CN111142290A - 液晶显示元件 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种液晶显示元件。本发明的课题是：在VA模式的情况下，通过形成于基板上的聚酰亚胺摩擦时的摩擦布的压入来规定预倾角的大小，但容易由于增大压入量而发生倾角的移位。此外，在摩擦布表面的纤维摩擦取向膜时毛会变乱，存在对比度降低的问题。另一方面，如果不进行摩擦处理，则液晶向水平方向移位时液晶分子的长轴方向不固定，会产生取向缺陷，存在对比度降低的问题。本发明通过提供如下的液晶显示元件，从而解决了本发明的课题，前述液晶显示元件具有配置于一对基板间的液晶层，前述一对基板的至少一方具备实施了摩擦时的压入量为0.01～0.99mm的摩擦处理的取向膜，并且在前述取向膜上含有受阻胺化合物。
Description
技术领域
本发明涉及液晶显示元件。
背景技术
作为液晶显示元件的驱动方式之一，可列举VA(Vertical Alignment，垂直取向)模式等纵向电场驱动。纵向电场驱动中，通常使用介电常数各向异性(Δε)为负的液晶组合物，在不施加电压的状态下，使液晶分子相对于构成液晶显示元件的基板大体垂直取向，通过在该状态下施加垂直方向的电场，从而发生液晶分子向水平方向的移位。
对于液晶显示元件而言，要求各种特性，烧屏的抑制是其要求特性之一(例如专利文献1)。纵向电场驱动的液晶显示元件中，作为发生烧屏的原因，可列举从水平方向到液晶分子的长轴方向所形成的角度所定义的倾角发生改变。即，随着液晶显示元件的驱动，由于施加电场而向水平方向发生了移位的液晶分子即使在未施加电场的状态下也不会恢复至初始的倾角(倾斜移位)，从而会发生烧屏。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2015-110741号
发明内容
发明所要解决的课题
根据本发明人等的研究，判明了液晶显示元件的初始倾角越小，倾斜移位越是显著地发生。具体地，例如在VA模式的情况下，通过形成于基板上的聚酰亚胺摩擦处理时的摩擦布的压入来规定倾角的大小，但容易由于增大压入量而发生倾斜移位。进一步，在摩擦布表面的纤维摩擦取向膜时毛会变乱，存在对比度降低的问题。另一方面，如果不进行摩擦处理，则液晶分子向水平方向移位时液晶分子的长轴方向不固定，会产生取向缺陷，对比度降低。
因此，本发明的目的在于，在实施了摩擦处理的VA模式的元件中，在维持对比度的状态下抑制倾斜移位。
用于解决课题的方法
[1]一种液晶显示元件，其具备一对基板和配置于前述一对基板间的液晶层，
前述一对基板中的至少一个具备取向膜，
前述取向膜实施了摩擦处理，
前述摩擦处理时的压入量为0.01～0.99mm，
在前述取向膜上含有受阻胺化合物。
[2]根据上述[1]所述的液晶显示元件，前述受阻胺化合物为通式(i)所表示的化合物。
[化1]
Mi1-Ni1 (i)
(式中，Ni1表示通式(Ni1)所表示的取代基，通式(Ni1)所表示的取代基在＊处与Mi1结合，
Ri1表示氢原子、-O·、-OH或碳原子数1～12的烷基，该烷基中存在的1个或2个以上-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CH＝CH-、-C≡C-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-OCF2-或-CF2O-取代，
Ri2、Ri3、Ri4和Ri5各自独立地表示碳原子数1～8的烷基，该烷基中存在的1个或2个以上-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CH＝CH-、-C≡C-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-OCF2-或-CF2O-取代，Ri2和Ri3可以相互结合而形成环，Ri4和Ri5可以相互结合而形成环，
Ri6和Ri7各自独立地表示氢原子或碳原子数1～6的烷基，该烷基中存在的1个或2个以上-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CH＝CH-、-C≡C-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-OCF2-、或-CF2O-取代，
Ri8表示氢原子或1价有机基团，该1价有机基团可以与Mi1结合而形成环，
Mi1表示1价有机基团，
mi1表示0～2的整数，
Ri1、Ri2、Ri3、Ri4、Ri5、Ri6、Ri7、Ri8和Mi1可被通式(Ni1)所表示的取代基取代，
存在多个的Ri1、Ri2、Ri3、Ri4、Ri5、Ri6、Ri7、Ri8、mi1和Mi1各自可以彼此相同也可以不同。)
