CN111164741A - 一种检测处理方法、系统及存储介质 - Google Patents
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Abstract
本发明所提供的一种检测处理方法、系统及存储介质，其中，包括：激光照射生长基板；拍摄设置在所述生长基板上至少一个Micro‑LED芯片的图像；根据所拍摄图像判断所述生长基板上是否存在不符合配置要求的Micro‑LED芯片；若存在不符合配置要求的Micro‑LED芯片，将不符合配置要求的Micro‑LED芯片从所述生长基板上移除。本发明通过检测出不符合配置要求的Micro‑LED芯片，进而移除不符合配置要求的Micro‑LED芯片，以此完成对生长基板上Micro‑LED芯片的筛选，保证生长基板上只剩余符合配置要求的Micro‑LED芯片。
Description
技术领域
本发明涉及显示芯片技术领域，尤其涉及的是一种检测处理方法、系统及存储介质。
背景技术
Micro-LED技术，即LED微缩化和矩阵化技术。指的是在一个芯片上集成的高密度微小尺寸的LED阵列，如LED显示屏每一个像素可定址、单独驱动点亮，可看成是户外LED显示屏的微缩版，将像素点距离从毫米级降低至微米级。
利用Micro-LED芯片制成的显示面板，具有良好的稳定性、寿命、以及运行温度上的优势，同时也继承了LED低功耗、色彩饱和度、反应速度快、对比度强等优点，具有极大的应用前景。
在制作显示面板时，需要将多个Micro-LED芯片分别转移到对应电路板的像素区域上，电路板的每个像素区域包括红、绿、蓝三色，对应三个颜色的Micro-LED芯片。若红、绿、蓝Micro-LED芯片中任意一个芯片没有达到正常Micro-LED芯片的质量标准，即为不符合配置要求的Micro-LED芯片，则不能在显示面板上正常显示，显示面板上对应的像素区域会呈现黑点，影响红、绿、蓝三色的色彩混合，影响显示面板上的成像效果，现有技术无法精确检测到不符合配置要求的Micro-LED芯片所在的位置，且没有对不符合配置要求的Micro-LED芯片的处理措施。
因此，现有技术存在缺陷，有待改进与发展。
发明内容
本发明要解决的技术问题在于，针对现有技术的上述缺陷，提供一种检测处理方法、系统及存储介质，旨在解决现有技术中的将Micro-LED芯片转移到电路板上时，无法精确检测到不符合配置要求的Micro-LED芯片，且没有对不符合配置要求的Micro-LED芯片采取对应的处理措施的问题。
本发明解决技术问题所采用的技术方案如下：
一种检测处理方法，其中，包括：
激光照射生长基板；
拍摄设置在所述生长基板上至少一个Micro-LED芯片的图像；
根据所拍摄图像判断所述生长基板上是否存在不符合配置要求的Micro-LED芯片；
若存在不符合配置要求的Micro-LED芯片，将不符合配置要求的Micro-LED芯片从所述生长基板上移除。
进一步地，所述Micro-LED芯片包括：
N型半导体层；
在所述N型半导体层上同侧设置有N型电极和作动层；
在所述作动层上逐层设置有P型半导体层和P型电极。
进一步地，所述不符合配置要求的Micro-LED芯片具体为：Micro-LED芯片上N型电极和P型电极的位置和尺寸，与预先设定的N型电极和P型电极的位置和尺寸不符。
进一步地，所述N型电极和P型电极背离所述N型半导体层的一端平齐，且分别设置有焊料。
进一步地，所述Micro-LED芯片设置在生长基板的第一侧面上；
所述激光器靠近所述生长基板的第二侧面设置；
所述探测器与激光器位置相对，且靠近所述Micro-LED芯片设置。
进一步地，所述生长基板和焊料为可透光材料。
进一步地，若存在不符合配置要求的Micro-LED芯片，将不符合配置要求的Micro-LED芯片从所述生长基板上移除，之后包括：
对移除的Micro-LED芯片进行重新加工或者更换，将重新加工或者更换形成的新的Micro-LED芯片设置在电路板上。
进一步地，对移除的Micro-LED芯片进行重新加工或者更换，将重新加工或者更换形成的新的Micro-LED芯片设置在电路板上，之后包括：
通过激光照射，将所述生长基板上剩余的Micro-LED芯片焊接到所述电路板上。
进一步地，通过激光照射，将所述生长基板上剩余的Micro-LED芯片焊接到所述电路板上，具体为：
Micro-LED芯片上设置有N型电极和P型电极，所述N型电极和P型电极上分别设置有焊料；
所述Micro-LED芯片上有焊料的一端与电路板相接触，激光照射所述焊料，将所述生长基板上剩余的Micro-LED芯片焊接到所述电路板上，所述Micro-LED芯片与所述电路板电连接。
