CN111496698A - 一种半导体晶片喷砂加工除尘装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开一种半导体晶片喷砂加工除尘装置，除尘装置包括除尘塔和连通件，所述除尘塔上连通设有第一除尘箱体，第一除尘箱体的一端与除尘塔连通，另一端设有水箱，水箱的上连通设有第二除尘箱，水箱上设有喷淋泵，喷淋泵的输入端插入水箱，输出端与除尘塔连通，连通件将第一除尘箱体、水箱和第二除尘箱连通在一起，除尘塔的下方设有过滤件。本发明除尘装置将气体通过水箱后经过第二除尘箱进行三次除尘后排出，经过多次除尘后排出提高除尘的效率，减少对环境的污染，有利于生态环境建设；喷淋后的水经过连通件回流至水箱，形成用水循环，减少污水外排。

Description

一种半导体晶片喷砂加工除尘装置

技术领域

本发明涉及一种除尘装置，具体是一种半导体晶片喷砂加工除尘装置。

背景技术

目前喷砂是二极管半导体整流芯片生产环节必不可少的工序，是通过高压空气带动金刚砂对晶片表面进行处理，利用金刚砂的硬度高于晶片表面硅玻璃，通过高压空气将金刚砂粉尘形成粉尘流体，经特制管路及管口喷出作用在晶片表面，将晶片表面的磷硅玻璃及硼硅玻璃通过表面打磨的方式去除。在整个喷砂设备运作过程中会产生一些金刚砂粉尘通过排风系统排出，如果直接排出会对环境造成粉尘污染，因此在金刚砂排风系统增加一种除尘装置显得尤为重要。

发明内容

本发明的目的在于提供一种半导体晶片喷砂加工除尘装置，喷砂后分粉尘气体通过入口管进入筒形主体内，喷淋泵将水箱内的水抽至喷淋件内，通过喷头对粉尘气体进行喷淋，通过驱动件驱动叶轮转动，给粉尘气体提高动力，粉尘气体中的部分粉尘经过喷淋融入水中，进行一次除尘，溶有粉尘的水经过过滤件过滤进入水箱，粉尘气体经过一次除尘进入第一除尘箱体内，粉尘气体通过U形连接管内的水进行二次除尘，粉尘进入连通水箱内，气体通过水箱后经过第二除尘箱进行三次除尘后排出，经过多次除尘后排出提高除尘的效率，减少对环境的污染，有利于生态环境建设，喷淋后的水经过连通件回流至水箱，形成用水循环，减少污水外排。

本发明的目的可以通过以下技术方案实现：

一种半导体晶片喷砂加工除尘装置，除尘装置包括除尘塔和连通件，所述除尘塔上连通设有第一除尘箱体，第一除尘箱体的一端与除尘塔连通，另一端设有水箱，水箱的上连通设有第二除尘箱，水箱上设有喷淋泵，喷淋泵的输入端插入水箱，输出端与除尘塔连通，连通件将第一除尘箱体、水箱和第二除尘箱连通在一起，除尘塔的下方设有过滤件。

所述除尘塔包括除尘塔主体，除尘塔主体上设有驱动件，驱动件的输出轴上紧固连接有叶轮，除尘塔主体设有固定有喷淋件，除尘塔主体的下方设有支撑件，除尘塔主体的下方连通设有阀体，除尘塔主体与过滤件连通，阀体位于除尘塔主体和过滤件之间。

所述第一除尘箱体包括U形连接管，U形连接管的两端分别设有第一弯头和第二弯头，第一弯头和第二弯头上分别设有第二法兰和第三法兰。

所述U形连接管的底部设有第五连接管，第五连接管上设有第四法兰。

所述U形连接管的下方设有连通水箱，连通水箱上设有第六连接管，第六连接管上设有第五法兰，连通水箱通过第五法兰与第四法兰配合，连通水箱上设有第七连接管和第一连通孔。

所述过滤件包括盛装筒和盖体，盛装筒内设有滤芯，盛装筒的下方设有第三连通管，盛装筒通过第三连通管和外界管体配合与第一连通孔连通。

所述盖体上设有第四连通管，第四连通管的一端与盖体连通，另一端与阀体连通。

所述盛装筒和盖体之间设有连接件，盛装筒和盖体通过连接件连接固定，连接件包括第一环形扣和第二环形扣，第一环形扣和第二环形扣的一端转动连接，另一端分别设有第一连接块和第二连接块，第二连接块上转动设有U形件，U形件上设有螺纹孔，螺纹孔内转设有挤压螺杆。

