CN111512150A - 试样支承体、试样支承体的制造方法和试样的离子化方法 - Google Patents

Abstract

本发明的试样支承体包括：具有彼此相对的第一表面和第二表面的基板；和至少设置在第一表面的导电层。在基板和导电层，形成有在导电层的与基板相反的一侧的第三表面和第二表面开口的多个贯通孔。对第二表面和第三表面的至少一者，进行用于使对水的亲和性在第二表面侧的面与第三表面侧的面之间不同的表面处理。

Description

试样支承体、试样支承体的制造方法和试样的离子化方法

技术领域

本发明涉及试样支承体、试样支承体的制造方法和试样的离子化方法。

背景技术

一直以来，在生物体试样等试样的质量分析中，已知用于将试样离子化的试样支承体(例如参照专利文献1)。这样的试样支承体具有形成有在彼此相对的第一表面和第二表面开口的多个贯通孔的基板。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利第6093492号公报

发明内容

发明要解决的技术课题

在上述的质量分析中，检测离子化的试样(试样离子)，基于其检测结果实施试样的质量分析。在这样的质量分析中，希望提高信号强度(灵敏度)。

于是，本发明的目的在于，提供能够提高试样离子的信号强度的试样支承体、该试样支承体的制造方法和使用该试样支承体的试样的离子化方法。

用于解决课题的技术方案

本发明的一个方面的试样支承体用于试样的离子化，其包括：具有彼此相对的第一表面和第二表面的基板；和至少设置于第一表面的导电层，在基板和导电层，形成有在导电层的与基板相反的一侧的第三表面和第二表面开口的多个贯通孔，在第二表面和第三表面的至少一者，进行用于使对水的亲和性在第二表面侧的面与所述第三表面侧的面之间彼此不同的表面处理。

上述试样支承体具有形成有在第二表面和第三表面开口的多个贯通孔的基板。例如，在利用毛细管现象而测量对象的试样的成分进入了基板的多个贯通孔内的状态下，通过对基板的第一表面照射激光，该激光的能量经由导电层传递至试样的成分，试样的成分被离子化。此处，本发明的发明者们研究发现，通过尽量将试样的成分保留在贯通孔内，离子化扣的试样(试样离子)的信号强度增大。于是，上述试样支承体中，对导电层的第三表面和基板的第二表面的至少一者，进行用于使对水的亲和性在第二表面侧的面与第三表面侧的面之间彼此不同的表面处理。即，能够实现第二表面和第三表面的一侧的面(以下称为“第一面”)与第二表面和第三表面的另一侧的面(以下称为“第二面”)相比，对水的亲和性较高的状态。由此，能够使测量对象的试样的成分从对水的亲和性比较高的第一面很好地进入贯通孔内。进而，在对水的亲和性比较低的第二面，能够抑制进入了贯通孔内的试样的成分从贯通孔内流出。由此，根据上述试样支承体，能够容易地使试样的成分保留在贯通孔内，能够提高试样离子的信号强度。

可以在第二表面设置有疏水性的涂层，使得与第二表面侧的面相比，第三表面侧的面对水的亲和性较高。此时，利用设置在第二表面的疏水性的涂层，能够抑制试样的成分从贯通孔的第二表面侧的开口流出。由此，例如，在对试样支承体的第三表面滴下包含试样的溶液时，能够使试样的成分从贯通孔的第三表面侧的开口进入贯通孔内，并且能够利用设置于第二表面的疏水性的涂层使该试样的成分很好地保留在贯通孔内。由此，根据上述结构，在对试样支承体的第三表面滴下含有试样的溶液的测量方式(以下称为“滴下方式”。)中，能够提高试样离子的信号强度。特别是，在测量极低浓度的试样时，通过使试样的成分很好地保留在贯通孔内能够使试样的成分浓缩。结果能够容易且适宜地检测试样离子。

可以对第三表面和贯通孔的包含第三表面侧的缘部的部分的内表面进行用于提高对水的亲和性的表面处理，使得与第二表面侧的面相比，第三表面侧的面对水的亲和性较高，用于提高对水的亲和性的表面处理包括在第三表面和上述部分的内表面设置亲水性的涂层、以及对第三表面和上述部分的内表面进行受激准分子照射或等离子体照射的至少一者。此时，通过对第三表面和贯通孔的包含第三表面侧的缘部的部分的内表面进行用于提高对水的亲和性的表面处理，能够促进试样的成分从贯通孔的第三表面侧的开口向贯通孔内流通。由此，在滴下方式中能够使试样的成分很好地进入贯通孔内，能够提高试样离子的信号强度。

可以对第二表面和贯通孔的包含第二表面侧的缘部的部分的内表面进行用于提高对水的亲和性的表面处理，使得与第三表面侧的面相比，第二表面侧的面对水的亲和性较高，用于提高对水的亲和性的表面处理包括在第二表面和上述部分的内表面设置亲水性的涂层、以及对第二表面和上述部分的内表面进行受激准分子照射或等离子体照射的至少一者。此时，通过对第二表面和贯通孔的包含第二表面侧的缘部的部分的内表面进行用于提高对水的亲和性的表面处理，能够促进试样的成分从贯通孔的第二表面侧的开口向贯通孔内流通。由此，例如，在以试样支承体的第二表面与试样相对的方式将试样支承体配置在试样上的测量方式(以下称为“吸起方式”。)中，能够使试样的成分很好地进入贯通孔内，能够提高试样离子的信号强度。

可以在第三表面设置有疏水性的涂层，使得与第三表面侧的面相比，第二表面侧的面对水的亲和性较高。此时，在吸起方式中，能够抑制利用毛细管现象在贯通孔内从第二表面侧移动到第三表面侧的试样的成分沿着第三表面移动到其它贯通孔上。由此，容易维持移动到第三表面侧的试样的原来的位置信息(构成试样的分子的二维分布信息)，能够提高图像质量分析的精度(分辨率)。

基板可以通过对阀金属(valve metal)或硅进行阳极氧化而形成。此时，利用通过阀金属或硅的阳极氧化而得到的基板，能够很好地实现基于毛细管现象而进行的试样的成分的移动。

贯通孔的宽度可以为1nm～700nm。此时，能够很好地实现上述的基于毛细管现象而进行的试样的成分的移动。

导电层的材料可以是铂或金。此时，能够容易且稳定地对导电层施加一定的电压。

本发明的另一方面的试样支承体用于试样的离子化，其具有基板，该基板具有导电性，形成有在彼此相对的第一表面和第二表面开口的多个贯通孔，对第一表面和第二表面的至少一者，进行用于使对水的亲和性在第一表面侧的面与第二表面侧的面之间不同的表面处理，表面处理是：包括在第一表面和贯通孔的包含第一表面侧的缘部的部分的内表面设置亲水性的涂层、以及对第一表面和贯通孔的包含第一表面侧的缘部的部分的内表面进行受激准分子照射或等离子体照射的至少一者的处理，其能够使得与第二表面侧的面相比，第一表面侧的面对水的亲和性较高，或者，包括在第二表面和贯通孔的包含第二表面侧的缘部的部分的内表面设置亲水性的涂层、以及对第二表面和贯通孔的包含第二表面侧的缘部的部分的内表面进行受激准分子照射或等离子体照射的至少一者的处理，其能够使得与第一表面侧的面相比，第二表面侧的面对水的亲和性较高。

根据该试样支承体，能够省略导电层，并且能够得到与上述具有导电层的试样支承体同样的效果。

亲水性的涂层可以是通过氧化钛或氧化锌的成膜而形成的层。此时，能够很好地实现能够促进试样的成分向贯通孔内的流通的亲水性的涂层。

疏水性的涂层可以是通过金属的蒸镀而形成的层或由自组单分子膜形成的层。此时，能够很好地实现能够抑制试样的成分从贯通孔内的流出的疏水性的涂层。

本发明的一个方面的试样支承体的制造方法，其制造用于试样的离子化的试样支承体，该试样支承体的制造方法包括：第一工序，其准备具有彼此相对的第一表面和第二表面的基板和至少设置于第一表面的导电层，在基板和导电层，形成有在导电层的与基板相反的一侧的第三表面和第二表面开口的多个贯通孔；和第二工序，其对第二表面和第三表面的至少一者，进行使对水的亲和性在第二表面侧的面与第三表面侧的面之间不同的表面处理。

根据上述制造方法，能够得到达到上述效果的试样支承体。

第二工序可以包括在第二表面设置疏水性的涂层的工序，使得与第二表面侧的面相比，第三表面侧的面对水的亲和性较高。根据上述制造方法，能够得到能够抑制进入了贯通孔内的试样的成分从贯通孔的第二表面侧的开口流出的试样支承体，即在滴下方式中能够提高试样离子的信号强度的试样支承体。

