CN111435112A - 气体分析设备 - Google Patents
气体分析设备 Download PDFInfo
- Publication number
- CN111435112A CN111435112A CN202010013886.9A CN202010013886A CN111435112A CN 111435112 A CN111435112 A CN 111435112A CN 202010013886 A CN202010013886 A CN 202010013886A CN 111435112 A CN111435112 A CN 111435112A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- gas
- analysis apparatus
- probe
- measuring beam
- window
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004868 gas analysis Methods 0.000 title claims abstract description 91
- 239000000523 sample Substances 0.000 claims abstract description 82
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 34
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 claims abstract description 16
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 57
- 239000002826 coolant Substances 0.000 claims description 52
- 238000003780 insertion Methods 0.000 claims description 31
- 230000037431 insertion Effects 0.000 claims description 31
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 7
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 6
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 173
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 107
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 33
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 21
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 7
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 2
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
- 238000000041 tunable diode laser absorption spectroscopy Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/1702—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated with opto-acoustic detection, e.g. for gases or analysing solids
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/31—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/01—Arrangements or apparatus for facilitating the optical investigation
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/85—Investigating moving fluids or granular solids
- G01N21/8507—Probe photometers, i.e. with optical measuring part dipped into fluid sample
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/01—Arrangements or apparatus for facilitating the optical investigation
- G01N2021/0106—General arrangement of respective parts
- G01N2021/0112—Apparatus in one mechanical, optical or electronic block
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/1702—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated with opto-acoustic detection, e.g. for gases or analysing solids
- G01N2021/1704—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated with opto-acoustic detection, e.g. for gases or analysing solids in gases
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/85—Investigating moving fluids or granular solids
- G01N21/8507—Probe photometers, i.e. with optical measuring part dipped into fluid sample
- G01N2021/8514—Probe photometers, i.e. with optical measuring part dipped into fluid sample with immersed mirror
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Abstract