本发明还提供一种检测处理系统，其中，包括有存储器，以及一个或者一个以上的程序，其中一个或者一个以上程序存储于存储器中，且经配置以由一个或者一个以上处理器执行所述一个或者一个以上程序包含用于执行如上任意一项所述的检测处理方法。
本发明还提供一种存储介质，其上存储有计算机程序，其中，所述计算机程序被处理器执行时实现如上所述的检测处理方法的步骤。
本发明所提供的一种检测处理方法、系统及存储介质，其中，包括：激光照射生长基板；拍摄设置在所述生长基板上至少一个Micro-LED芯片的图像；根据所拍摄图像判断所述生长基板上是否存在不符合配置要求的Micro-LED芯片；若存在不符合配置要求的Micro-LED芯片，将不符合配置要求的Micro-LED芯片从所述生长基板上移除。本发明通过检测出不符合配置要求的Micro-LED芯片，进而移除不符合配置要求的Micro-LED芯片，以此完成对生长基板上Micro-LED芯片的筛选，保证生长基板上只剩余符合配置要求的Micro-LED芯片。
附图说明
图1是本发明中检测处理方法的较佳实施例的流程图。
图2是本发明中Micro-LED芯片的较佳实施例的结构图。
图3是本发明中检测处理系统的较佳实施例的功能原理框图。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚、明确，以下参照附图并举实施例对本发明进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
请参见图1，图1是本发明中一种检测处理方法的流程图。如图1所示，本发明实施例所述的一种检测处理方法包括以下步骤：
S100、激光照射生长基板。具体的，使用激光照射的仪器可为常见的激光照射仪、半导体激光照射仪、红外线激光仪等，只要能够实现激光照射功能的仪器均可用于本发明中。
S200、拍摄设置在所述生长基板上至少一个Micro-LED芯片的图像。具体地，拍摄的方式和仪器并不做限定，可设置摄像头、相机、录像机、检测仪、数码红外夜视仪等进行联机拍摄或者单独拍摄，凡是能够实现本发明中拍摄到Micro-LED芯片图像的方式均是本方案的进一步延伸。在进行拍摄时可拍摄到一个Micro-LED芯片，也可同时拍摄多个Micro-LED芯片；由于生长基板和Micro-LED芯片为可透光材质，Micro-LED芯片上的电极为不可透光材质，在进行拍摄时具体拍摄到的是Micro-LED芯片上电极的形状和位置。
S300、根据所拍摄图像判断所述生长基板上是否存在不符合配置要求的Micro-LED芯片。
具体地，处理器中存储有数据库，所述数据库中存储有可供参照的Micro-LED芯片的参数信息，所述参数信息包括：Micro-LED芯片上电极的位置和尺寸；通过将拍摄得到的图像与处理器中存储的参数进行对比，将图像中和参数不符的(即不符合配置要求)的Micro-LED芯片在处理器中凸显出来，方便对不符合配置要求的Micro-LED芯片进行处理。
可以理解地，只要能够获取到生长基板上Micro-LED芯片的相关信息，不论其实施方式如何变化，均是本发明所要保护的范围。
S400、若存在不符合配置要求的Micro-LED芯片，将不符合配置要求的Micro-LED芯片从所述生长基板上移除。
具体地，当存在不符合配置要求的Micro-LED芯片时，处理器控制所述激光器发出激光，将不符合配置要求的Micro-LED芯片从生长基板上打落。
在本发明优选的实施例中，使用激光器照射Micro-LED芯片；探测器拍摄所述Micro-LED芯片上电极的图像；使用处理器对拍摄到的图像进行处理。优选地，所述激光器、探测器和处理器集成为一台侦测器。较佳地，所述侦测器为具有雷射光源的AOI侦测器。其中，雷射是一种光源，其原理是受激发光，使用雷射发光能够提高光照强度、速度和精准度；AOI指的是自动光学检测，是基于光学原理检测产品缺陷，在进行自动检测时，通过摄像头拍摄待检测物体的图像，与处理器中存储的合格参数进行比较，通过图像分析，检查出待检测物体上的缺陷，能够将缺陷部分自动指出。
在发明较佳实施例中，本发明所述的Micro-LED芯片的结构如下：
将多个Micro-LED芯片设置在一生长基板上；
所述Micro-LED芯片的结构如图2所示：
N型半导体层10，所述N型半导体层10设置在所述生长基板上，所述N型半导体层10由N极氮化镓材料制成；
N型电极30，所述N型电极30设置在所述N型半导体层10上；
作动层20，所述作动层20设置在所述N型半导体层10上，与所述N型电极30同侧设置，所述作动层20由氮化镓材料制成；
