CN111312918B - 显示面板 - Google Patents

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Abstract

公开一种显示面板，具有纳米级蛾眼图案，纳米级蛾眼图案被图案化并设置在位于从发光二极管发出的光出射的路径上的至少一个层上，从而可以增大从显示面板向外出射的光的透射率，同时减小外部光的反射率。所述显示面板包括：基板；至少一个下绝缘层，设置在所述基板上；多个发光二极管，设置在至少一个下绝缘层上；以及至少一个上绝缘层，设置在多个发光二极管上，至少一个下绝缘层或至少一个上绝缘层位于从多个发光二极管发出的光出射的路径上，至少一个下绝缘层或至少一个上绝缘层包括在其一个表面的至少一部分上图案化的纳米级蛾眼图案层，蛾眼图案层被图案化在与上面设置有所述发光二极管的区域相对应的区域上。

Description

显示面板
相关申请的交叉引用
本申请要求享有于2018年12月12日提交的韩国专利申请No.10-2018- 0160267的优先权，为了所有目的通过引用的方式将其并入本文，如同在本文完全阐述一样。
技术领域
示例性实施方式涉及显示面板。
背景技术
随着信息社会的发展，对用于显示图像的各种类型的显示装置的需求日益增加。在这方面，诸如液晶显示(LCD)装置和有机发光二极管(OLED)显示装置之类的显示装置已经得到广泛使用。
这种显示装置包括显示面板，其中设置有多个子像素及多条信号线和电压线。显示装置通过控制由排列在显示面板中的多个子像素呈现的发光强度来显示图像。
在这种情况下，入射在显示面板上的外部光可以在显示面板显示图像的表面上反射。由于外部光的这种反射，存在可能不易于察觉显示面板显示的图像的问题。
发明内容
本发明的各个方面提供了一种显示面板，其能够降低入射在显示面板上的外部光的反射率，而无需在显示面板显示图像的表面上设置偏振器。
本发明的各个方面提供了一种显示面板，其能够降低入射在显示面板上的外部光的反射率并增加从显示面板出射的光的透射率。
根据一个方面，示例性实施方式可以提供一种显示面板，包括：基板；至少一个下绝缘层，设置在基板上；多个发光二极管，设置在至少一个下绝缘层上；及至少一个上绝缘层，设置在多个发光二极管上。在显示面板中，至少一个下绝缘层或至少一个上绝缘层位于从多个发光二极管发出的光出射的路径上，至少一个下绝缘层或至少一个上绝缘层包括在其一个表面的至少一部分上图案化的纳米级蛾眼图案层，其中蛾眼图案层被图案化在与上面设置有发光二极管的区域对应的区域上。
根据另一方面，示例性实施方式可以提供一种显示面板，包括：基板；多个发光二极管，设置在基板上；至少一个绝缘层，设置在多个发光二极管上；抗反射器，在除了上面设置有发光二极管的区域之外的至少一部分区域上设置在至少一个绝缘层上；以及抗反射层，设置在抗反射器的开口区域上，并包括纳米级蛾眼图案层。
根据又一方面，示例性实施方式可以提供一种显示面板，包括：透明基板；至少一个第一下绝缘层，设置在基板上；多个薄膜晶体管，设置在至少一个第一下绝缘层上；至少一个第二下绝缘层，设置在多个薄膜晶体管上；多个发光二极管，设置在至少一个第二下绝缘层上；以及纳米级蛾眼图案层，图案化在透明基板、至少一个第一下绝缘层和至少一个第二下绝缘层的至少之一的一个表面的至少一部分上。
根据示例性实施方式，纳米级蛾眼图案层被图案化并设置在至少一个绝缘层的一个表面上，至少一个绝缘层设置在从显示面板上的发光二极管发出的光出射的路径上，使得可以增加从显示面板出射的光的透射率，同时减小外部光的反射率。
此外，抗反射器设置在显示面板上显示图像的表面上的除了与发光二极管对应的区域之外的至少一部分区域上，使得可以进一步减小外部光的反射率。
此外，蛾眼图案层设置在抗反射器的开口区域上，使得即使在具有高孔径比的显示面板的情况下，也可以在没有偏振器的情况下减小外部光的反射率。
附图说明
从以下结合附图的具体描述中将更清楚地理解本发明的上述和其他特征和优点，其中：
图1示出了根据本发明示例性实施方式的显示装置的示意性配置；
图2示出了根据本发明示例性实施方式的显示面板的横截面结构；
图3示出了根据示例性实施方式的具有蛾眼图案层的显示面板的横截面结构；
图4示出了根据示例性实施方式的具有蛾眼图案层的显示面板的另一横截面结构；
图5和图6示出了根据示例性实施方式在显示面板中设置蛾眼图案层的方法；
图7至图9示出了根据示例性实施方式抗反射器设置在具有蛾眼图案层的显示面板上的横截面结构；
图10和图11示出了在根据示例性实施方式的显示面板具有顶部发射结构的情况下包括蛾眼图案层的横截面结构；以及