本公开提供一种气体分析设备，包括：光发射器，该光发射器用测量光束照射在管道中流动的气体；处理器，该处理器基于穿过气体的测量光束的吸收光谱来分析气体中包含的组分；探针，该探针覆盖测量光束的光路；以及窗口，测量光束穿过该窗口，且该窗口将探针的中空部分与气体隔离。
Description
相关申请的交互引用
本申请要求2019年1月11日提交的日本专利申请第2019-003204号的优先权，其内容通过援引加入本文。
技术领域
本发明总体上涉及一种气体分析设备。
背景技术
气体分析设备照射激光光束至待测气体，并基于穿过待测气体的激光光束的吸收光谱来测量待测气体中包含的组分及其浓度等。该激光气体分析设备设置有：发光部，该发光部用于发射照射至待测气体的激光光束；以及光接收部，该光接收部用于接收穿过待测气体的激光光束(例如，参见专利文献1)。
专利文献1：JP 2010-185694A
近来，气体分析设备已经用于各种技术领域，并且待测气体的温度范围也得到扩展。在常规气体分析设备中待测气体的温度范围约为600℃，但是最近已经对温度高于600℃的气体进行了测量，因此需要一种能够测量温度高于600℃(例如，1000℃或更高)的气体中的组分及其浓度等的气体分析设备。
发明内容
本发明的一个或多个实施例在高温下测量气体。
根据一个或多个实施例的气体分析设备将测量光束照射至在管道中流动的待测气体，并基于穿过所述待测气体的测量光束的吸收光谱对所述待测气体中包含的组分进行分析。所述气体分析设备设置有：圆筒状部件，该圆筒状部件的至少一部分设置在所述管道内，该圆筒状部件设置为覆盖所述测量光束的光路；以及透明部件，所述测量光束能够穿过该透明部件，该透明部件设置为堵塞所述圆筒状部件的中空部分并且暴露于在所述管道中流动的所述待测气体。
根据一个或多个实施例的气体分析设备包括：光发射器，该光发射器用测量光束照射在管道中流动的气体；处理器，该处理器基于穿过所述气体的测量光束的吸收光谱来分析所述气体中包含的组分；探针，该探针覆盖所述测量光束的光路；和窗口，所述测量光束穿过该窗口，且该窗口将所述探针的中空部分与所述气体隔离。
根据一个或多个实施例的气体分析设备包括：光发射器，该光发射器用测量光束照射在管道中流动的气体；处理器，该处理器基于穿过所述气体的测量光束的吸收光谱来分析所述气体中包含的组分；第一插入管，该第一插入管覆盖所述测量光束的光路；第一窗口，所述测量光束穿过该第一窗口，并且该第一窗口将所述第一插入管的中空部分与所述气体隔离；第二插入管，该第二插入管覆盖所述测量光束的光路；以及第二窗口，所述测量光束穿过该第二窗口，并且该第二窗口将所述第二插入管的中空部分与所述气体隔离。当设置所述第一窗口和所述第二窗口为在所述管道中彼此相对时，将通过气体的测量区域限定为在所述第一窗口和所述第二窗口之间。
根据本发明的一个或多个实施例的气体分析设备能够测量高温的气体。
附图说明
图1是示出了根据一个或多个实施例的气体分析设备的结构的示意图。
图2是示出了根据一个或多个实施例的气体分析设备的结构的示意图。
具体实施方式
这里将参照附图描述本发明的实施例。本领域技术人员将认识到，使用本发明的教导可以实现许多可供选择的实施例，并且本发明不限于出于说明目的而在此示出的实施例。
根据一个或多个实施例的气体分析设备适用于探针型气体分析设备。这里，探针型是指例如具有光源、反射结构和光检测器一体制造的结构的一类气体分析设备，并且待测气体是从该气体流经的管道的一侧导入。
将参照图1描述根据一个或多个实施例的气体分析设备的结构。
如图1所示，将气体分析设备1安装在待测气体G流经的气体管道(管道)2上，并且气体分析设备对流经气体管道2的待测气体G中包含的组分进行分析(测量其中的组分及其浓度等)。例如，待测气体G包括诸如CO、CO2、H2O、CmHn(m和n为任何整数)、NH3和O2的气体(工艺气体)。
气体分析设备1大体上配置有：探针(圆筒状部件)11，该探针11安装在气体管道2上且大部分延伸至气体管道2内；冷却单元12，该冷却单元12连接至探针11并设置在气体管道2的外部；以及分析单元13，该分析单元13连接至冷却单元12并设置在气体管道2的外部。
这里，分析单元13发射并接收测量光束，并分析待测气体G的吸收光谱。探针11具有用于反射测量光束的反射结构，并形成用于使测量光束穿过而到达待测气体G的测量区域S1a。并且，冷却单元12具有用于抑制从探针11向分析单元13的传热的冷却机构(传热抑制机构或冷却器)。换句话说，在气体分析设备1中，分析单元13通过具有冷却机构的冷却单元12连接至探针11。
探针11设置有连接至气体管道2的探针主体21。探针主体21是沿着光路形成的圆筒状(例如，大致呈圆筒状)的中空部件，使得测量光束可以穿过，并在探针主体21的基端形成法兰21a。换句话说，探针主体21是覆盖测量光束的光路的圆筒状部件。法兰21a机械地连接至安装在气体管道2上的安装部件2a，并且探针主体21的大部分延伸至气体管道2内。例如，探针主体21在与待测气体G在气体管道2中的流动方向基本垂直的方向(光轴方向)上延伸，该延伸方向上的外部长度d11例如约为500～2000mm。
探针主体21由耐热部件组成，耐热部件在比流经气体管道2的待测气体G的温度更高的温度带是耐热的，例如，耐热部件由诸如氧化铝的陶瓷形成。在一个或多个实施例中，例如，探针主体21的耐热温度为至少600℃，或至少1000℃，或至少1200℃。
在探针11(探针主体21)的顶端(位于气体管道2中的端部)附近设置能够反射至少一部分测量光束的反射部(反射部件或反射器)22。反射部22可以具有针对测量光束的任何反射结构，诸如角锥棱镜或后向反射器。例如，反射单元22由蓝宝石构成，并且可以利用金属化连接等与探针主体21的内表面一体地组装。
此外，大致在探针11(探针主体21)的中央设置测量光束能够穿过的窗口(透明部件)23。例如，窗口23由蓝宝石构成，并且可以利用金属化连接等与探针主体21的内表面一体地组装。这里，窗口23仅与反射部22相距预定的距离DS1a，窗口23被固定以堵塞探针主体21的内部，并与反射部22一起限定测量区域S1a。换句话说，在探针主体21中，窗口23将自窗口23起的顶端侧的空间(测量区域)S1a与自窗口23起的基端侧的空间(非测量区域)S11进行分隔(分离)，并且窗口23被设置为堵塞探针主体21的中空部分并暴露于在气体管道2中流动的待测气体G。
在探针11(探针主体21)上形成面向测量区域S1a的开口21b和21c。开口21b和21c包括：上游侧开口21b，该上游侧开口21b位于待测气体G的流动方向的上游侧，以引导待测气体G至测量区域S1a内；以及下游侧开口21c，该下游侧开口21c位于待测气体G的流动方向的下游侧，以从测量区域S1a的内部排出待测气体G。在整个测量区域S1a范围内，沿着探针主体21的延伸方向(测量光束的光轴方向)设置多个(图1中为三个)上游侧开口21b和下游侧开口21c。当然，在能够确保探针主体21的强度等的情况下，可以在整个测量区域S1a范围内设置在探针主体21的延伸方向上连续(伸长)的上游侧开口21b和下游侧开口21c各一个。
