CN111344900B - 膜天线及包含其的显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明的实施例的膜天线包含介电层、配置于介电层的上表面上且包含网格结构的天线图案、以及配置于介电层的上述上表面上且包含与上述天线图案相同的网格结构的虚设图案，通过天线图案和虚设图案的相同的结构，从而能够提高光学特性。

Description

膜天线及包含其的显示装置

技术领域

本发明涉及膜天线及包含其的显示装置。更详细而言，涉及包含电极和介电层的膜天线及包含其的显示装置。

背景技术

近年来，随着信息化社会的发展，Wi-Fi、蓝牙(Bluetooth)等之类的无线通信技术与显示装置结合从而例如以智能手机的形式呈现。该情况下，可以将天线与上述显示装置结合来实施通信功能。

近年来，随着移动通信技术发展推进，需要用于实施超高频带的通信的天线与上述显示装置结合。此外，近年来，开发了透明显示器、柔性显示器之类的薄型、高透明、高分辨率的显示装置，上述天线在满足高辐射特性、信号灵敏度的同时也需要具有提高了的透过度。

为了提高天线的信号收发特性，可以优选使用低电阻金属来形成电极或辐射图案。但是，该情况下，上述电极或辐射图案可能被显示装置的使用者可见，可能使图像品质劣化。

例如，韩国公开专利第2003-0095557号公开了内置于便携用终端的天线结构。

发明内容

技术课题

本发明一课题在于，提供具有提高了的光学特性的膜天线。

本发明的一课题在于，提供包含具有提高了的光学特性的膜天线而图像品质提高了的显示装置。

解决课题的方法

1.一种膜天线，其包含：介电层；配置于上述介电层的上表面且包含网格结构的天线图案；以及配置于上述介电层的上述上表面且包含与上述天线图案相同的网格结构的虚设图案。

2.如1所述的膜天线，上述虚设图案包含虚设线，上述天线图案包含导线，上述虚设线和上述导线具有彼此相同的宽度和高度。

3.如2所述的膜天线，上述虚设线包含沿彼此交叉的方向延伸的第一虚设线和第二虚设线，

上述导线包含沿彼此交叉的方向延伸的第一导线和第二导线。

4.如3所述的膜天线，上述第一虚设线和上述第一导线沿相同的方向延伸，上述第二虚设线和上述第二导线沿相同的方向延伸。

5.如2所述的膜天线，上述虚设线的宽度与上述虚设线和上述天线图案之间的间隔距离的比率为0.5至3。

6.如2所述的膜天线，上述天线图案进一步包含将上述导线的端部彼此连接的轮廓图案。

7.如1所述的膜天线，上述天线图案包含辐射图案、焊盘部以及介于上述辐射图案和上述焊盘部之间的传输线。

8.如7所述的膜天线，上述辐射图案和上述焊盘部均包含上述网格结构。

9.如7所述的膜天线，上述辐射图案包含上述网格结构，上述焊盘部具有实心结构。

10.如1所述的膜天线，上述虚设图案在至少一部分区域具有分节部。

11.一种膜天线，其包含介电层以及电极线，上述电极线包含在上述介电层的上表面上以彼此交叉的方式排列而形成网格结构的第一电极线和第二电极线，

通过在上述第一电极线和上述第二电极线的交叉部中的一部分交叉部连续形成的狭缝而定义包含上述网格结构的天线图案和虚设图案的边界。

12.如11所述的膜天线，上述狭缝具有上述交叉部被部分去除而成的形状。

13.如12所述的膜天线，上述狭缝形成于上述交叉部的残留部之间。

14.如13所述的膜天线，借助上述残留部，上述边界周围的上述天线图案和上述虚设图案各自所包含的上述第一电极线和上述第二电极线彼此连接。

15.如13所述的膜天线，上述残留部在与上述狭缝的相反侧包含比上述第一电极线和上述第二电极线的交叉角柔和的凹陷部。