图12和图13示出了在根据示例性实施方式的显示面板具有底部发射结构的情况下包括蛾眼图案层的横截面结构。
具体实施方式
在下文中，将详细参考本发明的实施方式进行描述，其示例在附图中示出。在本文全文中，应参照附图，其中相同的附图标记和符号将用于指定相同或相似的部件。在本发明的以下描述中，在可能会使得本发明的主题不清楚的情况下，将省略对本发明涉及的已知功能和部件的详细描述。
还应理解，虽然本文可以使用诸如“第一”、“第二”、“A”、“B”、“(a)”和“(b)”之类的术语来描述各种元件，但这些术语仅用于将一个元件与其他元件区分开。这些元件的实质、顺序、次序或数量不受这些术语的限制。将理解，当一个元件被称为“连接”、“耦合”或“链接”到另一个元件时，它不仅可以“直接连接、耦合或链接”到另一个元件，而且它也可以通过“中间”元件“间接连接、耦合或链接”到另一个元件。在相同的上下文语境中，应当理解，当一个元件被称为形成在另一个元件“上”或“下”时，它不仅可以直接位于另一个元件上或下，而且还可以通过中间元件间接地位于另一个元件上或下。
图1示出了根据本发明示例性实施方式的显示装置100的示意性配置。
参照图1，根据示例性实施方式的显示装置100可以包括：具有有源区A/A 和非有源区N/A的显示面板110；以及用于驱动显示面板110的部件，例如栅极驱动器电路120、数据驱动器电路130和控制器140。
在显示面板110中，设置多条栅极线GL和多条数据线DL，并且多个子像素SP设置在多条栅极线GL与多条数据线DL交叉的区域中。
栅极驱动器电路120由控制器140控制，以顺序地将扫描信号输出到设置在显示面板110中的多条栅极线GL，从而控制驱动多个子像素SP的时间点。
栅极驱动器电路120可以包括一个或多个栅极驱动器集成电路(GDIC)。根据驱动系统，栅极驱动器电路120可以设置在显示面板110的一侧或两侧。
每个GDIC可以通过带式自动接合(TAB)方法或玻璃上芯片(COG)方法连接到显示面板110的接合焊盘，可以使用直接设置在显示面板110中的面板内栅极(GIP)结构来实现，或者在一些情况下，可以与显示面板110集成。可选地，每个GDIC可以使用安装在与显示面板110连接的膜上的膜上芯片 (COF)结构来实现。
数据驱动器电路130从控制器140接收图像数据DATA，并将图像数据转换为模拟数据电压。另外，数据驱动器电路130分别在通过栅极线GL施加扫描信号的时间点将数据电压输出到数据线DL，使得子像素SP呈现与图像数据对应的发光强度。
数据驱动器电路130可以包括一个或多个源极驱动器集成电路(SDIC)。
每个SDIC可以包括移位寄存器、锁存电路、数模转换器(DAC)、输出缓存器等。
每个SDIC可以通过TAB方法或COG方法连接到显示面板110的接合焊盘，可以直接安装在显示面板110上，或者在一些情况下，可以与显示面板110 集成。另外，可以使用COF结构来实现每个SDIC。在这种情况下，每个SDIC 可以安装在连接到显示面板110的膜上，并且通过膜上的线电连接到显示面板 110。
控制器140将各种控制信号提供给栅极驱动器电路120和数据驱动器电路130，以控制栅极驱动器电路120和数据驱动器电路130的操作。
控制器140可以安装在印刷电路板(PCB)、柔性印刷电路(FPC)等上，并且可以经由PCB或者FPC电连接到栅极驱动器电路120和数据驱动器电路 130。
控制器140控制栅极驱动器电路120以在由帧限定的时间点输出扫描信号。控制器140将从外部源接收的图像数据转换为数据驱动器电路130可读的数据信号格式，并将转换后的图像数据输出到数据驱动器电路130。
控制器140除了图像数据之外还从外部源(例如，主机系统)接收各种时序信号，包括垂直同步信号(Vsync)、水平同步信号(Hsync)、输入数据使能(DE)信号、时钟(CLK)信号等。
控制器140可以使用从外部源接收的各种时序信号生成各种控制信号，并将控制信号输出到栅极驱动器电路120和数据驱动器电路130。
例如，控制器140输出各种栅极控制信号GCS，包括栅极起始脉冲(GSP)、栅极移位时钟(GSC)、栅极输出使能(GOE)信号等，以控制栅极驱动器电路120。
此处，GSP控制栅极驱动器电路120的一个或多个GDIC的操作开始时间。GSC是共同输入到一个或多个GDIC并控制扫描信号的移位时间的时钟信号。GOE信号指定一个或多个GDIC的时序信息。
另外，控制器140输出各种数据控制信号DCS，包括源极起始脉冲(SSP)、源极采样时钟(SSC)、源极输出使能(SOE)信号等，以控制数据驱动器电路130。
此处，SSP控制数据驱动器电路130的一个或多个SDIC的数据采样开始时间。SSC是控制每个SDIC中的数据的采样时间的时钟信号。SOE信号控制数据驱动器电路130的输出时间。
