CN111517668B - 一种单向透视镀膜玻璃及其制备方法 - Google Patents

一种单向透视镀膜玻璃及其制备方法 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种单向透视镀膜玻璃，包括玻璃基片、第一镀膜层、第二镀膜层、第三镀膜层和第四镀膜层；所述第一镀膜层、所述第二镀膜层、所述第三镀膜层和所述第四镀膜层依次设置在所述玻璃基片上；所述玻璃基片包括镀膜面，所述第一镀膜层设置在所述镀膜面上；所述第二镀膜层、所述第三镀膜层和所述第四镀膜层沿所述镀膜面至所述第一镀膜层的方向依次设置；所述第二镀膜层设置在所述第一镀膜层和所述第三镀膜层之间，所述第四镀膜层设置在所述第三镀膜层远离所述第二镀膜层的一面；本发明通过在玻璃基片上设置四层镀膜层即可实现玻璃的单向透视的效果，镀膜层数量较少，且透视效果好。还公开了一种单向透视镀膜玻璃的制备方法。

Description

一种单向透视镀膜玻璃及其制备方法
技术领域
本发明涉及镀膜玻璃技术领域，尤其涉及一种单向透视镀膜玻璃及其制备方法。
背景技术
单向透视镀膜玻璃(也叫双面镜、单面镜、单向玻璃、单向可视玻璃等)，是一种玻璃两面对可见光具有不同反射而且很大差异反射比的特种镀膜玻璃，一般从高反射面看不到低反射面的人和物，而从低反射面可以看到高反射面的人和物体的特种镀膜玻璃；也即是一般在外侧看不到玻璃内侧，但是从玻璃内侧可以看得到玻璃外侧的情况，在照明充足的房间，单面透视玻璃看起来像一面镜子，但从另一面看就是一面普通的有色玻璃窗，达到外面看不到里面，里面可清晰看到外面的单向透视效果。其特点就是：可视却不可被视。广泛应用于监狱、公检法机构审讯室、精神病医院、大学科研机构研究室、大型会议室等，单向透视镀膜玻璃主要是在玻璃上镀膜，以此改变玻璃两面的反射和透光参数，现有技术中主要是玻璃上镀上金属或者金属化合物的膜；
目前常见的单向透视镀膜玻璃镀膜材质主要采用TiO2和SiO2，主体采用的TiO2和SiO2耐磨系数小，容易磨损损坏，并且TiO2材质折射率小，相同镀膜厚度下，透视效果不好，而且现有的单向透视镀膜玻璃镀膜所镀层数较多，常见玻璃镀膜膜系为：G/Cr-TiO2-SiO2-TiO2-SiO2-TiO2，层数较多，生产工艺复杂。现有技术急需一种制作工艺简单，镀膜层数小，新的膜系，新的材料来解决现有技术存在的问题。
发明内容
为了解决上述技术问题，本发明公开了单向透视镀膜玻璃，采用在玻璃基片上设置四层镀膜层即可实现玻璃的单向透视的效果，镀膜层数量较少，且透视效果好。
为了达到上述发明目的，本发明提供了一种单向透视镀膜玻璃，包括玻璃基片、第一镀膜层、第二镀膜层、第三镀膜层和第四镀膜层；所述第一镀膜层、所述第二镀膜层、所述第三镀膜层和所述第四镀膜层依次设置在所述玻璃基片上；
所述玻璃基片包括镀膜面，所述第一镀膜层设置在所述镀膜面上；
所述第二镀膜层、所述第三镀膜层和所述第四镀膜层沿所述镀膜面至所述第一镀膜层的方向依次设置；
所述第二镀膜层设置在所述第一镀膜层和所述第三镀膜层之间，所述第四镀膜层设置在所述第三镀膜层远离所述第二镀膜层的一面。
在一个实施例中，所述第一镀膜层和所述第三镀膜层均为五氧化二钽层，所述第二镀膜层为二氧化硅层，所述第四镀膜层为镍铬材料层。
在一个实施例中，所述玻璃基片的厚度为2mm-6mm，所述第一镀膜层的膜层厚度为74nm-84nm，所述第二镀膜层的膜层厚度为92.5nm-96.5nm，所述第三镀膜层的膜层厚度为54.5nm-62nm，所述第四镀膜层的膜层厚度为28.8nm-31.5nm。