进一步的，所述除尘塔主体包括筒形主体，筒形主体的下方设有锥形筒体，锥形筒体的下方设有第一连接管，第一连接管的一端与锥形筒体连通，另一端与阀体连通。

所述筒形主体上设有入口管，筒形主体的一侧设有安装孔，筒形主体内设有安装板，安装板上设有阵列分布的固定板，固定板的一端与筒形主体的内壁紧固连接，另一端与固定板紧固连接，安装板上设有第一贯穿孔，驱动件的输出轴穿过第一贯穿孔与叶轮紧固连接。

所述筒形主体上设有第二连接管，第二连接管上设有第一法兰。

所述喷淋件包括圆形连接管，圆形连接管上设有第三连接管，圆形连接管内设有阵列分布的第四连接管，第四连接管的下方设有阵列分布的喷头，喷淋件通过圆形连接管固定在筒形主体的内壁，通过第三连接管与安装孔配合。

进一步的，所述第一除尘箱体通过第二法兰与第一法兰配合固定。

进一步的，所述水箱包括水箱主体，水箱主体的两端分别设有第八连接管和第九连接管，第八连接管和第九连接管上分别设有第六法兰和第七法兰，水箱主体上设有加水口，加水口上设有密封盖。

所述水箱主体上设有第二连通孔，水箱主体的一侧设有第三连通孔，水箱主体的一侧设有水位计。

进一步的，所述喷淋泵上设有入水管和出水管，喷淋泵通过出水管与第三连接管连通，通过入水管穿过第二连通孔插入水箱主体内。

进一步的，所述第二除尘箱与第一除尘箱体结构相同，其区别在于，第二除尘箱上没有第一连通孔。

进一步的，所述连通件包括第一连通管，第一连通管的两端均设有第三弯头，连通件通过第三弯头分别于第二除尘箱与第一除尘箱体连通，第三弯头与第七连接管配合，第一连通管上设有第二连通管，第二连通管的一端与第一连通管连通，另一端设有第四弯头，连通件通过第四弯头与第三连通孔配合。

进一步的，所述水箱通过第六法兰与第一除尘箱体的第三法兰配合连通，通过第七法兰与第二除尘箱的第三法兰配合连通。

进一步的，所述第二环形扣通过转动U形件，将U形件套在第一连接块上，转动挤压螺杆，通过挤压螺杆挤压第一连接块将盛装筒和盖体固定在一起。

本发明的有益效果：

1、本发明除尘装置喷砂后分粉尘气体通过入口管进入筒形主体内，喷淋泵将水箱内的水抽至喷淋件内，通过喷头对粉尘气体进行喷淋，通过驱动件驱动叶轮转动，给粉尘气体提高动力，粉尘气体中的部分粉尘经过喷淋融入水中，进行一次除尘，溶有粉尘的水经过过滤件过滤进入水箱，粉尘气体经过一次除尘进入第一除尘箱体内，粉尘气体通过U形连接管内的水进行二次除尘，粉尘进入连通水箱内，气体通过水箱后经过第二除尘箱进行三次除尘后排出，经过多次除尘后排出提高除尘的效率，减少对环境的污染，有利于生态环境建设。