显示装置100还可以包括电源管理集成电路(PMIC)，其向显示面板110、栅极驱动器电路120、数据驱动器电路130等提供各种形式的电压或电流，或者控制要提供的各种类型的电压或电流。
子像素SP由栅极线GL和数据线DL的交叉限定。取决于显示装置100 的类型，液晶或发光二极管(LED)可以设置在子像素SP中。
图2示出了根据本发明示例性实施方式的显示面板110的横截面结构。
参照图2，薄膜晶体管层TFT设置在基板SUB上。用于驱动子像素SP的多个薄膜晶体管、信号线、电压线可以设置在薄膜晶体管层TFT上。如果需要，可以在基板SUB和薄膜晶体管层TFT之间设置至少一个绝缘层。
发光二极管ED设置在薄膜晶体管层TFT上，并且发光二极管ED可以是有机发光二极管。每个发光二极管ED包括阳极和阴极，并且可以包括设置在阳极和阴极之间的空穴传输层、有机发光层和电子传输层。每个发光二极管ED 可以发射红色、绿色或蓝色光。可选地，每个发光二极管ED可以发射白色光，并且涂有变色材料。
每个发光二极管ED可以在基板SUB的前向方向上发光。如果需要，每个发光二极管ED可以在基板SUB的后向方向上发光。图2示出了显示面板 110在基板SUB的前向方向上发光的情况。
用于驱动发光二极管ED的电极等、用于保护发光二极管ED的封装层 ENCAP等可以设置在发光二极管ED上。
封装层ENCAP可以具有多个层，例如第一无机封装层PAS1、有机封装层PCL和第二无机封装层PAS2。
在显示面板110提供触摸感知功能的情况下，触摸金属TM可以设置在封装层ENCAP上。
例如，触摸绝缘层T-ILD可以设置在封装层ENCAP上，并且构成触摸电极和触摸线的触摸金属TM可以设置在触摸绝缘层T-ILD上。触摸钝化层T- PAS可以设置在触摸金属TM上。
偏振器200可以设置在触摸钝化层T-PAS上。
偏振器200可以设置在显示面板110上显示图像的表面上。即，在显示面板110具有底部发射结构的情况下，偏振器200可以设置在基板SUB的底部。
偏振器200降低从显示面板110的外部入射的光的反射率，从而防止由于外部光的反射而在感知由显示面板110显示的图像时的感知失败。
以这种方式，通过将偏振器200设置在显示面板110上，可以减小外部光的反射率，但是由于偏振器200，可以减小从显示面板110出射的光的透射率。
此外，由于偏振器200的布置，可增加显示面板110的制造成本。
示例性实施方式提供了一种技术，通过在显示面板110中包括的绝缘层的一个表面上设置能够减小反射率的图案，能够在没有偏振器200的情况下减小显示面板110的反射率并增大显示面板110的透射率。
图3示出了根据示例性实施方式的具有蛾眼图案层(moth-eye patterned layer)300的显示面板110的横截面结构。
参照图3，薄膜晶体管层TFT设置在基板SUB上，发光二极管ED设置在薄膜晶体管层TFT上。
此处，至少一个绝缘层可以设置在薄膜晶体管层TFT和发光二极管ED上和/或下。在本文中，为了简洁起见，设置在发光二极管ED下和下方的绝缘层可以称为“下绝缘层”。
包括第一无机封装层PAS1、有机封装层PCL和第二无机封装层PAS2的封装层ENCAP可以设置在发光二极管ED上。
触摸绝缘层T-ILD、触摸金属TM和触摸钝化层T-PAS可以设置在封装层ENCAP上。
如上所述设置在发光二极管ED上和上方的绝缘层可以称为“上绝缘层”。
此处，在发光二极管ED在基板SUB的前向方向上发光的情况下，上绝缘层中的至少一个可以包括通过图案化其一个表面的至少一部分区域形成的纳米级蛾眼图案层300。
蛾眼图案层300可以设置在与设置有发光二极管ED的区域相对应的区域上，或者设置在整个有源区A/A上。
例如，如图3中所示，纳米级蛾眼图案层300可以设置在触摸钝化层T- PAS的一个表面上，触摸钝化层T-PAS是设置在显示面板110上的最上层中的绝缘层。
此外，在用于触摸感测的结构未设置在显示面板110上的情况下，纳米级蛾眼图案层300可以设置在第二无机封装层PAS2的一个表面上。
此外，纳米级蛾眼图案层300可以设置在位于发光二极管ED上和上方的多个上绝缘层中的两个之间的界面处。
在这种情况下，纳米级蛾眼图案层300可以在上绝缘层中的有机和无机绝缘层之间的界面处设置在有机和无机绝缘层中的至少一个的一个表面上。
即，纳米级蛾眼图案层300可以设置在上绝缘层的最上层中，上绝缘层设置在从发光二极管ED发出的光出射的路径上，或者纳米级蛾眼图案层300可以设置在位于最上层下和下方的至少一个绝缘层的一个表面上。
