CN111393034A - 一种石墨烯玻璃的连续生产系统及方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种石墨烯玻璃的连续生产系统及方法，该生产系统包括备样单元、反应单元、取样单元和传送装置；其中，所述传送装置能够载着玻璃基底在所述备样单元、所述反应单元、所述取样单元之间移动。本发明一实施方式的石墨烯玻璃的生产系统/方法，能够实现石墨烯玻璃的连续化生产，制备效率高，降低了石墨烯玻璃制备的生产成本。

Description

一种石墨烯玻璃的连续生产系统及方法

技术领域

本发明涉及石墨烯玻璃的制备，具体为一种可连续生产石墨烯玻璃的方法。

背景技术

石墨烯玻璃是一种结合玻璃和石墨烯的优良性能于一体的新型复合材料，其不仅保留了玻璃良好的透光性，而且增加导电、导热、耐腐蚀和自清洁等性能。这不但大大丰富了玻璃可应用的场景，为玻璃产品的升级换代提供了扎实的材料基础，而且也拓宽了玻璃产品的应用渠道。

目前，采用液相涂膜法或转移法制备的石墨烯玻璃存在许多的问题，比如石墨烯膜的厚度不均匀、石墨烯与玻璃界面污染多、石墨烯薄膜有破损、操作繁琐、工艺成本高等问题，这不仅使得石墨烯玻璃的性能受到较大损失，也使得石墨烯玻璃的批量制备受到限制。

化学气相沉积法(CVD)制备石墨烯的过程是以甲烷、乙醇等含碳化合物作为碳源，以氩气、氢气、水蒸气等作为辅气，通过碳源高温裂解继而在玻璃衬底表面形成石墨烯的过程。利用化学气相沉积技术在玻璃表面直接生长石墨烯的方法可以从根源上避免石墨烯膜厚度不均匀以及转移造成的污染和膜的破损等问题。此外，这种石墨烯玻璃的CVD制备方法，操作简单，具有规模化生产潜力，对于推动石墨烯玻璃走向应用具有重要作用。

现有技术在宏量制备石墨烯玻璃方面也做了些研究。如石墨烯散热涂膜玻璃的制备，主要利用传统的丝网印刷技术将配置好的原料丝印至玻璃基底上，后期烘干得到。这样得到的石墨烯散热涂膜玻璃制备过程繁琐且得到的石墨烯薄膜厚度不均匀，另外多种掺杂剂的存在对石墨烯导热性能产生影响；另外一种平板石墨烯玻璃的制备中则借助于传统的金属表面渗透工艺或气相沉积工艺或机械擦涂工艺等，将活性炭渗入玻璃表面，并在玻璃表面上形成透明导电的石墨烯薄膜，但是获得的石墨烯薄膜质量厚度难以准确控制，且石墨烯质量不高。

因此，本领域缺乏一种连续化生产石墨烯玻璃的生产方法，及生产设备，以满足现有技术对于连续化制备厚度均匀且透过率和面电阻可调的石墨烯玻璃的需求。

发明内容

本发明的一个主要目的在提供一种石墨烯玻璃的连续生产系统，包括备样单元、反应单元、取样单元和传送装置；其中，所述传送装置能够载着玻璃基底在所述备样单元、所述反应单元、所述取样单元之间移动。

本发明一实施方式进一步提供了一种石墨烯玻璃的连续生产方法，包括：

将多片玻璃基底放入位于备样单元的传送装置上；

通过所述传送装置将所述玻璃基底送入反应单元进行化学气相沉积反应，得到石墨烯玻璃；以及通过所述传送装置将所述石墨烯玻璃送入取样单元，得到所述石墨烯玻璃。

本发明一实施方式的石墨烯玻璃的生产系统/方法，能够实现石墨烯玻璃的连续化生产，制备效率高，降低了石墨烯玻璃制备的生产成本。

附图说明

图1为本发明一实施方式的石墨烯玻璃的生产系统的结构示意图；

图2为本发明一实施方式的承载面板的结构示意图；

图3为本发明一实施方式的液态碳源罐的结构示意图；

图4为本发明另一实施方式的石墨烯玻璃的生产系统的结构示意图。

具体实施方式

体现本发明特征与优点的典型实施方式将在以下的说明中详细叙述。应理解的是本发明能够在不同的实施方式上具有各种的变化，其皆不脱离本发明的范围，且其中的说明及图示在本质上是当作说明之用，而非用以限制本发明。