2、本发明除尘装置喷淋后的水经过连通件回流至水箱，形成用水循环，减少污水外排。

附图说明

下面结合附图对本发明作进一步的说明。

图1是本发明除尘装置结构示意图；

图2是本发明除尘塔主体结构示意图；

图3是本发明喷淋件结构示意图；

图4是本发明第一除尘箱体结构示意图；

图5是本发明水箱结构示意图；

图6是本发明过滤件结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。

一种半导体晶片喷砂加工除尘装置，除尘装置包括除尘塔1和连通件6，如图1所示，除尘塔1上连通设有第一除尘箱体2，第一除尘箱体2的一端与除尘塔1连通，另一端设有水箱3，水箱3的上连通设有第二除尘箱5，水箱3上设有喷淋泵4，喷淋泵4的输入端插入水箱3，输出端与除尘塔1连通，连通件6将第一除尘箱体2、水箱3和第二除尘箱5连通在一起，除尘塔1的下方设有过滤件8。

除尘塔1包括除尘塔主体11，除尘塔主体11上设有驱动件12，驱动件12的输出轴上紧固连接有叶轮13，除尘塔主体11设有固定有喷淋件14，除尘塔主体11的下方设有支撑件16，除尘塔主体11的下方连通设有阀体15，除尘塔主体11与过滤件8连通，阀体15位于除尘塔主体11和过滤件8之间。

除尘塔主体11包括筒形主体111，如图2所示，筒形主体111的下方设有锥形筒体112，锥形筒体112的下方设有第一连接管113，第一连接管113的一端与锥形筒体112连通，另一端与阀体15连通。

筒形主体111上设有入口管110，筒形主体111的一侧设有安装孔114，筒形主体111内设有安装板116，安装板116上设有阵列分布的固定板115，固定板115的一端与筒形主体111的内壁紧固连接，另一端与固定板115紧固连接，安装板116上设有第一贯穿孔117，驱动件12的输出轴穿过第一贯穿孔117与叶轮13紧固连接。

筒形主体111上设有第二连接管118，第二连接管118上设有第一法兰119。

喷淋件14包括圆形连接管141，如图3所示，圆形连接管141上设有第三连接管142，圆形连接管141内设有阵列分布的第四连接管143，第四连接管143的下方设有阵列分布的喷头144，喷淋件14通过圆形连接管141固定在筒形主体111的内壁，通过第三连接管142与安装孔114配合。

第一除尘箱体2包括U形连接管21，如图4所示，U形连接管21的两端分别设有第一弯头22和第二弯头24，第一弯头22和第二弯头24上分别设有第二法兰23和第三法兰25，第一除尘箱体2通过第二法兰23与第一法兰119配合固定。

U形连接管21的底部设有第五连接管26，第五连接管26上设有第四法兰27。

U形连接管21的下方设有连通水箱28，连通水箱28上设有第六连接管281，第六连接管281上设有第五法兰282，连通水箱28通过第五法兰282与第四法兰27配合，连通水箱28上设有第七连接管283和第一连通孔284。

水箱3包括水箱主体31，如图5所示，水箱主体31的两端分别设有第八连接管32和第九连接管33，第八连接管32和第九连接管33上分别设有第六法兰321和第七法兰331，水箱主体31上设有加水口34，加水口34上设有密封盖35。

水箱主体31上设有第二连通孔36，水箱主体31的一侧设有第三连通孔37，水箱主体31的一侧设有水位计38。

喷淋泵4上设有入水管42和出水管41，喷淋泵4通过出水管41与第三连接管142连通，通过入水管42穿过第二连通孔36插入水箱主体31内。

第二除尘箱5与第一除尘箱体2结构相同，其区别在于，第二除尘箱5上没有第一连通孔284，第二除尘箱5与第一除尘箱体2的U形连接管21内的水位略大于管体直径。

连通件6包括第一连通管61，如图1所示，第一连通管61的两端均设有第三弯头62，连通件6通过第三弯头62分别于第二除尘箱5与第一除尘箱体2连通，第三弯头62与第七连接管283配合，第一连通管61上设有第二连通管63，第二连通管63的一端与第一连通管61连通，另一端设有第四弯头64，连通件6通过第四弯头64与第三连通孔37配合。

水箱3通过第六法兰321与第一除尘箱体2的第三法兰25配合连通，通过第七法兰331与第二除尘箱5的第三法兰25配合连通。

过滤件8包括盛装筒81和盖体82，如图6所示，盛装筒81内设有滤芯，盛装筒81的下方设有第三连通管811，盛装筒81通过第三连通管811和外界管体配合与第一连通孔284连通。