第二工序可以包括在第三表面和贯通孔的包含第三表面侧的缘部的部分的内表面进行用于提高对水的亲和性的表面处理的工序，使得与第二表面侧的面相比，第三表面侧的面对水的亲和性较高，用于提高对水的亲和性的表面处理包括在第三表面和上述部分的内表面设置亲水性的涂层、以及对第三表面和上述部分的内表面进行受激准分子照射或等离子体照射的至少一者。根据上述制造方法，能够得到能够促进试样的成分从贯通孔的第三表面侧的开口向贯通孔内的流通的试样支承体，即在滴下方式中能够提高试样离子的信号强度的试样支承体。

第二工序可以包括对第二表面和贯通孔的包含第二表面侧的缘部的部分的内表面进行用于提高对水的亲和性的表面处理的工序，使得与第三表面侧的面相比，第二表面侧的面对水的亲和性较高，用于提高对水的亲和性的表面处理包括在第二表面和上述部分的内表面设置亲水性的涂层、以及对第二表面和上述部分的内表面进行受激准分子照射或等离子体照射的至少一者。根据上述制造方法，能够得到能够促进试样的成分从贯通孔的第二表面侧的开口向贯通孔内的流通的试样支承体，即在吸起方式中能够提高试样离子的信号强度的试样支承体。

第二工序包括在第三表面设置疏水性的涂层的工序，使得与第三表面侧的面相比，第二表面侧的面对水的亲和性较高。根据上述制造方法，能够得到能够抑制利用毛细管现象在贯通孔内从第二表面侧移动到第三表面侧的试样的成分沿着第三表面移动到其它贯通孔上的试样支承体，即在吸起方式中能够提高图像质量分析的精度的试样支承体。

本发明的另一方面的试样支承体的制造方法，其制造用于试样的离子化的试样支承体，该试样支承体的制造方法包括：第一工序，其准备具有导电性、形成有在彼此相对的第一表面和第二表面开口的多个贯通孔的基板；和第二工序，其对基板的第一表面和基板的第二表面的至少一者，进行使对水的亲和性在第一表面侧的面与第二表面侧的面之间不同的表面处理，表面处理是：包括在第一表面和贯通孔的包含第一表面侧的缘部的部分的内表面设置亲水性的涂层、以及对第一表面和贯通孔的包含第一表面侧的缘部的部分的内表面进行受激准分子照射或等离子体照射的至少一者的处理，其能够使得与第二表面侧的面相比，第一表面侧的面对水的亲和性较高，或者，包括在第二表面和贯通孔的包含第二表面侧的缘部的部分的内表面设置亲水性的涂层、以及对第二表面和贯通孔的包含第二表面侧的缘部的部分的内表面进行受激准分子照射或等离子体照射的至少一者的处理，其能够使得与第一表面侧的面相比，第二表面侧的面对水的亲和性较高。

根据上述制造方法，能够省略导电层，并且能够得到达到与上述的具有导电层的试样支承体同样的效果的试样支承体。

在第二工序中，亲水性的涂层可以通过氧化钛或氧化锌的成膜而形成。此时，能够容易且适宜地形成亲水性的涂层。

在第二工序中，疏水性的涂层可以由金属的蒸镀或自组单分子膜形成。此时，能够容易且适宜地形成疏水性的涂层。

本发明的第一方面的试样的离子化方法包括：第一工序，其准备试样支承体，该试样支承体包括具有彼此相对的第一表面和第二表面的基板和至少设置在第一表面的导电层，并且在基板和导电层，形成有在第二表面和导电层的与基板相反的一侧的第三表面开口的多个贯通孔；第二工序，其以第二表面与载置部的载置面相对的方式在载置面载置试样支承体；第三工序，其从第三表面侧对多个贯通孔滴下含有试样的溶液；和第四工序，其通过对导电层施加电压并且对第三表面照射能量线，使试样的成分离子化，在基板的第二表面设置疏水性的涂层，使得与第二表面侧的面相比，第三表面侧的面对水的亲和性较高。

在第一方面的试样的离子化方法中，可以对第三表面和贯通孔的包含第三表面侧的缘部的部分的内表面进行用于提高对水的亲和性的表面处理。

根据第一方面的试样的离子化方法，通过使用能够抑制进入了贯通孔内的试样的成分从贯通孔的第二表面侧的开口流出的试样支承体进行基于滴下方式的离子化，能够很好地检测试样离子。进而，在对第三表面和贯通孔的包含第三表面侧的缘部的部分的内表面进行提高对水的亲和性的表面处理时，能够促进试样的成分从贯通孔的第三表面侧的开口向贯通孔内流通，进一步有效地提高试样离子的信号强度。

本发明的第二方面的试样的离子化方法包括：第一工序，其准备试样支承体，该试样支承体包括具有彼此相对的第一表面和第二表面的基板和至少设置在第一表面的导电层，且在基板和导电层，形成有在第二表面和导电层的与基板相反的一侧的第三表面开口的多个贯通孔；第二工序，其以第二表面与载置部的载置面相对的方式在载置面载置试样支承体；第三工序，其从第三表面侧对多个贯通孔滴下包含试样的溶液；和第四工序，其通过对导电层施加电压，并且对第三表面照射能量线，将试样的成分离子化，对第三表面和贯通孔的包含第三表面侧的缘部的部分的内表面进行用于提高对水的亲和性的表面处理，使得与第二表面侧的面相比，第三表面侧的面对水的亲和性更高。

根据第二方面的试样的离子化方法，通过使用能够促进试样的成分从贯通孔的第三表面侧的开口向贯通孔内的流通的试样支承体进行基于滴下方式的离子化，能够很好地检测试样离子。

本发明的第三方面的试样的离子化方法包括：第一工序，其准备具有基板的试样支承体，该基板具有导电性，形成有在彼此相对的第一表面和第二表面开口的多个贯通孔；第二工序，其以第二表面与载置部的载置面相对的方式在载置面载置试样支承体；第三工序，其从第一表面侧对多个贯通孔滴下包含试样的溶液；第四工序，其通过对基板施加电压并且对第一表面照射能量线，将试样的成分离子化，在第二表面设置有疏水性的涂层，使得与第二表面侧的面相比，第一表面侧的面对水的亲和性较高。

根据第三侧面的试样的离子化方法，通过使用能够抑制进入了贯通孔内的试样的成分从贯通孔的第二表面侧的开口流出的试样支承体进行基于滴下方式的离子化，能够很好地检测试样离子。

本发明的第四方面的试样的离子化方法包括第一工序，其准备试样支承体，该试样支承体包括具有彼此相对的第一表面和第二表面的基板和至少设置在第一表面的导电层，且在基板和导电层，形成有在第二表面和导电层的与基板相反的一侧的第三表面开口的多个贯通孔；第二工序，其以第二表面与载置在载置部的载置面的试样相对的方式，将试样支承体配置在试样上；和第三工序，其在试样的成分利用毛细管现象经由多个贯通孔移动到第三表面侧的状态下，通过对导电层施加电压并且对第三表面照射能量线，将试样的成分离子化，对第二表面和贯通孔的包含第二表面侧的缘部的部分的内表面进行用于提高对水的亲和性的表面处理，使得与第三表面侧的面相比，第二表面侧的面对水的亲和性较高。

在本发明的第四方面的试样的离子化方法中，可以在第三表面设置有疏水性的涂层，使得与第三表面侧的面相比，第二表面侧的面对水的亲和性较高。

根据第四方面的试样的离子化方法，通过使用能够促进试样的成分从贯通孔的第二表面侧的开口向贯通孔内的流通的试样支承体进行基于吸起方式的离子化，能够很好地检测试样离子。进而，在第三表面设置有疏水性的涂层时，能够抑制移动到第三表面侧的试样的成分沿着第三表面移动到其它贯通孔上，因此能够提高图像质量分析的精度。

本发明的第五方面的试样的离子化方法包括：第一工序，其准备试样支承体，该试样支承体包括具有彼此相对的第一表面和第二表面的基板和至少设置在第一表面的导电层，且在基板和导电层，形成有在第二表面和导电层的与基板相反的一侧的第三表面开口的多个贯通孔；第二工序，其以第二表面与载置在载置部的载置面的试样接触的方式，将试样支承体配置在试样上；和第三工序，其在试样的成分利用毛细管现象经由多个贯通孔移动到第三表面侧的状态下，通过对导电层施加电压并且对第三表面照射能量线，将试样的成分离子化，在第三表面设置有疏水性的涂层，使得与第三表面侧的面相比，第二表面侧的面对水的亲和性较高。

根据第五方面的试样的离子化方法，通过使用能够抑制移动到第三表面侧的试样的成分沿着第三表面移动到其它贯通孔上的试样支承体进行基于吸起方式的离子化，能够提高图像质量分析的精度。