冷却单元12的一端设置有冷却单元主体31，该冷却单元主体31安装在探针11的基端(反射侧和顶端的相对端)。冷却单元主体31是沿着光轴形成为圆筒状(例如大致圆筒状)的中空部件，使得测量光束能够穿过，并且冷却单元主体31的内部空间S12与探针11的非测量区域S11连通。例如，冷却单元主体31在气体管道2的外部沿与探针11(探针主体21)的延伸方向相同的方向延伸，例如，该延伸方向上的外部长度d12大约为500mm。
冷却单元主体31由耐热部件组成，耐热部件在比流经气体管道2的待测气体G的温度更高的温度带是耐热的，例如，耐热部件由诸如氧化铝的陶瓷形成。在一个或多个实施例中，例如，冷却单元主体31的耐热温度为至少600℃，或至少1000℃，或至少1200℃。冷却单元主体31的材料可以与探针主体21的材料不同。此外，冷却单元主体31的耐热温度可以与探针主体21的耐热温度不同，可以是高于探针主体21的耐热温度的温度，或者可以是低于探针主体21的耐热温度的温度。在一个或多个实施例中，冷却单元主体31的耐热温度是与探针主体21的耐热温度相同或小于探针主体21的耐热温度的温度。
在冷却单元12(冷却单元主体31)的另一端附近设置测量光束能够穿过的窗口(透明部件)32。例如，窗口32由蓝宝石构成，并且可以利用金属化连接等与冷却单元主体31的内表面一体地组装。这里，窗口32被固定以堵塞冷却单元主体31的内部，并根据非测量区域S11和内部空间S12(探针主体21和窗口23，冷却单元主体31和窗口32)限定如下所述充满冷却剂的传热抑制空间S1b。换句话说，设置窗口32以堵塞冷却单元主体31的中空部分。
冷却单元12(冷却单元主体31)设置用于将冷却剂送至传热抑制空间S1b的冷却剂进料口31a和用于将送至传热抑制空间S1b的冷却剂排出的冷却剂出料口31b。冷却剂进料口31a和冷却剂出料口31b均面向内部空间S12形成。这里，内部空间S12与非测量区域S11连通，因此内部空间S12和非测量区域S11两者的空间(传热抑制空间)S1b内部充满从冷却剂进料口31a进入的冷却剂。冷却剂是不影响测量光束的光谱的流体(气体或液体)，例如是诸如N2的气体。换句话说，冷却单元12具有用于使冷却剂循环至探针1中的空间(非测量区域)S11的冷却机构，该空间(非测量区域)S11使用窗口23与气体管道2中的空间(测量区域)S1a隔离。
在一个或多个实施例中，考虑冷却剂在非测量空间S11和内部空间S12两者的空间(传热抑制空间)S1b内的循环来设置冷却剂进料口31a和冷却剂出料口31b。例如，冷却剂进料口31a和冷却剂出料口31b可以设置为偏离光轴方向且彼此不相对。此外，冷却剂进料口31a可以定位于比冷却剂出料口31b更靠近探针11侧。此外，冷却剂进料口31a可以设置为面向探针11侧，使其开口倾斜。此外，冷却剂出料口31b可以设置为面向探针11侧，使其开口倾斜。
分析单元13设置有安装在冷却单元12的另一端的分析单元主体(壳体)41。分析单元13设置有发射测量光束的发光部(光发射器)42、接收测量光束的光接收部43以及用于测量和分析测量光束的吸收光谱的算术逻辑部44。发光部42、光接收部43和算术逻辑部44经由多个电子基板(未示出)进行电连接。例如，分析单元主体41是容纳这些部件中的每一个的耐压防爆容器。分析单元主体41具有用于一体化地容纳这些部件中的每一个的模块结构。发光部42和光接收部43设置为在分析单元主体41中彼此靠近。
发光部42具有能够使用TDLAS(可调谐二极管激光吸收光谱)测量待测气体G的任意光源。例如，发光部42具有半导体激光器。光接收部43具有能够使用TDLAS测量待测气体G的任意的光检测器。例如，光接收部43具有光电二极管。算术逻辑部44具有至少一个处理器。算术逻辑部44控制包括发光部42和光接收部43的整个气体分析设备1的操作。
将参照图1描述根据一个或多个实施例的气体分析设备的操作。
发光部42照射测量光束至探针11的反射部22。在图1中，将被反射部22反射的前向测量光束表示为发射光束L1a。发光部42照射发射光束L1a至包含待测气体G的测量区域S1a。发射光束L1a沿其光轴穿过窗口32，然后通过窗口23传播至延伸以与测量区域S1a重叠的探针11(探针主体21)，然后进入反射部22。
反射单元22对穿过测量区域S1a的发射光束L1a的至少一部分进行反射。在图1中，被反射部22反射的返回测量光束表示为反射光束L1b。反射光束L1b再次经由窗口23穿过包括测量区域S1a的探针11(探针主体21)，然后穿过窗口32，随后进入光接收单元43。换句话说，光接收单元43接收由反射部22反射并穿过测量区域S1a的反射光束L1b。
算术逻辑部44使用由光接收部43接收的反射光束L1b的光谱，以求出待测气体G的吸收光谱，并求出待测气体G中包含的组分及其浓度。
这里，暴露于待测气体G的探针主体21、反射部22和窗口23均由具有高耐热性的材料构成，因此，气体分析设备1可以测量高温(例如1000℃或更高)的待测气体G的组分及其浓度。
此外，由于冷却单元12的功能，或者换句话说，由于冷却剂循环至由非测量区域S11和内部空间S12构成的传热抑制空间S1b，气体分析设备1有效地抑制了来自暴露于待测气体G的探针主体21、反射部22和窗口23的传热，可以充分减小传热对分析单元13(发光部42、光接收部43和算术逻辑部44)的影响。
气体分析设备1对如上所述流经气体管道2的待测气体G中包含的组分进行分析(测量组分及其浓度等)。
气体分析设备1照射测量光束至在气体管道(管道)2中流动的待测气体G，并基于穿过待测气体G的测量光束的吸收光谱对待测气体G中包含的组分进行分析。气体分析设备1设置有至少一部分置于气体管道2中的探针主体(圆筒状部件)21(设置为覆盖测量光束的光路)，并设置有测量光束能够穿过的窗口(透明部件)23(设置为堵塞探针主体21的中空部分并暴露于在气体管道2中流动的待测气体G)。
气体分析设备1具有上述配置，因此，气体管道2内部的空间(待测气体G流经的地方)和气体管道2外部的空间(设置分析单元13的地方)通过窗口23进行分离。因此，例如，即使在待测气体G处于高温(例如1000℃或更高)的情况下，待测气体G也不会经由探针11流出至分析单元13，也可以抑制由待测气体G导致的从探针11到分析单元13的传热。换句话说，气体分析单元1可以测量高温的待测气体G。
此外，气体分析设备1设置有冷却单元(冷却机构)12，该冷却单元12将冷却剂循环至探针主体21内通过窗口23与气体管道2内的空间分隔的空间，或者换句话说，气体分析设备1设置有冷却剂进料口(冷却机构)12a和冷却剂出料口(冷却机构)12b。该配置使得气体分析设备1能够更好地抑制由待测气体G导致的从探针11到分析单元13的传热。
此外，气体分析设备1中的探针主体21由诸如氧化铝的陶瓷构成。该配置使得气体分析设备1能够更好地抑制由待测气体G导致的从探针11到分析单元13的传热。
此外，气体分析设备1设置有能够反射至少一部分测量光束的反射部(反射部件)22(设置为与窗口23相距预定距离DS1a)，并且在窗口23和反射部22之间限定待测气体G流通的测量区域S1a。该配置不允许待测气体G流入非测量区域S11，因此，气体分析设备1不需要例如用于循环吹扫气体的机构等。因此，气体分析设备1能够测量高温的待测气体G，并且可以简化气体分析设备1的配置。