本发明一实施方式提供了一种石墨烯玻璃的生产系统，包括备样单元、反应单元、取样单元和传送装置；其中，传送装置能够载着玻璃基底在备样单元、反应单元、取样单元之间移动；备样单元用于将玻璃基底放置于传送装置上，以便于向后续单元传送；反应单元用于进行化学气相沉积工艺，以在玻璃基底上生长石墨烯薄膜；取样单元用于取出生长完成的石墨烯玻璃。

于一实施方式中，参照图1，在备样单元和反应单元之间设置有第一阀门101，在反应单元和取样单元之间设置有第二阀门102。

于一实施方式中，备样单元包括备样室10，反应单元包括反应室20，取样单元包括取样室30。

于一实施方式中，反应室20位于备样室10和取样室30之间；第一阀门101设置于备样室10和反应室20之间，第二阀门102设置于反应室20和取样室30之间。其中，通过第一阀门101的开启与关闭能够实现备样室10和反应室20的连通与隔断，通过第二阀门102的开启与关闭能够实现反应室20和取样室30的连通与隔断。

于一实施方式中，传送装置可带动玻璃基底在备样室10、反应室20、取样室30等各腔室内移动，以实现石墨烯玻璃的连续化生产。

于一实施方式中，传送装置包括用于放置玻璃基底的承载面板、导轨、滚轮或者机械手臂、传送带以及电机。

于一实施方式中，传送带可以为齿形传送带，电机可以为步进电机，电机用于带动传送带进行传输，以实现玻璃基底在各腔室内的自由传送。

于一实施方式中，导轨设置于备样单元、反应单元、取样单元的各腔室内，用于固定承载面板的移动方向。

于一实施方式中，承载面板位于导轨上，并与传送带相连，在电机与传送带的作用下，承载面板能够沿导轨将玻璃基底传送至各腔室。

于一实施方式中，在各腔室之间设置有滚轮或者机械手臂，滚轮或者机械手臂的位置与各腔室内的导轨相对应，并可与各腔室内的导轨对接，以确保承载面板在各腔室之间平稳的移动。

于一实施方式中，如图2所示，承载面板包括凹槽部41a和位于凹槽部41a两侧的两个支撑部41b；在各腔室内均设置有两条导轨42，承载面板通过两个支撑部41b设置于两条导轨42。

于一实施方式中，锯齿状传送带设置于承载面板两侧，即支撑部41b的侧面，同时与电机上的锯齿传送带相契合。作业时，电机上传送带的移动带动承载面板中传送带的运动，进而实现承载面板在各个腔室的输送。

于一实施方式中，在承载面板的凹槽部41a可设置定位框，以将玻璃基底定位于承载面板上，定位框包括多个由条形体交错形成的定位格，使得位于凹槽部41a的玻璃基底可被套设于定位格内。

于一实施方式中，玻璃基底的尺寸小于定位格的尺寸。

于一实施方式中，在备样室10的导轨42上可设置多个承载面板，待第一个承载面板在反应室20完成化学气相沉积工艺离开反应室20后，第二个承载面板进入反应室20，依次类推，实现石墨烯玻璃的连续化生产。

于一实施方式中，参照图1，在备样单元设置有第一真空泵401、第一进气口201和第一出气口301，以将备样单元内的气体替换为保护气等。

于一实施方式中，第一真空泵401、第一进气口201和第一出气口301可设置于备样室10，例如，均设置于备样室10的顶部。作业时，可在第一真空泵401的作用下，通过第一出气口301对备样室10进行排气，再通过第一进气口201将保护气通入备样室10。