本发明的第六方面的试样的离子化方法包括：第一工序，其准备具有基板的试样支承体，该基板具有导电性，形成有在彼此相对的第一表面和第二表面开口的多个贯通孔；第二工序，其以第二表面与载置在载置部的载置面的试样相对的方式，将试样支承体配置在试样上；和第三工序，其在试样的成分利用毛细管现象经由多个贯通孔移动到第一表面侧的状态下，通过对基板施加电压并且对第一表面照射能量线，将试样的成分离子化，对第二表面和贯通孔的包含第二表面侧的缘部的部分的内表面进行用于提高对水的亲和性的表面处理，使得与第一表面侧的面相比，第二表面侧的面对水的亲和性较高。

根据第六方面的试样的离子化方法，通过使用能够促进试样的成分从贯通孔的第二表面侧的开口向贯通孔内的流通的试样支承体进行基于吸起方式的离子化，能够很好地检测试样离子。

在第四方面～第六方面的试样的离子化方法中可以是，试样是干燥试样，在第三工序之前，还包括对载置于载置面的试样，添加用于使试样的粘性变低的溶液的工序。此时，在测量对象的试样为干燥试样时，能够促进基于毛细管现象进行的该试样的成分在贯通孔内的移动。结果在利用吸起方式将干燥试样离子化时，能够很好地提高试样离子的信号强度。

发明效果

根据本发明，能够提供能够提高试样离子的信号强度的试样支承体、该试样支承体的制造方法和使用该试样支承体的试样的离子化方法。

附图说明

图1是第一实施方式的试样支承体的平面图。

图2是沿图1所示的II-II线的试样支承体的截面图。

图3是表示图1所示的试样支承体的基板的放大像的图。

图4是表示图1所示的试样支承体的制造方法的工序的图。

图5是表示图1所示的试样支承体的制造方法的工序的图。

图6是表示图1所示的试样支承体的制造方法的工序的图。

图7是表示使用图1所示的试样支承体的质量分析方法的工序的图。

图8是表示使用图1所示的试样支承体的质量分析方法的工序的图。

图9是第二实施方式的试样支承体的主要部分放大截面图。

图10是表示使用图9所示的试样支承体的质量分析方法的工序的图。

图11是表示使用图9所示的试样支承体的质量分析方法的工序的图。

图12是表示使用图9所示的试样支承体的质量分析方法的工序的图。

具体实施方式

以下，对本发明的实施方式，使用附图进行详细说明。另外，在各图中对相同或相当部分标注相同的附图标记，省略重复说明。此外，为了方便说明，附图所示的各部件(或部位)的尺寸或尺寸的比率与实际尺寸或尺寸的比率不同。

[第一实施方式的试样支承体的结构]

如图1和图2所示，第一实施方式的试样支承体1具有基板2、框架3和导电层4。试样支承体1是试样的离子化用的试样支承体。试样支承体1例如在进行质量分析时，用于使测量对象的试样的成分离子化。基板2具有彼此相对的第一表面2a和第二表面2b。在基板2，多个贯通孔2c统一(以均匀的分布)形成。各贯通孔2c沿基板2的厚度方向(与第一表面2a和第二表面2b垂直的方向)延伸，在第一表面2a和第二表面2b开口。

基板2例如由绝缘性材料形成为长方形板状。从基板2的厚度方向观察时的基板2的一边的长度例如为数cm程度，基板2的厚度例如为1μm～50μm程度。从基板2的厚度方向观察时的贯通孔2c的形状例如为大致圆形。贯通孔2c的宽度例如为1nm～700nm程度。关于贯通孔2c的宽度，在从基板2的厚度方向观察时的贯通孔2c的形状为大致圆形时，是指贯通孔2c的直径，在该形状为大致圆形以外的形状时，是指处于贯通孔2c中的假设的最大圆柱的直径(有效直径)。

框架3设置于基板2的第一表面2a。具体来说，框架3由粘接层5固定于基板2的第一表面2a。作为粘接层5的材料，优选使用释放气体少的粘接材料(例如低熔点玻璃、真空用粘接剂等)。框架3在从基板2的厚度方向看时具有与基板2大致相同的外形。在框架3形成有开口3a。基板2中的与开口3a对应的部分，作为通过后述的毛细管现象使试样的成分向第一表面2a侧移动的有效区域R发挥功能。

框架3例如由绝缘性材料形成为长方形板状。在从基板2的厚度方向看时的框架3的一边的长度例如为数cm程度，框架3的厚度例如为1mm以下。从基板2的厚度方向看时的开口3a的形状例如是圆形，此时的开口3a的直径为例如数mm～数十mm程度。利用这样的框架3，试样支承体1的处理变得容易，并且能够抑制由温度变化等引起的基板2的变形。

导电层4设置于基板2的第一表面2a。具体来说，导电层4与基板2的第一表面2a中与框架3的开口3a对应的区域(即，与有效区域R对应的区域)、开口3a的内表面和框架3中的与基板2相反的一侧的表面3b一连地(一体地)形成。导电层4在有效区域R中覆盖基板2的第一表面2a中的没有形成贯通孔2c的部分。即，各贯通孔2c的导电层4侧的开口没有被导电层4堵塞。即，各贯通孔2c在导电层4的与基板2相反的一侧的第三表面4a和第二表面2b开口，在有效区域R中，各贯通孔2c从开口3a露出。

导电层4由导电性材料形成。但是，作为导电层4的材料，基于以下所述的理由，优选使用与试样的亲和性(反应性)低且导电性高的金属。

例如，当由与蛋白质等试样亲和性高的Cu(铜)等金属形成导电层4时，在后述的试样的离子化的过程中，以在试样分子附着有Cu原子的状态，试样被离子化，与Cu原子的附着相应地，在后述的质量分析法中检测结果可能发生偏移。由此，作为导电层4的材料，优选使用与试样的亲和性低的金属。

另一方面，越是导电性高的金属，越能够容易且稳定地施加一定的电压。因此，当由导电性高的金属形成导电层4时，在有效区域R中能够对基板2的第一表面2a均匀地施加电压。此外，具有越是导电性高的金属，则热传导性越高的倾向。因此，当由导电性高的金属形成导电层4时，能够将照射于基板2的激光的能量经由导电层4高效地传递至试样。由此，作为导电层4的材料，优选使用导电性高的金属。

根据以上的观点，作为导电层4的材料，例如优选使用Au(金)、Pt(铂)等。导电层4能够例如通过镀层法、原子层沉积法(ALD：Atomic Layer Deposition)、蒸镀法、溅射法等形成为厚度1nm～350nm程度。另外，作为导电层4的材料，例如可以使用Cr(铬)、Ni(镍)、Ti(钛)等。

在试样支承体1中，对基板2的第二表面2b和导电层4的第三表面4a的至少一者，进行用于使得在第二表面2b侧的面与第三表面4a侧的面之间对水的亲和性彼此不同的表面处理。本实施方式中，作为一例，对第二表面2b实施用于使第二表面2b侧的面对水的亲和性比基板材料(基板2)低的表面处理。此外，对第三表面4a实施用于使第三表面4a侧的面对水的亲和性比基板材料高的表面处理。由此，能够实现与第二表面2b侧的面(本实施方式中是后述的涂层6的表面)相比，第三表面4a侧的面(本实施方式中是后述的涂层7的表面)对水的亲和性较高的结构。

具体来说，在基板2的第二表面2b设置有疏水性的涂层6。涂层6例如是通过金属的蒸镀而形成的层(金属膜)。涂层6由与导电层4相比对水的亲和性较低的材料形成。作为涂层6的材料，例如能够使用Au(金)等。或者，涂层6可以是由自组单分子膜(SAM膜：Self-Assembled Monolayer)形成的层。在本实施方式中，作为一例，涂层6设置于第二表面2b，并且也设置于各贯通孔2c的包含第二表面2b侧的缘部的部分的内表面(即，贯通孔2c间的隔壁部2d的侧面的第二表面2b侧的一部分)。但是，为了使涂层6发挥后述的功能，涂层6只要至少少设置于第二表面2b即可，也可以不设置在各贯通孔2c的包含第二表面2b侧的缘部的部分的内表面。此外，本实施方式中，涂层6设置于第二表面2b的整面，但也可以仅设置在第二表面2b中的与有效区域R对应的区域(从基板2的厚度方向看与有效区域R重叠的区域)。涂层6的厚度例如为1nm～100nm。

此外，在导电层4的第三表面4a，设置有亲水性的涂层7。涂层7设置于与有效区域R对应的区域。涂层7也设置于各贯通孔2c的包含第三表面4a侧的缘部的部分的内表面(即，隔壁部2d的侧面的第一表面2a侧的一部分和导电层4的侧部)。涂层7是例如由氧化钛(TiO2)或氧化锌(ZnO)的成膜而形成的层。涂层7例如通过原子层沉积法而形成。涂层7的厚度例如是1nm～50nm。此外，涂层7中沿着各贯通孔2c的包含第三表面4a侧的缘部的部分的内表面的部分(即，进入贯通孔2c内的部分)的宽度(基板2的厚度方向上的长度)例如是1nm～1000nm。

