CN111312722A - 显示面板及其制造方法 - Google Patents
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Abstract
本申请实施例公开了一种显示面板及其制造方法,该显示面板包括:柔性基板层和薄膜晶体管层、平坦化层、阳极层、像素界定层和支撑层;其中,所述柔性基板层上具有至少一个凹槽;所述薄膜晶体管层设置于所述柔性基板层上,所述薄膜晶体管层包括至少一个薄膜晶体管,所述薄膜晶体管的至少一部分填充于所述凹槽内;所述平坦化层覆盖所述薄膜晶体管层;所述阳极层设置于所述平坦化层上,并贯穿所述平坦化层与所述薄膜晶体管的漏极接触;所述像素界定层设置于所述平坦化层和所述阳极层上;所述支撑层设置于所述像素界定层上。本方案可以提升该显示面板的耐弯折性。
Description
技术领域
本申请涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示面板及其制造方法。
背景技术
可折叠柔性显示面板由于在显示效果上比液晶显示面板更加逼真、绚丽、对比度更好,并且可以按照使用场景进行任意折叠而备受市场的欢迎。
然而,目前的可折叠柔性显示面板的薄膜晶体管和无机膜层等容易在弯折时产生断裂,以及薄膜晶体管容易出现特性漂移等现象,从而影响可折叠柔性显示面板的显示效果。
发明内容
本申请实施例提供了一种显示面板及其制造方法,可以提升显示面板的耐弯折性。
第一方面,本申请实施例提供了一种显示面板,包括:
柔性基板层,所述柔性基板层上具有至少一个凹槽;
薄膜晶体管层,所述薄膜晶体管层设置于所述柔性基板层上,所述薄膜晶体管层包括至少一个薄膜晶体管,所述薄膜晶体管的至少一部分填充于所述凹槽内;
平坦化层,所述平坦化层覆盖所述薄膜晶体管层;
阳极层,所述阳极层设置于所述平坦化层上,并贯穿所述平坦化层与所述薄膜晶体管的漏极接触;
像素界定层,所述像素界定层设置于所述平坦化层和所述阳极层上;
支撑层,所述支撑层设置于所述像素界定层上。
在本申请实施例提供的显示面板中,所述薄膜晶体管包括:
遮光层;
有源层,所述有源层设置于所述遮光层上;
第一绝缘层,所述第一绝缘层设置于所述有源层上;
栅极层,所述栅极层设置于所述第一绝缘层上;
第二绝缘层,所述第二绝缘层设置于所述栅极层上;
源极和漏极,所述源极和所述漏极贯穿所述第二绝缘层、所述栅极层和所述第一绝缘层分别与所述有源层接触;
所述遮光层、所述有源层、所述第一绝缘层、所述栅极层、所述第二栅极层、所述源极和漏极中的至少一层填充于所述凹槽内。
在本申请实施例提供的显示面板中,所述第一绝缘层包括第一绝缘子层和第二绝缘子层,所述栅极层包括第一栅极子层和第二栅极子层;
所述第一绝缘子层设置于所述有源层上;
所述第一栅极子层设置于所述第一绝缘子层上;
所述第二绝缘子层设置于所述第一栅极子层上;
所述第二栅极子层设置于所述第二绝缘子层上;
所述遮光层、所述有源层、所述第一绝缘子层、所述第二绝缘子层、所述第一栅极子层、所述第二栅极子层、所述第二绝缘层层、所述源极和漏极中的至少一层填充于所述凹槽内。
在本申请实施例提供的显示面板中,所述凹槽的深度在1.2微米至1.5微米之间。
在本申请实施例提供的显示面板中,所述薄膜晶体管的厚度在1.2微米至1.5微米之间。
在本申请实施例提供的显示面板中,所述柔性基板层包括:
第一有机柔性基板;
缓冲层,所述缓冲层设置于所述第一有机柔性基板上;
第二有机柔性基板,所述第二有机柔性基板设置于所述缓冲层上,所述第二有机柔性基板上具有至少一个凹槽。
第二方面,本申请实施例提供了一种显示面板的制造方法,包括:
提供一柔性基板层;
在所述柔性基板层形成至少一个凹槽;
