CN111449423A - 防涂鸦课桌及其制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及教学设备领域,特别是公开了一种防涂鸦课桌,包括桌腿和桌板,所述桌板由刨花板制成,桌板上覆涂有木纹装饰层、耐磨层和防涂鸦层,所述耐磨层为聚氨酯,所述防涂鸦层包括聚硅氮烷、羟基端聚二甲基硅氧烷、经硅烷偶联剂改性的二氧化硅纳米粒子、表面活性剂、交联剂、催化剂和分散剂。采用上述方案,能有效防止学生在桌面乱涂乱画中留下的痕迹,即使留下印迹也很容易擦洗掉,容易维护,节约成本,使课桌变得美观耐用。
Description
技术领域
本发明涉及教学设备技术领域,特别是一种具有防涂写功能的课桌。
背景技术
涂鸦是人类现代文明的一大公害,涂鸦造成的损失越来越受到人们的关注,而且各国用在清除涂鸦上的费用巨大。在学校,课桌椅的涂鸦情况也不容乐观,课桌桌面一般都是木制桌面,木材等属多孔材料,书写油墨很容易渗进去,所以很难把涂鸦从这类底材上除去。而许多学生会有意或无意识的在桌面上写字、刻画,墨迹大多很难清洗,不仅影响美观,影响学习环境,油墨渗入桌面还会腐蚀、破坏桌面,影响课桌的使用寿命。
目前,国内市场上防涂鸦涂料主要分为氟树脂涂料和硅树脂涂料,氟树脂价格昂贵,应用成本高,长链硅氧烷树脂经过改性和交联后,其涂层可以接近氟树脂涂层的性能,而且价格要比氟树脂低很多。丙烯酸树脂或环氧、聚酯树脂等防涂鸦涂料,对强化学清洗剂有一定的抵腐蚀能力,可以抵御几次化学清洗剂清洗,但最终还是需要新的涂层替代。
发明内容
为了克服现有技术的不足,本发明提供了一种防涂鸦课桌,能有效防止学生在桌面乱涂乱画中留下的痕迹,即使留下印迹也很容易擦洗掉,容易维护,节约成本,使课桌变得美观耐用。
为了实现上述目的,本发明采用的技术方案是:一种防涂鸦课桌,包括桌腿和桌板,所述桌板由刨花板制成,桌板上覆涂有木纹装饰层、耐磨层和防涂鸦层,所述耐磨层为聚氨酯,所述防涂鸦层包括聚硅氮烷、羟基端聚二甲基硅氧烷、经硅烷偶联剂改性的二氧化硅纳米粒子、表面活性剂、交联剂、催化剂和分散剂。
上述技术方案中,防涂鸦层具有耐刮性,高耐化学品性、耐腐蚀性、温度稳定性、易清洁性和阻隔作用,即使表层防涂鸦层遭到破坏,底层的耐磨层仍可以对木质桌面起到防护作用。
作为本发明的进一步设置,所述聚硅氮烷为100-200质量份,羟基端聚二甲基硅氧烷为50-100质量份,二氧化硅纳米粒子为5-10质量份。
上述技术方案中,因为防涂鸦层表面性能由表面化学物质和微观结构共同决定,二氧化硅纳米粒子的加入是为了增加表面微观粗糙结构,使用分散剂均匀分散于涂层中,降低表面能,增强防涂鸦效果。
作为本发明的进一步设置,所述二氧化硅纳米粒子粒径为10~20nm。
作为本发明的进一步设置,所述表面活性剂为含氟硅烷、氟烷基硅烷、聚三氟化物或者氟烷基化合物中的一种或多种的混合物,表面活性剂为0.5-2质量份。
上述技术方案中,表面活性剂作为多功能助剂,为涂料提供良好的流动性和流平性。
作为本发明的进一步设置,所述交联剂为乙酸乙酯、乙酸丁酯或者正硅酸乙酯中的一种或多种的混合物,交联剂为80-100质量份。