图3是表示从基板2的厚度方向看时的基板2的放大图像的图。图3中，黑色的部分是贯通孔2c，白色的部分是隔壁部2d。如图3所示，在基板2均匀地形成有具有大致一定的宽度的多个贯通孔2c。有效区域R中的贯通孔2c的开口率(从基板2的厚度方向看时，全部的贯通孔2c对有效区域R所占的比例)实用上为10～80％，特别优选为60～80％。多个贯通孔2c的大小可以彼此不一致，也可以是局部的多个贯通孔2c彼此连结。

图3所示的基板2是通过对Al(铝)进行阳极氧化而形成的氧化铝多孔覆膜。例如，通过对Al基板实施阳极氧化处理，Al基板的表面部分氧化，并且在Al基板的表面部分形成多个细孔(预定会形成贯通孔2c的部分)。接着，氧化了的表面部分(阳极氧化覆膜)从Al基板剥离，对剥离的阳极氧化覆膜实施使上述细孔扩宽的扩孔处理，由此得到上述基板2。另外，基板2可以通过对Ta(钽)、Nb(铌)、Ti(钛)、Hf(铪)、Zr(锆)、Zn(锌)、W(钨)、Bi(铋)、Sb(锑)等Al以外的阀金属进行阳极氧化而形成，也可以通过对Si(硅)进行阳极氧化而形成。

[第一实施方式的试样支承体的制造方法]

接着，参照图2和图4～图6，说明试样支承体1的制造方法。图4～图6分别是与有效区域R对应的部分的放大截面图。首先，如图4所示，准备形成有在彼此相对的第一表面2a和第二表面2b开口的多个贯通孔2c的基板2。基板2例如通过上述那样的阀金属或硅的阳极氧化而得到。

接着，如图5所示，准备基板2和导电层4(即，在基板2的第一表面2a设置有导电层4的构造体)(第一工序)。本实施方式中，在基板2的第一表面2a经由粘接层5固定了框架3后，导电层4在基板2的第一表面2a中的与框架3的开口3a对应的区域(即，与有效区域R对应的区域)、开口3a的内表面和框架3中的与基板2相反的一侧的表面3b一连地形成。

接着，如图6所示，对基板2的第二表面2b和导电层4的第三表面4a的至少一者，进行用于使得在第二表面2b侧的面与第三表面4a侧的面之间对水的亲和性彼此不同的表面处理(第二工序)。本实施方式中，在第二表面2b和各贯通孔2c的包含第二表面2b侧的缘部的部分的内表面设置疏水性的涂层6，以使得与第二表面2b侧的面相比，第三表面4a侧的面对水的亲和性较高。此外，在第三表面4a和各贯通孔2c的包含第三表面4a侧的缘部的部分的内表面，设置亲水性的涂层7。通过以上处理，得到图2所示的试样支承体1。

[使用第一实施方式的试样支承体的试样的离子化方法]

接着，参照图7和图8，说明使用试样支承体1的试样的离子化方法。此处，作为一个例子，说明作为为了试样的离子化而照射的能量线使用激光的激光脱离离子化法(质量分析装置20的质量分析方法的一部分)。在图7和图8中，在基板2形成的多个贯通孔2c中，仅示意性地表示与有效区域R对应的贯通孔2c。此外，对于试样支承体1中的导电层4、粘接层5、涂层6和涂层7省略图示。此外，为了图示方便，图1和图2所示的试样支承体1与图7和图8所示的试样支承体1的尺寸的比率等不同。

首先，准备上述试样支承体1(第一工序)。试样支承体1可以由实施激光脱离离子化法和质量分析方法的人制造而准备，也可以从试样支承体1的制造者或销售者等取得而准备。

接着，如图7的(a)所示，以第二表面2b与玻片(载置部)8的载置面8a相对的方式在载置面8a载置试样支承体1(第二工序)。玻片8是形成有ITO(Indium Tin Oxide：铟锡氧化)膜等透明导电膜的玻璃基板，透明导电膜的表面成为载置面8a。另外，不限定于玻片8，能够将能够确保导电性的部件(例如，不锈钢等金属材料等构成的基板等)用作载置部。本实施方式中作为一个例子，试样支承体1以在第二表面2b与玻片8的载置面8a之间设置有间隙的方式，用导电性的胶带9(例如碳胶带等)固定于玻片8。该间隙作为例如用于使后述的包含试样S的溶液中从第二表面2b侧流出的溶液避让的区域发挥功能。即，起到防止该溶液溢出到基板2的第一表面2a上(导电层4的第三表面4a上)而阻碍试样的离子化的作用。此外，胶带9与框架3的表面3b上的导电层4接触，且与玻片8的载置面8a接触，由此将试样支承体1固定于玻片8。胶带9可以是试样支承体1的一部分，也可以是在试样支承体1之外另行准备的。胶带9是试样支承体1的一部分时(即，试样支承体1设置有胶带9时)，例如，胶带9可以预先在基板2的周缘部固定于第一表面2a侧。本实施方式中，胶带9也可以固定于形成在框架3的表面3b上的导电层4上。

接着，如图7的(a)所示，从第三表面4a侧对多个贯通孔2c(与有效区域R对应的多个贯通孔2c)，利用移液管10滴下含有试样S的溶液(第三工序)。由此，如图7的(b)所示，包含试样S的溶液，从各贯通孔2c的第三表面4a侧的开口进入各贯通孔2c内，包含试样S的溶液的一部分留在各贯通孔2c内。

此处，试样支承体1中，在第三表面4a和各贯通孔2c的包含第三表面4a侧的缘部的部分的内表面设置有亲水性的涂层7(参照图2和图6)，由此从各贯通孔2c的第三表面4a侧的开口向各贯通孔2c内的试样S的成分S1的流通得到促进。即，滴下到第三表面4a上(涂层7上)的包含试样S的溶液容易在亲水性的涂层7传播，而进入各贯通孔2c的内部。即，亲水性的涂层7起到很好地将第三表面4a侧的溶液引导至各贯通孔2c内的作用。由此，能够使试样S的成分S1很好地进入各贯通孔2c内。

此外，试样支承体1中，在第二表面2b设置有疏水性的涂层6(参照图2和图6)，能够抑制进入了各贯通孔2c内的试样S的成分S1从各贯通孔2c的第二表面2b侧的开口流出。即，通过设置有疏水性的涂层6，从各贯通孔2c内要从第二表面2b侧的开口流出的包含试样S的溶液不易沿第二表面2b(在涂层6传播)流出到外部。即，疏水性的涂层6起到防止各贯通孔2c内的溶液沿第二表面2b向外部流出的作用。由此，能够抑制进入了各贯通孔2c内的试样S的成分S1从第二表面2b侧流出，能够使该成分S1很好地保留在各贯通孔2c内。结果是，在各贯通孔2c内，试样S的成分S1被浓缩。

接着，如图8所示，以在各贯通孔2c内保留有试样S的成分S1的试样支承体1固定于玻片8的状态，玻片8、试样支承体1和试样S载置在质量分析装置20的支承部21(例如工作台)上。接着，由质量分析装置20的电压施加部22，经由玻片8的载置面8a和胶带9对试样支承体1的导电层4(参照图2)施加电压。本实施方式中，在没有设置涂层7的部分(设置在框架3上的导电层4的部分)，导电层4和胶带9导通。但是，在没有设置框架3等的情况下，导电层4和胶带9也可以经由涂层7接触。这是因为涂层7是非常薄的膜，不会对导电层4与胶带9之间的导通造成大的防碍。

接着，由质量分析装置20的激光照射部23，经由框架3的开口3a，对基板2的第一表面2a(导电层4的第三表面4a)照射激光L。即，激光L对基板2的第一表面2a中的与框架3的开口3a对应的区域(即与有效区域R对应的区域)照射。本实施方式中，激光照射部23对与有效区域R对应的区域扫描激光L。另外，对与有效区域R对应的区域进行的激光L的扫描，通过使支承部21和激光照射部23的至少一者动作而能够实施。

像这样，通过一边对导电层4施加电压一边对基板2的第一表面2a照射激光L，保留在基板2的贯通孔2c内(特别是第一表面2a侧)的试样S的成分S1离子化，释放试样离子S2(离子化后的成分S1)(第四工序)。具体来说，从吸收了激光L的能量的导电层4(参照图2)，向保留于贯通孔2c内的试样S的成分S1传递能量，获得了能量的试样S的成分S1气化并且获得电荷，成为试样离子S2。以上的第一工序～第四工序相当于使用试样支承体1的试样S的离子化方法(此处是激光脱离离子化法)。另外，在导电层4的第三表面4a设置有涂层7，但如上所述，该涂层7是非常薄的膜，因此在将激光L照射于导电层4的条件下不会造成大的防碍。