在所述柔性基板层上形成薄膜晶体管层,所述薄膜晶体管层包括至少一个薄膜晶体管,所述薄膜晶体管的至少一部分填充于所述凹槽内;
在所述薄膜晶体管层上依次形成平坦化层、阳极层、像素界定层和支撑层。
在本申请实施例提供的显示面板的制造方法中,所述在所述柔性基板层上形成薄膜晶体管层,包括:
在所述凹槽内依次沉积遮光层、有源层、第一绝缘层、栅极层、第二绝缘层以及源极和漏极,所述源极和所述漏极贯穿所述第二绝缘层、所述栅极层和所述第一绝缘层分别与所述有源层接触。
在本申请实施例提供的显示面板的制造方法中,所述在所述凹槽内依次沉积遮光层、有源层、第一绝缘层、栅极层、第二绝缘层以及源极和漏极,包括:
在所述凹槽内依次沉积遮光层、有源层、第一绝缘子层、第二绝缘子层、第一栅极子层、第二栅极子层、第二绝缘层以及源极和漏极。
在本申请实施例提供的显示面板的制造方法中,所述提供一柔性基板层,包括:
提供一第一有机柔性基板;
在所述第一有机柔性基板上依次形成缓冲层和第二有机柔性基板;
所述在所述柔性基板层形成至少一个凹槽,包括:
对所述第二有机柔性基板进行蚀刻,以在所述第二有机柔性基板上形成至少一个凹槽。
由上,本申请实施例提供的显示面板包括柔性基板层和薄膜晶体管层、平坦化层、阳极层、像素界定层和支撑层;其中,所述柔性基板层上具有至少一个凹槽;所述薄膜晶体管层设置于所述柔性基板层上,所述薄膜晶体管层包括至少一个薄膜晶体管,所述薄膜晶体管的至少一部分填充于所述凹槽内;所述平坦化层覆盖所述薄膜晶体管层;所述阳极层设置于所述平坦化层上,并贯穿所述平坦化层与所述漏极接触;所述像素界定层设置于所述平坦化层和所述阳极层上;所述支撑层设置于所述像素界定层上。本方案通过在柔性基板层上设置凹槽,并将薄膜晶体管的至少一部分填充于该凹槽内,可以提升该显示面板的耐弯折性,进而提升显示面板的显示效果。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本申请实施例提供的显示面板的结构示意图。
图2是本申请实施例提供的显示面板的另一结构示意图。
图3是本申请实施例提供的显示面板的制造方法的流程示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。
本申请实施例提供了一种显示面板及其制造方法,以下将分别进行详细说明。
请参阅图1,图1是本申请实施例提供的显示面板的结构示意图。该显示面板100可以包括柔性基板层10、薄膜晶体管层20、平坦化层30、阳极层40、像素界定层50和支撑层60。
该柔性基板层10上可以具有至少一个凹槽11。该柔性基板层10可以由有机柔性材料构成,比如聚酰亚胺(Polyimide,PI)等。
在一些实施例中,请参阅图2,该柔性基板层10可以包括第一有机柔性基板12、缓冲层13和第二有机柔性基板14。其中,第一有机柔性基板12可以由有机柔性材料构成,比如PI。缓冲层13可以由为氧化硅(SiOx)薄膜、氮化硅(SiNx)薄膜、或者氧化硅薄膜与氮化硅薄膜交替层叠设置形成的复合薄膜构成。第二有机柔性基板14可以由可以由有机柔性材料构成,比如PI。在本实施例中,由于柔性基板层10可以由第一有机柔性基板12、缓冲层13和第二有机柔性基板14组成,可以进一步增加柔性基板层10的耐弯折性。
需要说明的是,在本申请的描述中,术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”、“第三”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。
该薄膜晶体管层20可以设置于柔性基板层10上。该薄膜晶体管层20可以包括至少一个薄膜晶体管21。该薄膜晶体管21的至少一部分可以填充于柔性基板层10的凹槽11内。该薄膜晶体管21可以包括遮光层211、有源层212、第一绝缘层213、栅极层214、第二绝缘层215、源极216和漏极217。