P型半导体层40，设置在所述作动层20上，所述作动层20由P极氮化镓材料制成；
P型电极50，设置在所述P型半导体层40上。
所述N型电极30和P型电极50背离所述N型半导体层10的一端平齐，且分别设置有焊料。
在本发明的较佳实施例中，所述激光器位于设置有Micro-LED芯片的生长基板的背面，方便探测器能够全方位拍摄到Micro-LED芯片上电极的图像细节。此处以生长基板为基准进行位置划分，生长基板包括第一侧面和第二侧面，设置有Micro-LED芯片的一侧为生长基板的第一侧面，所述探测器设置在第一侧面位置，所述激光器可设置在第一侧面位置，也可设置在第二侧面位置。
在本发明优选的实施例中，所述生长基板和焊料可由可透光材料制成，具体可为蓝宝石或者玻璃。在进行雷射光照射时，由于雷射光源的光强度过大，容易造成Micro-LED芯片的高温诋毁；进一步地，通过将激光器设置在所述第二侧面的位置，激光器发射出的雷射光可依次透射过生长基板和Micro-LED芯片，避免Micro-LED芯片被高温诋毁的问题。具体地，在激光器逐个照射所述Micro-LED芯片时，所述探测器与激光器位置相对，所述探测器用于拍摄所述激光器照射的Micro-LED芯片。
所述步骤S400之后还包括：
S500、对移除的Micro-LED芯片进行重新加工或者更换，将重新加工或者更换形成的新的Micro-LED芯片设置在电路板上。
具体地，当不符合配置要求的Micro-LED芯片被所述激光器打落之后，所述生长基板上相应的位置会形成空缺。此时通过激光器定位所述被打落的Micro-LED芯片的空缺位置，且在与生长基板相对设置的电路板上准确定位与被打落的Micro-LED芯片对应的空缺位置，进而利用激光焊接技术将新的Micro-LED芯片焊接到电路板上对应的空缺位置上。在电路板上焊接新的Micro-LED芯片时，将新的Micro-LED芯片上设置有焊料的一端与电路板相接触，之后通过激光照射使焊料熔化，完成在电路板上焊接新的Micro-LED芯片，以填充电路板上与生长基板对应的空缺位置，方便在将生长基板上剩余的符合配置要求的Micro-LED芯片转移到电路板上时，形成完整的、正常显示的LED显示面板。
S600、通过激光照射，将所述生长基板上剩余的Micro-LED芯片焊接到所述电路板上。
具体地，所述Micro-LED芯片上有焊料的一端与电路板相接触，激光照射所述焊料，将所述生长基板上剩余的Micro-LED芯片焊接到所述电路板上，所述Micro-LED芯片与所述电路板电连接。所述生长基板上剩余的Micro-LED芯片为符合配置要求的Micro-LED芯片，通过激光照射所述生长基板，使得Micro-LED芯片上的焊料熔化，进而将生长基板上剩余的Micro-LED芯片转移到电路板相应位置上。可以理解地，在进行Micro-LED芯片转移时，所述Micro-LED芯片上的焊料与电路板接触，且电路板上Micro-LED芯片的位置是通过激光照射准确定位的，保证了转移的精度。
可以理解地，本发明方案中先将新的Micro-LED芯片设置在所述电路板上，之后将所述Micro-LED芯片上剩余的Micro-LED芯片转移到所述电路板上，其实现对焊料的焊接并没有先后顺序的限定，两者可分别进行焊接，也可同时进行焊接。当然地，本发明中采用的将Micro-LED芯片焊接在电路板上，实则将Micro-LED芯片设置在电路板上的方式有多种，每一种排列组合的方式均是本发明方案的延伸，只要能够实现电连接的方式均可实现本发明中所述的方案。
在本发明优选的实施例中，可使用所述激光器进行激光焊接，激光焊接是利用高能量密度的激光束作为热源的一种高效精密焊接方法。通过发射雷射光源可达到对所述Micro-LED芯片精确定位的效果，提升转移Micro-LED芯片的精度。
在本发明优选的实施例中，还可在所述电路板上与所述焊料对应的位置上设置焊料，在激光焊接时使Micro-LED芯片上的焊料和电路板上的焊料同时熔化，提升了焊接的速度，也使得Micro-LED芯片和电路板焊接更加牢固。
所述步骤S600之后还包括：
S700、控制所述生长基板从所述Micro-LED芯片上移除。具体的移除可依靠机器控制也可通过激光照射脱落。
本发明还提供一种检测处理系统，如图3所示，其中，包括有存储器70，以及一个或者一个以上的程序，其中一个或者一个以上程序存储于存储器70中，且经配置以由一个或者一个以上处理器60执行所述一个或者一个以上程序包含用于执行如上所述的检测处理方法；具体如上所述。
本发明还提供一种存储介质，其上存储有计算机程序，其中，所述计算机程序被处理器执行时实现如上所述的检测处理方法的步骤；具体如上所述。