本发明的气体分析设备不限于上述根据一个或多个实施例的探针型气体分析设备1的配置，而是可以以各种方式进行修改。例如，本发明的气体分析设备不限于在上述实施例中所描述的设置冷却单元12独立于探针(单元)11和分析单元13的配置。例如，冷却单元可以与探针或分析单元一体地配置。这里，当冷却单元与探针一体地配置时，冷却单元的至少一部分可以位于气体管道中。
此外，本发明的气体分析设备不限于如上述实施例中所描述的在传热抑制空间S1b中循环冷却剂的配置。例如，可以在传热抑制空间中密封冷却剂，并且可以从外部对冷却单元进行冷却。此外，传热抑制空间可以是真空，以改善隔热效果。换句话说，气体分析设备可以设置有隔热机构(绝热器)，其中通过窗口与气体管道的空间隔开的探针主体的空间是真空的。在这种情况下，冷却单元具有隔热机构，其中通过窗口与气体管道内的空间(测量区域)隔开的探针的空间(非测量区域)是真空的。即使在传热抑制空间为上述真空的情况下，也可以通过从外部对冷却单元进行冷却来补充冷却效果。
此外，本发明的气体分析设备不限于如上述实施例中所描述的将冷却剂循环至一个传热抑制空间S1b的配置。例如，可以配置为设置多个(三个或更多个)窗口(透明部件)以分隔(分离)传热抑制空间，从而将限定多个(两个或更多个)传热抑制空间，并可以分级抑制来自待测气体的传热。例如，可以设置三个窗口(透明部件)，可以限定被分隔(分离)为两个的传热抑制空间，可以将探针侧的传热抑制空间配置为真空以保持隔热效果，并且可以在分析单元侧的传热抑制空间中循环冷却剂以补充冷却效果。在这种情况下，冷却单元既具有冷却机构又具有隔热机构。
此外，根据本发明的气体分析设备不限于如上述实施例所描述的经由上游侧开口21b和下游侧开口21c使待测气体G流向测量区域S1a的配置。例如，面向测量区域的探针部分可以配置为待测气体能够穿过的多孔材料，因此待测气体可以在未设置开口的情况下流向测量区域。换句话说，气体分析设备至少可以在探针主体中面向测量区域的部分配置能够使待测气体穿过的多孔材料。在这种情况下，例如，可以通过用多孔材料覆盖(堵塞)开口来形成探针，或者可以通过将由非多孔材料构成的第一圆筒状部件(探针的基端侧)和由多孔材料构成的第二圆筒状部件(探头的顶端侧)进行连接来形成探针，第一圆筒状部件具有作为边界对测量区域和非测量区域进行分隔(分离)的窗口。
根据本发明的一个或多个实施例的气体分析设备适用于横管型气体分析设备。这里，横管型例如是指具有设置了独立的光源和光检测器的结构的气体分析设备，该光源和光检测器定位为彼此相对从而将待测气体流经的管道夹在中间。
将参照图2描述根据一个或多个实施例的气体分析设备的结构。
如图2所示，将气体分析设备101安装在待测气体G流经的气体管道(管道)102上，并且气体分析设备对流经气体管道102的待测气体G中包含的组分进行分析(测量组分及其浓度等)。例如，待测气体G包括诸如CO、CO2、H2O、CmHn(m和n为任何整数)、NH3和O2的气体(工艺气体)。
气体分析设备101大体上配置有：安装在气体管道(102)上的插入管(圆筒状部件)111和112，该插入管111和112的一部分延伸至气体管道102内；冷却单元113和114，该冷却单元113和114分别连接至插入管111和112并设置于气体管道102的外部；光轴调整单元115和116，该光轴调整单元115和116分别连接至冷却单元113和114并设置于气体管道102的外部；以及发光单元117和光接收单元118，该发光单元117和光接收单元118分别连接至光轴调整单元115和116并设置于气体管道102的外部。插入管111、冷却单元113和发光单元117设置为与插入管112、冷却单元114和光接收单元118相对，从而将气体管道102夹在中间。
这里，发光单元117发射测量光束，并照射测量光束至待测气体G。光接收单元118接收测量光束并对待测气体G的吸收光谱进行分析。插入管111和112形成用于使测量光束穿过待测气体G的测量区域S101a。光轴调整单元115和116对测量光束的光轴进行调整。冷却单元113和114具有冷却机构，以抑制从插入管111和112向发光单元117或光接收单元118的传热。换句话说，在气体分析设备101中，发光单元117和光接收单元118经由具有冷却机构的冷却单元113和114连接至插入管111和112。
插入管111和112设置有连接至气体管道102的管主体121和122。管主体121和122是形成为圆筒状(例如，大致圆筒状)的中空部件，使得测量光束可以穿过，并且在管主体121和122的基端形成法兰121a和122a。换句话说，管主体121和122是覆盖测量光束的光路的圆筒状部件。法兰121a和122a机械地连接至设置在气体管道102上的安装部件102a，并且管主体121和122的一部分延伸至气体管道102内。例如，管主体121和122在与待测气体G在气体管道102中的流动方向大致垂直的方向(光轴方向)上延伸，例如，在该延伸方向上的外部长度d111和d112大约为100mm至500mm。
管主体121和122由耐热部件组成，耐热部件在比流经气体管道102的待测气体G的温度更高的温度带是耐热的，例如，耐热部件由诸如氧化铝的陶瓷形成。在一个或多个实施例中，例如，管主体121和122的耐热温度为至少600℃，或至少1000℃，或至少1200℃。
此外，在插入管111和112(管主体121、122)的顶端(位于气体管道102中的端部)附近设置测量光束能够穿过的窗口(透明部件)123和124。例如，窗口123和124由蓝宝石构成，并且使用金属化连接等与管主体121和122的内表面一体地组装。这里，彼此相对设置的窗口123和124仅相距预定距离DS101a，窗口123和124分别被固定以堵塞管主体121和122的内部，并且限定测量区域S101a。换句话说，窗口123和124设置为分隔(分离)测量区域S101a与管主体121和122中的空间(非测量区域)S111和S112，堵塞管主体121和122的中空部分，并暴露于在气体管道102中流动的待测气体G。
冷却单元113和114设置有冷却单元主体131和132，冷却单元主体131和132的一端安装在插入管111和112的基端(顶端相对侧的端部)。冷却单元主体131和132是沿着光轴形成为圆筒状(例如，大致圆筒状)的中空部件，使得测量光束可以穿过，并且冷却单元主体131和132中的空间S113和S114与插入管111和112中的非测量区域S111和S112连通。例如，冷却单元主体131和132沿与插入管111和112(管主体121和122)在气体管道102的外部的延伸方向相同的方向上延伸，例如，在延伸方向上的外部长度d113和d114约为500mm。
冷却单元主体131和132由耐热部件组成，耐热部件在比流经气体管道102的待测气体G的温度更高的温度带是耐热的，例如，耐热部件由诸如氧化铝的陶瓷形成。在一个或多个实施例中，例如，冷却单元主体131和132的耐热温度为至少600℃，或至少1000℃，或至少1200℃。用于冷却单元主体131和132的材料可以与用于管主体121和122的材料不同。此外，冷却单元主体131和132的耐热温度可以与管主体121和122的耐热温度不同，可以是比管主体121和122的耐热温度更高的温度，或者可以是比管主体121和122的耐热温度更低的温度。在一个或多个实施例中，冷却单元主体131和132的耐热温度是与管主体121和122的耐热温度相同或小于管主体121和122的耐热温度的温度。