释放的试样离子S2向设置于试样支承体1与质量分析装置20的离子检测部24之间的接地电极(图示省略)加速移动。即，试样离子S2利用在被施加了电压的导电层4与接地电极之间产生的电位差，向接地电极一边加速一边移动。用离子检测部24检测试样离子S2(第五工序)。本实施方式中，质量分析装置20是利用飞行时间型质量分析法(TOF-MS：Time-of-Flight Mass Spectrometry)的扫描型质量分析装置。以上的第一工序～第五工序相当于使用试样支承体1的质量分析方法。

[第一实施方式的作用效果]

如上所述，试样支承体1具有形成有在第二表面2b和第三表面4a开口的多个贯通孔2c的基板2。例如，在利用毛细管现象而测量对象的试样S的成分S1进入了基板2的多个贯通孔2c内的状态下，对基板2的第一表面2a(导电层4的第三表面4a)照射激光，由此该激光的能量经由导电层4传递至试样S的成分S1，试样S的成分S1离子化。此处，本发明的发明者们通过研究发现，通过尽量地将试样S的成分S1保留在贯通孔2c内，离子化后的试样(试样离子S2)的信号强度能够增大。于是，试样支承体1中，在导电层4的第三表面4a和基板2的第二表面2b的至少一者，进行用于使对于水的亲和性在第二表面2b侧的面与第三表面4a侧的面之间彼此不同的表面处理。即，能够实现第二表面2b和第三表面4a的一侧的面(本实施方式中是设置于第三表面4a的涂层7的表面)与第二表面2b和第三表面4a的另一侧的面(本实施方式中是设置于第二表面2b的涂层6的表面)相比，对水的亲和性更高的状态。由此，能够使测量对象的试样S的成分S1从对水的亲和性比较高的第三表面4a侧的面很好地进入贯通孔2c内。进而，在对水的亲和性比较低的第二表面2b侧的面，能够抑制进入了贯通孔2c内的试样S的成分S1从贯通孔2c内流出。由此，根据试样支承体1，能够容易地使试样S的成分S1保留在贯通孔2c内，能够提高试样离子S2的信号强度。

此外，以与第二表面2b侧的面相比，第三表面4a侧的面对水的亲和性较高的方式，在第二表面2b设置有疏水性的涂层6。利用该涂层6，能够抑制进入了贯通孔2c内的试样S的成分S1从贯通孔2c的第二表面2b侧的开口流出。由此，例如，在对试样支承体1的第三表面4a滴下包含试样S的溶液时，能够使试样S的成分S1从贯通孔2c的第三表面4a侧的开口进入贯通孔2c内，由设置于第二表面2b的疏水性的涂层6使该试样S的成分S1很好地保留在贯通孔2c内。由此，根据上述结构，在对试样支承体1的第三表面4a滴下含有试样S的溶液的测量方式(以下称为“滴下方式”。)中，能够提高试样离子S2的信号强度。特别是，在测量极低浓度(例如1μmol/L以下的浓度)的试样S时，通过使试样S的成分S1很好地保留在贯通孔2c内能够使试样S的成分S1浓缩。结果能够容易且适宜地检测试样离子S2(上述质量分析的信号检测)。

此外，对第三表面4a和贯通孔2c的包含第三表面4a侧的缘部的部分的内表面进行了提高对水的亲和性的表面处理。本实施方式中，在第三表面4a与上述部分的内表面设置有亲水性的涂层7。利用该涂层7，能够促进从贯通孔2c的第三表面4a侧的开口向贯通孔2c内的试样S的成分S1的流通。由此，在滴下方式中能够使试样S的成分S1很好地进入贯通孔2c内，能够提高试样离子S2的信号强度。

此外，基板2通过对阀金属或硅进行阳极氧化而形成。此时，利用通过阀金属或硅的阳极氧化而得到的基板2，能够很好地实现基于毛细管现象的试样S的成分S1的移动。

此外，贯通孔2c的宽度为1nm～700nm。此时，能够很好地实现上述的基于毛细管现象的试样S的成分S1的移动。

此外，导电层4的材料是铂或金。此时，能够对导电层4容易且稳定地施加一定的电压。

此外，亲水性的涂层7是由氧化钛或氧化锌的成膜而形成的层。此时，能够很好地实现能够促进试样S的成分S1向贯通孔2c内的流通的亲水性的涂层7。

此外，疏水性的涂层6是由通过金属的蒸镀而形成的层或自组单分子膜形成的层。此时，能够很好地实现能够抑制试样S的成分S1从贯通孔2c内流出的疏水性的涂层6。

此外，根据上述的试样支承体1的制造方法，能够很好地得到试样支承体1。具体来说，试样支承体1的制造方法中的第二工序包括在第二表面2b设置疏水性的涂层6的工序。由此，能够得到能够抑制进入了贯通孔2c内的试样S的成分S1从贯通孔2c的第二表面2b侧的开口流出的试样支承体1，即能够得到在滴下方式中能够提高试样离子S2的信号强度的试样支承体1。此外，上述第二工序包括对第三表面4a和贯通孔2c的包含第三表面4a侧的缘部的部分的内表面进行用于提高对水的亲和性的表面处理的工序。在本实施方式中，该第二工序包括在第三表面4a和上述部分的内表面设置亲水性的涂层7的工序。由此，能够得到能够促进试样S的成分S1从贯通孔2c的第三表面4a侧的开口向贯通孔2c内的流通的试样支承体1。此外，在上述第二工序中，亲水性的涂层7由氧化钛或氧化锌的成膜而形成。由此，能够容易且很好地形成亲水性的涂层7。此外，在上述第二工序中，疏水性的涂层6由金属的蒸镀或自组单分子膜形成。由此，能够容易且很好地形成疏水性的涂层6。

此外，根据使用上述试样支承体1的试样的离子化方法，通过使用能够抑制进入了贯通孔2c内的试样S的成分S1从贯通孔2c的第二表面2b侧的开口流出的试样支承体1进行基于滴下方式的离子化，能够很好地检测试样离子S2。进而，通过对第三表面4a和贯通孔2c的包含第三表面4a侧的缘部的部分的内表面进行提高对水的亲和性的表面处理(本实施方式中是形成涂层7)，能够促进试样S的成分S1从贯通孔2c的第三表面4a侧的开口向贯通孔2c内流通，进一步有效地提高试样离子S2的信号强度。

[第一实施方式的变形例]

第一实施方式中，对第二表面2b和第三表面4a两者进行表面处理(此处是形成涂层6、7)，但表面处理也可以仅对第二表面2b和第三表面4a的一者进行。例如，在不需要进一步促进试样S的成分S1从贯通孔2c的第三表面4a侧的开口的流入等的情况下，也可以省略上述涂层7。此外，例如，在不需要进一步抑制试样S的成分S1从贯通孔2c的第二表面2b侧的开口流出等的情况下，也可以省略上述涂层6。

此外，基板2可以具有导电性，在质量分析方法中也可以对基板2施加电压。在基板2具有导电性时，在试样支承体1能够省略导电层4，并且能够得到与使用上述具有导电层4的试样支承体1时同样的效果。此时，上述第一实施方式中的“导电层4的第三表面4a”改称为“第一表面2a”。即，在第三表面4a和贯通孔2c的包含第三表面4a侧的缘部的部分的内表面设置的涂层7，变成设置在第一表面2a和贯通孔2c的包含第一表面2a侧的缘部的部分的内表面。

[第二实施方式的试样支承体的结构]

接着，参照图9，说明第二实施方式的试样支承体1A。试样支承体1A与第一实施方式的试样支承体1的不同点在于，与第三表面4a侧的面相比，第二表面2b侧的面对水的亲和性较高。具体来说，试样支承体1A中，对第二表面2b实施用于使第二表面2b侧的面对水的亲和性比基板材料高的表面处理，对第三表面4a实施用于使第三表面4a侧的面对水的亲和性比基板材料低的表面处理。

更具体地说，如图9所示，试样支承体1A与试样支承体1的不同点在于，在基板2的第二表面2b和各贯通孔2c的包含第二表面2b侧的缘部的部分的内表面，代替疏水性的涂层6，设置有亲水性的涂层7。此外，试样支承体1A与试样支承体1的不同点在于，在导电层4的第三表面4a和各贯通孔2c的包含第三表面4a侧的缘部的部分的内表面，代替亲水性的涂层7，设置有疏水性的涂层6。

[第二实施方式的试样支承体的制造方法]