在一个实施例中，所述玻璃基片的厚度为3mm，所述第一镀膜层的膜层厚度为77nm，所述第二镀膜层的膜层厚度为95nm，所述第三镀膜层的膜层厚度为58m，所述第四镀膜层的膜层厚度为30nm。
本发明还提供了一种单向透视镀膜玻璃的制备方法，具体包括以下步骤：
S1，选择2mm-6mm厚度的玻璃基片，按照预设尺寸对所述玻璃基片进行切割得到待用玻璃基片；对所述待用玻璃基片进行清洗；
S2，选择高真空磁控溅射镀膜设备，将所述高真空磁控溅射镀膜设备的基础真空度设置为10-3Pa，线速度设置为1m/min；
S3，将步骤S1中得到的待用玻璃基片送入所述高真空磁控溅射镀膜设备的镀膜腔内，将高真空磁控溅射镀膜设备设置为预设第一镀膜功率，采用预设第一镀膜功率在所述待用玻璃基片上溅射第一镀膜层，得到第一玻璃片；
S4，将步骤S3中得到的第一玻璃片送入所述高真空磁控溅射镀膜设备的镀膜腔内，将高真空磁控溅射镀膜设备设置为预设第二镀膜功率，采用预设第二镀膜功率在所述第一玻璃片上的第一镀膜层上溅射第二镀膜层，得到第二玻璃片；
S5，将步骤S4中得到的第二玻璃片送入所述高真空磁控溅射镀膜设备的镀膜腔内，将高真空磁控溅射镀膜设备设置为预设第三镀膜功率，采用预设第三镀膜功率在所述第二玻璃片上的第二镀膜层上溅射第三镀膜层，得到第三玻璃片；
S6，将步骤S5中得到的第三玻璃片送入所述高真空磁控溅射镀膜设备的镀膜腔内，将高真空磁控溅射镀膜设备设置为预设第四镀膜功率，采用预设第四镀膜功率在所述第三玻璃片上的第三镀膜层上溅射第四镀膜层，得到透视玻璃片。
在一个实施例中，选择3mm厚度的玻璃基片，按照预设尺寸对所述玻璃基片进行切割得到待用玻璃基片。
在一个实施例中，所述预设第一镀膜功率为30KW～34KW，所述第一镀膜层的厚度为74nm-84nm。
在一个实施例中，所述预设第二镀膜功率为250KW～260KW，所述第一镀膜层的厚度为92.5nm-96.5nm。
在一个实施例中，所述预设第三镀膜功率为22KW～25KW，所述第三镀膜层的厚度为54.5nm-62nm。
在一个实施例中，所述预设第四镀膜功率为29KW～32KW，所述第四镀膜层的厚度为28.8nm-31.5nm。
实施本发明实施例，具有如下有益效果：
本发明公开的单向透视镀膜玻璃，通过在玻璃基片上设置四层镀膜层即可实现玻璃的单向透视的效果，镀膜层数量较少，且透视效果好。
本申请公开的单向透视镀膜玻璃的制备方法，通过直接在玻璃基片上溅射四层镀膜层得到能够实现单向透视效果的玻璃，工艺简单，且得到玻璃片透视效果较好。
具体实施方式
下面对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
需要说明的是，本发明的说明书和权利要求书的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本发明的实施例能够以除了在这里描述的那些以外的顺序实施。
实施例1：
本发明公开了一种单向透视镀膜玻璃，包括玻璃基片、第一镀膜层、第二镀膜层、第三镀膜层和第四镀膜层；所述第一镀膜层、所述第二镀膜层、所述第三镀膜层和所述第四镀膜层依次设置在所述玻璃基片上；
所述玻璃基片包括镀膜面，所述第一镀膜层设置在所述镀膜面上；
所述第二镀膜层、所述第三镀膜层和所述第四镀膜层沿所述镀膜面至所述第一镀膜层的方向依次设置；
所述第二镀膜层设置在所述第一镀膜层和所述第三镀膜层之间，所述第四镀膜层设置在所述第三镀膜层远离所述第二镀膜层的一面。