于一实施方式中，在反应单元设置有第二真空泵402、第二进气口202和第二出气口302，以将反应单元内的气体替换为保护气等。

于一实施方式中，第二真空泵402、第二进气口202和第二出气口302可设置于反应室20，例如，均设置于反应室20的顶部。作业时，可在第二真空泵402的作用下，通过第二出气口302对反应室20进行排气，再通过第二进气口202通入保护气、碳源气体等。

于一实施方式中，在取样单元设置有第三真空泵403、第三进气口203和第三出气口303，以将取样单元内的气体替换为为保护气。

于一实施方式中，第三真空泵403、第三进气口203和第三出气口303可设置于取样室30，例如，均设置于取样室30的顶部。作业时，可在第三真空泵403的作用下，通过第三出气口303对取样室30进行排气，再通过第三出气口303将保护气通入取样室30。

于一实施方式中，第一进气口201、第一出气口301可沿玻璃基底的移动方向A分别位于备样室10的两端；第二进气口202、第二出气口302可沿玻璃基底的移动方向A分别位于反应室20的两端；第三进气口203和第三出气口303可沿玻璃基底的移动方向A分别位于取样室30的两端。

于一实施方式中，在反应室20内设置有等离子发生装置，通过等离子发生装置产生等离子体对反应室20进行清洗。

于一实施方式中，等离子体发生装置可以为板式等离子发生装置或线圈式等离子发生装置，类型可以为直流等离子体发生装置或射频等离子体发生装置。

于一实施方式中，等离子体是气体通过板式的高压电场时通过电离放电产生的，将等离子源，例如氧气或者氩气，通入反应室20中会产生高密度的氧气或者氩气等离子体，可将等离子体用于反应前反应室20的清洗。

于一实施方式中，等离子发生装置设置于反应室20内靠近备样单元的一端，包括上极板21a和下极板21b，上极板21a邻近反应室20的顶部，下极板21b邻近反应室20的底部。

于一实施方式中，上极板21a邻近第二进气口202设置。

于一实施方式中，用于参与化学气相沉积反应的工艺源气体以及等离子源均可通过第二进气口202进入反应室20，第二出气口302可用于排出反应后的气体。

于一实施方式中，碳源包括气态、液态、和固态碳源其中的一种或多种的组合。其中，气态碳源包括甲烷、乙烷、乙炔、乙烯中的一种或多种；液态碳源包括甲醇、乙醇、苯、正己烷、戊烷等；固态碳源可以包括醋酸铜。

于一实施方式中，可通过载气引入的方式将液态碳源引入反应室20内。

于一实施方式中，参照图1、3，用于提供碳源的液态碳源罐221与第二进气口202相连。

于一实施方式中，在液态碳源罐221中设置有进气管222和出气管223，作业时，进气管222的端部伸入液态碳源液面的下方，出气管223的端部位于液态碳源液面的上方。在进气管222上设置有质量流量计224和截止阀225，用以调控和监测气体的流量。

于一实施方式中，可通过出气管223与反应室20相连，其中，在液态碳源罐221与反应室20之间可设置转子流量计，以控制碳源气体和载气的流量。

于一实施方式中，液态碳源为乙醇，作业时，可通过进气管222向液态碳源罐221中通入载气氩气，氩气携载乙醇蒸汽通过出气管223进入反应室20，通过质量流量计控制氩气的流量进而调控乙醇的通入量。

于一实施方式中，反应室20可包括一个或多个用于进行化学气相沉积工艺的生长组件，多个生长组件例如可以是三个，多个生长组件可在反应室20内沿玻璃基底的移动方向A串联设置，以使承载玻璃基底的多个承载面板同时停留在反应室20内进行化学气相沉积工艺。

于一实施方式中，生长组件包括筒状保温腔、加热部件、匀热板、隔热屏和测温部件。

于一实施方式中，筒状保温腔横置于反应室20内，即，筒状保温腔的轴线方向平行于玻璃基底的移动方向A，两条导轨42贯穿筒状保温腔。

于一实施方式中，筒状保温腔包括第一开口和第二开口，承载面板通过第一开口、第二开口进出筒状保温腔。

于一实施方式中，加热部件、匀热板均设置于筒状保温腔内，并位于两条导轨42之间，其中，匀热板位于加热部件上，当承载面板移动至筒状保温腔时，可位于匀热板的上方，从而使得加热部件能够通过匀热板给承载面板上的玻璃基底升温，以进行化学气相沉积反应。

