CN111524829A - 清洗部件安装部、清洗部件组件以及基板清洗装置 - Google Patents

清洗部件安装部、清洗部件组件以及基板清洗装置 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种清洗部件安装部、清洗部件组件以及基板清洗装置，在清洗部件安装部(10)的表面安装有清洗部件(90)。清洗部件安装部(10)具有：主体(20)；清洗液导入部(30)，该清洗液导入部在所述主体(20)的内部延伸；以及多个清洗液供给孔(40)，该多个清洗液供给孔与所述清洗液导入部(30)连通。所述清洗液导入部(30)构成为所述清洗液从第一端部(11)侧流入，位于与所述第一端部(11)相反一侧的第二端部(12)侧的第二区域中的所述清洗液供给孔所(40)占据的所述主体(20)的表面的面积比大于位于所述第一端部(11)侧的第一区域中的所述清洗液供给孔(40)所占据的所述主体(20)的表面的面积比。

Description

清洗部件安装部、清洗部件组件以及基板清洗装置
技术领域
本发明涉及一种在向清洗部件的内部供给清洗液的方式中使用的清洗部件安装部、使用了这样的清洗部件安装部的清洗部件组件以及基板清洗装置。
本申请针对2019年2月4日申请的日本专利申请特愿2019-17549号主张优先权，并且将其所有的内容作为参照编入本申请。
背景技术
以往，已知向辊等清洗部件的内部供给冲洗液(内部冲洗液)的技术。在日本特开2000-301079号公报中，公开了如下内容：具有基板保持部、清洗工具和清洗工具保持部，该基板保持部使基板旋转且保持基板，该清洗工具对基板的被清洗面进行擦洗，清洗工具保持部将清洗工具保持为可绕其轴线进行旋转，向清洗工具内供给内部冲洗液。
发明所要解决的技术问题
即使供给这样的内部冲洗液，有时也有如下情况：在清洗工具的长度方向上，从清洗工具的海绵排出的冲洗液的量产生不均匀。另外，即使以例如450ml/min的供给量供给内部冲洗液，有时内部冲洗液也不会从清洗工具的海绵排出，而是在清洗工具内逆流从而不经过海绵就流出。
发明内容
本发明提供一种清洗部件安装部等，抑制供给到清洗部件的内部的清洗液从清洗部件排出的排出量的不均匀，并且防止被供给的清洗液不经过清洗部件就流出的情况。
用于解决技术问题的手段
[概念1]
本发明的清洗部件安装部为在表面安装有清洗部件的清洗部件安装部，
具备：
主体；
清洗液导入部，该清洗液导入部在所述主体的内部延伸；以及
多个清洗液供给孔，该多个清洗液供给孔与所述清洗液导入部连通，
所述清洗液导入部构成为所述清洗液从第一端部侧流入，
位于与所述第一端部相反一侧的第二端部侧的第二区域中的所述清洗液供给孔所占据的所述主体的表面的面积比也可以大于位于所述第一端部侧的第一区域中的所述清洗液供给孔所占据的所述主体的表面的面积比。
此外，在此所述的“面积比”是指相对于规定区域的面积的总和，存在于该区域内的多个开口部的平均面积的总和所占据的比例(也称为开口比例)，该“平均面积”是指清洗液从清洗液导入部经过清洗液供给孔向清洗部件流出时的流路的平均截面积。
[概念2]
在本发明的概念1的清洗部件安装部中，也可以是，
所述第二区域中的所述清洗液供给孔的横截面积大于所述第一区域中的所述清洗液供给孔的横截面积。
[概念3]
在本发明的概念1或2的清洗部件安装部中，也可以是，
在所述第一区域与所述第二区域之间设有第三区域，
所述第三区域中的所述清洗液供给孔所占据的所述主体的表面的面积比大于所述第一区域中的所述清洗液供给孔所占据的所述主体的表面的面积比，且小于所述第二区域中的所述清洗液供给孔所占据的所述主体的表面的面积比。
[概念4]
在本发明的概念3的清洗部件安装部中，也可以是，
在所述第三区域与所述第一区域之间设有第四区域，
所述第四区域中的所述清洗液供给孔所占据的所述主体的表面的面积比大于所述第一区域中的所述清洗液供给孔所占据的所述主体的表面的面积比，且小于所述第三区域中的所述清洗液供给孔所占据的所述主体的表面的面积比。
[概念5]
在本发明的概念4的清洗部件安装部中，也可以是，
所述第四区域中的所述清洗液供给孔的横截面积大于所述第一区域中的所述清洗液供给孔的横截面积，
所述第三区域中的所述清洗液供给孔的横截面积大于所述第四区域中的所述清洗液供给孔的横截面积，且小于所述第二区域中的所述清洗液供给孔的横截面积。
[概念6]
在本发明的概念1至5中任一项的清洗部件安装部中，也可以是，
在所述主体的内部延伸的清洗液导入部的横截面积与所述第二区域中的所述清洗液供给孔的横截面积对应。
[概念7]
在本发明的概念1至6中任一项的清洗部件安装部中，也可以是，
所述第二区域中的所述清洗液供给孔的长度方向上的间距宽度小于所述第一区域中的所述清洗液供给孔的长度方向上的间距宽度。
[概念8]
在本发明的概念1至7中任一项的清洗部件安装部中，也可以是，
在所述第二区域中，所述清洗液供给孔在沿着长度方向的相同的位置处设有多个，
所述第二区域中的沿着长度方向的相同的位置处的所述清洗液供给孔的数量比所述第一区域中的沿着长度方向的相同的位置处的所述清洗液供给孔的数量多。
[概念9]
在本发明的概念8的清洗部件安装部中，也可以是，
在沿着轴向观察时，所述第二区域中的沿着长度方向的相同的位置处的所述清洗液供给孔以大致90度的间隔配置，
在沿着轴向观察时，所述第一区域中的沿着长度方向的相同的位置处的所述清洗液供给孔以大致180度的间隔配置。
[概念10]
本发明的清洗部件组件也可以具备：
本发明设为概念1至9中的任一项的清洗部件安装部；以及
清洗部件，该清洗部件设置于所述清洗部件安装部的表面。
[概念11]
本发明的基板清洗装置也可以具备：
基板支承部，该基板支承部用于保持基板；
清洗部件组件，该清洗部件组件具有本发明的概念1至9中的任一项的清洗部件安装部和设置于所述清洗部件安装部的表面的清洗部件；以及
清洗部件保持部，该清洗部件保持部保持所述清洗部件组件。
[概念12]
也可以是，本发明的清洗部件组件具备：
组件主体；以及
多个结节，该多个结节从所述组件主体向外突出，
所述组件主体具有：
孔隙，该孔隙在所述组件主体的内部延伸；以及
多个清洗液供给孔，该多个清洗液供给孔与所述孔隙连通，并且朝向所述组件主体或所述结节排出清洗液，
所述孔隙构成为所述洗浄液从第一端部侧流入，
位于与所述第一端部相反一侧的第二端部侧的第二区域中的所述清洗液供给孔所占据的所述主体的表面的面积比大于位于所述第一端部侧的第一区域中的所述清洗液供给孔所占据的所述主体的表面的面积比。