作为本发明的进一步设置,所述催化剂为二月桂酸二丁基锡或二月桂酸二正辛基锡,催化剂为1-2质量份。
上述技术方案中,用于催化交联反应。
作为本发明的进一步设置,所述分散剂为丙二醇甲醚或二丙二醇甲醚,分散剂为3-5质量份。
作为本发明的进一步设置,所述桌板的端面上设置有笔槽和杯槽,笔槽呈条形状,笔槽的底面为弧形面,所述杯槽呈圆形凹陷。
上述技术方案中,笔槽可用于放置笔等条形用具,避免笔随意滚动,杯槽可用于放置杯子,避免杯子滑动或倾倒,使用更方便整洁。
一种防涂鸦课桌的制作方法,包括桌腿和桌板,所述
桌板由刨花板制成;
在桌板上依次涂抹木纹装饰层和聚氨酯耐磨层;
将聚硅氮烷、羟基端聚二甲基硅氧烷、经硅烷偶联剂改性的二氧化硅纳米粒子、表面活性剂、交联剂、催化剂和分散剂按权利要求2-7的比例混合均匀后采用喷涂或刮涂的方式覆于耐磨层上形成防涂鸦层;
然后将课桌置于20-30℃室温下干燥3天。
上述技术方案中,喷涂或刮涂的方式使得涂抹更均匀,防涂鸦效果更好。
作为本发明的进一步设置,所述防涂鸦层的厚度为5-10μm,硬度为6H,透光率≥90%。
上述技术方案中,透光率高,避免盖住木纹装饰层的花纹,使得桌面更美观多样。
下面结合附图对本发明作进一步描述。
附图说明
附图1为本发明具体实施例结构示意图;
附图2为本发明具体实施例结构分解图。
具体实施方式
本发明的具体实施例如图1-2所示,一种防涂鸦课桌,包括桌腿1和桌板2,所述桌板2由刨花板21制成,桌板2上覆涂有木纹装饰层22、耐磨层23和防涂鸦层24,所述耐磨层23为聚氨酯,所述防涂鸦层24包括聚硅氮烷、羟基端聚二甲基硅氧烷、经硅烷偶联剂改性的二氧化硅纳米粒子、表面活性剂、交联剂、催化剂和分散剂。防涂鸦层24具有耐刮性,高耐化学品性、耐腐蚀性、温度稳定性、易清洁性和阻隔作用,即使表层防涂鸦层24遭到破坏,底层的耐磨层23仍可以对木质桌面起到防护作用。
上述聚硅氮烷为100-200质量份,羟基端聚二甲基硅氧烷为50-100质量份,二氧化硅纳米粒子为5-10质量份。因为防涂鸦层24表面性能由表面化学物质和微观结构共同决定,二氧化硅纳米粒子的加入是为了增加表面微观粗糙结构,使用分散剂均匀分散于涂层中,降低表面能,增强防涂鸦效果。
上述二氧化硅纳米粒子粒径为10~20nm。
上述表面活性剂为含氟硅烷、氟烷基硅烷、聚三氟化物或者氟烷基化合物中的一种或多种的混合物,表面活性剂为0.5-2质量份。表面活性剂作为多功能助剂,为涂料提供良好的流动性和流平性。
上述交联剂为乙酸乙酯、乙酸丁酯或者正硅酸乙酯中的一种或多种的混合物,交联剂为80-100质量份。
上述催化剂为二月桂酸二丁基锡或二月桂酸二正辛基锡,催化剂为1-2质量份。用于催化交联反应。
上述分散剂为丙二醇甲醚或二丙二醇甲醚,分散剂为3-5质量份。
上述桌板2的端面上设置有笔槽25和杯槽26,笔槽25呈条形状,笔槽25的底面为弧形面,所述杯槽26呈圆形凹陷。笔槽25可用于放置笔等条形用具,避免笔随意滚动,杯槽26可用于放置杯子,避免杯子滑动或倾倒,使用更方便整洁。
