CN111420924A - 一种电子信息行业石英材质部件表面附着物的处理方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种电子信息行业石英材质部件表面附着物的处理方法,涉及电子信息芯片材料生产技术领域,本发明包括如下步骤:确认待清洗的非光滑结构面,粘贴耐酸碱胶带处理,部件润湿处理,一级酸液反应,一级漂洗,二级酸液反应,二级漂洗,超声波清洗,无尘干燥,具有有效清除设备内部石英材质上的附作物,保障设备使用效果和使用寿命的优点。
Description
技术领域
本发明属于电子信息芯片材料生产技术领域,具体涉及一种电子信息行业石英材质部件表面附着物的处理方法。
背景技术
当今社会,电子信息技术迅速发展,涌现出一大批半导体芯片制造企业和光电显示制造企业。在这些制造企业中会用到大量的石英材质部件,在设备工作过程中起到腔体内部的绝缘作用、均热作用等,但与此同时,半导体芯片和光电制造的过程中会有多种金属材料及硅的化合物材料在该石英材质部件表面聚集,当附着物聚集到一定的程度时,会影响到产品的生产精度及生产良率。
发明内容
本发明的目的在于:针对现有技术半导体芯片和光电制造的过程中会有多种金属材料及硅的化合物材料在设备内腔的石英材质部件表面聚集,影响产品生产精度及生产良率的问题,提供一种电子信息行业石英材质部件表面附着物的处理方法。
本发明采用的技术方案如下:
一种电子信息行业石英材质部件表面附着物的处理方法,包括如下步骤,
确认待清洗的非光滑结构面:根据石英材质部件的具体结构特征,确认所述石英材质部件的光滑密封面和非光滑结构面;
粘贴耐酸碱胶带处理:使用耐酸碱胶带对石英材质部件的密封面进行贴胶保护;
部件润湿处理:将粘贴了耐酸碱胶带的部件充分浸入去离子水中;
一级酸液反应:将湿润处理过后的部件放入硝酸与盐酸的混合液中;
一级漂洗:将经过所述一级酸液反应的部件浸入去离子水中漂洗;
二级酸液反应:将经过一级漂洗处理完成后的部件放入硝酸与氢氟酸的混合药水中;
二级漂洗:将经过所述二级酸液反应的部件浸入去离子水中漂洗;
超声波清洗:将二级漂洗过后的部件放入超声波槽中进行去离子水超声波清洗;
无尘干燥:在无尘室中使用氮气将清洗好的部件吹干,放入烘箱中干燥,完成清理。
作为优选,所述部件润湿处理步骤中,浸泡时间为5-10秒。
作为优选,所述一级酸液反应中的硝酸与盐酸的体积比为1:3,所述浸泡温度为常温,膜层厚度浸泡观测时间为每间隔五分钟。
作为优选,所述一级漂洗和二级漂洗的漂洗时间为2-3分钟。
作为优选,所述二级酸液反应中,硝酸与氢氟酸体积比为20:1。
作为优选,所述硝酸与氢氟酸在反应前需要充分搅拌混合,所述部件放入反应时间为3-5分钟。
作为优选,所述超声波清洗步骤的具体条件为:所述去离子水为溢流状态,所述超声波强度控制在4~8瓦/平方英寸,时间控制在30分钟以上。
作为优选,所述无尘干燥处理步骤中,所述无尘室的等级为100级,所述烘箱干燥温度为80-100℃,干燥时间为1-2小时。
综上所述,由于采用了上述技术方案,本发明的有益效果是:
1、现有技术半导体芯片和光电制造的过程中会有多种金属材料及硅的化合物材料在设备内腔的石英材质部件表面聚集,影响产品生产精度及生产良率。同时,由于内部的石英材质部件作用不同,如果简单的直接冲刷清洗,很容易导致密封面的气密性降低,且清洗效果也较差,目前还没有较好的方法清理附作物。本发明方法根据石英材质部件的具体结构,在清理前将密封面进行有效防护,避免在清洗过程受到影响,保障了其密封性,同时,针对不同的附作物情况,经过多次的酸液清洗、漂洗等步骤处理,有效的清除了设备内部石英材质上的附作物,保障了设备的使用效果和使用寿命。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,应当理解,以下附图仅示出了本发明的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
图1为本发明的步骤流程示意图;
图中标记:S1-S9表示各个步骤。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本发明实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。