在冷却单元113和114(冷却单元主体131和132)的另一端附近设置测量光束可以穿过的窗口(透明部件)133和134。例如，窗口133和134由蓝宝石构成，并且使用金属化连接等一体地组装至冷却单元主体131和132的内表面。这里，窗口133和134被固定以堵塞冷却单元主体131和132的内部，并且通过非测量区域S111和S112以及内部空间S113和S114(管主体121和122与窗口123和124，以及冷却单元主体131和132与窗口133和134)限定如下所述的装满冷却剂的传热抑制空间S101b和S101c。换句话说，窗口133和134设置为堵塞冷却单元主体131和132的中空部分。
冷却单元113和114(冷却单元主体131和132)分别设置有：冷却剂进料口131a和132a，用于将冷却剂送至传热抑制空间S101b和S101c；以及冷却剂出料口131b和132b，用于排出送至传热抑制空间S101b和S101c的冷却剂。冷却剂进料口131a和132a以及冷却剂出料口131b和132b均面向内部空间S113和S114形成。这里，内部空间S113和S114与非测量区域S111和S112连通，因此非测量区域S111和S112与内部空间S113和S114两者的空间(传热抑制空间)S101b和S101c充满从冷却剂进料口131a和132a进入的冷却剂。冷却剂是不影响测量光束的光谱的流体(气体或液体)，例如是诸如N2的气体。换句话说，冷却单元113和114具有冷却机构，用于将冷却剂循环至插入管111和112中通过窗口123和124与气体管道102中的空间(测量区域)S101a分隔开的空间(非测量区域)S111和S112。
光轴调整单元115和116设置有安装法兰141和142，用于安装到冷却单元113和114的基端。光轴调整单元115和116设置有：波纹管143和144，测量光束可以穿过波纹管143和144，并且波纹管143和144在光轴方向上具有弹性；固定法兰145和146，用于与安装法兰141和142一起将波纹管143和144夹在中间；以及调整螺丝147和148，用于将安装法兰141和142与固定法兰145和146进行连接并调整波纹管143和144。
发光单元117设置有发光单元主体(壳体)151，发光单元主体151安装在光轴调整单元115的固定法兰145上。发光单元117设置有：发光部152，用于发射测量光束；以及控制部153，能够调整测量光束的强度等。发光部152和控制部153经由多个电子基板(未示出)进行电连接。例如，发光单元主体151是容纳这些部件中的每一个的耐压防爆容器。发光单元主体151具有用于一体化地容纳这些部件中的每一个的模块结构。
发光部152具有能够使用TDLAS(可调谐二极管激光吸收光谱)测量待测气体G的任意光源。例如，发光部152具有半导体激光器。控制部153具有至少一个处理器。控制部153可能能够控制包括发光单元117和光接收单元118的气体分析设备101的所有操作。
光接收单元118设置有光接收单元主体(壳体)161，光接收单元主体161安装在光轴调整单元116的固定法兰146上。光接收单元118设置有：光接收部162，用于接收测量光束；以及算术逻辑部163，用于测量和分析测量光束的吸收光谱。光接收部162和算术逻辑部163经由多个电子基板(未示出)进行电连接。例如，光接收单元主体161是容纳这些部件中的每一个的耐压防爆容器。光接收单元主体161具有用于一体化地容纳这些部件中的每一个的模块结构。
光接收部162具有能够使用TDLAS测量待测气体G的任意的光检测器。例如，光接收部162具有光电二极管。算术逻辑部163具有至少一个处理器。算术逻辑部163可以能够控制包括发光单元117和光接收单元118的气体分析设备101的所有操作。
将参照图2描述根据一个或多个实施例的气体分析设备的操作。
发光部152面向光接收单元118的光接收部162(光接收部162设置为与气体管道102相对)并照射测量光束。在图2中，测量光束表示为测量光束L101。发光部152照射测量光束L101至包含待测气体G的测量区域S101a。测量光束L101沿着光轴穿过窗口133和窗口123，传播通过在气体管道102中形成的测量区域S101a，然后穿过窗口124和窗口134并进入光接收部162。换句话说，光接收部162接收穿过测量区域S101a的测量光束L101。
从由光接收部162接收的测量光束L101的光谱，算术逻辑部163求出待测气体G的吸收光谱，并求出在待测气体G中包含的组分及其浓度。
这里，暴露于待测气体G的窗口123和124以及管主体121和122分别由具有高耐热性的材料构成，因此，气体分析设备101可以在高温(例如，至少1000℃)的待测气体G中测量组分及其浓度。
此外，由于冷却单元113和114的功能，换句话说，由于将冷却剂循环至由非测量区域S111和S112以及内部空间S113和S114构成的传热抑制空间S101b和S101c，气体分析设备101有效地抑制了来自暴露于待测气体G的窗口123和124以及管主体121和122的传热，因此可以充分减小传热对发光单元117(发光部152和控制部153等)和光接收单元118(光接收部162和算术逻辑部163等)的影响。
气体分析设备101对如上所述流经气体管道102的待测气体G中包含的组分进行分析(测量组分及其浓度等)。
气体分析设备101照射测量光束至在气体管道(管道)102中流动的待测气体G，并基于穿过待测气体G的测量光束的吸收光谱对待测气体G中包含的组分进行分析。气体分析设备101设置有至少一部分置于气体管道102中的管主体(圆筒状部件)121和122(设置为覆盖测量光束的光路)，并设置有测量光束能够穿过的窗口(透明部件)123和124(设置为堵塞管主体121和122的中空部分并暴露于在气体管道102中流动的待测气体G)。
气体分析设备101按照上述进行配置，因此，气体管道102内部的空间(待测气体G流经的地方)和气体管道102外部的空间(设置发光单元117和光接收单元118的地方)通过窗口123和124进行分隔。因此，例如，即使在待测气体G处于高温(例如，1000℃或更高)的情况下，待测气体G也不会经由插入管111和112流出到发光单元117和光接收单元118，并且可以抑制由待测气体G导致的从插入管111和112向发光单元117和光接收单元118的传热。换句话说，气体分析单元101可以测量高温的待测气体G。
此外，气体分析设备101设置有冷却单元(冷却机构)113和114，冷却单元113和114将冷却剂循环至通过窗口123和124与气体管道102中的空间进行分隔的管主体121和122中的空间，或者换句话说，气体分析设备101设置有冷却剂进料口(冷却机构)113a和114a以及冷却剂出料口(冷却机构)113b和114b。该配置使得气体分析设备101能够更好地抑制由待测气体G导致的从插入管111和112向发光单元117和光接收单元118的传热。
此外，例如，气体分析设备101中的管主体121和122由诸如氧化铝的陶瓷构成。该配置使得气体分析设备101能够更好地抑制由待测气体G导致的从插入管111和112向发光单元117和光接收单元118的传热。