蛾眼图案层300例如可以是诸如纳米级特征的图案之类的图案，其中重复地设置纳米级金字塔形状或与纳米级球体的一部分对应的形状。
当重复设置纳米级特征时，折射率可以从蛾眼图案层300的外部到蛾眼图案层300的内部逐渐连续地改变。
因此，通过蛾眼图案层300可以将从显示面板110的外部入射在显示面板110上的光的折射率近似为0％。此外，由于从显示面板110向外出射的光在表面上漫射的程度减小，因此可以增大透射率。
以这种方式，纳米级蛾眼图案层300可以设置在至少一个绝缘层的一个表面上，至少一个绝缘层设置在从显示面板110上的发光二极管ED发出的光出射的路径上，以便减小从显示面板110的外部入射到显示面板110上的光的反射率，并增大从显示面板110出射的光的透射率。
光学膜400等可以设置在上面设置有纳米级蛾眼图案层300的触摸钝化层T-PAS上，以便在无需设置偏振器200的条件下降低外部光的反射率并同时增大从显示面板110出射的光的透射率。
纳米级蛾眼图案层300可以被图案化并且设置在显示面板110中包括的绝缘层的一个表面上，或者具有纳米级蛾眼图案层300的单独层可以设置在显示面板110中。
图4示出了根据示例性实施方式的具有蛾眼图案层300的显示面板110的另一横截面结构。
参照图4，薄膜晶体管层TFT和发光二极管ED设置在基板SUB上。封装层ENCAP可以设置在发光二极管ED上。触摸绝缘层T-ILD、触摸金属TM 和触摸钝化层T-PAS可以设置在封装层ENCAP上和上方。
此处，包括纳米级蛾眼图案层300的抗反射层310可以设置在触摸钝化层 T-PAS上。
光学膜400可以设置在抗反射层310上。
即，上面设置有纳米级蛾眼图案层300的单独层可以设置在显示面板110 中包括的绝缘层上，而无需分开形成纳米级蛾眼图案层300。可选地，可以设置单独层，并且可以在单独层上形成纳米级蛾眼图案层300。
以这种方式，包括纳米级蛾眼图案层300的抗反射层310可以设置在显示面板110上的出射光的表面上，以便增大从显示面板110出射的光的透射率，同时减小外部光的反射率。
图5和图6示出了根据示例性实施方式在显示面板110中设置蛾眼图案层300的方法。
参照图5，蚀刻基底(etching base)510设置在下基底520上，共聚物500 设置在蚀刻基底510上。此处，共聚物500例如可以是嵌段共聚物，如PS-b- PMMA。
可以通过自发相位分离将这种嵌段共聚物500分离并设置成彼此不同的聚合物中。
即，共聚物500可以通过自发相位分离而分离并设置成第一聚合物501和第二聚合物502。
在以这种方式将共聚物500分离成第一聚合物501和第二聚合物502的状态下，可以选择性地蚀刻第一聚合物501或第二聚合物502以形成纳米级蛾眼图案层300。
例如，可以选择性地蚀刻共聚物500的第二聚合物502以仅留下第一聚合物501。
此外，蚀刻基底510可以在仅留下第一聚合物501的状态下被蚀刻，使得可以在蚀刻基底510上形成纳米级蛾眼图案层300。
即，共聚物500设置在显示面板110的绝缘层上，并且经受自发相位分离和选择性蚀刻，使得可以设置包括纳米级蛾眼图案层300的抗反射层310。
可选地，选择性地蚀刻共聚物500，然后选择性地蚀刻设置在共聚物500 下方的绝缘层，使得纳米级蛾眼图案层300可以形成在显示面板110的绝缘层上。
如果需要，可以单独形成纳米级蛾眼图案层300，并且使用纳米级蛾眼图案层300作为掩模来蚀刻显示面板110的绝缘层，使得纳米级蛾眼图案层300 可以形成在显示面板110的绝缘层上。
参照图6，可以使用纳米压印方法设置纳米级蛾眼图案层300。
例如，生产包括纳米级蛾眼图案层300的母版600，然后可以使用母版600 来生产用于形成纳米级蛾眼图案层300的印模610。此处，例如可以使用硅氧烷聚合物来生产印模610。
可以将印模610压印在转移基底620上，使得纳米级蛾眼图案层300可以形成在转移基底620上。
即，对应于转移基底620的材料(例如，树脂)可以设置在显示面板110 的绝缘层上，并且可以压印印模610，使得包括纳米级蛾眼图案层300的抗反射层310可以设置在显示面板110的绝缘层上。
如果需要，可以将印模610压印在显示面板110的绝缘层上，使得可以在绝缘层上形成纳米级蛾眼图案层300。
已经描述了上述方法作为形成纳米级蛾眼图案层300的方法的示例。使用除了这种方法之外的各种方法，也可以在显示面板110的绝缘层上形成纳米级蛾眼图案层300，或者包括纳米级蛾眼图案层300的抗反射层310可以设置在显示面板110的绝缘层上。
以这种方式，纳米级蛾眼图案层300设置在显示面板110上的显示图像的表面上，使得可以增加从显示面板110出射的光的透射率，同时减小外部光的反射率。