需要说明的是,在本申请实施例的描述中,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。
其中,遮光层211可以由金属材料构成,比如钼(Mo)、铝(Al)、铜(Cu)、钛(Ti)中的一种或多种的合金。
其中,有源层212可以设置于遮光层211上。该有源层212可以由铟镓锌氧化物(IGZO)、铟锌锡氧化物(IZTO)、铟镓锌锡氧化物(IGZTO)中的一种或多种材料构成。
其中,第一绝缘层213可以设置于有源层212上。该第一绝缘层213可以氧化硅(SiOx)或氮化硅(SiNx)等无机材料构成。
其中,栅极层214可以设置于第一绝缘层213上。该栅极层214可以由铝(Al)、钼(Mo)、铜(Cu)、银(Ag)等金属材料构成。
其中,第二绝缘层215可以设置于栅极层214上。该第二绝缘层215可以由氧化硅(SiOx)或氮化硅(SiNx)等无机材料构成。
其中,源极216和漏极217可以设置于第二绝缘层215上。并且,该源极216和该漏极217可以贯穿第二绝缘层215、栅极层214、第一绝缘层213分别与有源层212接触。该源极216和漏极217可以由钼(Mo)、铝(Al)、铜(Cu)、钛(Ti)等金属中的一种或多种的合金构成。在一些实施例中,为了增加源极216和漏极217的耐弯折性,源极216和漏极217可以由弯折性较好的金属材料构成。比如,钛(Ti)、铝(Al)或其合金。
可以理解的是,遮光层211、有源层212、第一绝缘层213、栅极层214、第二栅极层215、源极216和漏极217中的至少一层填充于凹槽11内。
在一些实施例中,第一绝缘层213可以包括第一绝缘子层2131和第二绝缘子层2132。栅极层214可以包括第一栅极子层2141和第二栅极子层2142。其中,第一绝缘子层2131设置于有源层212上;第一栅极子层2141设置于第一绝缘子层2131上;第二绝缘子层2132设置于第一栅极子层2141上;第二栅极子层2142设置于第二绝缘子2132层上。
可以理解的是,遮光层211、有源层212、第一绝缘子层2131、第二绝缘子层2132、第一栅极子层2141、第二栅极子层2142、第二栅极层215、源极216和漏极217中的至少一层填充于凹槽11内。
需要说明的是,由于柔性基板层10由有机柔性材料构成,且薄膜晶体管21的至少一部分填充于柔性基板层10的凹槽11内。当该显示面板100弯折时,由有机柔性材料构成的柔性基板层10可以有效缓冲薄膜晶体管21弯折时产生的应力,有利于释放薄膜晶体管21弯折时产生的应力,从而提高薄膜晶体管21的耐弯折性,进而提高显示面板100的耐弯折性,以提升显示面板100的显示效果。
可以理解的是,该薄膜晶体管21填充于凹槽11内的部分越多,该薄膜晶体管21的耐弯折性越高。优选的,该薄膜晶体管21完全填充于凹槽11。
其中,该薄膜晶体管21的厚度在1.2微米至1.5微米之间。该凹槽11的深度在1.2微米至1.5微米之间。需要说明的是,该薄膜晶体管21的厚度可以包括1.2微米和1.5微米。该凹槽11的深度可以包括1.2微米和1.5微米。
该平坦化层30可以覆盖薄膜晶体管层20。该平坦化层30可以由有机材料构成。
该阳极层40可以设置于平坦化层30上。该阳极层40可以贯穿平坦化层30与薄膜晶体管21的漏极216接触。该阳极层40可以由各种导电材料形成。例如,该阳极层40可以根据它的用途形成为透明电极或反射电极。
该像素界定层50可以设置于平坦化层30和阳极层40上。该像素界定层50可以由有机材料构成。
该支撑层60可以设置于像素界定层50上。该支撑层60可以由各种合适的弹性体或聚合物构成。比如,聚酰亚胺、有机硅聚合物、聚硅氧烷、聚环氧化物、硅基聚合物等。