在本发明的概念12的清洗部件组件的一实施方式中，也可以是，所述组件主体构成为在该组件主体的内部延伸的具有孔隙的长条状的芯部与覆盖芯部外表面的多孔质的清洗层与芯部形成为一体，并且由多孔质的物质形成的多个结节向外突出，该多孔质的物质由与清洗层相同的材质构成。
[概念13]
在本发明的概念12的清洗部件组件中，也可以是，
所述结节通过成形于所述组件主体而形成。
发明效果
在本发明中，在采用第二区域中的清洗液供给孔所占据的主体的表面的面积比大于位于第一端部侧的第一区域中的清洗液供给孔所占据的主体的表面的面积比的方式的情况下，能够抑制从清洗部件排出的清洗液的排出量的不均匀。另外，能够防止所供给的内部冲洗液这样的清洗液流出到从动部侧。
附图说明
图1是表示可在本发明的第一实施方式中使用的清洗部件保持部的一例的立体图。
图2是表示可在本发明的第一实施方式中使用的基板清洗装置的立体图。
图3是可在本发明的第一实施方式中使用的清洗部件组件的立体图。
图4是表示可在本发明的第一实施方式中使用的清洗部件组件的一例的侧方剖视图。
图5是表示可在本发明的第一实施方式中使用的清洗部件组件的另外的例子的侧方剖视图。
图6是表示可在本发明的第一实施方式中使用的清洗部件安装部的一例的侧方剖视图。
图7是表示可在本发明的第一实施方式中使用的清洗部件安装部的另外的例子的侧方剖视图。
图8的(a)是表示在本发明的第一实施方式的实施例中所使用的托盘等的图，图8的(b)是表示在本发明的第一实施方式的实施例中所使用的清洗部件组件的侧方剖视图。
图9的(a)是表示在本发明的第一实施方式的实施例中450ml/min的供给量下的实验结果的图表，图9的(b)是表示在本发明的第一实施方式的实施例中800ml/min的供给量下的实验结果的图表。
图10的(a)是表示比较例1中的实验结果的图表，图10的(b)是表示比较例2中的实验结果的图表。
图11是表示本发明的第一实施方式的基板处理装置的整体结构的概略俯视图。
图12是表示可在本发明的第二实施方式中使用的清洗部件组件的另外的例子的侧方剖视图。
图13的(a)是表示可在本发明的第三实施方式中使用的清洗部件安装部的另外的例子的侧方剖视图，图13的(b)是沿图13的(a)的直线B-B剖切清洗部件安装部而得到的横截面图，图13的(c)是沿图13的(a)的直线C-C剖切清洗部件安装部而得到的横截面图。
图14是表示可在本发明的各实施方式中使用的清洗部件组件的变形例的侧方剖视图。
图15是表示可在本发明的各实施方式中使用的清洗部件组件的另外的变形例的侧方剖视图。
图16是表示可在本发明的各实施方式中使用的清洗部件组件的又一变形例的侧方剖视图。
图17是用于说明制造可在本发明的各实施方式中使用的一体成形的清洗部件的方法的一例的图。
图18是表示可在本发明的各实施方式中使用的清洗部件组件的又一变形例的侧方剖视图。
符号说明
10...清洗部件安装部、11...第一端部、12...第二端部、20...主体、30...清洗液导入部、40...清洗液供给孔、90...清洗部件、100...清洗部件保持部、200...基板支承部。
具体实施方式
第一实施方式
《结构》
对包括基板清洗装置等的基板处理装置的第一实施方式进行说明。
如图11所示，本实施方式的基板处理装置具有：大致矩形形状的壳体310；以及装载口312，在该装载口312载置有存放多个基板W的基板盒。装载口312与壳体310相邻地配置。在装载口312能够搭载开口盒、SMIF(Standard Manufacturing Interface：标准制造接口)盒或FOUP(Front Opening Unified Pod：前开式晶片盒)。SMIF盒、FOUP是通过在内部收纳基板盒，并且利用分隔壁进行覆盖而能够保持与外部空间独立的环境的密闭容器。作为基板W，能够列举例如半导体晶片等。
在壳体310的内部收纳有：多个(在图11所示的方式中为四个)研磨单元314a～314d；对研磨后的基板W进行清洗的第一清洗单元316和第二清洗单元318；以及使清洗后的基板W干燥的干燥单元320。研磨单元314a～314d沿着基板处理装置的长度方向排列，清洗单元316、318以及干燥单元320也沿着基板处理装置的长度方向排列。根据本实施方式的基板处理装置，在直径为300mm或450mm的半导体晶片；平板；CMOS(Complementary MetalOxide Semiconductor：互补金属氧化物半导体)、CCD(Charge Coupled Device：电荷耦合器件)等图像传感器；MRAM(Magnetoresistive Random Access Memory：磁阻随机存储器)中的磁性膜的制造工序中，能够对各种基板W进行研磨处理。此外，作为另外的实施方式的基板处理装置，也可以不在壳体310内设置对基板W进行研磨的研磨单元而设为进行基板W的清洗处理以及干燥处理的装置。
在由装载口312、位于装载口312侧的研磨单元314a和干燥单元320围成的区域配置有第一输送自动装置322。另外，与研磨单元314a～314d以及清洗单元316、318和干燥单元320平行地配置有输送单元324。第一输送自动装置322从装载口312接收研磨前的基板W并交接给输送单元324，或者第一输送自动装置322从输送单元324接收从干燥单元320取出的干燥后的基板W。
在第一清洗单元316与第二清洗单元318之间配置有第二输送自动装置326，该第二输送自动装置326在这些第一清洗单元316与第二清洗单元318之间进行基板W的交接，在第二清洗单元318与干燥单元320之间配置有第三输送自动装置328，该第三输送自动装置328在这些第二清洗单元318与干燥单元320之间进行基板W的交接。进一步，在壳体310的内部配置有整体控制部350，该整体控制部350包含在对基板处理装置的各设备的动作进行控制的控制部内。在本实施方式中，使用在壳体310的内部配置有整体控制部350的方式进行说明，但并不限于此，可以在壳体310的外部配置整体控制部350，整体控制部350也可以设置于远程处。
作为第一清洗单元316，也可以使用辊清洗装置，该辊清洗装置在存在清洗液的情况下，使横跨基板W的直径的大致全长并直线状地延伸的辊清洗部件90与基板W接触，并且使辊清洗部件90一边绕与基板W平行的中心轴自转，一边对基板W的表面进行擦洗。另外，作为第二清洗单元318，也可以使用笔清洗装置，该笔清洗装置在存在清洗液的情况下，使沿铅垂方向延伸的圆柱状的笔清洗部件90的接触面与基板W接触，并且使笔清洗部件90一边自转，一边朝向一个方向移动而对基板W的表面进行擦洗。另外，作为干燥单元320，也可以使用旋转干燥单元，该旋转干燥单元从移动的喷射喷嘴朝向水平地保持且旋转的基板W喷出IPA蒸汽而使基板W干燥，进一步使基板W高速旋转而利用离心力使基板W干燥。