一种防涂鸦课桌的制作方法,包括桌腿1和桌板2,所述桌板2由刨花板21制成;在桌板2上依次涂抹木纹装饰层22和聚氨酯耐磨层23;将聚硅氮烷、羟基端聚二甲基硅氧烷、经硅烷偶联剂改性的二氧化硅纳米粒子、表面活性剂、交联剂、催化剂和分散剂按权利要求2-7的比例混合均匀后采用喷涂或刮涂的方式覆于耐磨层23上形成防涂鸦层24;然后将课桌置于20-30℃室温下干燥3天。喷涂或刮涂的方式使得涂抹更均匀,防涂鸦效果更好。
上述防涂鸦层24的厚度为5-10μm,硬度为6H,透光率≥90%。透光率高,避免盖住木纹装饰层22的花纹,使得桌面更美观多样。
本发明不局限于上述具体实施方式,本领域一般技术人员根据本发明公开的内容,可以采用其他多种具体实施方式实施本发明的,或者凡是采用本发明的设计结构和思路,做简单变化或更改的,都落入本发明的保护范围。
Claims (10)
1.一种防涂鸦课桌,包括桌腿和桌板,其特征在于:所述桌板由刨花板制成,桌板上覆涂有木纹装饰层、耐磨层和防涂鸦层,所述耐磨层为聚氨酯,所述防涂鸦层包括聚硅氮烷、羟基端聚二甲基硅氧烷、经硅烷偶联剂改性的二氧化硅纳米粒子、表面活性剂、交联剂、催化剂和分散剂。
2.根据权利要求1所述的防涂鸦课桌,其特征在于:所述聚硅氮烷为100-200质量份,羟基端聚二甲基硅氧烷为50-100质量份,二氧化硅纳米粒子为5-10质量份。
3.根据权利要求1或2所述的防涂鸦课桌,其特征在于:所述二氧化硅纳米粒子粒径为10~20nm。
4.根据权利要求3所述的防涂鸦课桌,其特征在于:所述表面活性剂为含氟硅烷、氟烷基硅烷、聚三氟化物或者氟烷基化合物中的一种或多种的混合物,表面活性剂为0.5-2质量份。
5.根据权利要求3所述的防涂鸦课桌,其特征在于:所述交联剂为乙酸乙酯、乙酸丁酯或者正硅酸乙酯中的一种或多种的混合物,交联剂为80-100质量份。
6.根据权利要求3所述的防涂鸦课桌,其特征在于:所述催化剂为二月桂酸二丁基锡或二月桂酸二正辛基锡,催化剂为1-2质量份。
7.根据权利要求3所述的防涂鸦课桌,其特征在于:所述分散剂为丙二醇甲醚或二丙二醇甲醚,分散剂为3-5质量份。
8.根据权利要求1或2或4或5或6或7所述的防涂鸦课桌,其特征在于:所述桌板的端面上设置有笔槽和杯槽,笔槽呈条形状,笔槽的底面为弧形面,所述杯槽呈圆形凹陷。
9.一种防涂鸦课桌的制作方法,包括桌腿和桌板,其特征在于:所述
桌板由刨花板制成;
在桌板上依次涂抹木纹装饰层和聚氨酯耐磨层;
将聚硅氮烷、羟基端聚二甲基硅氧烷、经硅烷偶联剂改性的二氧化硅纳米粒子、表面活性剂、交联剂、催化剂和分散剂按权利要求2-7的比例混合均匀后采用喷涂或刮涂的方式覆于耐磨层上形成防涂鸦层;
然后将课桌置于20-30℃室温下干燥3天。
10.根据权利要求8所述的防涂鸦课桌的制作方法,其特征在于:所述防涂鸦层的厚度为5-10μm,硬度为6H,透光率≥90%。
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20200728 |
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