在一个实施例中，所述第一镀膜层和所述第三镀膜层均为五氧化二钽层也即是Ta2O5，所述第二镀膜层为二氧化硅层也即是SiO2，所述第四镀膜层为镍铬材料层也即是NiCr合金。
具体的，二氧化钛层也即是Ta2O5具有低吸收以及可光学干涉的特点，本申请通过将不同折射率材料按照特定光学波长下设定特定光学厚度，以及不同膜层组合可形成多中配置的薄面低，膜面高反，形成两面不同视觉差，且引入镍铬材料层也即是NiCr，NiCr金属层作为吸收层使用，控制可见光透过率，使得玻面和膜面视觉差更加强烈；
在本说明书实施例中，所述玻璃基片的厚度为2mm-6mm，所述第一镀膜层的膜层厚度为74nm-84nm，所述第二镀膜层的膜层厚度为92.5nm-96.5nm，所述第三镀膜层的膜层厚度为54.5nm-62nm，所述第四镀膜层的膜层厚度为28.8nm-31.5nm；本发明通过在玻璃基片上设置四层镀膜层即可实现玻璃的单向透视的效果，镀膜层数量较少，且透视效果好。
优选地，所述第一镀膜层的膜层厚度可以为77±1.5nm，也即是75.5nm-78.5nm，所述第二镀膜层的膜层厚度可以为95±2nm，也即是93nm-97nm，所述第三镀膜层的膜层厚度可以为58±1.5nm，也即是56.5nm-59.5nm，所述第四镀膜层的膜层厚度可以为30±1nm，也即是29nm-31nm。
实施例2：
本发明公开了一种单向透视镀膜玻璃，包括玻璃基片、第一镀膜层、第二镀膜层、第三镀膜层和第四镀膜层；所述第一镀膜层、所述第二镀膜层、所述第三镀膜层和所述第四镀膜层依次设置在所述玻璃基片上；
所述玻璃基片包括镀膜面，所述第一镀膜层设置在所述镀膜面上；
所述第二镀膜层、所述第三镀膜层和所述第四镀膜层沿所述镀膜面至所述第一镀膜层的方向依次设置；
所述第二镀膜层设置在所述第一镀膜层和所述第三镀膜层之间，所述第四镀膜层设置在所述第三镀膜层远离所述第二镀膜层的一面。
在一个实施例中，所述第一镀膜层和所述第三镀膜层均为五氧化二钽层也即是Ta2O5，所述第二镀膜层为二氧化硅层也即是SiO2，所述第四镀膜层为镍铬材料层也即是NiCr合金。
具体的，二氧化钛层也即是Ta2O5具有低吸收以及可光学干涉的特点，本申请通过将不同折射率材料按照特定光学波长下设定特定光学厚度，以及不同膜层组合可形成多中配置的薄面低，膜面高反，形成两面不同视觉差，且引入镍铬材料层也即是NiCr，NiCr金属层作为吸收层使用，控制可见光透过率，使得玻面和膜面视觉差更加强烈；
在本说明书实施例中，所述玻璃基片的厚度为3mm，所述第一镀膜层的膜层厚度为77nm，所述第二镀膜层的膜层厚度为95nm，所述第三镀膜层的膜层厚度为58m，所述第四镀膜层的膜层厚度为30nm；本发明通过在玻璃基片上设置四层镀膜层即可实现玻璃的单向透视的效果，镀膜层数量较少，且透视效果好。
实施例3：
本发明公开了一种单向透视镀膜玻璃，包括玻璃基片、第一镀膜层、第二镀膜层、第三镀膜层和第四镀膜层；所述第一镀膜层、所述第二镀膜层、所述第三镀膜层和所述第四镀膜层依次设置在所述玻璃基片上；
所述玻璃基片包括镀膜面，所述第一镀膜层设置在所述镀膜面上；
所述第二镀膜层、所述第三镀膜层和所述第四镀膜层沿所述镀膜面至所述第一镀膜层的方向依次设置；
所述第二镀膜层设置在所述第一镀膜层和所述第三镀膜层之间，所述第四镀膜层设置在所述第三镀膜层远离所述第二镀膜层的一面。
在一个实施例中，所述第一镀膜层和所述第三镀膜层均为五氧化二钽层也即是Ta2O5，所述第二镀膜层为二氧化硅层也即是SiO2，所述第四镀膜层为镍铬材料层也即是NiCr合金。