此外，作为第一清洗单元316，也可以不是辊清洗装置而使用与第二清洗单元318相同的笔清洗装置，或者使用通过双流体喷射而对基板W的表面进行清洗的双流体喷射清洗装置。另外，作为第二清洗单元318，也可以不是笔清洗装置而使用与第一清洗单元316相同的辊清洗装置，或者使用通过双流体喷射而对基板W的表面进行清洗的双流体喷射清洗装置。
在本实施方式的清洗液中包含纯水(DIW)等冲洗液；氨过氧化氢(SC1)、盐酸过氧化氢(SC2)、硫酸过氧化氢(SPM)、硫酸加水、氢氟酸等药液。在本实施方式中，只要没有特别说明，清洗液是指冲洗液、药液或者冲洗液和药液这两方。
如图4以及图5所示，本实施方式的基板清洗装置也可以具有清洗部件保持部100和供给部110，该清洗部件保持部100具有可旋转地保持用于对基板W进行清洗的清洗部件组件1的轴承部，该供给部110向清洗部件组件1内供给清洗液。清洗液是典型的内部冲洗液，例如是纯水。可是，并不限于这样的方式，也可以使用药液。如图2所示，基板清洗装置也可以具有保持基板W的基板支承部200。基板支承部200可以将基板W保持为沿水平方向延伸，也可以保持为沿铅垂方向延伸，也可以保持为从水平方向倾斜。基板支承部200可以一边通过卡盘或吸附来保持基板W一边使基板W旋转，也可以如图2中所示的主轴那样一边使基板W旋转一边支承基板W。也可以设置向基板W供给药液的药液供给部210和向基板W供给冲洗液的冲洗液供给部220。此外，图4以及图5是清洗部件组件的侧方剖视图，但是为通过清洗部件安装部10的中心线(参照图3)的剖面，并且表示在未设置有结节的部位剖切的剖面。另外，后述的图6、图7、图8的(b)、图12以及图13的(a)也是相同的，是通过清洗部件安装部10的中心线的剖面，并且表示在未设置有结节的部位剖切的剖面。此外，图3中表示的中心线与图2中的清洗部件组件1的旋转轴一致。
也可以在400ml/min～1000ml/min的范围内供给内部冲洗液等清洗液。清洗部件组件1也可以通过清洗部件保持部100而以50rpm～300rpm的转速旋转。
如图3所示，清洗部件组件1也可以具有：清洗部件安装部10；以及安装于清洗部件安装部10的表面的清洗部件90。在以下，作为一例，使用辊清洗部件90作为清洗部件90进行说明。辊清洗部件90也可以由具有多个结节(突起部件)95的海绵构成。另外，一般地，当辊清洗部件90的累积使用时间变长时，在基板清洗过程中所受到的按压力以及摩擦力的影响积蓄在部件中而产生变形，并且存在清洗部件的弹力降低的倾向。因此，在一实施方式中，将辊清洗部件的壁厚设为清洗部件安装部10的最大半径的45％以下，将结节95的突出高度设为清洗部件安装部10的最大半径的5％～25％，也能够抑制由累积使用时间变长引起的清洗部件的弹力降低的显著化(此外，清洗部件安装部的最大半径是指从清洗部件安装部的长度方向上观察到的轴中心至结节95的顶部的距离)。进一步，在一实施方式中，在清洗部件安装部10安装有辊清洗部件90的状态下，将结节95的突出高度设为辊清洗部件90的最大半径5％～25％以下，能够更加抑制由累积使用时间变长引起的清洗部件的弹力降低的显著化。
在一实施方式中，能够将结节95的顶部的面积设为5cm2以下。
在一实施方式中，能够使用PVDF、PTFE作为清洗部件安装部10的材料。
清洗部件组件1的一端部也可以由清洗部件保持部100从动地保持，清洗部件组件1的另一端部也可由具有电机的驱动部(未图示)驱动。也就是说，清洗部件保持部100也可以具有：由驱动部驱动的第二清洗部件保持部100b；以及从动地被驱动的第一清洗部件保持部100a(参照图4以及图5)。
如图1所示，清洗部件安装部10也可以具有：主体20；在主体20的内部延伸的清洗液导入部(孔隙)30；以及与清洗液导入部30连通的多个清洗液供给孔40。清洗部件安装部10也可以由具有中空区域的圆筒形状构成。也可以构成为该中空区域成为清洗液导入部30，清洗液供给孔40与清洗液导入部30连通，被供给到清洗液导入部30的清洗液浸入清洗部件90，并且在对基板W进行清洗时使用。
如图4以及图5所示，也可以经由设置于第一清洗部件保持部100a的内部的供给管120而导入流向清洗液导入部30的清洗液。在该情况下，清洗液从作为从动地被保持的一端部的第一端部11侧向清洗液导入部30内流入。此外，在图4以及图5中，与图1所示的方式不同，仅设置有在图4以及图5的上下方向延伸的清洗液供给孔40。
位于与第一端部11相反一侧的第二端部12侧的第二区域中的清洗液供给孔40所占据的主体20的表面的面积比也可以比位于第一端部11侧的第一区域中的清洗液供给孔40所占据的主体20的表面的面积比大(参照图6以及图7)。换言之，在对沿着长度方向的相同距离处比较时的第一端部11侧的开孔率/单位面积与第二端部侧的开孔率/单位面积进行比较时，可以说第一端部11侧的开孔率/单位面积＜第二端部12侧的开孔率/单位面积。此外，在图6以及图7中，与图1所示的方式相同，设置有沿图6以及图7的上下方向延伸的清洗液供给孔40和沿图6以及图7的纸面的法线方向延伸的清洗液供给孔40，在图6以及图7中表示了沿纸面的法线方向延伸的清洗液供给孔40中的位于纸面里侧的清洗液供给孔40(参照图13的(a)、(c))。
在本实施方式中，将在主体20的表面中清洗液供给孔40所占据的面积比也称为“供给孔面积比”。基于该供给孔面积比，沿着清洗部件安装部10的长度方向(轴线方向)分割区域，将位于最靠近第一端部11侧并且由相同的供给孔面积比构成的区域称为第一区域，将最靠近第二端部12侧并且由相同的供给孔面积比构成的区域称为第二区域。
通过将主体20的表面中的清洗液供给孔40的面积除以假设在主体20中不存在清洗液供给孔40的主体20的表面积而得出的比例来求得供给孔面积比。也就是说，在将假设在第一区域中不存在清洗液供给孔40的主体20的表面积设为S1，并且将在该第一区域中主体20的表面中的清洗液供给孔40的面积的总和设为s1的情况下，以s1/S1来计算第一区域的供给孔面积比，在将假设在第二区域中不存在清洗液供给孔40的主体20的表面积设为S2，并且将在该第二区域中主体20的表面中的清洗液供给孔40的面积的总和设为s2的情况下，以s2/S2来计算第二区域的供给孔面积比。并且，具有s1/S1＜s2/S2这样的关系。