试样支承体1A的制造方法与上述试样支承体1的制造方法的不同点在于，在上述试样支承体1的制造方法的第二工序中，以与第三表面4a侧的面相比使第二表面2b侧的面对水的亲和性较高的方式，对第二表面2b和第三表面4a分别进行表面处理，其它方面与上述试样支承体1的制造方法同样。具体来说，试样支承体1A的制造方法中，第二工序中，在第二表面2b和各贯通孔2c的包含第二表面2b侧的缘部的部分的内表面设置亲水性的涂层7。此外，在第三表面4a和各贯通孔2c的包含第三表面4a侧的缘部的部分的内表面设置疏水性的涂层6。通过以上处理，得到图9所示的试样支承体1A。另外，关于疏水性的涂层6，与第一实施方式的涂层6同样地至少设置在第三表面4a即可，也可以不设置在各贯通孔2c的包含第三表面4a侧的缘部的部分的内表面。

[使用第二实施方式的试样支承体的试样的离子化方法]

接着，参照图10～图12，说明使用试样支承体1A的试样的离子化方法(此处是激光脱离离子化法(质量分析装置20的质量分析方法的一部分))。在图10～图12中，省略了试样支承体1A中的贯通孔2c、导电层4、粘接层5、涂层6和涂层7的图示。此外，为了方便图示，图9所示的试样支承体1A和图10～图12所示的试样支承体1A的尺寸的比率等不同。

首先，准备上述的试样支承体1A(第一工序)。试样支承体1A可以由实施激光脱离离子化法和质量分析方法的人制造而进行准备，也可以由从试样支承体1A的制造者或销售者等取得而进行准备。

接着，如图10的(a)所示，试样S载置于玻片8的载置面8a。接着，如图10的(b)所示，以基板2的第二表面2b与试样S相对的方式，试样支承体1A配置在试样S上(第二工序)。即，以涂层7与试样S的表面(上表面)接触的方式，配置试样支承体1A。该状态下，如图11的(a)所示，对玻片8固定试样支承体1A。此时，试样S在从基板2的厚度方向看时配置于有效区域R内。此外，试样支承体1A用胶带9对玻片8固定。此处，试样S是例如组织切片等薄膜状的生物体试样(含水试样)。

接着，如图11的(b)所示，以在玻片8与试样支承体1A之间配置有试样S的状态，试样S的成分S1利用毛细管现象经由多个贯通孔2c(参照图9)向基板2的第一表面2a侧(导电层4的第三表面4a侧)移动。移动到基板2的第一表面2a侧的成分S1利用表面张力而保留在第一表面2a侧。另外，在试样S为干燥试样时，将用于使试样S的粘性变低的溶液(例如乙腈、甲醇、丙酮等有机溶剂)添加于试样S。由此，能够利用毛细管现象使试样S的成分S1经由多个贯通孔2c向基板2的第一表面2a侧移动。

此处，试样支承体1A中，在第二表面2b和各贯通孔2c的包含第二表面2b侧的缘部的部分的内表面设置有亲水性的涂层7(参照图9)，由此能够促进试样S的成分S1从各贯通孔2c的第二表面2b侧的开口向各贯通孔2c内流通。即，试样S的成分S1容易在亲水性的涂层7传播而从各贯通孔2c的第二表面2b侧的开口进入各贯通孔2c内。即，亲水性的涂层7起到将第二表面2b侧的试样S的成分S1向各贯通孔2c内适宜地引导的作用。由此，能够使试样S的成分S1很好地进入各贯通孔2c内。

此外，试样支承体1A中，在第三表面4a设置有疏水性的涂层6(参照图9)，由此能够抑制利用毛细管现象在贯通孔2c内从第二表面2b侧向第三表面4a侧移动了的试样S的成分S1沿着第三表面4a(在涂层6传播)向其它的贯通孔2c(通道)上移动。由此，容易维持移动到第三表面4a侧的试样S的原来的位置信息(构成试样S的分子的二次元分布信息)，能够提高图像质量分析的精度(分辨率，画像分辨能力)。

接着，如图12所示，在试样S的成分S1保留在各贯通孔2c内的试样支承体1A固定于玻片8的状态下，玻片8、试样支承体1A和试样S载置在质量分析装置20的支承部21上。接着，利用质量分析装置20的电压施加部22，经由玻片8的载置面8a和胶带9对试样支承体1A的导电层4(参照图9)施加电压。本实施方式中，在没有设置涂层6的部分(设置在框架3上的导电层4的部分)，导电层4和胶带9导通。但是，在试样支承体1A中省略框架3等的情况下，导电层4和胶带9也可以经由涂层6接触。这是因为涂层6是非常薄的膜，不会对导电层4与胶带9之间导通造成大的防碍。

接着，利用质量分析装置20的激光照射部23，经由框架3的开口3a，对基板2的第一表面2a(导电层4的第三表面4a)照射激光L。即，激光L对基板2的第一表面2a中的与框架3的开口3a对应的区域(即，与有效区域R对应的区域)照射。本实施方式中，激光照射部23对与有效区域R对应的区域扫描激光L。另外，对与有效区域R对应的区域的激光L的扫描，通过使支承部21和激光照射部23的至少一者动作能够实施。

像这样，对导电层4施加电压并且对基板2的第一表面2a照射激光L，由此保留在基板2的贯通孔2c内(特别是第一表面2a侧)的试样S的成分S1离子化，释放试样离子S2(离子化的成分S1)(第三工序)。具体来说，从吸收了激光L的能量的导电层4(参照图9)，对保留在贯通孔2c内的试样S的成分S1传递能量，获得了能量的试样S的成分S1气化并且获得电荷，成为试样离子S2。以上的第一工序～第四工序相当于使用试样支承体1A的试样S的离子化方法(此处是激光脱离离子化法)。另外，虽然在导电层4的第三表面4a设置有涂层6，但如上所述，该涂层6是非常薄的膜，在将激光L照射至导电层4的条件下不会造成大的妨碍。

释放的试样离子S2向设置于试样支承体1A与质量分析装置20的离子检测部24之间的接地电极(图示省略)加速移动。即，试样离子S2利用在被施加了电压的导电层4与接地电极之间产生的电位差，向接地电极一边加速一边移动。由离子检测部24检测试样离子S2(第五工序)。本实施方式中，质量分析装置20是利用飞行时间型质量分析法(飞行时间质谱分析)(TOF-MS：Time-of-Flight Mass Spectrometry)的扫描型质量分析装置。以上的第一工序～第五工序相当于使用试样支承体1A的质量分析方法。

[第二实施方式的作用效果]

如上所述，试样支承体1A中，对第二表面2b和贯通孔2c的包含第二表面2b侧的缘部的部分的内表面进行用于提高对水的亲和性的表面处理。本实施方式中，在第二表面2b和上述部分的内表面设置有亲水性的涂层7。利用该涂层7，能够促进试样S的成分S1从贯通孔2c的第二表面2b侧的开口向贯通孔2c内流通。由此，在以试样支承体1A的第二表面2b与试样S相对的方式将试样支承体1A配置在试样S上的测量方式(以下也称为“吸起方式”。)中，能够使试样S的成分S1很好地进入贯通孔2c内，能够提高试样离子S2的信号强度。

此外，在第三表面4a设置有疏水性的涂层6。利用该涂层6，在吸起方式中，能够抑制利用毛细管现象在贯通孔2c内从第二表面2b侧移动到第三表面4a侧的试样S的成分S1沿第三表面4a向其它的贯通孔2c上移动。由此，向第三表面4a侧移动的试样S的原来的位置信息容易得以维持，能够提高图像质量分析的精度。

此外，根据上述试样支承体1A的制造方法，能够很好地得到试样支承体1A。具体地说，试样支承体1A的制造方法的第二工序包括对第二表面2b和贯通孔2c的包含第二表面2b侧的缘部的部分的内表面进行用于提高对水的亲和性的表面处理的工序。本实施方式中，该第二工序包括在第二表面2b和上述部分的内表面设置亲水性的涂层7的工序。由此，能够很好地得到能够促进试样S的成分S1从贯通孔2c的第二表面2b侧的开口向贯通孔2c内流通的试样支承体1A，即在吸起方式中能够提高试样离子S2的信号强度的试样支承体1A。此外，上述第二工序包含在第三表面4a设置疏水性的涂层6的工序。由此，能够得到能够抑制利用毛细管现象在贯通孔2c内从第二表面2b侧移动到第三表面4a侧的试样S的成分S1沿第三表面4a移动到其它贯通孔2c上的试样支承体1A。此外，上述第二工序中，亲水性的涂层7由氧化钛或氧化锌的成膜而形成。由此，能够容易且适宜地形成亲水性的涂层7。此外，上述第二工序中，疏水性的涂层6由金属的蒸镀或自组单分子膜形成。由此，能够容易且适宜地形成疏水性的涂层6。