16.如15所述的膜天线，上述凹陷部包含凹向上述狭缝侧的曲面。

17.如11所述的膜天线，上述狭缝的宽度大于上述电极线的宽度。

18.如17所述的膜天线，上述交叉部的宽度大于上述电极线的宽度和上述狭缝的宽度之和。

19.如11所述的膜天线，其进一步包含形成于上述介电层下表面上的接地层。

20.一种显示装置，其包含上述1至19中任一项所述的膜天线。

发明效果

根据本发明的一部分实施例，膜天线可以包含天线图案和形成于上述天线图案周围的虚设图案。上述天线图案和上述虚设图案各自可以包含实质相同的网格结构。由此，能够防止光学、物理偏差导致的天线图案或电极可见，能够防止安装上述膜天线的显示装置的图像品质因上述天线图案而劣化。此外，通过上述虚设图案，能够提高光学特性，因此上述天线图案能够利用低电阻金属来进一步提高信号收发特性。

根据本发明的一部分实施例，膜天线可以包含借助彼此交叉的第一电极线和第二电极线而形成的网格结构。因此，可以提高上述膜天线的透过率。

上述网格结构可以区分为天线图案和虚设图案。上述天线图案和上述虚设图案可以通过上述第一电极线和上述第二电极线的交叉部被部分去除而形成的狭缝来区分。

上述交叉部被部分去除而形成残留部，借助上述残留部，上述天线图案和上述虚设图案所包含的第一电极线和第二电极线可以彼此连接。因此，能够防止上述狭缝所导致的天线图案的电阻增大、信号损失。

上述膜天线具有提高了的透过度，能够应用于包含可进行3G以上、例如5G高频带的收发移动通信设备的显示装置而同时提高辐射特性和透过度之类的光学特性。

附图说明

图1和图2是分别示出例示性实施例的膜天线的概略性俯视图和截面图。

图3是用于说明例示性实施例的膜天线的电极线结构的局部放大图。

图4和图5分别是示出部分例示性实施例的膜天线的概略性俯视图和截面图。

图6至图8是示出例示性实施例的膜天线的虚设图案的结构的概略性俯视图。

图9是示出例示性实施例的膜天线的概略性俯视图

图10是用于说明例示性实施例的膜天线的电极线结构的局部放大图。

图11是用于说明例示性实施例的膜天线的交叉部的局部放大图。

图12是用于说明例示性实施例的膜天线的狭缝形成的概略图。

图13是用于说明比较例的膜天线的狭缝形成的概略图。

图14是用于说明例示性实施例的显示装置的概略性俯视图。

具体实施方式

本发明的实施例提供包含配置于介电层上且包含网格结构的天线图案和虚设图案而透过度提高了的膜天线。

上述膜天线例如可以为以透明膜形态制作的微带贴片天线(microstrip patchantenna)。上述膜天线例如可以在用于3G至5G移动通信的通信设备中应用。

此外，本发明的实施例提供包含上述膜天线的显示装置。

以下，参照附图来更加具体地说明本发明的实施例。但是，本说明书中随附的以下附图起到例示本发明的优选的实施例且与以上的发明内容一起使本发明的技术思想得到进一步理解的作用，因此本发明不应解释成仅限定于这样的附图中所记载的事项。

图1和图2是分别示出例示性实施例的膜天线的概略性俯视图和截面图。

参照图1和图2，膜天线可以包含配置于介电层100上的天线图案和虚设图案118。根据例示性实施例，上述天线图案可以包含辐射图案112、传输线114和焊盘部116。

介电层100可以包含具有预定的介电常数的绝缘物质。介电层100可以包含例如硅氧化物、硅氮化物、金属氧化物等之类的无机绝缘物质；或者环氧系树脂、丙烯酸系树脂、酰亚胺系树脂、纤维素系树脂、聚烯烃系树脂、氨基甲酸酯系树脂、乙烯醇系树脂等之类的有机绝缘物质。介电层100可以起到形成上述天线图案的膜天线的膜基材的作用。