第二区域中的清洗液供给孔40的横截面积也可以比第一区域中的清洗液供给孔40的横截面积大。清洗液供给孔40的横截面积是指与清洗液供给孔40延伸的方向(清洗部件安装部10的径向)正交的横截面的面积。清洗液供给孔40的横截面积可以在清洗液供给孔40延伸的方向(清洗部件安装部10的径向)上为恒定的值且为圆筒形状，但也可以在清洗液供给孔40延伸的方向上变化且例如为接头圆锥形状，外表面侧的横截面积也可以比内表面侧的横截面积大，相反地，内表面侧的横截面积也可以比外表面侧的横截面积大。在清洗液供给孔40延伸的方向上变化的情况下，在本方式中，在清洗液供给孔40延伸的方向(径向)的相同位置进行比较时，第二区域中的清洗液供给孔40的横截面积比第一区域中的清洗液供给孔40的横截面积大。
可以为仅设有第一区域和第二区域的方式，但并不限于此，也可以设置第三区域、第四区域、…、第n区域(“n”为3以上的整数)。各区域中的清洗液供给孔40的直径也可以在4mm以上且11mm以下的范围内，若进一步限定的话，则各区域中的清洗液供给孔40的直径也可以在5mm以上10mm以下的范围内。直径最大的清洗液供给孔40也可以具有直径最小的清洗液供给孔40的1.5倍以上且2.5倍以下的直径，若进一步限定的话，则直径最大的清洗液供给孔40也可以具有直径最小的清洗液供给孔40的1.7倍以上且2.0倍以下的直径。此外，由于以往的清洗部件安装部中的清洗液供给孔40的直径为1mm左右，因此将清洗液供给孔40的直径设为5mm以上是使直径显著变大的方式。
也可以将清洗液导入部30的直径设为8mm以上且11mm以下。由于以往的清洗部件安装部中的清洗液导入部30的直径为7mm左右，因此将清洗液导入部30的直径设为8mm以上时，使直径变大。
作为一例，如图6所示，也可以在第一区域与第二区域之间设有第三区域。在采用该方式的情况下，第三区域中的清洗液供给孔40所占据的主体20的表面的面积比(供给孔面积比)也可以比第一区域中的清洗液供给孔40所占据的主体20的表面的面积比(供给孔面积比)大，且比第二区域中的清洗液供给孔40所占据的主体20的表面的面积比(供给孔面积比)小。
作为另外的例子，如图7所示，也可以在第三区域与第一区域之间设有第四区域。在采用该方式的情况下，第四区域中的清洗液供给孔40所占据的主体20的表面的面积比(供给孔面积比)也可以比第一区域中的清洗液供给孔40所占据的主体20的表面的面积比(供给孔面积比)大，且比第三区域中的清洗液供给孔40所占据的主体20的表面的面积比(供给孔面积比)小。
第四区域中的清洗液供给孔40的横截面积也可以比第一区域中的清洗液供给孔40的横截面积大。另外，第三区域中的清洗液供给孔40的横截面积也可以比第四区域中的清洗液供给孔40的横截面积大，且比第二区域中的清洗液供给孔40的横截面积小。
在设有第三区域以上的区域的情况下，编号最大的第n区域与第一区域相邻地设置，编号最小的第三区域与第二区域相邻地设置，进而从第三区域至第n区域以升序设有各区域。如前所述，由于基于供给孔面积比而沿着清洗部件安装部10的长度方向分割区域，因此在各区域中供给孔面积比不同。在采用在第一端部11侧供给孔面积比变小，并且在第二端部12侧供给孔面积比变大的方式的情况下，第一区域中的供给孔面积比为最小，第n区域中的供给孔面积比为第二小，第n-1区域中的供给孔面积比为第三小，…，第四区域中的供给孔面积比为第三大，第三区域中的供给孔面积比为第二大，第二区域中的供给孔面积比为最大。
在构成不同的供给孔面积比的清洗液供给孔40的中间地点沿着以轴线方向作为法线方向的面方向(沿着清洗部件安装部10的径向)形成各区域的边界。如本方式那样，在清洗液供给孔40的横截面积改变的情况下，在沿着轴线方向观察时在具有不同的横截面积的清洗液供给孔40(位于各区域的端部的清洗液供给孔40)的中间地点形成各区域的边界。例如，在如图6所示的方式中，从左侧起第四个清洗液供给孔40与第五个清洗液供给孔40的中间地点成为第一区域与第三区域的边界，从左侧起第十个清洗液供给孔40与第11个清洗液供给孔40的中间地点成为第三区域与第四区域的边界。
在主体20的内部延伸的清洗液导入部30的横截面积也可以与横截面积最大的第二区域中的清洗液供给孔40的横截面积对应。在本发明中，“对应”是指两者的差以大的值为基准而在5％的范围内的差，并且是指在将清洗液导入部30的横截面积设为Sa，将第二区域中的清洗液供给孔40的横截面积设为Sb的情况下，若Sa≤Sb的话，则0.95×Sb≤Sa≤Sb，若Sa＞Sb的话，则Sa＞Sb≥0.95×Sa。
如图1所示，在沿着轴向(清洗部件90的长度方向)观察时，清洗液供给孔40也能以彼此呈180度的角度而一对对地设置，并且直线状地设有两个清洗液供给孔40。另外，在沿着轴向观察时，在轴向上相邻的一对清洗液供给孔40也能以彼此仅相差大致90度的角度定位。通过像这样直线状地设置两个清洗液供给孔40，能够容易地形成清洗液供给孔40。另外，通过在沿着轴向观察时以彼此相差大致90度量的角度设置清洗液供给孔40，能够平衡性良好地经由清洗液供给孔40而向清洗部件90供给清洗液。可是，这样的清洗液供给孔40的配置方式并不限于一例，在沿着轴向(清洗部件90的长度方向)观察时，也能以各种角度配置清洗液供给孔40。另外，与在轴向上相邻的清洗液供给孔40的位置关系也能够采用各种方式。
当将清洗部件安装部10视为歧管来考虑时，歧管内的分支流量由歧管内的压力分布决定。在每个分支(每个清洗液供给孔40)中存在静压上升的倾向，并且伴随于此流量也存在增加的倾向。可是，该倾向根据损失比(损失比＝(歧管截面积/总分支管面积)2)而不同。在本实施方式中所使用的清洗部件安装部10中，典型地，损失比≤1，因此存在流量随着朝向第二端部12侧而增加的倾向。并且，如下述公式所示，在截面积相同的条件下，流量增加意味着流速快＝压力高。
Q(流量)＝C(流出系数)×A(截面积)×V(流速)
＝C×A×(2×P(圧力)/ρ(流体密度))0.5
由上可知，为了使流量在长度方向上接近恒定，可以考虑采用以下方式。
1.减小第二端部12侧的流速＝降低压力
2.扩大清洗部件安装部10的直径
3.对清洗液供给孔40进行节流并根据压力分布而改变各个孔径。
4.将清洗部件安装部10设为尖端较细的锥形管等而使主管的流速均匀。
上述“1”～“4”中，在本实施方式中采用“1”以及“2”。可是，并不限于此，也能够采用上述“3”以及“4”的方式。
为了防止第一清洗部件保持部100a(根端部)处的逆流，也可以在第一清洗部件保持部100a安装了清洗部件安装部10之后，由密封部件160覆盖而保有密封性(参照图14)。或者，也可以在清洗部件安装部10与清洗部件90接触的滑动部直接设置密封部件160(O型圈等)而提高密封性(未图示)。另外，也可以在清洗部件安装部10的流入口设置止回阀170(参照图15)。