此外，根据使用上述试样支承体1A的试样的离子化方法，使用能够促进试样S的成分S1从贯通孔2c的第二表面2b侧的开口向贯通孔2c内流通的试样支承体1A进行基于吸起方式的离子化，由此能够很好地检测试样离子S2。进而，通过在第三表面4a设置有疏水性的涂层6，能够抑制移动到第三表面4a侧的试样S的成分S1沿第三表面4a移动到其它的贯通孔2c上，因此能够提高图像质量分析的精度。

此外，在试样S为干燥试样时，在上述第三工序之前，对载置于载置面8a的试样S，添加用于使试样S的粘性变低的溶液(例如乙腈、甲醇、丙酮等有机溶剂)。由此，在测量对象的试样S为干燥试样时，能够促进基于毛细管现象的该试样S的成分S1在贯通孔2c内的移动。结果，在将干燥试样利用吸起方式离子化时，能够很好地提高试样离子S2的信号强度。

[第二实施方式的变形例]

第二实施方式中，对第二表面2b和第三表面4a两者进行表面处理(此处是形成涂层7、6)，但表面处理也可以仅对第二表面2b和第三表面4a的一者进行。例如，在不实施图像质量分析(不需要防止在第三表面4a上的试样S的成分S1的移动)等的情况下，也可以省略上述涂层6。此外，例如，在不需要进一步促进试样S的成分S1从贯通孔2c的第二表面2b侧的开口的流入等的情况下，也可以省略上述涂层7。

此外，基板2可以具有导电性，在质量分析方法中可以对基板2施加电压。在基板2具有导电性的情况下，在试样支承体1A中能够省略导电层4，并且能够得到与使用上述具有导电层4的试样支承体1A时同样的效果。此时，上述第二实施方式的“导电层4的第三表面4a”改称为“第一表面2a”。即，设置在第三表面4a和贯通孔2c的包含第三表面4a侧的缘部的部分的内表面的涂层6，变成设置在第一表面2a和贯通孔2c的包含第一表面2a侧的缘部的部分的内表面。

以上说明了本发明的实施方式，但本发明并不限定于上述实施方式，本发明在不脱离其主旨的范围内能够进行各种变形。

例如，上述实施方式中，作为提高对水的亲和性的表面处理，例示了设置亲水性的涂层7的处理，但提高对水的亲和性的表面处理并不限定于该处理。例如，作为提高对水的亲和性的表面处理，也可以代替设置亲水性的涂层(或与设置亲水性的涂层的处理一起)、执行进行受激准分子照射或等离子体照射的处理。同样地，上述实施方式中，作为减少对水的亲和性的表面处理，例示了设置疏水性的涂层6的处理，但减少对水的亲和性的表面处理并不限定于该处理。例如，作为减少对水的亲和性的表面处理，也可以代替设置疏水性的涂层(或与设置疏水性的涂层的处理一起)、执行利用离子铣削等的干蚀刻来改变表面的粗糙度的处理(粗糙化处理等)。

此外，导电层4只要至少设置在基板2的第一表面2a，则即可以不设置在基板2的第二表面2b和贯通孔2c的内表面，也可以设置在基板2的第二表面2b和贯通孔2c的内表面。此外，在使用上述的试样支承体1、1A的试样的离子化方法中，也可以用胶带9以外的手段(例如使用粘接剂、固定器具等的手段)对玻片8固定试样支承体1、1A。

此外，质量分析装置20中，激光照射部23可以对与有效区域R对应的区域统一地照射激光L，离子检测部24一边维持该区域的二维信息一边检测试样离子S2。即，质量分析装置20可以是投影型质量分析装置。此外，上述试样的离子化法能够不仅利用于构成试样S的分子的质量分析(包含图像质量分析)，也能够利用于离子迁移率测量等其它测量、实验。

此外，试样支承体1的用途并不限定于基于激光L的照射进行的试样S的离子化。试样支承体1也可以用于基于激光L以外的能量线(例如离子束、电子线等)的照射进行的试样S的离子化。

此外，上述实施方式中，在基板2设置有1个有效区域R，但也可以在基板2设置多个有效区域R。此外，多个贯通孔2c不需要仅形成于有效区域R，如上述的实施方式所示，例如，也可以形成在基板2的整体。即，多个贯通孔2c只要至少形成在有效区域R即可。此外，上述实施方式中，以1个试样S与1个有效区域R对应的方式配置了试样S，但也可以以多个试样S与1个有效区域R对应的方式配置试样S。

附图标记说明

1、1A……试样支承体，2……基板，2a……第一表面，2b……第二表面，2c……贯通孔，4……导电层，4a……第三表面，6……涂层(亲水性的涂层)，7……涂层(疏水性的涂层)，8……玻片(载置部)，8a……载置面，L……激光(能量线)，S……试样，S1……成分，S2……试样离子。

Claims (28)

1.一种用于试样的离子化的试样支承体，其特征在于：

包括：具有彼此相对的第一表面和第二表面的基板；和

至少设置于所述第一表面的导电层，

在所述基板和所述导电层，形成有在所述导电层的与所述基板相反的一侧的第三表面和所述第二表面开口的多个贯通孔，

在所述第二表面和所述第三表面的至少一者，进行用于使对水的亲和性在所述第二表面侧的面与所述第三表面侧的面之间彼此不同的表面处理。

2.如权利要求1所述的试样支承体，其特征在于：

在所述第二表面设置有疏水性的涂层，使得与所述第二表面侧的面相比，所述第三表面侧的面对水的亲和性较高。

3.如权利要求1或2所述的试样支承体，其特征在于：

对所述第三表面和所述贯通孔的包含所述第三表面侧的缘部的部分的内表面进行用于提高对水的亲和性的表面处理，使得与所述第二表面侧的面相比，所述第三表面侧的面对水的亲和性较高，

所述用于提高对水的亲和性的表面处理包括在所述第三表面和所述部分的内表面设置亲水性的涂层、以及对所述第三表面和所述部分的内表面进行受激准分子照射或等离子体照射的至少一者。

4.如权利要求1所述的试样支承体，其特征在于：

对所述第二表面和所述贯通孔的包含所述第二表面侧的缘部的部分的内表面进行用于提高对水的亲和性的表面处理，使得与所述第三表面侧的面相比，所述第二表面侧的面对水的亲和性较高，

所述用于提高对水的亲和性的表面处理包括在所述第二表面和所述部分的内表面设置亲水性的涂层、以及对所述第二表面和所述部分的内表面进行受激准分子照射或等离子体照射的至少一者。

5.如权利要求1或4所述的试样支承体，其特征在于：

在所述第三表面设置有疏水性的涂层，使得与所述第三表面侧的面相比，所述第二表面侧的面对水的亲和性较高。

6.如权利要求1～5中任一项所述的试样支承体，其特征在于：

所述基板通过对阀金属或硅进行阳极氧化而形成。

7.如权利要求1～6中任一项所述的试样支承体，其特征在于：

所述贯通孔的宽度为1nm～700nm。

8.如权利要求1～7中任一项所述的试样支承体，其特征在于：

所述导电层的材料是铂或金。

9.一种试样支承体，用于试样的离子化，其特征在于：

具有基板，其具有导电性，形成有在彼此相对的第一表面和第二表面开口的多个贯通孔，

对所述第一表面和所述第二表面的至少一者，进行用于使对水的亲和性在所述第一表面侧的面与所述第二表面侧的面之间不同的表面处理，

所述表面处理是：

包括在所述第一表面和所述贯通孔的包含所述第一表面侧的缘部的部分的内表面设置亲水性的涂层、以及对所述第一表面和所述贯通孔的包含所述第一表面侧的缘部的部分的内表面进行受激准分子照射或等离子体照射的至少一者的处理，其能够使得与所述第二表面侧的面相比，所述第一表面侧的面对水的亲和性较高，或者，

包括在所述第二表面和所述贯通孔的包含所述第二表面侧的缘部的部分的内表面设置亲水性的涂层、以及对所述第二表面和所述贯通孔的包含所述第二表面侧的缘部的部分的内表面进行受激准分子照射或等离子体照射的至少一者的处理，其能够使得与所述第一表面侧的面相比，所述第二表面侧的面对水的亲和性较高。

10.如权利要求3、4或9所述的试样支承体，其特征在于：

所述亲水性的涂层是通过氧化钛或氧化锌的成膜而形成的层。

11.如权利要求2或5所述的试样支承体，其特征在于：

所述疏水性的涂层是通过金属的蒸镀而形成的层或由自组单分子膜形成的层。

12.一种试样支承体的制造方法，其制造用于试样的离子化的试样支承体，该试样支承体的制造方法的特征在于：

包括：第一工序，准备具有彼此相对的第一表面和第二表面的基板和至少设置于所述第一表面的导电层，在所述基板和所述导电层，形成有在所述导电层的与所述基板相反的一侧的第三表面和所述第二表面开口的多个贯通孔；和