盖体82上设有第四连通管821，第四连通管821的一端与盖体82连通，另一端与阀体15连通。

盛装筒81和盖体82之间设有连接件83，盛装筒81和盖体82通过连接件83连接固定，连接件83包括第一环形扣831和第二环形扣832，第一环形扣831和第二环形扣832的一端转动连接，另一端分别设有第一连接块834和第二连接块833，第二连接块833上转动设有U形件835，U形件835上设有螺纹孔836，螺纹孔836内转设有挤压螺杆837，第二环形扣832通过转动U形件835，将U形件835套在第一连接块834上，转动挤压螺杆837，通过挤压螺杆837挤压第一连接块834将盛装筒81和盖体82固定在一起。

使用时，喷砂后分粉尘气体通过入口管110进入筒形主体111内，喷淋泵4将水箱3内的水抽至喷淋件14内，通过喷头144对粉尘气体进行喷淋，通过驱动件12驱动叶轮13转动，给粉尘气体提高动力，粉尘气体中的部分粉尘经过喷淋融入水中，进行一次除尘，溶有粉尘的水经过过滤件8过滤进入水箱3，粉尘气体经过一次除尘进入第一除尘箱体2内，粉尘气体通过U形连接管21内的水进行二次除尘，粉尘进入连通水箱28内，气体通过水箱3后经过第二除尘箱5进行三次除尘后排出，经过多次除尘后排出提高除尘的效率，减少对环境的污染，有利于生态环境建设。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“示例”、“具体示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。

Claims (9)

1.一种半导体晶片喷砂加工除尘装置，除尘装置包括除尘塔（1）和连通件（6），其特征在于，所述除尘塔（1）上连通设有第一除尘箱体（2），第一除尘箱体（2）的一端与除尘塔（1）连通，另一端设有水箱（3），水箱（3）的上连通设有第二除尘箱（5），水箱（3）上设有喷淋泵（4），喷淋泵（4）的输入端插入水箱（3），输出端与除尘塔（1）连通，连通件（6）将第一除尘箱体（2）、水箱（3）和第二除尘箱（5）连通在一起，除尘塔（1）的下方设有过滤件（8）；

所述除尘塔（1）包括除尘塔主体（11），除尘塔主体（11）上设有驱动件（12），驱动件（12）的输出轴上紧固连接有叶轮（13），除尘塔主体（11）设有固定有喷淋件（14），除尘塔主体（11）的下方设有支撑件（16），除尘塔主体（11）的下方连通设有阀体（15），除尘塔主体（11）与过滤件（8）连通，阀体（15）位于除尘塔主体（11）和过滤件（8）之间；

所述第一除尘箱体（2）包括U形连接管（21），U形连接管（21）的两端分别设有第一弯头（22）和第二弯头（24），第一弯头（22）和第二弯头（24）上分别设有第二法兰（23）和第三法兰（25）；

所述U形连接管（21）的底部设有第五连接管（26），第五连接管（26）上设有第四法兰（27）；

所述U形连接管（21）的下方设有连通水箱（28），连通水箱（28）上设有第六连接管（281），第六连接管（281）上设有第五法兰（282），连通水箱（28）通过第五法兰（282）与第四法兰（27）配合，连通水箱（28）上设有第七连接管（283）和第一连通孔（284）；

所述过滤件（8）包括盛装筒（81）和盖体（82），盛装筒（81）内设有滤芯，盛装筒（81）的下方设有第三连通管（811），盛装筒（81）通过第三连通管（811）和外界管体配合与第一连通孔（284）连通；

所述盖体（82）上设有第四连通管（821），第四连通管（821）的一端与盖体（82）连通，另一端与阀体（15）连通；

所述盛装筒（81）和盖体（82）之间设有连接件（83），盛装筒（81）和盖体（82）通过连接件（83）连接固定，连接件（83）包括第一环形扣（831）和第二环形扣（832），第一环形扣（831）和第二环形扣（832）的一端转动连接，另一端分别设有第一连接块（834）和第二连接块（833），第二连接块（833）上转动设有U形件（835），U形件（835）上设有螺纹孔（836），螺纹孔（836）内转设有挤压螺杆（837）。