此外，在气体分析设备101中，管主体121和122以及窗口123和124分别在气体管道102中相对设置，并在设置为彼此相对的窗口123和124之间限定待测气体G流经的测量区域S101a。该配置不允许待测气体G流入非测量区域S111和S112，因此，气体分析设备101不需要例如用于循环吹扫气体的机构等。因此，气体分析设备101能够测量高温的待测气体G，并且可以简化气体分析设备101的配置。
本发明的气体分析设备不限于上述根据一个或多个实施例的横管型气体分析设备101的配置，而是可以以各种方式进行修改。例如，本发明的气体分析设备不限于上述实施例中所描述的设置冷却单元113和114独立于插入管111和112、光轴调整单元115和116、发光单元117以及光接收单元118的配置。例如，冷却单元可以与插入管、光轴调整单元或发光单元和光接收单元一体地配置。这里，当冷却单元与插入管一体地配置时，冷却单元的至少一部分可以位于气体管道中。
此外，本发明的气体分析设备不限于如上述实施例中所描述的在传热抑制空间S101b和S101c中循环冷却剂的配置。例如，可以在传热抑制空间中密封冷却剂，并且可以从外部对冷却单元进行冷却。此外，传热抑制空间可以是真空，以改善隔热效果。在这种情况下，冷却单元具有隔热机构，其中通过窗口与气体管道内的空间(测量区域)隔开的插入管内的空间(非测量区域)是真空的。即使在传热抑制空间为上述真空的情况下，也可以通过从外部对冷却单元进行冷却来补充冷却效果。
此外，本发明的气体分析设备不限于如上述实施例中所描述的将冷却剂循环至一个传热抑制空间S101b和S101c的配置。例如，可以配置为设置多个(三个或更多个)窗口(透明部件)以分隔(分离)传热抑制空间，从而将限定多个(两个或更多个)传热抑制空间，并可以分级抑制来自待测气体的传热。例如，可以设置三个窗口(透明部件)，可以限定被分隔(分离)为两个的传热抑制空间，可以将插入管侧的传热抑制空间配置为真空以保持隔热效果，并且可以在发光单元侧和光接收单元侧的传热抑制空间中循环冷却剂以补充冷却效果。在这种情况下，冷却单元既具有冷却机构又具有隔热机构。
尽管本公开仅针对有限数量的实施例进行了描述，但是本领域的技术人员在受益于本公开的情况下将认识到，在不脱离本发明的范围的情况下可以设计各种其他实施例。因此，本发明的范围应该仅由所附权利要求来限定。
1 气体分析设备
2 气体管道(管道)
2a 安装部件
11 探针(圆筒状部件)
12 冷却单元(冷却机构、隔热机构)
13 分析单元
21 探针主体(圆筒状部件)
21a 法兰
21b 上游侧开口
21c 下游侧开口
22 反射部(反射部件)
23 窗口(透明部件)
31 冷却单元主体(圆筒状部件)
31a 冷却剂进料口(冷却机构、隔热机构)
31b 冷却剂出料口(冷却机构、隔热机构)
32 窗口(透明部件)
41 分析单元主体
42 发光部
43 光接收部
44 算术逻辑部
G 待测气体
DS1a 预定距离
S1a 测量区域
S1b 传热抑制空间(冷却空间)
S11 非测量区域
S12 内部空间
101 气体分析设备
102 气体管道(管道)
102a 安装部件
111,112 插入管(圆筒状部件)
111a,112a 法兰
113,114 冷却单元(冷却机构、隔热机构)
113a,114a 冷却剂进料口(冷却机构、隔热机构)
113b,114b 冷却剂出料口(冷却机构、隔热机构)
115,116 光轴调整单元
117 发光单元
118 光接收单元
121,122 管主体(圆筒状部件)
123,124 窗口(透明部件)
131,132 冷却单元主体(圆筒状部件)
133,134 窗口(透明部件)
141,142 安装法兰
143,144 波纹管
145,146 固定法兰
147,148 调整螺丝
151 发光单元主体
152 发光部
153 控制部
161 光接收单元主体
162 光接收部
163 算术逻辑部
G 待测气体
DS101a 预定距离
S101a 测量区域
S101b,S101c 传热抑制空间(冷却空间)
S111,S112 非测量区域
S113,S114 内部空间
Claims (7)
1.一种气体分析设备，包括：
光发射器，所述光发射器用测量光束照射在管道中流动的气体；
处理器，所述处理器基于穿过所述气体的所述测量光束的吸收光谱来分析所述气体中包含的组分；
探针，所述探针覆盖所述测量光束的光路；以及
窗口，所述测量光束穿过所述窗口，且所述窗口将所述探针的中空部分与所述气体隔开。
2.根据权利要求1所述的气体分析设备，其中，
所述窗口将所述探针中的空间与所述管道中的空间进行分隔，并且
所述气体分析设备还包括冷却器，所述冷却器将冷却剂循环至所述探针中的空间。
3.根据权利要求1所述的气体分析设备，其中，
所述窗口将所述探针中的空间与所述管道中的空间进行分隔，并且
所述气体分析设备还包括绝热器，所述绝热器向所述探针内的空间提供真空。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的气体分析设备，其中，所述探针由陶瓷构成。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的气体分析设备，还包括：
反射器，所述反射器反射测量光束，
其中，所述反射器设置在距所述窗口预定距离处，并且
其中，在所述窗口和所述反射器之间限定所述气体流过的测量区域。
6.根据权利要求5所述的气体分析设备，其中，包含所述测量区域的所述探针的一部分包括所述气体穿过的多孔材料。
7.一种气体分析设备，包括：
光发射器，所述光发射器用测量光束照射在管道中流动的气体；
处理器，所述处理器基于穿过所述气体的所述测量光束的吸收光谱来分析所述气体中包含的组分；
第一插入管，所述第一插入管覆盖所述测量光束的光路；
第一窗口，所述测量光束穿过所述第一窗口，且所述第一窗口将所述第一插入管的中空部分与所述气体隔开；
第二插入管，所述第二插入管覆盖所述测量光束的光路；以及
第二窗口，所述测量光束穿过所述第二窗口，且所述第二窗口将所述第二插入管的中空部分与所述气体隔开，
其中，当所述第一窗口和所述第二窗口设置为在所述管道中彼此相对时，在所述第一窗口和所述第二窗口之间限定通过所述气体的测量区域。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2019003204A JP6973419B2 (ja) | 2019-01-11 | 2019-01-11 | ガス分析装置 |
| JP2019-003204 | 2019-01-11 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN111435112A true CN111435112A (zh) | 2020-07-21 |
Family
ID=69147488