此外，用于抑制反射光的图案可以设置在显示面板110显示图像的表面上的除了光出射的区域之外的至少一部分区域上。
图7至图9示出了根据示例性实施方式抗反射器700设置在具有蛾眼图案层300的显示面板110上的横截面结构。
参照图7，薄膜晶体管层TFT和发光二极管ED设置在基板SUB上。封装层ENCAP设置在发光二极管ED上。触摸绝缘层T-ILD、触摸金属TM和触摸钝化层T-PAS可以设置在封装层ENCAP上和上方。
此处，抗反射器700可以设置在触摸钝化层T-PAS上的除了与上面设置发光二极管ED的区域对应的区域之外的至少一部分区域上。
抗反射器700例如可以是黑矩阵，并且可以设置在除了与上面设置发光二极管ED的区域相对应的区域之外的其余区域上。
即，由黑矩阵形成的抗反射器700设置在显示面板110上的除了出射光的区域之外的区域上，使得可以防止入射在显示面板110上的外部光在显示面板 110上被反射。
在这种情况下，尽管通过在显示面板110中设置抗反射器700来抑制反射光，但是抗反射器700不能设置在与上面设置有发光二极管ED的区域(即光出射的区域)相对应的区域上。
因此，通过在未在显示面板110的绝缘层处设置抗反射器700的区域上设置纳米级蛾眼图案层300，可以防止外部光的反射。
例如，纳米级蛾眼图案层300可以设置在未在触摸钝化层T-PAS处设置抗反射器700的区域上，即，与抗反射器700的开口区域相对应的区域上。
以这种方式，纳米级蛾眼图案层300可以设置在抗反射器700的开口区域上，使得可以在上面没有设置抗反射器700的区域上减少外部光的反射率。
光学膜400可以设置在抗反射器700上。
此处，光学膜400和在触摸钝化层T-PAS的一个表面上图案化的纳米级蛾眼图案层300之间的区域A可以是空气层。
即，可以形成折射率不同于上面图案化有纳米级蛾眼图案层300的触摸钝化层T-PAS的折射率的空气层，使得可以防止从外部入射的光的反射。
可选地，折射率不同于触摸钝化层T-PAS的折射率的钝化层(例如，树脂)可以设置在区域A上。可以设置折射率不同于纳米级蛾眼图案层300的折射率的材料，从而可以提供抗反射功能。
例如，在抗反射器700设置在触摸钝化层T-PAS上之后，可以通过抗反射器700的开口区域在触摸钝化层T-PAS上图案化纳米级蛾眼图案层300。
可选地，在触摸钝化层T-PAS上形成纳米级蛾眼图案层300之后，可以设置抗反射器700。
在这种情况下，可以在整个触摸钝化层T-PAS上图案化纳米级蛾眼图案层300。
参照图8，可以在触摸钝化层T-PAS的一个表面上图案化纳米级蛾眼图案层300。
如果需要，可以在设置在触摸钝化层T-PAS下或下方的任何一个绝缘层的一个表面上图案化纳米级蛾眼图案层300。
抗反射器700可以设置在除了与触摸钝化层T-PAS处设置有发光二极管 ED的区域对应的区域之外的区域上，在触摸钝化层T-PAS上图案化纳米级蛾眼图案层300。
即，纳米级蛾眼图案层300可以设置在与抗反射器700的开口区域对应的区域上以及在上面设置有抗反射器700的区域下方的区域上。
以这种方式，在整个触摸钝化层T-PAS上图案化纳米级蛾眼图案层300 之后，可以设置抗反射器700，使得可以易于执行形成纳米级蛾眼图案层300 的工艺。
此外，纳米级蛾眼图案层300可以设置在触摸钝化层T-PAS上，以便减小外部光的反射率，通过设置抗反射器700抑制反射光，并防止外部光在不能设置抗反射器700的区域上的反射。
在其中设置抗反射器700的结构中，包括纳米级蛾眼图案层300的抗反射层310可以设置在抗反射器700的开口区域上。
参照图9，抗反射器700可以设置在与触摸钝化层T-PAS处设置有发光二极管ED的区域相对应的区域上。
包括纳米级蛾眼图案层300的抗反射层310可以设置在抗反射器700的开口区域上。
此处，空气层可以存在于设置在抗反射器700上的光学膜400和抗反射层 310之间的区域B中，折射率不同于抗反射层310的折射率的钝化层310可以设置在区域B上。
以这种方式，在用于抑制反射光的抗反射器700设置在显示面板110上的除了光出射的区域之外的区域上的结构中，包括纳米级蛾眼图案层300的抗反射层310设置在抗反射器700的开口区域上，使得外部光在显示面板110上光出射的区域上反射。
图10和图11示出了在根据示例性实施方式的显示面板110具有顶部发射结构的情况下包括蛾眼图案层300的具体横截面结构。
参照图10，聚酰亚胺层PI设置在基板SUB上。聚酰亚胺层PI可以由有机材料形成。
缓冲层BUF设置在聚酰亚胺层PI上，有源层ACT设置在缓冲层BUF上。栅极绝缘层GI设置在有源层ACT上，栅极GAT设置在栅极绝缘层GI上。