2.根据权利要求1所述的一种半导体晶片喷砂加工除尘装置,其特征在于，所述除尘塔主体（11）包括筒形主体（111），筒形主体（111）的下方设有锥形筒体（112），锥形筒体（112）的下方设有第一连接管（113），第一连接管（113）的一端与锥形筒体（112）连通，另一端与阀体（15）连通；

所述筒形主体（111）上设有入口管（110），筒形主体（111）的一侧设有安装孔（114），筒形主体（111）内设有安装板（116），安装板（116）上设有阵列分布的固定板（115），固定板（115）的一端与筒形主体（111）的内壁紧固连接，另一端与固定板（115）紧固连接，安装板（116）上设有第一贯穿孔（117），驱动件（12）的输出轴穿过第一贯穿孔（117）与叶轮（13）紧固连接；

所述筒形主体（111）上设有第二连接管（118），第二连接管（118）上设有第一法兰（119）；

所述喷淋件（14）包括圆形连接管（141），圆形连接管（141）上设有第三连接管（142），圆形连接管（141）内设有阵列分布的第四连接管（143），第四连接管（143）的下方设有阵列分布的喷头（144），喷淋件（14）通过圆形连接管（141）固定在筒形主体（111）的内壁，通过第三连接管（142）与安装孔（114）配合。

3.根据权利要求2所述的一种半导体晶片喷砂加工除尘装置,其特征在于，所述第一除尘箱体（2）通过第二法兰（23）与第一法兰（119）配合固定。

4.根据权利要求1所述的一种半导体晶片喷砂加工除尘装置,其特征在于，所述水箱（3）包括水箱主体（31），水箱主体（31）的两端分别设有第八连接管（32）和第九连接管（33），第八连接管（32）和第九连接管（33）上分别设有第六法兰（321）和第七法兰（331），水箱主体（31）上设有加水口（34），加水口（34）上设有密封盖（35）；

所述水箱主体（31）上设有第二连通孔（36），水箱主体（31）的一侧设有第三连通孔（37），水箱主体（31）的一侧设有水位计（38）。

5.根据权利要求4所述的一种半导体晶片喷砂加工除尘装置,其特征在于，所述喷淋泵（4）上设有入水管（42）和出水管（41），喷淋泵（4）通过出水管（41）与第三连接管（142）连通，通过入水管（42）穿过第二连通孔（36）插入水箱主体（31）内。

6.根据权利要求1所述的一种半导体晶片喷砂加工除尘装置,其特征在于，所述第二除尘箱（5）与第一除尘箱体（2）结构相同，其区别在于，第二除尘箱（5）上没有第一连通孔（284）。

7.根据权利要求4所述的一种半导体晶片喷砂加工除尘装置,其特征在于，所述连通件（6）包括第一连通管（61），第一连通管（61）的两端均设有第三弯头（62），连通件（6）通过第三弯头（62）分别于第二除尘箱（5）与第一除尘箱体（2）连通，第三弯头（62）与第七连接管（283）配合，第一连通管（61）上设有第二连通管（63），第二连通管（63）的一端与第一连通管（61）连通，另一端设有第四弯头（64），连通件（6）通过第四弯头（64）与第三连通孔（37）配合。

8.根据权利要求4所述的一种半导体晶片喷砂加工除尘装置,其特征在于，所述水箱（3）通过第六法兰（321）与第一除尘箱体（2）的第三法兰（25）配合连通，通过第七法兰（331）与第二除尘箱（5）的第三法兰（25）配合连通。

9.根据权利要求1所述的一种半导体晶片喷砂加工除尘装置,其特征在于，所述第二环形扣（832）通过转动U形件（835），将U形件（835）套在第一连接块（834）上，转动挤压螺杆（837），通过挤压螺杆（837）挤压第一连接块（834）将盛装筒（81）和盖体（82）固定在一起。

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