一部分实施例中，介电层100的介电常数可以调节为约1.5至12的范围。在上述介电常数大于12的情况下，驱动频率大幅下降，可能无法实现期望的高频带中的驱动。

上述天线图案可以包含辐射图案112、传输线114和焊盘部116。

辐射图案112可以与传输线114一体地连接。例如，辐射图案112在中央部可以包含与传输线114连接的凸部。但是，图1所图示的辐射图案112的形状是例示性的，可以考虑辐射效率等而适宜变更。

传输线114例如可以作为上述天线图案的馈电(feeding)线而提供。传输线114可以从辐射图案112的上述凸部延伸至焊盘部116。

如图1所示，焊盘部116在内部包含凹槽，传输线114可以插入至焊盘部116的上述凹槽内部。

上述天线图案周围可以排列虚设图案118。虚设图案118在介电层100的上表面上可以配置于与上述天线图案相同的层或相同的级别。

根据例示性实施例，虚设图案118和上述天线图案可以包含实质相同的形状的网格结构。一部分实施例中，虚设图案118和上述天线图案由实质相同的网格层形成，由此，上述网格结构所包含的各格子(cell)的面积、导线的宽度和高度可以相同。

如图2所示，在介电层100上配置有第一导电层110，第一导电层110可以包括上述的上述天线图案和虚设图案118。

第一导电层110(上述天线图案和虚设图案118)如上所述包含网格结构，由此可以提高上述膜天线的透过度。此外，上述天线图案和虚设图案118包含实质相同的网格结构，因此能够防止第一导电层110的不同区域的图案形状偏差、反射率差异导致的图案可见现象。

根据例示性实施例，上述天线图案可以包含低电阻金属。上述天线图案和虚设图案118包含上述的网格结构而能够确保提高了的透过度和光学特性。因此，通过使用金属来代替电阻相对高的透明金属氧化物(例如，ITO或IZO)，从而能够使上述天线图案的信号损失减小，且进一步提高辐射特性。

例如，上述天线图案分别可以包含银(Ag)、金(Au)、铜(Cu)、铝(Al)、铂(Pt)、钯(Pd)、铬(Cr)、钛(Ti)、钨(W)、铌(Nb)、钽(Ta)、钒(V)、铁(Fe)、锰(Mn)、钴(Co)、镍(Ni)、锌(Zn)或它们的合金。它们可以单独使用或两种以上组合使用。例如，为了实现低电阻，上述天线图案可以包含银(Ag)或银合金，例如，可以包含银-钯-铜(APC)合金。

一实施例中，上述天线图案可以由上述金属和/或合金构成。

虚设图案118同样可以包含与上述天线图案实质相同的金属或合金。

第一导电层110的厚度可以考虑上述天线图案的低电阻呈现以及透过度提高来调节。例如，第一导电层110的厚度可以为约100至

范围。如上所述，上述天线图案和虚设图案118可以具有实质相同的厚度(或高度)。

在介电层100的下面可以配置第二导电层90。例示性实施例中，第二导电层90可以作为上述膜天线的接地电极来提供。该情况下，可以在介电层100内形成使第二导电层90和焊盘部116连接的触点或连接接地图案。

一部分实施例中，第二导电层90可以作为膜天线的单独构成来包含。一部分实施例中，也可以将搭载膜天线的显示装置的导电性构件作为接地层来提供。

上述导电性构件例如可以包括显示面板所包含的薄膜晶体管(TFT)的栅电极、扫描线或数据线之类的各种配线、或者像素电极、共用电极之类的各种电极等。

第二导电层90可以包含金属、合金、透明金属氧化物之类的导电物质。

一部分实施例中，上述天线图案可以为垂直辐射图案。一实施例中，上述天线图案也可以包含水平辐射图案。该情况下，接地层也配置于与辐射图案112相同的级别(例如，介电层100的上表面)上。