发明的效果
根据本发明，能够在液晶显示元件中抑制倾斜移位。此外，根据本发明，能够兼顾倾斜移位的抑制和对比度降低的抑制。
附图说明
图1为显示一个实施方式涉及的液晶显示元件的示意截面图。
符号说明
1A、1B：液晶显示元件；2：第1基板；3：第2基板；4：液晶层；5：第1偏光板；6：滤色器；7：第1取向膜；8：第2偏光板；9：电极；10：电极；11：第2取向膜。
具体实施方式
图1为显示一个实施方式涉及的液晶显示元件的示意截面图。如图1所示，一个实施方式涉及的液晶显示元件1A具备：包含第1基板2和第2基板3的一对基板、以及设于一对基板(第1基板2和第2基板3)间的液晶层4。
第1基板2的与液晶层4相反侧的面上设有第1偏光板5。在第1基板2的液晶层4侧的面上，按照靠近第1基板2的顺序设有滤色器6。滤色器上设有电极9，以覆盖电极9的方式设有第1取向膜7。第2基板3的与液晶层4相反侧的面上设有第2偏光板8。第2基板3的液晶层4侧的面上(同一面内)形成有电极10，以覆盖电极10的方式进一步设有第2取向膜11。
即，一个实施方式涉及的液晶显示元件1A依次具备第1偏光板5、第1基板2、滤色器6、第1取向膜7、液晶层4、第2取向膜11、多个电极9及电极10、第2基板3以及第2偏光板8。这样的液晶显示元件1A是VA模式的液晶显示元件。滤色器6也可以不设于第1基板2与第1取向膜7之间，而设于第2基板3与电极9和第2取向膜11之间(第2基板3的液晶层4侧的面上)。
第1基板2和第2基板3例如由玻璃或塑料等具有柔软性的材料形成。第1基板2和第2基板3中的至少一方由透明的材料形成，另一方可以由透明的材料形成，也可以由金属、硅等不透明的材料形成。第1基板2和第2基板3利用配置在周缘区域的环氧系热固性组合物等密封材料和封闭材料而相互贴合，为了保持基板间距离，在它们之间例如可以配置有玻璃粒子、塑料粒子、氧化铝粒子等粒状间隔物、或通过光刻法形成的由树脂构成的间隔柱。
第1偏光板5和第2偏光板8可以按照调整各偏光板的偏光轴，使视角、对比度变好的方式进行调整，优选以它们的透射轴在常黑模式下工作的方式具有相互正交的透射轴。特别优选以第1偏光板5和第2偏光板8中的任一个具有与不施加电压时的液晶分子的取向方向大体垂直的透射轴的方式配置。
在防止漏光的观点上，滤色器6优选具备黑矩阵，优选在对应于薄膜晶体管的部分具有黑矩阵(未图示)。黑矩阵可以与滤色器一起设置在与阵列基板相反侧的基板上，可以与滤色器一起设置在阵列基板侧，也可以分别将黑矩阵设置于阵列基板而滤色器设置于另一基板。黑矩阵可以与滤色器分别设置，也可以通过使滤色器的各颜色重叠来使透射率降低。
第1取向膜7和第2取向膜11与构成液晶层4的液晶组合物直接接触，构成诱发垂直取向的一对取向膜。第1取向膜7和第2取向膜11例如由聚酰亚胺形成。
为了对取向膜赋予倾角，使将摩擦布扭绞所得的辊筒在确保一定的压入量(压入深度)的同时旋转而进行摩擦。压入量优选为0.01mm～0.99mm，更优选为0.05mm～0.8mm，更进一步优选为0.1mm～0.4mm。如果压入量大则取向膜的取向约束力增大，从液晶倾角稳定的观点出发是优选的，但由于摩擦时毛变乱，使得未施加电压时液晶的取向方位变得不一致，黑显示时的亮度上升，因此会产生对比度降低的问题；如果减小压入量，则液晶的移位方向变得不一致，因此会产生白显示时的亮度降低，对比度降低的问题。
公共电极9a和像素电极10a分别由例如ITO等透明材料形成。
以上说明的液晶显示元件1A中，通过利用电极9、10产生纵向电场(与基板2、3垂直的方向的电场)，使液晶层4内的液晶分子向平行于基板2、3的方向移位。根据本发明人等的研究，液晶显示元件1A中，通过在取向膜7和11中设为1mm以上的压入量，对比度会降低。与此同时，判明了容易产生在未施加电场的状态下液晶分子不会恢复至初始的倾角的现象(倾斜移位)。而且，本发明人等发现，通过使液晶层4含有受阻胺化合物，能够调整倾角，在宽度宽的摩擦布的压入量下抑制倾斜移位，同时能够维持高对比度。即，其特征在于：利用液晶组合物所含的受阻胺化合物与取向膜的相互作用来稳定地保持倾角，同时使其为高对比度。
需要说明的是，在本说明书中，倾角是第1基板2和第2基板3的水平方向与初始的液晶长轴方向(易取向轴)所成的角度。液晶分子的长轴与第1基板2和第2基板3的水平方向相同时倾角为0°，与垂直方向相同时为90°。“倾斜移位”是施加电压后的倾角与施加电压前的倾角的差值，倾斜移位越接近0越好。作为优选的范围，优选为-1～0，更优选为-0.8～0，更进一步优选为-0.5～0。如果倾斜移位大，则会产生面板的光斑、灰度的变动，容易发生烧屏，可能成为引起显示不良的原因。