第一层间绝缘层ILD1可以设置在栅极绝缘层GI上，电容器电极CE可以设置在第一层间绝缘层ILD1上。第二层间绝缘层ILD2可以设置在电容器电极CE上，源极/漏极S/D可以设置在第二层间绝缘层ILD2上。
此处，缓冲层BUF、栅极绝缘层GI、第一层间绝缘层ILD1和第二层间绝缘层ILD2中的每一个可以由无机材料形成。
平坦化层PLN设置在源极/漏极S/D上，第一电极E1a设置在平坦化层 PLN上。第一电极E1a可以是用于发光二极管ED的阳极。第一电极E1a可以由例如由包含银的合金形成的反射层和由基于氧化铟锡(ITO)的透明导电氧化物(TCO)形成的层构成。
堤层BANK可以设置在第一电极E1a上，有机层OL可以设置在堤层 BANK和上面没有设置堤层BANK的第一电极E1a上。有机层OL可以包括空穴传输层、发光层和电子传输层。此处，发光层可以发射例如红色、绿色或蓝色光。在这种情况下，发光层可以形成在包括发光区域EA的子像素区域上。可选地，发光层可以发射白色光。在这种情况下，发光层可以延伸到并设置在除了上面设置有发光二极管ED的区域之外的区域上。间隔物SPACER可以部分地设置在堤层BANK上。
此处，平坦化层PLN和堤层BANK中的每一个可以由有机材料形成。
第二电极E2可以设置在堤层BANK上，第二电极E2可以是发光二极管 ED的阴极。
第一无机封装层PAS1、有机封装层PCL和第二无机封装层PAS2可以设置在第二电极E2上。
在可以触摸感知的显示面板110的情况下，可以在第二无机封装层PAS2 上设置触摸绝缘层T-ILD，并且可以在触摸绝缘层T-ILD上设置触摸金属TM 和触摸钝化层T-PAS。
触摸绝缘层T-ILD和触摸钝化层T-PAS中的每一个可以由无机材料形成。如果需要，触摸绝缘层T-ILD和触摸钝化层T-PAS中的至少一个可以由有机材料形成。
此处，纳米级蛾眼图案层300可以设置在位于显示面板110的最上层中的触摸钝化层T-PAS的一个表面上。纳米级蛾眼图案层300可以仅设置在上面设置有每个发光二极管ED的区域上，即，与发光区域EA对应的区域上，并且设置在如图11所示的整个区域上。
可以在上面图案化有纳米级蛾眼图案层300的触摸钝化层T-PAS上设置抗反射器700。
抗反射器700可以设置在除了与触摸钝化层T-PAS上设置有每个发光二极管ED的区域相对应的区域之外的区域上。
因此，可以通过抗反射器700以及在抗反射器700的开口区域上的触摸钝化层T-PAS上图案化的纳米级蛾眼图案层300来防止外部光的反射。
此外，可以在整个触摸钝化层T-PAS上图案化纳米级蛾眼图案层300之后设置抗反射器700，从而可以在显示面板110中易于形成用于抑制外部光反射的结构。
如果需要，可以在设置在最上层下和下方的至少一个绝缘层的一个表面上图案化纳米级蛾眼图案层300。
例如，如图11中所示，在设置在第二电极E2上的封装层ENCAP处由有机材料形成的有机封装层PCL与由无机材料形成的第二无机封装层PAS2之间的界面处图案化并设置纳米级蛾眼图案层300。
即，在在第一无机封装层PAS1上设置有机封装层PCL之后，可以在有机封装层PCL的顶表面的至少一部分上图案化纳米级蛾眼图案层300。
第二无机封装层PAS2可以设置在上面图案化有纳米级蛾眼图案层300的有机封装层PCL上。
在这种情况下，即使第二无机封装层PAS2设置在有机封装层PCL上图案化的纳米级蛾眼图案层300上，有机封装层PCL和第二无机封装层PAS2 的折射率也不同，因此，在有机封装层PCL上图案化的纳米级蛾眼图案层300 可以防止外部光的反射。
即，如果需要，则可以在包括在显示面板110中的绝缘层中的最上层下方设置的绝缘层上图案化纳米级蛾眼图案层300。在这种情况下，蛾眼图案层可以设置在有机绝缘层和无机绝缘层之间的界面处，使得可以通过蛾眼图案层提供抗反射功能。
此外，在绝缘层上图案化纳米级蛾眼图案层300的结构也可以应用于显示面板110是底部发射结构的情况。
图12和图13示出了在根据示例性实施方式的显示面板110具有底部发射结构的情况下包括蛾眼图案层300的具有横截面结构。
参照图12，缓冲层BUF设置在基板SUB上，有源层ACT设置在缓冲层 BUF上。此处，基板SUB可以是透明玻璃基板。
缓冲层BUF可以由无机材料形成。为简洁起见，设置在薄膜晶体管下和下方的绝缘层可以称为“第一下绝缘层”。
栅极绝缘层GI和栅极GAT可以设置在有源层ACT上，层间绝缘层ILD 可以设置在栅极GAT上。源极/漏极S/D可以设置在层间绝缘层ILD上，薄膜晶体管钝化层PAS可以设置在源极/漏极S/D上。
此处，栅极绝缘层GI、层间绝缘层ILD和薄膜晶体管钝化层PAS中的每一个可以由无机材料形成。