综上,本申请实施例提供的显示面板100包括柔性基板层10和薄膜晶体管层20、平坦化层30、阳极层40、像素界定层50和支撑层60;其中,柔性基板层10上具有至少一个凹槽11;薄膜晶体管层20设置于柔性基板层10上,薄膜晶体管层20包括至少一个薄膜晶体管21,薄膜晶体管21的至少一部分填充于凹槽11内;平坦化层30覆盖薄膜晶体管层20;阳极层40设置于平坦化层30上,并贯穿平坦化层30与薄膜晶体管21的漏极接触;像素界定层50设置于平坦化层40和阳极层50上;支撑层60设置于像素界定层50上。本方案可以提升该显示面板的耐弯折性。本方案通过在柔性基板层10上设置凹槽11,并将薄膜晶体管21的至少一部分填充于该凹槽11内,以提升薄膜晶体管21的耐弯折性,进而提升该显示面板100的耐弯折性,提升显示面板100的显示效果。
请参阅图3,图3是本申请实施例提供的显示面板的制造方法的流程示意图。该显示面板100的制造方法的具体流程可以如下:
101、提供一柔性基板10。
102、在所述柔性基板层10形成至少一个凹槽11。
在一些实施例中,步骤“提供一柔性基板10”可以包括:
提供一第一有机柔性基板12;
在所述第一有机柔性基板12上依次形成缓冲层13和第二有机柔性基板14。
此时,步骤“在所述柔性基板层10形成至少一个凹槽11”可以包括:
对所述第二有机柔性基板14进行蚀刻,以在所述第二有机柔性基板14上形成至少一个凹槽11。
103、在所述柔性基板层10上形成薄膜晶体管层20,所述薄膜晶体管层20包括至少一个薄膜晶体管21,所述薄膜晶体管21的至少一部分填充于所述凹槽11内。
在一些实施例中,步骤“在所述柔性基板层上形成薄膜晶体管层”可以包括:
在所述凹槽11内依次沉积遮光层211、有源层212、第一绝缘层213、栅极层214、第二绝缘层215以及源极216和漏极127,所述源极216和所述漏极217贯穿所述第二绝缘层215、所述栅极层214和所述第一绝缘层213分别与所述有源层212接触。
在一些实施例中,步骤“在所述凹槽11内依次沉积遮光层211、有源层212、第一绝缘层213、栅极层214、第二绝缘层215以及源极216和漏极127”可以包括:
在所述凹槽11内依次沉积遮光层211、有源层212、第一绝缘子层2131、第二绝缘子层2132、第一栅极子层2141、第二栅极子层2142、第二栅极层215、源极216和漏极217。
104、在所述薄膜晶体管层20上依次形成平坦化层30、阳极层40、像素界定层50和支撑层60。
由上,本申请实施例提供的显示面板100的制造方法包括提供一柔性基板10;在所述柔性基板层10形成至少一个凹槽11。在所述柔性基板层10上形成薄膜晶体管层20,所述薄膜晶体管层20包括至少一个薄膜晶体管21,所述薄膜晶体管21的至少一部分填充于所述凹槽11内;在所述薄膜晶体管层20上依次形成平坦化层30、阳极层40、像素界定层50和支撑层60。本方案通过在柔性基板层10上设置凹槽11,并将薄膜晶体管21的至少一部分填充于该凹槽11内,以提升薄膜晶体管21的耐弯折性,进而提升该显示面板100的耐弯折性,提升显示面板100的显示效果。
在上述实施例中,对各个实施例的描述都各有侧重,某个实施例中没有详述的部分,可以参见其他实施例的相关描述。
以上对本申请实施例所提供的一种显示面板及其制造方法进行了详细介绍,本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想;本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。
Claims (10)
1.一种显示面板,其特征在于,包括:
柔性基板层,所述柔性基板层上具有至少一个凹槽;