为了便于说明，图1中仅图示了一个天线图案，但介电层100上可以规则地或无规则地排列多个天线图案。

图3是用于说明例示性实施例的膜天线的电极线结构的局部放大图。例如，图3是将图1的由“A”表示的区域的一部分放大后的俯视图。

参照图3，天线图案(或辐射图案112)所包含的网格结构可以包含导线。上述导线可以包含第一导线122和第二导线124。

第一导线122和第二导线124各自沿彼此不同的方向延伸，可以通过交叉的第一导线122和第二导线124而定义多个格子。

一部分实施例中，可以形成划分上述天线图案或辐射图案112的轮廓图案120。辐射图案112所包含的第一导线122和第二导线124的端部通过轮廓图案120而是指合并或连接，从而能够进一步降低辐射图案112的电阻以及信号损失。

虚设图案118所包含的网格结构可以包含虚设线。上述虚设线可以包含彼此交叉的第一虚设线132和第二虚设线134。

根据例示性实施例，第一导线122和第一虚设线132可以沿实质相同的方向延伸。此外，第一导线122和第一虚设线132可以具有相同的宽度和高度。

第二导线124和第二虚设线134可以沿实质相同的方向延伸，且可以具有相同的宽度和高度。

根据例示性实施例，第一导线122和第二导线124以及第一虚设线132和第二虚设线134可以包含实质相同的金属。

如上所述，天线图案和虚设图案118可以包含带有实质相同的图案形状和材质的网格结构，因此，能够提高透过度，并且防止图案可见。

轮廓图案120可以沿与导线(122、124)和虚设线(132、134)不同的方向延伸。由此，能够阻断朝向虚设图案118的信号流而抑制天线图案和虚设图案之间的信号/辐射干扰。

如图3所示，上述虚设线的宽度可以表示为“D1”，天线图案的导线的宽度可以表示为“D2”。

虚设线和天线图案可以彼此分离以阻断信号干扰，一部分实施例中，在上述导线和上述虚设线的交叉部可以形成分离区域B。在分离区域B内，上述天线图案和上述虚设线的间隔距离可以表示为“D3”。

一部分实施例中，间隔距离D3可以由虚设线(132、134)和上述天线图案所包含的轮廓图案120之间的距离、或者虚设线(132、134)和导线(122、124)截断距离定义。

间隔距离D3可以为按照第一虚设线132或第二虚设线134的延伸方向测定的距离。

根据例示性实施例，虚设线的宽度D1与间隔距离D3的比率(D1/D3)可以为约0.5至3范围。此外，虚设线的宽度D1和导线的宽度D2可以相同。

在上述比率小于0.5的情况下，辐射特性降低，上述虚设线和天线图案之间的间隔空间变大，并且可能导致图案可见。在上述比率大于3的情况下，虚设线和导线的厚度过度增加，同样可能导致图案可见。

在包含轮廓图案120的情况下，能够使间隔距离D3更加减小，由此能够缩小虚设图案和天线图案之间的间距而更加有效抑制图案可见。

图3中图示了上述虚设线和导线各自以直线状延伸，但是也可以以波浪状、锯齿状等之类的多种多样的形状延伸。

图4和图5分别是示出部分例示性实施例的膜天线的概略性俯视图和截面图。省略对于与参照图1和图2的说明实质相同或类似的结构、构成的详细说明。

参照图4和图5，天线图案所包含的焊盘部116a可以具有实质实心(solid)结构。该情况下，辐射图案112以网格结构形成而能够确保透过度和光学特性，焊盘部116a以实心结构形成而能够实现信号灵敏度和低电阻特性。

例如，焊盘部116a可以配置于显示装置的周边部或边框部而对显示图像不造成实质影响。

一部分实施例中，焊盘部116a可以配置于与辐射图案112不同的级别或不同的层。如图5所示，可以在辐射图案112和传输线114上形成绝缘层140，在绝缘层140上配置焊盘部116a。