具体的，二氧化钛层也即是Ta2O5具有低吸收以及可光学干涉的特点，本申请通过将不同折射率材料按照特定光学波长下设定特定光学厚度，以及不同膜层组合可形成多中配置的薄面低，膜面高反，形成两面不同视觉差，且引入镍铬材料层也即是NiCr，NiCr金属层作为吸收层使用，控制可见光透过率，使得玻面和膜面视觉差更加强烈；
在本说明书实施例中，所述玻璃基片的厚度为3mm，所述第一镀膜层的膜层厚度为75.5nm，所述第二镀膜层的膜层厚度为93nm，所述第三镀膜层的膜层厚度为56.5nm，所述第四镀膜层的膜层厚度为29nm；本发明通过在玻璃基片上设置四层镀膜层即可实现玻璃的单向透视的效果，镀膜层数量较少，且透视效果好。
实施例4：
本发明公开了一种单向透视镀膜玻璃，包括玻璃基片、第一镀膜层、第二镀膜层、第三镀膜层和第四镀膜层；所述第一镀膜层、所述第二镀膜层、所述第三镀膜层和所述第四镀膜层依次设置在所述玻璃基片上；
所述玻璃基片包括镀膜面，所述第一镀膜层设置在所述镀膜面上；
所述第二镀膜层、所述第三镀膜层和所述第四镀膜层沿所述镀膜面至所述第一镀膜层的方向依次设置；
所述第二镀膜层设置在所述第一镀膜层和所述第三镀膜层之间，所述第四镀膜层设置在所述第三镀膜层远离所述第二镀膜层的一面。
在一个实施例中，所述第一镀膜层和所述第三镀膜层均为五氧化二钽层也即是Ta2O5，所述第二镀膜层为二氧化硅层也即是SiO2，所述第四镀膜层为镍铬材料层也即是NiCr合金。
具体的，二氧化钛层也即是Ta2O5具有低吸收以及可光学干涉的特点，本申请通过将不同折射率材料按照特定光学波长下设定特定光学厚度，以及不同膜层组合可形成多中配置的薄面低，膜面高反，形成两面不同视觉差，且引入镍铬材料层也即是NiCr，NiCr金属层作为吸收层使用，控制可见光透过率，使得玻面和膜面视觉差更加强烈；
在本说明书实施例中，所述玻璃基片的厚度为3mm，所述第一镀膜层的膜层厚度为78.5nm，所述第二镀膜层的膜层厚度为97nm，所述第三镀膜层的膜层厚度为59.5nm，所述第四镀膜层的膜层厚度为31nm；本发明通过在玻璃基片上设置四层镀膜层即可实现玻璃的单向透视的效果，镀膜层数量较少，且透视效果好。
实施例5：
本发明公开了一种单向透视镀膜玻璃的制备方法，具体的包括以下步骤：
S1，选择2mm-6mm厚度的玻璃基片，按照预设尺寸对所述玻璃基片进行切割得到待用玻璃基片；对所述待用玻璃基片进行清洗；
S2，选择高真空磁控溅射镀膜设备，将所述高真空磁控溅射镀膜设备的基础真空度设置为10-3Pa，线速度设置为1m/min；
S3，将步骤S1中得到的待用玻璃基片送入所述高真空磁控溅射镀膜设备的镀膜腔内，将高真空磁控溅射镀膜设备设置为预设第一镀膜功率，采用预设第一镀膜功率在所述待用玻璃基片上溅射第一镀膜层，得到第一玻璃片；
S4，将步骤S3中得到的第一玻璃片送入所述高真空磁控溅射镀膜设备的镀膜腔内，将高真空磁控溅射镀膜设备设置为预设第二镀膜功率，采用预设第二镀膜功率在所述第一玻璃片上的第一镀膜层上溅射第二镀膜层，得到第二玻璃片；
S5，将步骤S4中得到的第二玻璃片送入所述高真空磁控溅射镀膜设备的镀膜腔内，将高真空磁控溅射镀膜设备设置为预设第三镀膜功率，采用预设第三镀膜功率在所述第二玻璃片上的第二镀膜层上溅射第三镀膜层，得到第三玻璃片；
S6，将步骤S5中得到的第三玻璃片送入所述高真空磁控溅射镀膜设备的镀膜腔内，将高真空磁控溅射镀膜设备设置为预设第四镀膜功率，采用预设第四镀膜功率在所述第三玻璃片上的第三镀膜层上溅射第四镀膜层，得到透视玻璃片；本发明通过直接在玻璃基片上溅射四层镀膜层得到能够实现单向透视效果的玻璃，工艺简单，且得到玻璃片透视效果较好。