于一实施方式中，测温部件可设置于匀热板的上方，当承载面板移动至筒状保温腔时，可位于匀热板和测温部件之间。

于一实施方式中，加热部件包括石墨加热、电阻加热、红外加热、微波加热中的任意一种或者至少两种的组合。

于一实施方式中，等离子体发生装置可与筒状保温腔相连，以向其内部提供等离子体进行清洗处理。

于一实施方式中，在取样单元设置有透过率检测装置，例如透光率仪30a，以对取样单元内的石墨烯玻璃进行透过率的在线检测。

于一实施方式中，透光率仪30a的波长可以为550nm。

于一实施方式中，透光率仪30a通过数据线连接安装有相关软件的计算机，可以实现对测试的透过率数据的在线读取、储存。

于一实施方式中，透光率仪30a可设置于取样室30的顶部，并位于远离反应单元的一端。

于一实施方式中，参照图4，备样单元可包括备样室10和预热室11，取样单元可包括取样室30和冷却室31，备样室10、预热室11、反应室20、冷却室31和取样室30依次排列，在备样室10和预热室11之间设置有第三阀门103，在取样室30和冷却室31之间设置有第四阀门104。

于一实施方式中，第一阀门101设置于预热室11和反应室20之间，第二阀门102设置于反应室20和冷却室31之间。通过第三阀门103的开启与关闭能够实现备样室10和预热室11的连通与隔断，通过第一阀门101的开启与关闭能够实现预热室11和反应室20的连通与隔断，通过第二阀门102的开启与关闭能够实现反应室20和冷却室31的连通与隔断，通过第四阀门104的开启与关闭能够实现取样室30和冷却室31的连通与隔断。

于一实施方式中，第一真空泵401、第一进气口201和第一出气口301可设置于预热室11，例如，均设置于预热室11的顶部。

于一实施方式中，第三真空泵403、第三进气口203和第三出气口303可设置于冷却室31，例如，均设置于冷却室31的顶部。

于一实施方式中，第一进气口201、第一出气口301可沿玻璃基底的移动方向A分别位于预热室11的两端；第二进气口202、第二出气口302可沿玻璃基底的移动方向A分别位于反应室20的两端；第三进气口203和第三出气口303可沿玻璃基底的移动方向A分别位于冷却室31的两端。

于一实施方式中，在预热室11设置有加热器，可在预热室11内对玻璃基底进行表面的退火处理，以除去其表面未处理干净的油污、杂质。

于一实施方式中，冷却室31用于对石墨烯玻璃进行冷却处理，在其内部设置有冷却装置，其可以是水冷狭缝。

于一实施方式中，水冷狭缝包括一狭缝通道，在通道外侧可设置循环冷却水，将制得的石墨烯玻璃自狭缝通道通过，实现快速冷却的目的。

于一实施方式中，透光率仪30a可设置于取样室30，例如设置于取样室30的顶部，并位于远离冷却室31的一端。

本发明一实施方式的生产系统中，各个腔室之间均设置有阀门，可以实现腔室间的通断且在隔断情况下具有很好的气密性；各个腔室之间设置有滚轮或者机械手臂，可以实现承载面板在各个腔室的自由传送。

本发明一实施方式的生产系统，通过传输装置、备样单元、反应单元、取样单元的设置，实现了石墨烯玻璃的连续化制备。

本发明一实施方式的生产系统，通过传输装置、等离子体发生装置、反应单元、冷却室、透过率检测装置的设置，能够连续化制备品质好、透过率可调的石墨烯玻璃。

本发明一实施方式进一步提供了一种通过上述装置连续生产石墨烯玻璃的方法，包括：利用传送装置将玻璃基底依次通过备样单元、反应单元和取样单元进行处理，制得石墨烯玻璃。

本发明一实施方式的连续生产石墨烯玻璃的方法包括：

(1)将玻璃基底置于备样单元的承载面板上，通过第一真空泵401抽真空，备样单元内的空气自第一出气口301排出备样单元，再通过第一进气口201向备样单元内通入保护气体。