在绝缘层140内，可以形成使焊盘部116a和传输线114电连接的触点145。

图6至图8是示出例示性实施例的膜天线的虚设图案的结构的概略性俯视图。

一部分实施例中，虚设图案118的网格结构可以在至少一部分包含分节部135以防止与天线图案的辐射和信号干扰。

参照图6，例如，在虚设图案118的各格子的边上可以形成分节部135。

参照图7和图8，可以在虚设线(132、134)的交叉区域(图6的“C”区域)形成上述分节部。

如图7所示，在交叉区域C，虚设线(132、134)可以部分截断而形成分节部。

如图8所示，在交叉区域C，虚设线(132、134)可以全部截断而形成分节部。

一实施例中，上述的分节部可以分布于虚设图案118的部分区域。例如，上述分节部可以分布于虚设图案118的与天线图案相邻的区域从而抑制虚设图案118导致的上述天线图案的辐射和信号干扰。

图9是示出例示性实施例的膜天线的概略性俯视图。省略对于与参照图1和图2的说明实质相同或类似的构成和/或材质的详细说明，对于相同或类似的构成使用相同或类似的参考符号。

参照图9，如上所述，膜天线可以包含配置于介电层100上的天线图案和虚设图案118。上述天线图案可以包含辐射图案112、传输线114和焊盘部116。

根据例示性实施例，虚设图案118和上述天线图案可以包含实质相同的形状的网格结构。一部分实施例中，虚设图案118和上述天线图案由实质相同的网格层形成，由此，上述网格结构所包含的各格子(cell)的面积、电极线的宽度和高度可以相同。上述网格层分布图案化或截断而形成分节区域A，借助分节区域A，虚设图案和上述天线图案可以彼此物理、电分离。

一部分实施例中，如参照图4和图5说明的那样，焊盘部116可以具有实心结构，可以配置于与辐射图案112不同的级别或不同的层。

图10是用于说明例示性实施例的膜天线的电极线结构的局部放大图。例如，图10图示了图9的分节区域A周围的电极线结构。

参照图10，在介电层100上可以排列多个电极线50而形成网格结构，上述网格结构可以借助分节区域A来区分而定义包含辐射图案112的天线图案和虚设图案118。

电极线50可以包含沿彼此交叉的对角线方向延伸的第一电极线50a和第二电极线50b。例如，如图10所示，第一电极线50a和第二电极线50b各自可以沿第一方向和第二方向延伸。此外，多个第一电极线50a沿上述第二方向排列，多个第二电极线50b沿上述第一方向排列，从而可以形成网格结构。

以下，将膜天线所包含的上述天线图案的长度方向和宽度方向分别定义为第三方向和第四方向。上述第一方向和第二方向可以为相对于上述第三方向以预定的锐角倾斜的方向。

分节区域A可以沿着上述第三方向将第一和第二电极线相遇的交叉部截断且延伸。借助分节区域A，可以由上述网格结构定义虚设图案118和天线图案(例如，辐射图案112)。分节区域A如图9所示也可以沿上述第四方向延伸，截断上述交叉部而定义上述天线图案。

借助分节区域A将虚设图案118和天线图案分离，从而即使不形成单独的轮廓图案也可以定义上述天线图案。因此，能够防止由上述轮廓图案导致的电极可见。

图11是用于说明例示性实施例的膜天线的交叉部的局部放大图。

参照图11，第一电极线50a和第二电极线50b的交叉部可以被部分去除而形成狭缝60。如上所述，狭缝60沿着上述第三方向和/或第四方向形成，从而可以形成分节区域A且定义天线图案。

上述交叉部中除了作为狭缝60而被去除的部分以外的部分可以定义为残留部65。例示性实施例中，从形成了狭缝60的一个交叉部可以形成两个分离的残留部65。借助各残留部65，属于天线图案和虚设图案118的第一电极线50a和第二电极线50b可以彼此连接。由此，即使形成分节区域A，也可以通过残留部65将分节区域A周围的电极线(50a、50b)彼此连接而防止天线图案的电阻增加所导致的信号损失。

一部分实施例中，与狭缝60相反一侧的残留部65侧面可以包含凹陷部65a。例如，凹陷部65a与电极线(50a、50b)的交叉角、或第一方向和第二方向的交叉角相比能够形成柔和的角度。