因此,以下对在附图中提供的本发明的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的发明的范围,而是仅仅表示本发明的选定实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
应注意到:说明书的标号和字母在下面的附图中表示类似项,因此,一旦某一项在一个附图中被定义,则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。
在本发明的描述中,需要说明的是,术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,或者是该发明产品使用时惯常摆放的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明的简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。此外,术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于区分描述,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
此外,术语“水平”、“竖直”等术语并不表示要求部件绝对水平或悬垂,而是可以稍微倾斜。如“水平”仅仅是指其方向相对“竖直”而言更加水平,并不是表示该结构一定要完全水平,而是可以稍微倾斜。
在本发明的描述中,还需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个原件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
一种电子信息行业石英材质部件表面附着物的处理方法,包括如下步骤,
确认待清洗的非光滑结构面:根据石英材质部件的具体结构特征,确认所述石英材质部件的光滑密封面和非光滑结构面;
粘贴耐酸碱胶带处理:使用耐酸碱胶带对石英材质部件的密封面进行贴胶保护;
部件润湿处理:将粘贴了耐酸碱胶带的部件充分浸入去离子水中;
一级酸液反应:将湿润处理过后的部件放入硝酸与盐酸的混合液中;
一级漂洗:将经过所述一级酸液反应的部件浸入去离子水中漂洗;
二级酸液反应:将经过一级漂洗处理完成后的部件放入硝酸与氢氟酸的混合药水中;
二级漂洗:将经过所述二级酸液反应的部件浸入去离子水中漂洗;
超声波清洗:将二级漂洗过后的部件放入超声波槽中进行去离子水超声波清洗;
无尘干燥:在无尘室中使用氮气将清洗好的部件吹干,放入烘箱中干燥,完成清理。
以下结合实施例对本发明的特征和性能作进一步的详细描述。
实施例1
本发明较佳实施例提供的一种电子信息行业石英材质部件表面附着物的处理方法,包括如下步骤:
根据石英材质部件的具体结构特征,确认其光滑密封面和非光滑结构面;
使用耐酸碱胶带对石英材质部件的密封面进行贴胶带保护,目的是防止光滑面受到化学药水的影响造成密封效果降低,其中耐酸碱胶带需要具有耐酸碱性和耐腐蚀性的特点;
将用胶带保护好的部件在去离子水中浸泡5~10秒,具体时间可以为5S,6S,8S,10S,使部件各个位置充分湿润,以避免部件浸泡时部件与化学药水突然接触,影响部件表面的界面属性及结构;
将充分湿润后的部件缓慢放入硝酸与盐酸体积比为1:3的混合药水中,一般在常温环境中浸泡即可,根据膜层厚度情况,浸泡时间不等,每5分钟观察一次部件反应情况;
将上述反应结束的部件放入去离子水中漂洗,时间2~3分钟,以去除部件表面残留的硝酸与盐酸的混合溶液;
将漂洗后的部件放入硝酸与氢氟酸体积比为20:1的混合药水中,放入前对药水充分搅拌使其混合均匀,浸泡时间控制在3~5分钟,具体时间可以为3,4,5分钟,若膜层较多,可适当延长浸泡时间,每5分钟观察一次部件反应情况;
将反应结束的部件放入去离子水中漂洗2~3分钟,以去除部件表面残留的硝酸与氢氟酸的混合溶液;
将漂洗后的部件放入超声波槽中进行去离子水超声波清洗,去离子水为溢流状态,超声波强度控制在4~8瓦/平方英寸,具体强度可以为4,6,8瓦/平方英寸,时间控制在30分钟以上,以充分去除部件表面残留的各种化学元素;
在100级无尘室中使用氮气将清洗好的部件吹干,然后放入烘箱中干燥,干燥温度为80~100℃,具体温度可以为80,90,100℃,时间1~2小时。