滤色器CF和涂覆层OC设置在薄膜晶体管钝化层PAS上，第一电极E1b 设置在涂覆层OC上。第一电极E1b可以由例如基于ITO的TCO形成。堤层 BANK可以设置在第一电极E1b上，包括空穴传输层、发光层和电子传输层的有机层OL可以设置在堤层BANK和上面没有设置堤层BANK的第一电极 E1b上。第二电极E2可以设置在有机层OL和堤层BANK上。在图12的图示中，示出了包括发射白色光的发光层的有机层OL和滤色器CF的结构，并且有机层OL可以延伸到并设置在除了上面设置有每个发光二极管ED的区域之外的区域上。
此处，滤色器CF、涂覆层OC和堤层BANK中的每一个可以由有机材料形成。
为简洁起见，设置在发光二极管ED和薄膜晶体管之间的绝缘层可以称为“第二下绝缘层”。
发光二极管ED可以发射白色光，从发光二极管ED发出的光可以通过滤色器CF出射到基板SUB的背面。光学膜400可以设置在基板SUB的背面上。
即，设置在基板SUB和发光二极管ED之间的第一下绝缘层和第二下绝缘层位于从发光二极管ED发出的光出射的路径上。
因此，可以在第一下绝缘层和第二下绝缘层中的至少一个的一个表面上图案化纳米级蛾眼图案层300，以便提供外部光的抗反射功能。
在这种情况下，纳米级蛾眼图案层300可以设置在第一下绝缘层和第二下绝缘层处的有机绝缘层和无机绝缘层之间的界面处。
例如，如图12中所示，在由无机材料形成的薄膜晶体管钝化层PAS和由有机材料形成的滤色器CF之间以及在薄膜晶体管钝化层PAS和涂覆层OC之间的界面处可以图案化并且设置纳米级蛾眼图案层300。
即，可以在薄膜晶体管钝化层PAS的顶表面上图案化纳米级蛾眼图案层 300，然后可以设置滤色器CF和涂覆层OC。
纳米级蛾眼图案层300可以仅在与上面设置有发光二极管ED的区域对应的区域上图案化，即，仅在发光区域EA上图案化，或者在薄膜晶体管钝化层 PAS的整个顶表面上图案化。
如果需要，可以在薄膜晶体管钝化层PAS和滤色器CF之间以及在滤色器CF和涂覆层OC之间设置包括纳米级蛾眼图案层300的抗反射层。
在多个第一下绝缘层设置在薄膜晶体管下和下方的情况下，可以在多个第一下绝缘层中的至少一个的一个表面上图案化并设置纳米级蛾眼图案层300。
通过以这种方式设置在基板SUB和发光二极管ED之间的纳米级蛾眼图案层300，可以提供外部光的抗反射功能。
此处，低反射图案层800可以设置在薄膜晶体管下方。
低反射图案层800可以由例如Cu、IGZO或Mo形成，设置在薄膜晶体管下方，并且设置在基板SUB和缓冲层BUF之间。
通过低反射图案层800可以保护薄膜晶体管免受外部光的影响，并且可以提供外部光的抗反射功能。
即，可以通过低反射图案层800防止入射在除了与上面设置有发光二极管 ED的区域相对应的区域之外的区域上的外部光的反射，以及可以通过在绝缘层上图案化的纳米级蛾眼图案层300防止入射在从发光二极管ED发出的光出射的区域上的外部光的反射。
以这种方式，由于纳米级蛾眼图案层300和低反射图案层800的设置，可以防止具有底部发射结构的显示面板110上外部光的反射并增大透射率。
此外，可以在基板SUB的一个表面上图案化上述纳米级蛾眼图案层300。
例如，参照图13，可以在显示面板110的基板SUB的背面上图案化并设置纳米级蛾眼图案层300。如果需要，纳米级蛾眼图案层300可以设置在基板 SUB的顶表面上。
光学膜400可以设置在上面图案化有纳米级蛾眼图案层300的基板SUB 的下方。
因此，在纳米级蛾眼图案层300和设置在基板SUB背面上的光学膜400 之间可以存在空气层。
由于折射率从纳米级蛾眼图案层300的外部到内部逐渐连续变化，因此可以通过纳米级蛾眼图案层300来减小反射率。
以这种方式，在基板SUB的一个表面上图案化纳米级蛾眼图案层300，使得可以防止从具有底部发射结构的显示面板110的外部入射的光的反射。
如上所述，根据示例性实施方式，纳米级蛾眼图案层300被图案化并设置在至少一个绝缘层的一个表面上，至少一个绝缘层设置在显示面板110上的从发光二极管ED发出的光出射的路径上，从而可以抑制外部光的反射并且可以增大出射到外部的光的透射率。
此外，通过将抗反射器700或低反射图案层800设置在除了与上面设置有发光二极管ED的区域相对应的区域之外的至少一部分区域上，可以抑制反射光，并且通过将纳米级蛾眼图案层300设置在不能设置抗反射器700等的发光区域EA上，可以改善外部光的抗反射功能。
已经给出了前面的描述和附图，以便通过示例的方式解释本发明的某些原理。在不脱离本发明的原理的情况下，本发明所涉及领域的普通技术人员可以进行各种修改和变化。本文公开的前述实施方式应被解释为对本发明的原理和范围的示例说明，而非限制性的。应当理解，本发明的范围应由所附权利要求书限定，并且它们的所有等同物都落入本发明的范围内。