通过凹陷部65a来缓冲由上述交叉部或交叉角形成的电极线(50a、50b)的图案变化，从而能够进一步降低上述交叉部处的电极可见。此外，能够防止上述交叉部处的蚀刻液集中而防止上述交叉部的过蚀刻导致的切断、损伤。此外，借助凹陷部65a，能够减小或防止与配置于上述膜天线下部的显示器面板的莫尔现象。

一实施例中，凹陷部65a的侧面也可以具有曲面形状。

一部分实施例中，第一和第二电极线各自的宽度W1可以为约1至7μm。狭缝60的宽度W2可以大于上述电极线的宽度W1。

在狭缝60的宽度W2小于电极线的宽度W1的情况下，虚设图案118与天线图案的分离距离减小而信噪可能增加。在狭缝60的宽度W2过度增加的情况下，分离区域A的宽度过度增加而可能导致电极可见。例如，狭缝60的宽度W2可以为约1.5至35μm。

图12是用于说明例示性实施例的膜天线的狭缝形成的概略图。

参照图12，在第一电极线50a和第二电极线50b的交叉区域可以形成交叉部70。如参照图11说明的那样，狭缝60可以形成得大于电极线的宽度W1，由此交叉部70可以考虑狭缝60的形成而以具有充分的宽度的方式形成。

一部分实施例中，交叉部70的宽度W3可以大于电极线的宽度W1和狭缝60的宽度W2之和。一部分实施例中，考虑到狭缝60和残留部65，交叉部70的宽度W3可以为电极线的宽度W1的约1.5至5倍，优选可以为2至5倍。

之后，为了形成分节区域A，可以实施蚀刻工序将交叉部70部分去除，从而可以形成具有预定的宽度W2的狭缝60。此外，借助因狭缝60而去除但被留下的交叉部70部分而形成残留部65，从而可以将第一电极线50a和第二电极线50b彼此连接。残留部65如上所述可以包含凹陷部65a。

图13是用于说明比较例的膜天线的狭缝形成的概略图。

参照图13，电极线(50a、50b)在交叉区域(以虚线圆表示)没有宽度变化地直接以原来形状交叉的情况下，在进行用于形成分节区域的蚀刻工序时，在上述交叉区域电极线(50a、50b)可能全部截断或分离。

该情况下，截断的区域的数量增加而可能导致图案偏差，从而可能提高电极可见。此外，由于天线图案的边界所包含的电极线(50a、50b)全部分离，因此电阻增加导致的信号损失可能增大。

但是，根据上述的例示性实施例，在交叉部70的宽度形成得充分大而形成分节区域A时，能够形成残留部65和残留部65之间的狭缝60。因此，能够抑制或减小比较例中发生的电极可见和电阻增加问题。

图14是用于说明例示性实施例的显示装置的概略性俯视图。

例如，图14图示了显示装置的包含视窗的外部形状。

参照图14，显示装置200可以包含显示区域210和周边区域220。周边区域220可以配置于例如显示区域210的两侧部和/或两端部。

一部分实施例中，上述的膜天线在显示装置200中可以以贴片形态插入。一部分实施例中，上述膜天线的天线图案可以整体地与显示装置200的显示区域210重叠。一部分实施例中，上述天线图案的辐射图案112可以与显示区域210重叠，焊盘部(116、116a)可以按照与周边区域220对应的方式配置。

周边区域220可以与例如图像显示装置的遮光部或边框部对应。此外，可以在周边区域220配置显示装置200和/或上述膜天线的IC芯片之类的驱动电路。

通过与上述驱动电路相邻地配置上述膜天线的焊盘部(116、116a)，从而能够缩短信号收发路径而抑制信号损失。

以下，为了帮助本发明的理解，提供优选的实验例，但以下实验例仅是例示性的，不用于限制权力要求范围或排除特定例。

实验例：基于虚设线和天线图案之间的间隔距离的光学特性和信号损失测定

在环烯烃聚合物(Cyclo Olefin Polymer(COP))基材上以50mm*50mm面积形成具有3μm宽度的金属(APC)网格结构。将上述网格结构切断或图案化而划分天线图案和虚设线，一边改变上述虚设线和上述天线图案之间的切断后的间隔距离，一边改变与虚设线宽度的比率(D1/D3，参照图3)。