在本说明书实施例中，可以选择3mm厚度的玻璃基片，按照预设尺寸对所述玻璃基片进行切割得到待用玻璃基片。
在本说明书实施例中，所述预设第一镀膜功率为30KW～34KW，所述第一镀膜层的厚度为74nm-84nm。
具体的，在第一镀膜层的溅射过程中，可以通过调整溅射气体Ar/O2的比例控制膜层折射率n1，其折射率n1可以保持在2.2。
在本说明书实施例中，所述预设第二镀膜功率为250KW～260KW，所述第一镀膜层的厚度为92.5nm-96.5nm。
具体的，在第二镀膜层的溅射过程中，可以通过调整溅射气体Ar/O2的比例控制膜层折射率n2，其折射率n2可以保持在1.46。
在本说明书实施例中，所述预设第三镀膜功率为22KW～25KW，所述第三镀膜层的厚度为54.5nm-62nm。
具体的，在第三镀膜层的溅射过程中，可以通过调整溅射气体Ar/O2的比例控制膜层折射率n3，其折射率n3可以保持在2.2。
在本说明书实施例中，所述预设第四镀膜功率为29KW～32KW，所述第四镀膜层的厚度为28.8nm-31.5nm。
实施例6：
本发明公开了一种单向透视镀膜玻璃的制备方法，具体的包括以下步骤：
S1，选择3mm厚度的玻璃基片，按照预设尺寸对所述玻璃基片进行切割得到待用玻璃基片；对所述待用玻璃基片进行清洗；
S2，选择高真空磁控溅射镀膜设备，将所述高真空磁控溅射镀膜设备的基础真空度设置为10-3Pa，线速度设置为1m/min；
S3，将步骤S1中得到的待用玻璃基片送入所述高真空磁控溅射镀膜设备的镀膜腔内，将高真空磁控溅射镀膜设备的溅射功率设置为31kw，采用31kw的镀膜功率在所述待用玻璃基片上溅射第一镀膜层，得到第一玻璃片；
具体的，其溅射的第一镀膜层的厚度为77nm；
S4，将步骤S3得到的第一玻璃片送入所述高真空磁控溅射镀膜设备的镀膜腔内，将高真空磁控溅射镀膜设备的溅射功率设置为256kw，采用256kw的镀膜功率在所述第二玻璃片上的第二镀膜层上溅射第二镀膜层，得到第二玻璃片；
具体的，其溅射的第二镀膜层的厚度为95nm；
S5，将步骤S4得到的第二玻璃片送入所述高真空磁控溅射镀膜设备的镀膜腔内，将高真空磁控溅射镀膜设备的溅射功率设置为23kw，采用23kw的镀膜功率在所述第一玻璃片上的第二镀膜层上溅射第三镀膜层，得到第三玻璃片；
具体的，其溅射的第三镀膜层的厚度为58nm；
S6，将步骤S5中得到的第三玻璃片送入所述高真空磁控溅射镀膜设备的镀膜腔内，将高真空磁控溅射镀膜设备设置为预设第四镀膜功率，采用预设第四镀膜功率在所述第三玻璃片上的第三镀膜层上溅射第四镀膜层，得到透视玻璃片；
具体的，其溅射的第四镀膜层的厚度为30nm；本发明中得到的此厚度的透视玻璃片所用工艺简单，膜层数量少，最终效果为玻璃面反射率Rg≤18％，膜面反射率Rf≥60％，可见光透过率T≤9％。
本发明公开的单向透视镀膜玻璃，通过在玻璃基片上设置四层镀膜层即可实现玻璃的单向透视的效果，镀膜层数量较少，且透视效果好。
本发明中通过直接在玻璃基片上溅射四层镀膜层得到能够实现单向透视效果的玻璃，工艺简单，且得到玻璃片透视效果较好。
以上所揭露的仅为本发明一种较佳实施例而已，当然不能以此来限定本发明之权利范围，因此依本发明权利要求所作的等同变化，仍属本发明所涵盖的范围。

Claims (8)

1.一种单向透视镀膜玻璃，其特征在于：包括玻璃基片、第一镀膜层、第二镀膜层、第三镀膜层和第四镀膜层；所述第一镀膜层、所述第二镀膜层、所述第三镀膜层和所述第四镀膜层依次设置在所述玻璃基片上；