第二工序，对所述第二表面和所述第三表面的至少一者，进行使对水的亲和性在所述第二表面侧的面与所述第三表面侧的面之间不同的表面处理。

13.如权利要求12所述的试样支承体的制造方法，其特征在于：

所述第二工序包括在所述第二表面设置疏水性的涂层的工序，使得与所述第二表面侧的面相比，所述第三表面侧的面对水的亲和性较高。

14.如权利要求12或13所述的试样支承体的制造方法，其特征在于：

所述第二工序包括在所述第三表面和所述贯通孔的包含所述第三表面侧的缘部的部分的内表面进行用于提高对水的亲和性的表面处理的工序，使得与所述第二表面侧的面相比，所述第三表面侧的面对水的亲和性较高，

所述用于提高对水的亲和性的表面处理包括在所述第三表面和所述部分的内表面设置亲水性的涂层、以及对所述第三表面和所述部分的内表面进行受激准分子照射或等离子体照射的至少一者。

15.如权利要求12所述的试样支承体的制造方法，其特征在于：

所述第二工序包括对所述第二表面和所述贯通孔的包含所述第二表面侧的缘部的部分的内表面进行用于提高对水的亲和性的表面处理的工序，使得与所述第三表面侧的面相比，所述第二表面侧的面对水的亲和性较高，

所述用于提高对水的亲和性的表面处理包括在所述第二表面和所述部分的内表面设置亲水性的涂层、以及对所述第二表面和所述部分的内表面进行受激准分子照射或等离子体照射的至少一者。

16.如权利要求12或15所述的试样支承体的制造方法，其特征在于：

所述第二工序包括在所述第三表面设置疏水性的涂层的工序，使得与所述第三表面侧的面相比，所述第二表面侧的面对水的亲和性较高。

17.一种试样支承体的制造方法，其制造用于试样的离子化的试样支承体，该试样支承体的制造方法的特征在于：

包括：第一工序，准备具有导电性、形成有在彼此相对的第一表面和第二表面开口的多个贯通孔的基板；和

第二工序，对所述基板的第一表面和所述基板的第二表面的至少一者，进行使对水的亲和性在所述第一表面侧的面与所述第二表面侧的面之间不同的表面处理，

所述表面处理是：

包括在所述第一表面和所述贯通孔的包含所述第一表面侧的缘部的部分的内表面设置亲水性的涂层、以及对所述第一表面和所述贯通孔的包含所述第一表面侧的缘部的部分的内表面进行受激准分子照射或等离子体照射的至少一者的处理，其能够使得与所述第二表面侧的面相比，所述第一表面侧的面对水的亲和性较高，或者，

包括在所述第二表面和所述贯通孔的包含所述第二表面侧的缘部的部分的内表面设置亲水性的涂层、以及对所述第二表面和所述贯通孔的包含所述第二表面侧的缘部的部分的内表面进行受激准分子照射或等离子体照射的至少一者的处理，其能够使得与所述第一表面侧的面相比，所述第二表面侧的面对水的亲和性较高。

18.如权利要求14、15或17所述的试样支承体的制造方法，其特征在于：

在所述第二工序中，所述亲水性的涂层通过氧化钛或氧化锌的成膜而形成。

19.如权利要求13或16所述的试样支承体的制造方法，其特征在于：

在所述第二工序中，所述疏水性的涂层由金属的蒸镀或自组单分子膜形成。

20.一种试样的离子化方法，其特征在于：

包括：第一工序，准备试样支承体，该试样支承体包括具有彼此相对的第一表面和第二表面的基板和至少设置在所述第一表面的导电层，并且在所述基板和所述导电层，形成有在所述第二表面和所述导电层的与所述基板相反的一侧的第三表面开口的多个贯通孔；

第二工序，以所述第二表面与载置部的载置面相对的方式在所述载置面载置所述试样支承体；

第三工序，从所述第三表面侧对所述多个贯通孔滴下含有试样的溶液；和

第四工序，通过对所述导电层施加电压并且对所述第三表面照射能量线，使所述试样的成分离子化，

在所述基板的第二表面设置疏水性的涂层，使得与所述第二表面侧的面相比，所述第三表面侧的面对水的亲和性较高。

21.如权利要求20所述的试样的离子化方法，其特征在于：

对所述第三表面和所述贯通孔的包含所述第三表面侧的缘部的部分的内表面进行用于提高对水的亲和性的表面处理。

22.一种试样的离子化方法，其特征在于：

包括：第一工序，准备试样支承体，该试样支承体包括具有彼此相对的第一表面和第二表面的基板和至少设置在所述第一表面的导电层，且在所述基板和所述导电层，形成有在所述第二表面和所述导电层的与所述基板相反的一侧的第三表面开口的多个贯通孔；

第二工序，以所述第二表面与载置部的载置面相对的方式在所述载置面载置所述试样支承体；

第三工序，从所述第三表面侧对所述多个贯通孔滴下包含试样的溶液；和

第四工序，通过对所述导电层施加电压，并且对所述第三表面照射能量线，将所述试样的成分离子化，

对所述第三表面和所述贯通孔的包含所述第三表面侧的缘部的部分的内表面进行用于提高对水的亲和性的表面处理，使得与所述第二表面侧的面相比，所述第三表面侧的面对水的亲和性更高。

23.一种试样的离子化方法，其特征在于：

包括：第一工序，准备具有基板的试样支承体，该基板具有导电性，形成有在彼此相对的第一表面和第二表面开口的多个贯通孔；

第二工序，以所述第二表面与载置部的载置面相对的方式在所述载置面载置所述试样支承体；

第三工序，从所述第一表面侧对所述多个贯通孔滴下包含试样的溶液；

第四工序，通过对所述基板施加电压并且对所述第一表面照射能量线，将所述试样的成分离子化，

在所述第二表面设置有疏水性的涂层，使得与所述第二表面侧的面相比，所述第一表面侧的面对水的亲和性较高。

24.一种试样的离子化方法，其特征在于：

第一工序，准备试样支承体，该试样支承体包括具有彼此相对的第一表面和第二表面的基板和至少设置在所述第一表面的导电层，且在所述基板和所述导电层，形成有在所述第二表面和所述导电层的与所述基板相反的一侧的第三表面开口的多个贯通孔；

第二工序，以所述第二表面与载置在载置部的载置面的试样相对的方式，将所述试样支承体配置在所述试样上；和

第三工序，在所述试样的成分利用毛细管现象经由所述多个贯通孔移动到所述第三表面侧的状态下，通过对所述导电层施加电压并且对所述第三表面照射能量线，将所述试样的成分离子化，

对所述第二表面和所述贯通孔的包含所述第二表面侧的缘部的部分的内表面进行用于提高对水的亲和性的表面处理，使得与所述第三表面侧的面相比，所述第二表面侧的面对水的亲和性较高。

25.如权利要求24所述的试样的离子化方法，其特征在于：

在所述第三表面设置有疏水性的涂层，使得与所述第三表面侧的面相比，所述第二表面侧的面对水的亲和性较高。

26.一种试样的离子化方法，其特征在于：

包括：第一工序，准备试样支承体，该试样支承体包括具有彼此相对的第一表面和第二表面的基板和至少设置在所述第一表面的导电层，且在所述基板和所述导电层，形成有在所述第二表面和所述导电层的与所述基板相反的一侧的第三表面开口的多个贯通孔；

第二工序，以所述第二表面与载置在载置部的载置面的试样接触的方式，将所述试样支承体配置在所述试样上；和

第三工序，在所述试样的成分利用毛细管现象经由所述多个贯通孔移动到所述第三表面侧的状态下，通过对所述导电层施加电压并且对所述第三表面照射能量线，将所述试样的成分离子化，

在所述第三表面设置有疏水性的涂层，使得与所述第三表面侧的面相比，所述第二表面侧的面对水的亲和性较高。

27.一种试样的离子化方法，其特征在于：

包括：第一工序，准备具有基板的试样支承体，该基板具有导电性，形成有在彼此相对的第一表面和第二表面开口的多个贯通孔；

第二工序，以所述第二表面与载置在载置部的载置面的试样相对的方式，将所述试样支承体配置在所述试样上；和

第三工序，在所述试样的成分利用毛细管现象经由所述多个贯通孔移动到所述第一表面侧的状态下，通过对所述基板施加电压并且对所述第一表面照射能量线，将所述试样的成分离子化，

对所述第二表面和所述贯通孔的包含所述第二表面侧的缘部的部分的内表面进行用于提高对水的亲和性的表面处理，使得与所述第一表面侧的面相比，所述第二表面侧的面对水的亲和性较高。

28.如权利要求24～27中任一项所述的试样的离子化方法，其特征在于：

所述试样是干燥试样，

在所述第三工序之前，还包括对载置于所述载置面的所述试样，添加用于使所述试样的粘性变低的溶液的工序。

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