以100名专业感官测试人员为对象，通过目视观察来评价随着D1/D3比率变化所制造的膜天线样品中天线图案的可见与否。数出观察结果中判断为可见的试验人员的人数，将结果值记载于表1中。

另一方面，利用网络分析仪(Network analyzer)在28GHz提取S参数(S-parameter)，从而评价各样品的信号损失(回波损耗，Return Loss)，其结果一同记载于表1中。

[表1]

参照表1，在D1/D3比率满足约0.5至3范围的情况下(样品1至6)，能够有效防止天线图案的可见，也充分满足信号损失特性。在D1/D3比率小于0.5的情况下，天线图案的可见大幅增加。

Claims (15)

1.一种膜天线，其包含：

介电层；

配置于所述介电层的上表面且包含由多个导线定义的网格结构的天线图案；以及

配置于所述介电层的所述上表面且包含与所述天线图案相同的网格结构并由多个虚设线定义的虚设图案，

所述天线图案进一步包含轮廓图案，该轮廓图案沿与所述导线和所述虚设线彼此不同的方向延伸，所述轮廓图案将所述导线的端部彼此连接，且与所述虚设线间隔开，

所述虚设线的宽度与所述虚设线和所述天线图案之间的间隔距离的比率为0.5至3，所述间隔距离由所述虚设线和所述轮廓图案之间的距离定义。

2.根据权利要求1所述的膜天线，其特征在于，

所述虚设线和所述导线具有彼此相同的宽度和高度。

3.根据权利要求1所述的膜天线，其特征在于，

所述虚设线包含沿彼此交叉的方向延伸的第一虚设线和第二虚设线，

所述导线包含沿彼此交叉的方向延伸的第一导线和第二导线。

4.根据权利要求3所述的膜天线，其特征在于，

所述第一虚设线和所述第一导线沿相同的方向延伸，所述第二虚设线和所述第二导线沿相同的方向延伸。

5.根据权利要求1所述的膜天线，其特征在于，

所述天线图案包含辐射图案、焊盘部以及介于所述辐射图案和所述焊盘部之间的传输线。

6.根据权利要求5所述的膜天线，其特征在于，

所述辐射图案和所述焊盘部均包含所述网格结构。

7.根据权利要求5所述的膜天线，其特征在于，

所述辐射图案包含所述网格结构，所述焊盘部具有实心结构。

8.根据权利要求1所述的膜天线，其特征在于，

所述虚设图案在至少一部分区域具有分节部。

9.一种膜天线，其包含介电层以及电极线，

所述电极线包含在所述介电层的上表面上以彼此交叉的方式排列而形成网格结构的第一电极线和第二电极线，

通过在所述第一电极线和所述第二电极线的交叉部中的一部分交叉部连续形成的狭缝而定义包含所述网格结构的天线图案和虚设图案的边界，

所述狭缝具有所述交叉部被部分去除而成的形状，所述狭缝形成于所述交叉部的残留部之间，

借助所述残留部，所述边界周围的所述天线图案和所述虚设图案各自所包含的所述第一电极线和所述第二电极线彼此连接。

10.根据权利要求9所述的膜天线，其特征在于，

所述残留部在与所述狭缝的相反侧包含比所述第一电极线和所述第二电极线的交叉角柔和的凹陷部。

11.根据权利要求10所述的膜天线，其特征在于，

所述凹陷部包含凹向所述狭缝侧的曲面。

12.根据权利要求9所述的膜天线，其特征在于，

所述狭缝的宽度大于所述电极线的宽度。

13.根据权利要求12所述的膜天线，其特征在于，

所述交叉部的宽度大于所述电极线的宽度和所述狭缝的宽度之和。

14.根据权利要求9所述的膜天线，其特征在于，

进一步包含形成于所述介电层下表面上的接地层。

15.一种显示装置，其包含权利要求1至14中任一项所述的膜天线。

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