另外，也可以对清洗部件90的第二端部12侧(顶端部)的孔隙率与第一端部11侧(根端部)的孔隙率设置差异。典型地，在使用海绵作为清洗部件90的情况下，也可以设定为：清洗部件90的第二端部12侧(顶端部)的孔隙率＞第一端部11侧(根端部)的孔隙率。例如，能够将清洗部件90的第二端部12侧(顶端部)的孔隙率设为90％，将第一端部11侧(根端部)的孔隙率设为80％。
在此，孔隙率能够按照以下公式进行定义。
孔隙率(％)＝(表观体积-真实体积)/(表观体积)×100
实际上，利用干燥机充分干燥对象部件之后通过干式自动密度计对密度进行测定，然后根据该密度计算表观体积和真实体积，从而得到孔隙率。
此外，当孔隙率为80％以下时，清洗部件容易挠曲，当孔隙率为98％以上时，在对基板进行清洗时无法确保所需的强度，反而清洗性能降低，因此不优选
如图16所示，在清洗部件组件1中，清洗部件安装部10和清洗部件90可以构成为一体，也可以在清洗部件安装部10上成形清洗部件90。在该情况下，由清洗部件安装部10和清洗部件90构成组件主体910。清洗部件组件1也可以具有：圆柱形状的组件主体910；以及从组件主体910向外突出的多个结节95。并且，组件主体910也可以具有：在内部延伸的清洗液导入部30；与清洗液导入部30连通的多个清洗液供给孔40。辊清洗部件90也可以由PVA海绵材料构成。该PVA海绵材料能够由聚乙酸乙烯酯的均聚物等进行调整。作为辊清洗部件90的材料，能够使用尼龙、聚氨酯、或聚氨酯以及PVA的组合、或者不会损伤基板表面且提供适合工艺用的材料去除的其他共聚物等的其他能够成形的材料。
在一实施方式中，由构成第一端部11的盖部件、具有孔951a的内框951以及外框952形成模具(参照图17)。在形成模具的内框951的内部插入清洗部件安装部10。此外，能够在清洗部件安装部10的内部填充填料(例如，腊)之后，安装盖住清洗液供给孔40的各个开口部的盖部件。接着，使用未图示的喷嘴而使得将构成辊清洗部件90的PVA材料与至少包含聚合度500～4000且皂化度80％以上的聚乙烯醇的水溶液和作为醛系交联剂、催化剂以及气孔形成剂的淀粉混合而得到的混合液(或者发泡性溶液)流入内框951与清洗部件安装部10之间。之后，将构成第二端部12的盖部件安装于清洗部件安装部10、内框951以及外框952，以40～80度进行加热，并使液体反应。这样一来，具有在内部延伸的孔隙的长条状的清洗部件安装部10和覆盖清洗部件安装部10的外表面的多孔质的清洗层(PVA多孔质层)与清洗部件安装部10形成为一体，且，由与清洗层相同的多孔质的PVA构成的多个结节形成为向外突出。
各个内框951以及外框952能够进行开闭，接着，通过打开这些内框951以及外框952，从而从模具中拆下清洗部件安装部10。然后，通过规定的方法去除填充到清洗部件安装部10的内部的填料(例如，腊)，并且拆下盖住清洗液供给孔40的各个开口部的盖部件。
接着，分别对清洗部件安装部10的内部以及清洗液供给孔40的各开口部、辊清洗部件90进行水洗。通过该一系列的工序，能够以抑制使用时的逆污染的问题产生的形式，通过在清洗部件安装部10上一体成形由PVA材料构成的清洗部件90来进行制造(模制成形)。
在一实施方式中，在通过一体成形而在清洗部件安装部10上制造由PVA材料构成的清洗部件90时，能够在与清洗部件90的清洗液供给孔40的各开口部对应的部位产生凹部的方式成形由PVA材料构成的清洗部件。通过设定为这样的清洗部件组件，能够更加有效地防止从清洗部件安装部10向清洗部件90排出的清洗液在内部逆流。
在一实施方式中，清洗部件组件1能够通过粘接剂来固定安装清洗部件安装部10和辊清洗部件90。
在一实施方式中，清洗部件组件1形成为使辊清洗部件90的内径比清洗部件安装部10的外径小，通过向清洗部件安装部10压入辊清洗部件90而利用辊清洗部件90的弹力，固定地支承清洗部件安装部10和辊清洗部件90。进一步，在一实施方式中，能够预先在清洗部件安装部10的表面涂布表面活性剂，并且使辊清洗部件90插入到清洗部件安装部10后，用水来冲洗、清洗清洗部件安装部10、辊清洗部件90而去除表面活性剂。
在一实施方式中，能够将清洗部件90的平均气孔径设为50μm～250μm(此处的平均气孔径是指从对象区域的多个气孔中随机抽取的规定数量的气孔的长径的平均值)。另外，在一实施方式中，能够将清洗部件90的表观密度设定为0.05g/cm3以上，将保水率设定为500％～1200％。另外，在一实施方式中，能够将清洗部件90在适当的含水状态下的30％的压缩应力设定为3kPa以上且200kPa以下。此外，适当的含水状态是相对于干燥状态的含水状态的重量％，是指在对基板进行清洗处理等时，清洗部件90具有恰当的弹力的含水状态。另外，30％的压缩应力是指在将清洗部件90设定为适当的含水状态的基础上，以从两侧的端面施加负载并利用数字负载测定器测定沿长度方向压扁30％时的负载而得到的值为基础，将测定值除以端面的面积而得到的每单位面积的负载。
《效果》
接下来，将以尚未说明的、由上述结构构成的本实施方式所带来的效果为中心进行说明。即使是在没有在“结构”中记载的情况下，也能够在本发明中采用在“效果”中说明的各种结构。
在采用第二区域中的清洗液供给孔40所占据的主体20的表面的面积比大于位于第一端部11侧的第一区域中的清洗液供给孔40所占据的主体20的表面的面积比的方式的情况下(参照图6以及图7)，能够抑制从清洗部件90排出的清洗液的排出量的不均匀。另外，能够防止所供给的内部冲洗液这样的清洗液流出到从动部侧。作为一例，即使以450ml/min的量供给清洗液，若是以往的技术则清洗液会流出到从动部侧，并且被供给到基板W的清洗液的量会变少，但通过采用本方式，能够使流动到从动部侧的清洗液的量减少(根据情况，可能会减少至没有)。
像这样，通过使流动到从动部侧的清洗液的量减少，能够使向基板W供给的清洗液的量接近准确的值，进而能够提高基板W的清洗精度。另外，通过抑制从清洗部件90排出的清洗液的排出量的不均匀，能够提高基板W的清洗效率。另外，由于能够像这样高效地将清洗液提供到基板W，因此也能够减少所需的清洗液的量。
此外，也可以考虑采用在清洗部件安装部10的外表面(清洗液供给孔40的外缘部)设置挖入部(凹部)来促进清洗液的流出的方式。然而，在采用该方式的情况下，由于灰尘容易积压在清洗部件安装部10的外表面与清洗部件90的内表面之间，因此在这点上不是优选的方式。