(2)在传输装置的传送下将玻璃基底送入反应单元，在反应单元内进行相应的化学气相沉积工艺，使得在玻璃表面生长石墨烯薄膜，得到石墨烯玻璃。

(3)石墨烯玻璃在传输装置的传送下离开反应单元，进入取样单元，并在取样单元内进行透过率的在线检测。

于一实施方式中，所使用的玻璃基底可以为石英玻璃、高硼玻璃、高铝玻璃、双抛蓝宝石，其厚度可以为1～3mm。

本发明对玻璃基底的大小尺寸不做限定，可根据需要选择合适的尺寸。当玻璃基底的尺寸发生改变时，可相应的调节承载面板和定位框的大小。

于一实施方式中，可依次使用乙醇、丙酮、去离子水对玻璃基底进行清洗再将其放入备样单元。

于一实施方式中，通过对玻璃基底进行退火处理后再进行化学气相沉积工艺。

于一实施方式中，预热室11内的退火温度为800℃左右，退火气氛为氧化气氛，例如空气或氧气气氛。退火温度过低使得无法除去玻璃表面的油污、杂质；温度过高导致能耗损耗更大，并且不会对玻璃表面具有更好的处理效果。

于一实施方式中，退火处理完成后，通过传送装置将玻璃基底送入反应室20，在反应室20内进行化学气相沉积反应，使得在玻璃基底表面生长石墨烯薄膜。

于一实施方式中，通过等离子体在反应前对反应室20进行清洗处理。

于一实施方式中，等离子发生装置开启后，等离子源氧气或者氩气在通过极板时发生电离，产生氧气或者氩气等离子体，在气流的作用下进入反应室20进行清洗；另外，由于生产石墨烯玻璃的工艺可以连续进行，通过通入等离子体也可以除去前一批反应产生的无定型碳或者其它的杂质，达到清洗腔室的目的。

于一实施方式中，等离子发生装置的发生器功率为100～1000W，例如100W、200W、250W、300W、400W、500W、550W、600W、700W、780W、850W、900W、950W等，优选300～500W。

于一实施方式中，化学气相沉积反应的反应温度可以是800～1100℃，例如800℃、900℃、1000℃、1050℃、1080℃、1100℃等，优选1000℃～1100℃。

于一实施方式中，化学气相沉积工艺包括：在保护性气氛中，将气体、液体或固体的碳源高温裂解成碳碎片，碳碎片在玻璃基底上重新形成化学键，然后成核拼接成石墨烯薄膜，最后降温后得到石墨烯玻璃。

于一实施方式中，备样单元、反应单元、取样单元中的保护性气体可以分别是氩气和/或氢气。

于一实施方式中，通过抽真空除去反应室20内的空气，之后向反应室20内通入氩气至常压，常压条件升温至反应温度；然后，分别向反应室20内通入甲烷、氢气；将玻璃基底在反应室20内保持一段时间，例如5h，可制得石墨烯玻璃。

于一实施方式中，通过进气管322向液态碳源罐321中通入载气氩气，氩气携载乙醇蒸汽通过出气管323进入后端的转子流量计，通过转子流量计控制氩气和乙醇混合气的流量，同时向反应室20中通入氩气与氢气的混合气。