所述玻璃基片包括镀膜面，所述第一镀膜层设置在所述镀膜面上；
所述第二镀膜层、所述第三镀膜层和所述第四镀膜层沿所述镀膜面至所述第一镀膜层的方向依次设置；
所述第二镀膜层设置在所述第一镀膜层和所述第三镀膜层之间，所述第四镀膜层设置在所述第三镀膜层远离所述第二镀膜层的一面；
所述第一镀膜层和所述第三镀膜层均为五氧化二钽层，所述第二镀膜层为二氧化硅层，所述第四镀膜层为镍铬材料层；
所述玻璃基片的厚度为2mm-6mm，所述第一镀膜层的膜层厚度为74nm-84nm，所述第二镀膜层的膜层厚度为92.5nm-96.5nm，所述第三镀膜层的膜层厚度为54.5nm-62nm，所述第四镀膜层的膜层厚度为28.8nm-31.5nm。
2.根据权利要求1所述的单向透视镀膜玻璃，其特征在于：所述玻璃基片的厚度为3mm，所述第一镀膜层的膜层厚度为77nm，所述第二镀膜层的膜层厚度为95nm，所述第三镀膜层的膜层厚度为58m，所述第四镀膜层的膜层厚度为30nm。
3.一种基于权利要求1或2所述的单向透视镀膜玻璃的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：
S1，选择2mm-6mm厚度的玻璃基片，按照预设尺寸对所述玻璃基片进行切割得到待用玻璃基片；对所述待用玻璃基片进行清洗；
S2，选择高真空磁控溅射镀膜设备，将所述高真空磁控溅射镀膜设备的基础真空度设置为10-3Pa，线速度设置为1m/min；
S3，将步骤S1中得到的待用玻璃基片送入所述高真空磁控溅射镀膜设备的镀膜腔内，将高真空磁控溅射镀膜设备设置为预设第一镀膜功率，采用预设第一镀膜功率在所述待用玻璃基片上溅射第一镀膜层，得到第一玻璃片；
S4，将步骤S3中得到的第一玻璃片送入所述高真空磁控溅射镀膜设备的镀膜腔内，将高真空磁控溅射镀膜设备设置为预设第二镀膜功率，采用预设第二镀膜功率在所述第一玻璃片上的第一镀膜层上溅射第二镀膜层，得到第二玻璃片；
S5，将步骤S4中得到的第二玻璃片送入所述高真空磁控溅射镀膜设备的镀膜腔内，将高真空磁控溅射镀膜设备设置为预设第三镀膜功率，采用预设第三镀膜功率在所述第二玻璃片上的第二镀膜层上溅射第三镀膜层，得到第三玻璃片；
S6，将步骤S5中得到的第三玻璃片送入所述高真空磁控溅射镀膜设备的镀膜腔内，将高真空磁控溅射镀膜设备设置为预设第四镀膜功率，采用预设第四镀膜功率在所述第三玻璃片上的第三镀膜层上溅射第四镀膜层，得到透视玻璃片。
4.根据权利要求3所述的单向透视镀膜玻璃的制备方法，其特征在于：选择3mm厚度的玻璃基片，按照预设尺寸对所述玻璃基片进行切割得到待用玻璃基片。
5.根据权利要求3所述的单向透视镀膜玻璃的制备方法，其特征在于：所述预设第一镀膜功率为30KW～34KW，所述第一镀膜层的厚度为74nm-84nm。
6.根据权利要求3所述的单向透视镀膜玻璃的制备方法，其特征在于：所述预设第二镀膜功率为250KW～260KW，所述第一镀膜层的厚度为92.5nm-96.5nm。
7.根据权利要求3所述的单向透视镀膜玻璃的制备方法，其特征在于：所述预设第三镀膜功率为22KW～25KW，所述第三镀膜层的厚度为54.5nm-62nm。
8.根据权利要求3所述的单向透视镀膜玻璃的制备方法，其特征在于：所述预设第四镀膜功率为29KW～32KW，所述第四镀膜层的厚度为28.8nm-31.5nm。
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