在采用第二区域中的清洗液供给孔40的横截面积大于第一区域中的清洗液供给孔40的横截面积的方式的情况下，通过使清洗液供给孔40的横截面积变大，能够抑制从清洗部件90排出的清洗液的排出量的不均匀，并且减少流动到从动部侧的清洗液的量。根据该方式，由于仅需要对清洗液供给孔40的大小进行调节，因此能够容易地进行加工。
在采用第三区域中的清洗液供给孔40所占据的主体20的表面的面积比大于第一区域中的清洗液供给孔40所占据的主体20的表面的面积比，且小于第二区域中的清洗液供给孔40所占据的主体20的表面的面积比的方式的情况下(参照图6)，能够分成三个以上的区域，并随着从被供给清洗液的第一端部11(从动部侧)朝向第二端部12而使供给孔面积比变大。
在采用第四区域中的清洗液供给孔40所占据的主体20的表面的面积比大于第一区域中的清洗液供给孔40所占据的主体20的表面的面积比，且小于第三区域中的清洗液供给孔40所占据的主体20的表面的面积比的方式的情况下(参照图7)，能够分成四个以上的区域，并随着从被供给清洗液的第一端部11(从动部侧)朝向第二端部12而使供给孔面积比变大。
在采用在第一端部11侧供给孔面积比变小，并且在第二端部12侧供给孔面积比变大的方式的情况下，并且，在采用第一区域中的供给孔面积比为最小，第n区域中的供给孔面积比为第二小，第n-1区域中的供给孔面积比为第三小，…，第三区域中的供给孔面积比为第二大，第二区域中的供给孔面积比为最大的方式的情况下，能够随着从被供给清洗液的第一端部11(从动部侧)朝向第二端部12而使供给孔面积比变大，进而能够期待高精度地抑制从清洗部件90排出的清洗液的排出量的不均匀，并且使流动到从动部侧的清洗液的量减少(根据情况，可能会减少至没有)。
在采用第四区域中的清洗液供给孔40的截面积大于第一区域中的清洗液供给孔40的横截面积，并且第三区域中的清洗液供给孔40的横截面积大于第四区域中的清洗液供给孔40的横截面积且小于第二区域中的清洗液供给孔40的横截面积的方式的情况下，仅对第一区域至第四区域中的清洗液供给孔40的横截面积进行调节，就能够对这些区域中的供给孔面积比进行调节。
通过将位于最靠近第二端部12侧的第二区域中的清洗液供给孔40的横截面积设为与在主体20的内部延伸的清洗液导入部30的横截面积对应的大小，能够使流入到清洗液导入部30内的清洗液更加可靠地从第二区域中的清洗液供给孔40排出，进而能够防止清洗液流出到从动部侧。也就是说，通过将第二区域中的清洗液供给孔40的横截面积设为与清洗液导入部30的横截面积对应的大小，能够使流入至第二端部12侧的清洗液更加可靠地从第二区域中的清洗液供给孔40排出。
此外，本发明并不限于上述这样的方式，也能够采用第p区域中的供给孔面积比不小于第q区域中的供给孔面积比的方式(“p”以及“q”是2以上的整数，并且“p”是比“q”大的整数)。也就是说，可以采用这样的方式：第p区域中的供给孔面积比≥第q区域中的供给孔面积比，也可以采用这样的方式：第p区域中的清洗液供给孔40的横截面积≥第q区域中的清洗液供给孔40的横截面积。作为一例，第四区域中的清洗液供给孔40的横截面积也可以为第三区域中的清洗液供给孔40的横截面积以上。这是因为在对排出量的不均匀进行调节时，位于第二端部12侧的区域中的供给孔面积比大于位于第一端部11侧的区域中的供给孔面积比并不一定是优选的。因此，根据情况，可以采用第一区域中的供给孔面积比不是最小的方式，也可以设置比第一区域中的供给孔面积比小的供给孔面积比的区域。
[实施例]
对本实施方式的实施例进行说明。
在实施例中，准备将由海绵构成的清洗部件90的长度方向分成10等分后的托盘500(参照图8的(a))，并且对聚集在各部位的内部冲洗液的量进行测定。将第一端部11侧设为“1”，并向第二端部12侧以升序分配编号直到“10”，将位于最靠近第二端部12侧的部位设为“10”。
在实施例中，如图8的(b)所示，在沿着清洗部件组件1的长度方向的13个部位设有清洗液供给孔40(个数为26个)，在第一区域中沿着长度方向的两个部位设有清洗液供给孔40(个数为4个)，在第四区域中沿着长度方向的两个部位设有清洗液供给孔40(个数为4个)，在第三区域中沿着长度方向的七个部位设有清洗液供给孔40(个数为14个)，在第二区域中沿着长度方向的两个部位设有清洗液供给孔40(个数为4个)。采用如下结构：位于主体20内的清洗液导入部30以及清洗液供给孔40各自构成为圆筒形状，清洗液导入部30的直径为9mm，第二区域中的清洗液供给孔40的直径是9mm，第三区域中的清洗液供给孔40的直径是8mm，第四区域中的清洗液供给孔40的直径是6.5mm，第一区域中的清洗液供给孔40的直径是5mm。实施例中的清洗液供给孔40的间距宽度(参照图12)为24mm。采用如下结构：清洗部件安装部10的长度方向的长度为327mm，清洗部件90的长度方向的长度为309mm。
根据实施例的实验结果如下表1所示，在供给量为450ml/min以及800ml/min，且转速为50rpm、100rpm、150rpm以及200rpm的各个情况下，不存在排出量为10mm以下的部位，在成为最大排出量的部位，排出量最多的部位是排出量最少的部位的2.3倍左右。当将表1的结果用图表来表示时，如图9所示。
【表1】
Figure BDA0002379735840000171
[比较例]
在比较例中，除了清洗液导入部30以及清洗液供给孔40的直径不同之外，是与实施例相同的方式。
在比较例1中，也与实施例相同，在沿着清洗部件组件1的长度方向的13个部位设有清洗液供给孔40(个数为26个)。在比较例1中，位于主体20内的清洗液导入部30以及清洗液供给孔40各自构成为圆筒形状，清洗液导入部30的直径为8mm，各清洗液供给孔40的直径为5mm。由该比较例1带来的结果如下，存在排出量为10mm以下的部位，而且在成为最大排出量的部位也达到60mm，排出量最多的部位为排出量最少的部位的6倍。当将表2的结果用图表来表示时，如图10的(a)所示。
【表2】
Figure BDA0002379735840000172
在比较例2中，也与实施例相同，在沿着清洗部件组件1的长度方向的13个部位设有清洗液供给孔40(个数为26个)。在比较例2中，位于主体20内的清洗液导入部30以及清洗液供给孔40各自构成为圆筒形状，清洗液导入部30的直径为9mm，各清洗液供给孔40的直径为5mm。由该比较例2带来的结果如下。虽然与比较例1相比结果更好，但是存在排出量为10mm以下的部位，而且在成为最大排出量的部位也达到40mm，排出量最多的部位为排出量最少的部位的4倍。当将表3的结果用图表来表示时，如图10的(a)所示。
【表3】
Figure BDA0002379735840000181