薄膜晶体管层,所述薄膜晶体管层设置于所述柔性基板层上,所述薄膜晶体管层包括至少一个薄膜晶体管,所述薄膜晶体管的至少一部分填充于所述凹槽内;
平坦化层,所述平坦化层覆盖所述薄膜晶体管层;
阳极层,所述阳极层设置于所述平坦化层上,并贯穿所述平坦化层与所述薄膜晶体管的漏极接触;
像素界定层,所述像素界定层设置于所述平坦化层和所述阳极层上;
支撑层,所述支撑层设置于所述像素界定层上。
2.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述薄膜晶体管包括:
遮光层;
有源层,所述有源层设置于所述遮光层上;
第一绝缘层,所述第一绝缘层设置于所述有源层上;
栅极层,所述栅极层设置于所述第一绝缘层上;
第二绝缘层,所述第二绝缘层设置于所述栅极层上;
源极和漏极,所述源极和所述漏极设置于所述第二绝缘层上,并且贯穿所述第二绝缘层、所述栅极层和所述第一绝缘层分别与所述有源层接触;
所述遮光层、所述有源层、所述第一绝缘层、所述栅极层、所述第二栅极层、所述源极和漏极中的至少一层填充于所述凹槽内。
3.如权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述第一绝缘层包括第一绝缘子层和第二绝缘子层,所述栅极层包括第一栅极子层和第二栅极子层;
所述第一绝缘子层设置于所述有源层上;
所述第一栅极子层设置于所述第一绝缘子层上;
所述第二绝缘子层设置于所述第一栅极子层上;
所述第二栅极子层设置于所述第二绝缘子层上;
所述遮光层、所述有源层、所述第一绝缘子层、所述第二绝缘子层、所述第一栅极子层、所述第二栅极子层、所述第二绝缘层层、所述源极和漏极中的至少一层填充于所述凹槽内。
4.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述凹槽的深度在1.2微米至1.5微米之间。
5.如权利要求4所述的显示面板,其特征在于,所述薄膜晶体管的厚度在1.2微米至1.5微米之间。
6.如权利要求1-5任一项所述的显示面板,其特征在于,所述柔性基板层包括:
第一有机柔性基板;
缓冲层,所述缓冲层设置于所述第一有机柔性基板上;
第二有机柔性基板,所述第二有机柔性基板设置于所述缓冲层上,所述第二有机柔性基板上具有至少一个凹槽。
7.一种显示面板的制造方法,其特征在于,包括:
提供一柔性基板层;
在所述柔性基板层形成至少一个凹槽;
在所述柔性基板层上形成薄膜晶体管层,所述薄膜晶体管层包括至少一个薄膜晶体管,所述薄膜晶体管的至少一部分填充于所述凹槽内;
在所述薄膜晶体管层上依次形成平坦化层、阳极层、像素界定层和支撑层。
8.如权利要求7所述的显示面板的制造方法,其特征在于,所述在所述柔性基板层上形成薄膜晶体管层,包括:
在所述凹槽内依次沉积遮光层、有源层、第一绝缘层、栅极层、第二绝缘层以及源极和漏极,所述源极和所述漏极贯穿所述第二绝缘层、所述栅极层和所述第一绝缘层分别与所述有源层接触。
9.如权利要求8所述的显示面板的制造方法,其特征在于,所述在所述凹槽内依次沉积遮光层、有源层、第一绝缘层、栅极层、第二绝缘层以及源极和漏极,包括:
在所述凹槽内依次沉积遮光层、有源层、第一绝缘子层、第二绝缘子层、第一栅极子层、第二栅极子层、第二绝缘层以及源极和漏极。
10.如权利要求7所述的显示面板的制造方法,其特征在于,所述提供一柔性基板层,包括:
提供一第一有机柔性基板;
在所述第一有机柔性基板上依次形成缓冲层和第二有机柔性基板;
所述在所述柔性基板层形成至少一个凹槽,包括:
对所述第二有机柔性基板进行蚀刻,以在所述第二有机柔性基板上形成至少一个凹槽。
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