可以组合上述各种实施方式以提供进一步的实施方式。根据以上详细描述，可以对实施方式进行这些和其他改变。一般而言，在所附权利要求书中，所使用的术语不应被解释为将权利要求书限制于说明书和权利要求书中公开的具体实施方式，而是应被解释为在这些权利要求所涵盖的全部等同范围内包括所有可能的实施方式。因此，权利要求书不受具体实施方式的限制。

Claims (19)

1.一种显示面板，包括：
基板；
至少一个下绝缘层，设置在所述基板上；
多个发光二极管，设置在所述至少一个下绝缘层上；以及
至少一个上绝缘层，设置在所述多个发光二极管上，其中所述至少一个下绝缘层或所述至少一个上绝缘层位于从所述多个发光二极管发出的光出射的路径上，所述至少一个下绝缘层或所述至少一个上绝缘层包括在其一个表面的至少一部分上图案化的纳米级蛾眼图案层，所述纳米级蛾眼图案层被图案化在与上面设置有所述发光二极管的区域相对应的区域上，以及
其中所述纳米级蛾眼图案层在有机绝缘层和无机绝缘层之间的界面处被图案化在所述有机绝缘层和所述无机绝缘层的至少一个表面上。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其中，所述蛾眼图案层被图案化在整个有源区中。
3.根据权利要求1所述的显示面板，其中，所述蛾眼图案层被图案化在所述至少一个上绝缘层或所述至少一个下绝缘层中的最上层或最下层的一个表面上。
4.根据权利要求1所述的显示面板，其中：
所述至少一个上绝缘层包括依次层叠的第一无机封装层、有机封装层和第二无机封装层，
所述蛾眼图案层被图案化在所述有机封装层的顶表面上。
5.根据权利要求1所述的显示面板，还包括抗反射器，所述抗反射器设置在所述至少一个上绝缘层上并且设置在除了与上面设置有所述发光二极管的区域对应的区域之外的至少一部分区域上。
6.根据权利要求5所述的显示面板，其中，所述蛾眼图案层设置在与所述抗反射器的开口区域对应的区域上。
7.根据权利要求6所述的显示面板，其中，所述蛾眼图案层还设置在上面设置有所述抗反射器的区域的下方。
8.一种显示面板，包括：
基板；
多个发光二极管，设置在所述基板上；
至少一个绝缘层，设置在所述多个发光二极管上；
抗反射器，在除了上面设置有所述发光二极管的区域之外的至少一部分区域上设置在所述至少一个绝缘层上的最外绝缘层的顶表面上，并且包括与上面设置有所述多个发光二极管的区域对应的多个开口区域；以及
抗反射层，设置在与所述抗反射器的所述开口区域交叠的区域上，并包括纳米级蛾眼图案层。
9.根据权利要求8所述的显示面板，还包括钝化层，所述钝化层在所述抗反射器的开口区域上设置在所述抗反射层上，并且具有与所述抗反射层的折射率不同的折射率。
10.根据权利要求8所述的显示面板，还包括设置在所述抗反射器上的光学膜，
其中，在所述抗反射层和所述光学膜之间存在空气层。
11.根据权利要求8所述的显示面板，其中，包括在所述发光二极管中的电子传输层延伸到并设置在除了上面设置有所述发光二极管的区域之外的区域上。
12.一种显示面板，包括：
透明基板；
至少一个第一下绝缘层，设置在所述透明基板上；
多个薄膜晶体管，设置在所述至少一个第一下绝缘层上；
至少一个第二下绝缘层，设置在所述多个薄膜晶体管上；
多个发光二极管，设置在所述至少一个第二下绝缘层上；以及
纳米级蛾眼图案层，位于所述透明基板、所述至少一个第一下绝缘层和所述至少一个第二下绝缘层的至少之一的一个表面的至少一部分上，所述纳米级蛾眼图案层位于所述多个发光二极管和所述透明基板的下表面之间。
13.根据权利要求12所述的显示面板，其中，所述蛾眼图案层在有机绝缘层和无机绝缘层之间的界面处位于所述有机绝缘层和所述无机绝缘层的至少一个表面上。
14.根据权利要求12所述的显示面板，其中，所述蛾眼图案层位于所述透明基板的所述下表面上。
15.根据权利要求12所述的显示面板，其中，所述蛾眼图案层位于设置在所述多个发光二极管的下方的滤色器的下方。
16.根据权利要求12所述的显示面板，还包括设置在所述多个薄膜晶体管的下方的至少一个低反射图案层。
17.根据权利要求16所述的显示面板，其中，所述低反射图案层设置在所述透明基板的上表面上。
18.根据权利要求12所述的显示面板，其中，所述多个发光二极管包括发光层，所述发光层延伸到并设置在除了上面设置有所述多个发光二极管的区域之外的区域上。
19.根据权利要求12所述的显示面板，其中，所述透明基板包括透明玻璃基板。
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