于一实施方式中，通过传送装置将石墨烯玻璃送出反应室20后，石墨烯玻璃的温度较高，可在冷却室31对其进行冷却降温处理。

于一实施方式中，将冷却后的石墨烯玻璃送入取样室30进行透过率的检测。

于一实施方式中，石墨烯玻璃在冷却室31内的冷却过程为还原气氛冷却，保护气体可以为氩气和氢气的混合气或者单独的氢气。

本发明一实施方式的连续生产石墨烯玻璃的方法包括：

(1)在备样室10内，将依次用乙醇、丙酮、去离子水超声处理的玻璃基底放入承载面板的定位框内，启动电机将搭载玻璃基底的承载面板传送至预热室11。

(2)玻璃基底在传送装置的传送下送入预热室11，并在预热室11内进行玻璃基底表面的退火处理；退火温度800℃左右，退火气氛为氧化气氛。

(3)通过传送装置将玻璃基底从预热室11送入反应室20进行化学气相沉积，得到沉积有石墨烯薄膜的玻璃(石墨烯玻璃)。

(4)通过传送装置将石墨烯玻璃送出反应室20，进入冷却室31进行降温。

(5)石墨烯玻璃自冷却室31冷却后经传输装置传送至取样室30，经透过率测试后取出。

本发明一实施方式的连续化生产方法，可生产不同规格尺寸的石墨烯玻璃，制得的石墨烯玻璃性能均匀性良好。

本发明一实施方式的方法，生产过程条件可控，工艺条件稳定，重复性高。

通过本发明一实施方式的生产系统和方法制备得到的石墨烯玻璃的尺寸可控，透过率可调。

以下结合附图及具体实施例对本发明一实施方式的生产石墨烯玻璃的系统和方法进行进一步说明。其中，所使用的原料均为市售获得。

实施例1

(1)将厚度为2mm，规格为90mm×150mm的石英玻璃依次用乙醇、丙酮、去离子水超声清洗完后放入备样室10中承载面板上的定位框的定位格中。

(2)打开第二真空泵402的开关，对反应室20进行抽真空，到达目标真空度后通入100sccm的氧气或者氩气，然后打开等离子发生装置电源开关，调整等离子发生装置功率为450W，产生等离子体，在此条件下对反应室20清洗20分钟。

(3)打开备样室10与反应室20之间的第一阀门101，启动步进电机，传送带将承载面板中的石英玻璃基底传送至反应室20中；关闭第一阀门101，对反应室20进行抽真空去除反应室20里面的空气，然后关闭真空泵同时通入200sccm的氩气至常压，打开加热部件的开关升温至1000℃，接着通入200sccm的氢气、25sccm的甲烷，开始石墨烯在玻璃基底表面的化学气相沉积过程。反应过程中调整传送带的速度，使得玻璃基底在传送的过程中在反应室20内停留5h。

(4)打开反应室20与取样单元之间的第二阀门102，通过传输装置将得到的石墨烯玻璃传送至取样单元，然后关闭第二阀门102。石墨烯玻璃在取样单元还原气氛中冷却至室温。经过计算机系统对石墨烯玻璃进行线透过率检测，测得石墨烯玻璃的透过率大于80％，最后取出样品。

实施例2

(1)将厚度为2mm，规格为90mm×150mm的石英玻璃依次用乙醇、丙酮、去离子水超声清洗后放入备样室10中承载面板上的定位框的定位格中。

(2)打开第二真空泵402的开关，对反应室20进行抽真空，到达目标真空度后通入100sccm的氧气或者氩气；然后打开等离子发生装置的电源开关，调整等离子发生装置功率为450W，产生等离子体，在此条件对反应室20清洗20分钟。

(3)打开备样室10与预热室11中的第三阀门103，装有玻璃基底的承载面板在传送带的输送下进入预热室11；关闭第三阀门103并进行退火处理，退火气氛为氧化气氛，退火温度为800℃。

(4)打开预热室11与反应室20间的第一阀门101，玻璃基底通过传输装置进入反应室20；关闭第一阀门101，抽真空除去反应室20内的空气，然后通入520sccm的氩气至常压，常压条件升温至反应温度1000℃，然后分别以10sccm的流速通入甲烷、200sccm的流速通入氢气；在运动传输状态下，调节传送带的速度保持在反应室20内5h。

(5)打开反应室20与冷却室31间的第二阀门102，石墨烯玻璃在传输装置传送下进入冷却室31。关闭第二阀门102并在冷却室31的还原气氛中将石墨烯玻璃冷却至室温。

