 9%~11%、Na2O 6%~8%、ZnO 4%~7%、BaO 1%~2%、CaO 1%~2%、K2O 0.4%~1.2%。
3.根据权利要求2所述的一种窑变釉底釉，其特征在于，所述底釉主要化学成分包括：SiO2、Fe2O3、Al2O3、B2O3、Na2O、ZnO、BaO、CaO、K2O，所述底釉主要化学成分的重量百分比为：SiO2 49.66%、Fe2O3 11.16%、Al2O3 10.95%、B2O3 10.02%、Na2O 7.53%、ZnO 5.06%、BaO1.85%、CaO 1.28%、K2O 0.93%。
4.一种窑变釉底釉制备方法，用于制备权利要求1至3任一项所述的窑变釉底釉，其特征在于，所述方法包括步骤：
配比称重：按照底釉原料配方进行配比称重；
原料球磨：将配制好的底釉原料放入球磨机中，进行湿式球磨，制成底釉釉浆；
检测细度：检测所述底釉釉浆细度是否达到底釉釉浆阈值；
过筛：将所述底釉釉浆过筛，得到底釉釉料。
5.根据权利要求4所述的一种窑变釉底釉制备方法，其特征在于，所述原料球磨步骤具体包括：将配制好的底釉原料放入球磨机中，进行湿式球磨，球磨时间为16小时至18小时，制成底釉釉浆。
6.根据权利要求4或5所述的一种窑变釉底釉制备方法，其特征在于，所述底釉釉浆阈值为300目至325目。
7.根据权利要求6所述的一种窑变釉底釉制备方法，其特征在于，所述过筛步骤具体包括：将所述底釉釉浆过300目至325目的网筛，筛余小于0.2%，得到底釉釉料。
8.根据权利要求7所述的一种窑变釉底釉制备方法，其特征在于，所述底釉釉料的浓度为70%~75%。
9.一种窑变釉瓷器，其特征在于，所述瓷器包括坯体和如权利要求1至3任一项所述的窑变釉底釉。
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