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202010013886.9A Pending CN111435112A (zh) | 2019-01-11 | 2020-01-07 | 气体分析设备 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20200225146A1 (zh) |
| EP (1) | EP3680647A1 (zh) |
| JP (1) | JP6973419B2 (zh) |
| CN (1) | CN111435112A (zh) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102020120593A1 (de) | 2020-08-04 | 2022-02-10 | Endress+Hauser Conducta Gmbh+Co. Kg | Inline-Kompaktmessgerät |
| WO2024070544A1 (ja) * | 2022-09-30 | 2024-04-04 | 富士フイルム株式会社 | 分光分析装置のセンサ部、測定システム、および測定方法 |
Citations (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4549080A (en) * | 1983-06-17 | 1985-10-22 | Infrared Industries, Inc. | Double-pass flue gas analyzer |
| US6265945B1 (en) * | 1999-10-25 | 2001-07-24 | Kernco, Inc. | Atomic frequency standard based upon coherent population trapping |
| US20030197125A1 (en) * | 2002-04-19 | 2003-10-23 | Robert De Saro | Apparatus and method for in situ, real time measurements of properties of liquids |
| JP2010185694A (ja) * | 2009-02-10 | 2010-08-26 | Central Res Inst Of Electric Power Ind | ガス濃度測定装置 |
| CN102639983A (zh) * | 2009-12-04 | 2012-08-15 | 西门子公司 | 用于在管道气体监控系统中确定光学测量路径长度的方法 |
| WO2012126470A1 (en) * | 2011-03-23 | 2012-09-27 | Danfoss Ixa A/S | High temperature gas sensor |
| US20130161544A1 (en) * | 2011-12-27 | 2013-06-27 | Horiba, Ltd. | Gas analyzing apparatus |
| CN103411918A (zh) * | 2013-06-28 | 2013-11-27 | 中国科学院安徽光学精密机械研究所 | 一种精确测量高温气体光谱参数的装置 |
| JP2017173211A (ja) * | 2016-03-25 | 2017-09-28 | いすゞ自動車株式会社 | 測定装置及び測定方法 |
| JP2018004400A (ja) * | 2016-06-30 | 2018-01-11 | 株式会社堀場製作所 | ガス濃度測定装置 |
| WO2018135619A1 (ja) * | 2017-01-20 | 2018-07-26 | 積水メディカル株式会社 | 炭素同位体分析装置および炭素同位体分析方法 |
| US20180231875A1 (en) * | 2017-02-15 | 2018-08-16 | Her Majesty The Queen In Right Of Canada As Represented By The Minister Of Natural Resources | High Temperature Camera Probe |
| JP2018185194A (ja) * | 2017-04-25 | 2018-11-22 | 三菱電機株式会社 | ガス分析装置 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60257347A (ja) * | 1984-06-05 | 1985-12-19 | Ngk Insulators Ltd | 直入形非分散赤外線ガス分析計 |
| JPS6347637A (ja) * | 1986-08-13 | 1988-02-29 | Kobe Steel Ltd | 水蒸気ガスの定量分析方法 |
| DE102004018534B4 (de) * | 2004-04-14 | 2006-10-26 | Enotec Gmbh, Prozess- Und Umweltmesstechnik | Optisches System mit Spülgaszufuhr zum Sichtfenster |
| JP2006300738A (ja) * | 2005-04-21 | 2006-11-02 | Matsushita Electric Works Ltd | ガスセンサ |
| JP5992683B2 (ja) * | 2011-12-27 | 2016-09-14 | 株式会社堀場製作所 | ガス分析装置 |
| JP2017067475A (ja) * | 2015-09-28 | 2017-04-06 | 富士電機株式会社 | レーザ式酸素ガス分析計 |
| EP3232180B1 (de) * | 2016-04-15 | 2018-01-31 | Sick Ag | Vorrichtung zur optischen in-situ gasanalyse |
| JP2018084523A (ja) * | 2016-11-25 | 2018-05-31 | 株式会社島津製作所 | ガス濃度測定装置 |
-
2019
- 2019-01-11 JP JP2019003204A patent/JP6973419B2/ja active Active
-
2020
- 2020-01-06 US US16/734,938 patent/US20200225146A1/en not_active Abandoned
- 2020-01-07 EP EP20150598.9A patent/EP3680647A1/en active Pending
- 2020-01-07 CN CN202010013886.9A patent/CN111435112A/zh active Pending
Patent Citations (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4549080A (en) * | 1983-06-17 | 1985-10-22 | Infrared Industries, Inc. | Double-pass flue gas analyzer |