经过以上工艺,可以完成石英材质部件表面附着物的清洗及洁净处理过程。
本实施例的工作原理如下:现有技术半导体芯片和光电制造的过程中会有多种金属材料及硅的化合物材料在设备内腔的石英材质部件表面聚集,影响产品生产精度及生产良率。同时,由于内部的石英材质部件作用不同,如果简单的直接冲刷清洗,很容易导致密封面的气密性降低,且清洗效果也较差,目前还没有较好的方法清理附作物。本发明方法根据石英材质部件的具体结构,在清理前将密封面进行有效防护,避免在清洗过程受到影响,保障了其密封性,同时,针对不同的附作物情况,经过多次的酸液清洗、漂洗等步骤处理,有效的清除了设备内部石英材质上的附作物,保障了设备的使用效果和使用寿命。
该发明实施例方法可应用于半导体芯片、光电显示制造过程中的PVD(物理气相沉积)、CVD(化学气相沉积)、DE(干法刻蚀)等生产工艺中设备腔体内部石英材质部件表面附着物的清洗。
如上所述即为本发明的实施例。前文所述为本发明的各个优选实施例,各个优选实施例中的优选实施方式如果不是明显自相矛盾或以某一优选实施方式为前提,各个优选实施方式都可以任意叠加组合使用,所述实施例以及实施例中的具体参数仅是为了清楚表述发明人的发明验证过程,并非用以限制本发明的专利保护范围,本发明的专利保护范围仍然以其权利要求书为准,凡是运用本发明的说明书内容所作的等同结构变化,同理均应包含在本发明的保护范围内。
Claims (8)
1.一种电子信息行业石英材质部件表面附着物的处理方法,其特征在于,包括如下步骤,
确认待清洗的非光滑结构面:根据石英材质部件的具体结构特征,确认所述石英材质部件的光滑密封面和非光滑结构面;
粘贴耐酸碱胶带处理:使用耐酸碱胶带对石英材质部件的密封面进行贴胶保护;
部件润湿处理:将粘贴了耐酸碱胶带的部件充分浸入去离子水中;
一级酸液反应:将湿润处理过后的部件放入硝酸与盐酸的混合液中;
一级漂洗:将经过所述一级酸液反应的部件浸入去离子水中漂洗;
二级酸液反应:将经过一级漂洗处理完成后的部件放入硝酸与氢氟酸的混合药水中;
二级漂洗:将经过所述二级酸液反应的部件浸入去离子水中漂洗;
超声波清洗:将二级漂洗过后的部件放入超声波槽中进行去离子水超声波清洗;
无尘干燥:在无尘室中使用氮气将清洗好的部件吹干,放入烘箱中干燥,完成清理。
2.如权利要求1所述的电子信息行业石英材质部件表面附着物的处理方法,其特征在于,所述部件润湿处理步骤中,浸泡时间为5-10秒。
3.如权利要求1所述的电子信息行业石英材质部件表面附着物的处理方法,其特征在于,所述一级酸液反应中的硝酸与盐酸的体积比为1:3,所述浸泡温度为常温,膜层厚度浸泡观测时间为每间隔五分钟。
4.如权利要求1所述的电子信息行业石英材质部件表面附着物的处理方法,其特征在于,所述一级漂洗和二级漂洗的漂洗时间为2-3分钟。
5.如权利要求1所述的电子信息行业石英材质部件表面附着物的处理方法,其特征在于,所述二级酸液反应中,硝酸与氢氟酸体积比为20:1。
6.如权利要求5所述的电子信息行业石英材质部件表面附着物的处理方法,其特征在于,所述硝酸与氢氟酸在反应前需要充分搅拌混合,所述部件放入反应时间为3-5分钟。
7.如权利要求1所述的电子信息行业石英材质部件表面附着物的处理方法,其特征在于,所述超声波清洗步骤的具体条件为:所述去离子水为溢流状态,所述超声波强度控制在4~8瓦/平方英寸,时间控制在30分钟以上。
8.如权利要求1所述的电子信息行业石英材质部件表面附着物的处理方法,其特征在于,所述无尘干燥处理步骤中,所述无尘室的等级为100级,所述烘箱干燥温度为80-100℃,干燥时间为1-2小时。
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CN (1) | CN111420924A (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112676286A (zh) * | 2020-12-09 | 2021-04-20 | 四川富乐德科技发展有限公司 | 一种Parylene-C盛装料囊的清洗方法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1850361A (zh) * | 2005-12-02 | 2006-10-25 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 一种去除附着于石英零件表面聚合物薄膜的清洗方法 |