综上所述，本发明公开的一种检测处理方法、系统及存储介质，其中，包括：激光照射生长基板；拍摄设置在所述生长基板上至少一个Micro-LED芯片的图像；根据所拍摄图像判断所述生长基板上是否存在不符合配置要求的Micro-LED芯片；若存在不符合配置要求的Micro-LED芯片，将不符合配置要求的Micro-LED芯片从所述生长基板上移除。本发明通过检测生长基板上的Micro-LED芯片是否符合配置要求，进而移除不符合配置要求的Micro-LED芯片，当不符合配置要求的Micro-LED芯片被移除之后，生长基板上只剩余符合配置要求的Micro-LED芯片，移除的不符合配置要求的Micro-LED芯片的位置形成空缺，以此完成对生长基板上Micro-LED芯片的筛选；之后将不符合配置要求的Micro-LED芯片更换成新的Micro-LED芯片，通过激光照射电路板，在与生长基板位置对应的电路板上定位空缺位置，先将新的Micro-LED芯片通过激光焊接技术焊接到电路板上对应的空缺位置上，之后再将所述生长基板上剩余的Micro-LED芯片激光焊接到所述电路板上，以此完成Micro-LED芯片的转移，在转移过程中有效地对符合配置要求的Micro-LED芯片进行转移，同时通过激光精准定位，提高了转移Micro-LED芯片的精确程度，保证了LED面板的高效制作。
应当理解的是，本发明的应用不限于上述的举例，对本领域普通技术人员来说，可以根据上述说明加以改进或变换，所有这些改进和变换都应属于本发明所附权利要求的保护范围。
Claims (11)
1.一种检测处理方法，其特征在于，包括：
激光照射生长基板；
拍摄设置在所述生长基板上至少一个Micro-LED芯片的图像；
根据所拍摄图像判断所述生长基板上是否存在不符合配置要求的Micro-LED芯片；
若存在不符合配置要求的Micro-LED芯片，将不符合配置要求的Micro-LED芯片从所述生长基板上移除。
2.根据权利要求1所述的检测处理方法，其特征在于，所述Micro-LED芯片包括：
N型半导体层；
在所述N型半导体层上同侧设置有N型电极和作动层；
在所述作动层上逐层设置有P型半导体层和P型电极。
3.根据权利要求2所述的检测处理方法，其特征在于，所述不符合配置要求的Micro-LED芯片具体为：Micro-LED芯片上N型电极和P型电极的位置和尺寸，与预先设定的N型电极和P型电极的位置和尺寸不符。
4.根据权利要求3所述的检测处理方法，其特征在于，所述N型电极和P型电极背离所述N型半导体层的一端平齐，且分别设置有焊料。
5.根据权利要求4所述的检测处理方法，其特征在于，
所述Micro-LED芯片设置在生长基板的第一侧面上；
所述激光器靠近所述生长基板的第二侧面设置；
所述探测器与激光器位置相对，且靠近所述Micro-LED芯片设置。
6.根据权利要求5所述的检测处理方法，其特征在于，所述生长基板和焊料为可透光材料。
7.根据权利要求1所述的检测处理方法，其特征在于，若存在不符合配置要求的Micro-LED芯片，将不符合配置要求的Micro-LED芯片从所述生长基板上移除，之后包括：
对移除的Micro-LED芯片进行重新加工或者更换，将重新加工或者更换形成的新的Micro-LED芯片设置在电路板上。
8.根据权利要求7所述的检测处理方法，其特征在于，对移除的Micro-LED芯片进行重新加工或者更换，将重新加工或者更换形成的新的Micro-LED芯片设置在电路板上，之后包括：
通过激光照射，将所述生长基板上剩余的Micro-LED芯片焊接到所述电路板上。
9.根据权利要求6所述的检测处理方法，其特征在于，通过激光照射，将所述生长基板上剩余的Micro-LED芯片焊接到所述电路板上，具体为：
Micro-LED芯片上设置有N型电极和P型电极，所述N型电极和P型电极上分别设置有焊料；
所述Micro-LED芯片上有焊料的一端与电路板相接触，激光照射所述焊料，将所述生长基板上剩余的Micro-LED芯片焊接到所述电路板上，所述Micro-LED芯片与所述电路板电连接。
10.一种检测处理系统，其特征在于，包括有存储器，以及一个或者一个以上的程序，其中一个或者一个以上程序存储于存储器中，且经配置以由一个或者一个以上处理器执行所述一个或者一个以上程序包含用于执行如权利要求1至9中任意一项所述的检测处理方法。
11.一种存储介质，其上存储有计算机程序，其中，所述计算机程序被处理器执行时实现如权利要求1至9中任意一项所述的检测处理方法的步骤。
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