| US6265945B1 (en) * | 1999-10-25 | 2001-07-24 | Kernco, Inc. | Atomic frequency standard based upon coherent population trapping |
| US20030197125A1 (en) * | 2002-04-19 | 2003-10-23 | Robert De Saro | Apparatus and method for in situ, real time measurements of properties of liquids |
| JP2010185694A (ja) * | 2009-02-10 | 2010-08-26 | Central Res Inst Of Electric Power Ind | ガス濃度測定装置 |
| CN102639983A (zh) * | 2009-12-04 | 2012-08-15 | 西门子公司 | 用于在管道气体监控系统中确定光学测量路径长度的方法 |
| WO2012126470A1 (en) * | 2011-03-23 | 2012-09-27 | Danfoss Ixa A/S | High temperature gas sensor |
| US20130161544A1 (en) * | 2011-12-27 | 2013-06-27 | Horiba, Ltd. | Gas analyzing apparatus |
| CN103411918A (zh) * | 2013-06-28 | 2013-11-27 | 中国科学院安徽光学精密机械研究所 | 一种精确测量高温气体光谱参数的装置 |
| JP2017173211A (ja) * | 2016-03-25 | 2017-09-28 | いすゞ自動車株式会社 | 測定装置及び測定方法 |
| JP2018004400A (ja) * | 2016-06-30 | 2018-01-11 | 株式会社堀場製作所 | ガス濃度測定装置 |
| WO2018135619A1 (ja) * | 2017-01-20 | 2018-07-26 | 積水メディカル株式会社 | 炭素同位体分析装置および炭素同位体分析方法 |
| US20180231875A1 (en) * | 2017-02-15 | 2018-08-16 | Her Majesty The Queen In Right Of Canada As Represented By The Minister Of Natural Resources | High Temperature Camera Probe |
| JP2018185194A (ja) * | 2017-04-25 | 2018-11-22 | 三菱電機株式会社 | ガス分析装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20200225146A1 (en) | 2020-07-16 |
| JP6973419B2 (ja) | 2021-11-24 |
| JP2020112428A (ja) | 2020-07-27 |
| EP3680647A1 (en) | 2020-07-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI506267B (zh) | Gas concentration calculation device and gas concentration measurement module | |
| CN111435112A (zh) | 气体分析设备 | |
| US9267881B2 (en) | Hybrid gas analyzer with thermally insulated flow cell | |
| KR20130042465A (ko) | 가스 농도 산출 장치 및 가스 농도 계측 모듈 | |
| KR20190050978A (ko) | 흡광도계 및 이 흡광도계를 이용한 반도체 제조 장치 | |
| US5241367A (en) | Device for measuring the composition of fluids, in particular the components of exhaust gases from internal combustion engines | |
| US10161859B2 (en) | Planar reflective ring | |
| US11630058B2 (en) | Concentration measurement device | |
| US12007330B2 (en) | High-temperature optical probe | |
| JP6556338B2 (ja) | ガスセンサ及び恒温装置 | |
| US4094609A (en) | High sensitivity absorptiometer | |
| US9267928B2 (en) | Lamp temperature management systems and methods for liquid chromatography analyzers | |
| JP2011169633A (ja) | ガス濃度算出装置およびガス濃度計測モジュール | |
| EP1155295B1 (en) | High temperature differential refractometry apparatus | |
| US11573174B2 (en) | Optical gas concentration measurement apparatus | |
| JP2015184577A (ja) | 偏光光照射装置 | |
| US11892395B2 (en) | Optical measurement cell and optical analysis device | |
| JP7286271B2 (ja) | 光学セル及びガス分析装置 | |
| KR102260220B1 (ko) | 이중 구조를 갖는 가스센서용 광 공동 및 이 광 공동을 갖는 가스센서 | |
| JP2024085532A (ja) | ガス分析装置 | |
| JP2008224316A (ja) | 排ガス分析用センサ | |
| US20200158569A1 (en) | Spectral detector | |
| CN117348231A (zh) | 一种用于光学观测装置的盖板组件及光学观测装置 | |
| CN114324227A (zh) | 红外气体传感器 | |
| JP2011133409A (ja) | 非分散型光分析装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20200721 |