CN101194046A (zh) * | 2004-06-09 | 2008-06-04 | 兰姆研究公司 | 用于等离子体处理腔的元件的石英表面的湿清洁方法 |
CN101219429A (zh) * | 2007-01-10 | 2008-07-16 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 一种多晶刻蚀腔室中石英零件表面的清洗方法 |
CN101224458A (zh) * | 2007-01-15 | 2008-07-23 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 一种多晶硅刻蚀腔室中陶瓷材料零件表面的清洗方法 |
CN102294331A (zh) * | 2011-08-19 | 2011-12-28 | 江西旭阳雷迪高科技股份有限公司 | 一种单晶硅原料的清洗方法 |
CN205613769U (zh) * | 2016-05-06 | 2016-10-05 | 紫光国芯股份有限公司 | 石英晶片硝酸清洗装置 |
CN106971969A (zh) * | 2017-05-11 | 2017-07-21 | 济源石晶光电频率技术有限公司 | 石英晶片去污装置和石英晶片去污方法 |
CN109107974A (zh) * | 2018-07-20 | 2019-01-01 | 横店集团东磁股份有限公司 | 一种太阳能电池制备用石英器件的清洗方法 |
-
2020
- 2020-04-08 CN CN202010271246.8A patent/CN111420924A/zh active Pending
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101194046A (zh) * | 2004-06-09 | 2008-06-04 | 兰姆研究公司 | 用于等离子体处理腔的元件的石英表面的湿清洁方法 |
CN1850361A (zh) * | 2005-12-02 | 2006-10-25 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 一种去除附着于石英零件表面聚合物薄膜的清洗方法 |
CN101219429A (zh) * | 2007-01-10 | 2008-07-16 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 一种多晶刻蚀腔室中石英零件表面的清洗方法 |
CN101224458A (zh) * | 2007-01-15 | 2008-07-23 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 一种多晶硅刻蚀腔室中陶瓷材料零件表面的清洗方法 |
CN102294331A (zh) * | 2011-08-19 | 2011-12-28 | 江西旭阳雷迪高科技股份有限公司 | 一种单晶硅原料的清洗方法 |
CN205613769U (zh) * | 2016-05-06 | 2016-10-05 | 紫光国芯股份有限公司 | 石英晶片硝酸清洗装置 |
CN106971969A (zh) * | 2017-05-11 | 2017-07-21 | 济源石晶光电频率技术有限公司 | 石英晶片去污装置和石英晶片去污方法 |
CN109107974A (zh) * | 2018-07-20 | 2019-01-01 | 横店集团东磁股份有限公司 | 一种太阳能电池制备用石英器件的清洗方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112676286A (zh) * | 2020-12-09 | 2021-04-20 | 四川富乐德科技发展有限公司 | 一种Parylene-C盛装料囊的清洗方法 |
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