(6)打开冷却室31与取样室30间的第四阀门104，石墨烯玻璃经传输装置传送至取样室30；关闭第四阀门104，通过计算机系统进行石墨烯玻璃的在线透过率检测，测得石墨烯玻璃的透过率大于90％，最后取出样品。

除非特别限定，本发明所用术语均为本领域技术人员通常理解的含义。

本发明所描述的实施方式仅出于示例性目的，并非用以限制本发明的保护范围，本领域技术人员可在本发明的范围内作出各种其他替换、改变和改进，因而，本发明不限于上述实施方式，而仅由权利要求限定。

Claims (14)

1.一种石墨烯玻璃的连续生产系统，包括备样单元、反应单元、取样单元和传送装置；其中，所述传送装置能够载着玻璃基底在所述备样单元、所述反应单元、所述取样单元之间移动。

2.根据权利要求1所述的生产系统，其中，在所述备样单元和所述反应单元之间设置有第一阀门，在所述反应单元和所述取样单元之间设置有第二阀门。

3.根据权利要求2所述的生产系统，其中，所述备样单元包括备样室，所述反应单元包括反应室，所述取样单元包括取样室；所述第一阀门设置于所述备样室和所述反应室之间，所述第二阀门设置于所述反应室和所述取样室之间。

4.根据权利要求2所述的生产系统，其中，所述备样单元包括备样室和预热室，在所述备样室和所述预热室之间设置有第三阀门；所述反应单元包括反应室；所述取样单元包括冷却室和取样室，在所述冷却室和所述取样室之间设置有第四阀门；所述第一阀门设置于所述预热室和所述反应室之间，所述第二阀门设置于所述反应室和所述冷却室之间。

5.根据权利要求1所述的生产系统，其中，在所述备样单元设置有第一真空泵、第一进气口和第一出气口，在所述反应单元设置有第二真空泵、第二进气口和第二出气口，在所述取样单元设置有第三真空泵、第三进气口和第三出气口。

6.根据权利要求1所述的生产系统，其中，在所述反应单元内设置有等离子体发生装置，用于对所述反应单元进行清洗；在所述取样单元设置有透过率检测装置。

7.根据权利要求1所述的生产系统，其中，所述传送装置包括导轨、传送带、电机以及用于放置所述玻璃基底的承载面板；所述承载面板位于所述导轨上，并与所述传送带相连，在所述电机与所述传送带的作用下，所述承载面板能够沿所述导轨在所述备样单元、所述反应单元、所述取样单元之间移动。

8.一种石墨烯玻璃的连续生产方法，包括：

将多片玻璃基底放入位于备样单元的传送装置上；

通过所述传送装置将所述玻璃基底送入反应单元进行化学气相沉积反应，得到石墨烯玻璃；以及

通过所述传送装置将所述石墨烯玻璃送入取样单元，得到所述石墨烯玻璃。

9.根据权利要求8所述的生产方法，包括通过清洗液对所述玻璃基底进行清洗后再放入所述备样单元，所述清洗液包括乙醇、丙酮和水。

10.根据权利要求8所述的生产方法，包括将所述玻璃基底进行退火处理后再送入所述反应单元，和/或，通过等离子体对所述反应单元进行清洗后再将所述石墨烯玻璃送入所述反应单元。

11.根据权利要求8所述的生产方法，包括在所述备样单元、所述反应单元、所述取样单元分别设置有保护气。

12.根据权利要求8所述的生产方法，其中，在所述取样单元对所述石墨烯玻璃进行冷却处理和/或透过率的检测。

13.根据权利要求12所述的生产方法，其中，采用水冷狭缝对所述石墨烯玻璃进行所述冷却处理，所述水冷狭缝包括一通道，在所述通道外部设置有循环冷却水，将所述石墨烯玻璃通过所述通道进行冷却。

14.根据权利要求8所述的生产方法，其中，所述传送装置包括导轨、传送带、电机和用于放置所述玻璃基底的承载面板，所述承载面板与所述传送带相连，并设置于所述导轨上；在所述备样单元设置有多个所述承载面板，多个所述承载面板依序进入所述反应单元、所述取样单元。

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