另外，在采用清洗液供给孔40的直径为1mm～1.2mm的方式的情况下，还在托盘500中确认了存在清洗液没有从清洗部件90流出的部位。
第二实施方式
接下来，对本发明的第二实施方式进行说明。
如图12所示，在本实施方式中，第二区域中的清洗液供给孔40的长度方向上的间距宽度比第一区域中的清洗液供给孔40的长度方向上的间距宽度小。在本实施方式中，通过采用这样的方式，从而使第二区域中的清洗液供给孔40所占据的主体20的表面的面积比(供给孔面积比)大于位于第一端部11侧的第一区域中的清洗液供给孔40所占据的主体20的表面的面积比(供给孔面积比)。对于其他结构，与第一实施方式是相同的，能够采用在第一实施方式中已说明的所有的方式。对于在第一实施方式中已说明的部件使用相同的附图标记进行说明。
即使是在如本实施方式那样对间距宽度进行调节的情况下，也能够通过简单的加工方法来使第二区域中的清洗液供给孔40所占据的主体20的表面的面积比大于位于第一端部11侧的第一区域中的清洗液供给孔40所占据的主体20的表面的面积比。
如已说明的能够采用在第一实施方式中已说明的各种方式那样，在本实施方式中，也可以设置三个以上的区域，也可以在三个以上的区域的每一个区域中使间距宽度不同。最长的间距宽度也可以为最短的间距宽度的1.5倍以上且2.5倍以下，若进一步限定的话，则最长的间距宽度也可以为最短的间距宽度的1.7倍以上且2.0倍以下。
本实施方式中的清洗液供给孔40各自的横截面积也可以在各区域中为相同的大小，但也可以如在第一实施方式中所说明的那样，在不同的区域中为不同的横截面积，也可以在多个不同的区域中的一部分的区域(例如，第一区域以及第四区域)中采用具有相同的横截面积的清洗液供给孔40，在剩下的区域(例如，第二区域以及第三区域)中采用具有不同的横截面积的清洗液供给孔40。
在本实施方式中，也能够采用第p区域中的供给孔面积比不小于第q区域中的供给孔面积比的方式(“p”以及“q”是2以上的整数，并且“p”是比“q”大的整数)。也就是说，可以采用这样的方式：第p区域中的供给孔面积比≥第q区域中的供给孔面积比，也可以采用这样的方式：第p区域中的清洗液供给孔40的长度方向上的间距宽度≤第q区域中的清洗液供给孔40的长度方向上的间距宽度。
另外，也可以通过组合清洗液供给孔40的长度方向上的间距宽度和清洗液供给孔40的横截面积来对供给孔面积比进行调节。例如，第r区域中的清洗液供给孔40的横截面积小于第t区域中的清洗液供给孔40的横截面积，但另一方面，第r区域中的间距宽度比第t区域中的间距宽度窄，其结果也可以是，第r区域中的供给孔面积比大于第t区域中的供给孔面积比(“r”以及“t”是整数)。
此外，作为变形例，也可以采用第二区域中的清洗液供给孔40的长度方向上的间距宽度大于第一区域中的清洗液供给孔40的长度方向上的间距宽度的方式。在该情况下，可以采用这样的方式：第p区域中的供给孔面积比≥第q区域中的供给孔面积比，也可以采用这样的方式：第p区域中的清洗液供给孔40的长度方向上的间距宽度≤第q区域中的清洗液供给孔40的长度方向上的间距宽度。
第三实施方式
接下来，对本发明的第三实施方式进行说明。
在本实施方式中，在第二区域中，清洗液供给孔40在沿着长度方向的相同的位置处设有多个，且第二区域中的沿着长度方向的相同的位置处的清洗液供给孔40的数量比第一区域中的沿着长度方向的相同的位置处的清洗液供给孔40的数量多(参照图13)。在本实施方式中，通过采用这样的方式，从而使第二区域中的清洗液供给孔40所占据的主体20的表面的面积比(供给孔面积比)大于位于第一端部11侧的第一区域中的清洗液供给孔40所占据的主体20的表面的面积比(供给孔面积比)。对于其他的结构，与第一实施方式或第二实施方式是相同的，能够采用在第一实施方式或第二实施方式中所说明的所有的方式。对于在第一实施方式或第二实施方式中已说明的部件使用相同的附图标记进行说明。
即使是在如本实施方式那样对沿着长度方向的相同的位置处的清洗液供给孔40的数量进行调节的情况下，也能够通过简单的加工方法来使第二区域中的清洗液供给孔40所占据的主体20的表面的面积比大于位于第一端部11侧的第一区域中的清洗液供给孔40所占据的主体20的表面的面积比。
沿着轴向观察时，第二区域中的沿着长度方向的相同的位置处的清洗液供给孔40以大致90度的间隔配置(参照图13的(c))，在沿着轴向观察时，第一区域中的沿着长度方向的相同的位置处的清洗液供给孔40也能以大致180度的间隔配置(参照图13的(b))。在本发明中，“大致A度”是指A度的±3度，例如，“大致90度”是指87度以上且93度以下。
如已说明的能够采用在第一实施方式中已说明的所有的方式那样，在本实施方式中，也可以设置三个以上的区域，也可以在三个以上的区域的每一个区域中使沿着长度方向的相同的位置处的清洗液供给孔40的数量不同。作为一例，在第三区域中，在沿着轴向观察时，清洗液供给孔40也能以大致120度的间隔配置。沿着长度方向的相同的位置处的最多的清洗液供给孔40的数量也可以为沿着长度方向的相同的位置处的最少的清洗液供给孔40的数量的1.5倍以上且3.0倍以下，若进一步限定的话，则沿着长度方向的相同的位置处的最多的清洗液供给孔40的数量也可以为沿着长度方向的相同的位置处的最少的清洗液供给孔40的数量的1.8倍以上且2.5倍以下。
也可以采用第p区域中的沿着长度方向的相同的位置处的清洗液供给孔40的数量少于第q区域中的沿着长度方向的相同的位置处的清洗液供给孔40的数量的方式(“p”以及“q”是2以上的整数，并且“p”是比“q”大的整数)。可是，并不限于此，也可以采用第p区域中的沿着长度方向的相同的位置处的清洗液供给孔40的数量比第q区域中的沿着长度方向的相同的位置处的清洗液供给孔40的数量多的方式。
本实施方式中的清洗液供给孔40各自的横截面积也可以在各区域中为相同的大小，但也可以如在第一实施方式中已说明的那样，在不同的区域中为不同的横截面积，也可以在多个不同的区域中的一部分的区域(例如，第一区域以及第四区域)中采用具有相同的横截面积的清洗液供给孔40，在剩下的区域(例如，第二区域以及第三区域)中采用具有不同的横截面积的清洗液供给孔40。
另外，本实施方式中的清洗液供给孔40的间距宽度也可以在各区域为相同的长度，但也可以如在第二实施方式中已说明的那样，在不同的区域中为不同的间距宽度，也可以在多个不同的区域中的一部分的区域(例如，第一区域以及第四区域)中以相同的间距宽度设置清洗液供给孔40，在剩下的区域(例如，第二区域以及第三区域)中以不同的间距宽度设置清洗液供给孔40。
另外，也可以组合沿着长度方向的相同的位置处的清洗液供给孔40的数量、清洗液供给孔40的长度方向上的间距宽度以及清洗液供给孔40的横截面积中的任一方或两方来对供给孔面积比进行调节。例如，第r区域中的清洗液供给孔40的截面积小于第t区域中的清洗液供给孔40的截面积，但另一方面，第r区域中的沿着长度方向的相同的位置处的清洗液供给孔40的数量比第t区域中的沿着长度方向的相同的位置处的清洗液供给孔40的数量多，其结果也可以是，第r区域中的供给孔面积比大于第t区域中的供给孔面积比(“r”以及“t”是整数)。另外，第r区域中的间距宽度比第t区域中的间距宽度短，但另一方面，第r区域中的沿着长度方向的相同的位置处的清洗液供给孔40的数量比第t区域中的沿着长度方向的相同的位置处的清洗液供给孔40的数量少，其结果也可以是，第r区域中的供给孔面积比小于第t区域中的供给孔面积比。
此外，作为变形例，也可以采用第二区域中的沿着长度方向的相同的位置处的清洗液供给孔40的数量比第一区域中的沿着长度方向的相同的位置处的清洗液供给孔40的数量少的方式。另外，在该情况下，也可以采用第p区域中的沿着长度方向的相同的位置处的清洗液供给孔40的数量比第q区域中的沿着长度方向的相同的位置处的清洗液供给孔40的数量多的方式。
另外，在另外的一实施方式中，例如，如图18所示，也可以是在作为旋转轴发挥作用的清洗部件安装部10的外周形成有凹凸的形状。该情况下的清洗部件安装部10也可以一体地具有第一端部11和第二端部12。
此外，一实施方式中的清洗部件清洗的处理对象物并不限于半导体晶片，也可以是硅晶片、玻璃基板、印刷配线基板、液晶面板、太阳能面板。另外，处理对象物的平面的形状可以是圆形，也可以是矩形，平面的厚度也可以是容许面内的弯曲的厚度。处理的基板包括方形基板、圆形基板。另外，角形基板包括矩形等多边形的玻璃基板、液晶基板、印刷基板、其他多边形的镀覆对象物。圆形基板包括半导体晶片、玻璃基板、其他圆形的镀覆对象物。
作为清洗液，能够应用高温的纯水、APM(Ammonium Hydrogen-peroxide Mixture、氨和过氧化氢水的混合液体)、SPM(Sulfuric-Acid Hydrogen Peroxide Mixture、硫酸和过氧化氢水的混合液)、碳酸水等。
上述的各实施方式的记载以及附图的公开仅是用于说明所要求保护的发明的一例，并不是通过上述的各实施方式的记载以及附图的公开来限定所要求保护的发明。另外，最初申请时的所要求保护的内容归根结底仅是一例，也能够基于说明书、附图等的记载而适当地变更所要求保护的内容。

Claims (13)

1.一种清洗部件安装部，在所述清洗部件安装部的表面安装有清洗部件，其特征在于，具备：
主体；
清洗液导入部，该清洗液导入部在所述主体的内部延伸；以及
多个清洗液供给孔，该多个清洗液供给孔与所述清洗液导入部连通，
所述清洗液导入部构成为所述清洗液从第一端部侧流入，
位于与所述第一端部相反一侧的第二端部侧的第二区域中的所述清洗液供给孔所占据的所述主体的表面的面积比大于位于所述第一端部侧的第一区域中的所述清洗液供给孔所占据的所述主体的表面的面积比。
2.如权利要求1所述的清洗部件安装部，其特征在于，
所述第二区域中的所述清洗液供给孔的横截面积大于所述第一区域中的所述清洗液供给孔的横截面积。
3.如权利要求1所述的清洗部件安装部，其特征在于，
在所述第一区域与所述第二区域之间设有第三区域，
所述第三区域中的所述清洗液供给孔所占据的所述主体的表面的面积比大于所述第一区域中的所述清洗液供给孔所占据的所述主体的表面的面积比，且小于所述第二区域中的所述清洗液供给孔所占据的所述主体的表面的面积比。
4.如权利要求3所述的清洗部件安装部，其特征在于，
在所述第三区域与所述第一区域之间设有第四区域，
所述第四区域中的所述清洗液供给孔所占据的所述主体的表面的面积比大于所述第一区域中的所述清洗液供给孔所占据的所述主体的表面的面积比，且小于所述第三区域中的所述清洗液供给孔所占据的所述主体的表面的面积比。
5.如权利要求4所述的清洗部件安装部，其特征在于，
所述第四区域中的所述清洗液供给孔的横截面积大于所述第一区域中的所述清洗液供给孔的横截面积，
所述第三区域中的所述清洗液供给孔的横截面积大于所述第四区域中的所述清洗液供给孔的横截面积，且小于所述第二区域中的所述清洗液供给孔的横截面积。
6.如权利要求1所述的清洗部件安装部，其特征在于，
在所述主体的内部延伸的清洗液导入部的横截面积与所述第二区域中的所述清洗液供给孔的横截面积对应。
7.如权利要求1所述的清洗部件安装部，其特征在于，
所述第二区域中的所述清洗液供给孔的长度方向上的间距宽度小于所述第一区域中的所述清洗液供给孔的长度方向上的间距宽度。
8.如权利要求1所述的清洗部件安装部，其特征在于，
在所述第二区域中，所述清洗液供给孔在沿着长度方向的相同的位置处设有多个，
所述第二区域中的沿着长度方向的相同的位置处的所述清洗液供给孔的数量比所述第一区域中的沿着长度方向的相同的位置处的所述清洗液供给孔的数量多。
9.如权利要求8所述的清洗部件安装部，其特征在于，
在沿着轴向观察时，所述第二区域中的沿着长度方向的相同的位置处的所述清洗液供给孔以大致90度的间隔配置，
在沿着轴向观察时，所述第一区域中的沿着长度方向的相同的位置处的所述清洗液供给孔以大致180度的间隔配置。
10.一种清洗部件组件，其特征在于，具备：
权利要求1所述的清洗部件安装部；以及
清洗部件，该清洗部件设置于所述清洗部件安装部的表面。
11.一种基板清洗装置，其特征在于，具备；
基板支承部，该基板支承部用于保持基板；
清洗部件组件，该清洗部件组件具有权利要求1所述的清洗部件安装部和设置于所述清洗部件安装部的表面的清洗部件；以及
清洗部件保持部，该清洗部件保持部保持所述清洗部件组件。
12.一种清洗部件组件，其特征在于，具备：
组件主体；以及
多个结节，该多个结节从所述组件主体向外突出，
所述组件主体具有：
孔隙，该孔隙在所述组件主体的内部延伸；以及
多个清洗液供给孔，该多个清洗液供给孔与所述孔隙连通，并且朝向所述组件主体或所述结节排出清洗液，
所述孔隙构成为所述洗浄液从第一端部侧流入，
位于与所述第一端部相反一侧的第二端部侧的第二区域中的所述清洗液供给孔所占据的所述主体的表面的面积比大于位于所述第一端部侧的第一区域中的所述清洗液供给孔所占据的所述主体的表面的面积比。
13.如权利要求12所述的清洗部件组件，其特征在于，
所述结节通过成形于所述组件主体而形成。
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