作为受阻胺化合物的通式(i)所表示的化合物中，与Mi1结合的结构是通式(Ni1)所表示的取代基，受阻胺化合物为下述那样的化合物。
[化2]
(式中，Ri1、Ri2、Ri3、Ri4、Ri5、Ri6、Ri7、Ri8、mi1和Mi1表示与通式(i)和通式(Ni1)中的Ri1、Ri2、Ri3、Ri4、Ri5、Ri6、Ri7、Ri8、mi1和Mi1相同的意思。)
通式(Ni1)所表示的取代基优选为通式(Ni1-1)～(Ni1-3)所表示的化合物。
[化3]
(式中，在＊处与Mi1结合，Ri1、Ri2、Ri3、Ri4、Ri5、Ri6、Ri7和Ri8表示与通式(Ni1)中的Ri1、Ri2、Ri3、Ri4、Ri5、Ri6、Ri7和Ri8相同的意思，Ri9表示与通式(Ni1)中的Ri8相同的意思。)
Ri1表示氢原子、-O·、-OH或碳原子数1～12的烷基，该烷基中存在的1个或2个以上-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CH＝CH-、-C≡C-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-OCF2-或-CF2O-取代，优选为氢原子或碳原子数1～12的无取代的烷基，该烷基的碳原子数优选为1～8、为1～4、为1～2、为1。
Ri2、Ri3、Ri4和Ri5各自独立地表示碳原子数1～8的烷基，该烷基中存在的1个或2个以上-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CH＝CH-、-C≡C-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-OCF2-或-CF2O-取代，Ri2和Ri3可以相互结合而形成环，此外，Ri4和Ri5可以相互结合而形成环。该烷基可以具有支链。Ri2、Ri3、Ri4和Ri5各自独立地优选为碳原子数1～8的无取代的烷基，该烷基的碳原子数优选为1～6、为1～4、为1～2、为1。
Ri6、Ri7、Ri8和Ri9各自独立地表示氢原子或碳原子数1～6的烷基，该烷基中存在的1个或2个以上-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CH＝CH-、-C≡C-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-OCF2-、或-CF2O-取代，优选为氢原子或碳原子数1～6的无取代的烷基，更优选为氢原子。
Mi1表示1价有机基团，优选为通式(Mi11)所表示的取代基。
[化4]
(式中，Ai11表示选自由以下基团组成的组中的基团或单键，
(a)1,4-亚环己基(存在于该基团中的1个-CH2-或不相邻的2个以上-CH2-可被-O-取代。)和
(b)1,4-亚苯基(存在于该基团中的1个-CH＝或不相邻的2个以上-CH＝可被-N＝取代。)
(c)萘-2,6-二基、1,2,3,4-四氢化萘-2,6-二基或十氢化萘-2,6-二基(萘-2,6-二基或1,2,3,4-四氢化萘-2,6-二基中存在的1个-CH＝或不相邻的2个以上-CH＝可被-N＝取代。)
(d)1,4-亚环己烯基、茚满-2,5-二基、1,4-环戊基或1,4-环丁基上述基团(a)、基团(b)、基团(c)和基团(d)各自独立地可被氰基、氟原子或氯原子取代，
Zi11和Zi12各自独立地表示单键、-CH2-、-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-NRa-、-CH＝、-CF＝CF-、-CF-、-CF2-或-C≡C-(式中，Ra各自独立地表示氢原子或碳原子数1～4的烷基。)，
ni11表示0～4的自然数，
Xi11表示氢原子、碳原子数1～30的烷基，该烷基中的-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-NRa-、-CH＝、-CF＝、-CF-、-CF2-、或-C≡C-取代，
Ai11、Zi11、Zi12、ni11和Xi11可被通式(Ni1)所表示的取代基取代，
同一分子中Ai11、Zi11、Zi12、ni11和Xi11存在多个的情况下，它们可以相同也可以不同，通式(Ni1)所表示的取代基存在多个的情况下，它们可以相同也可以不同。)
Ai11优选为1,4-亚苯基或1,4亚环己基。
Zi11和Zi12各自独立地优选为单键、-CH2-、-O-、-S-、-CO-、-COO-、或-OCO-。
ni11优选为1～3，更优选为1。
Xi11更优选为1～30的烷基或者被通式(Ni1)所表示的取代基取代后的烷基。
具体地，优选为式(1)～(9)所表示的化合物。
[化5]
[化6]
液晶层4含有一种或2种以上受阻胺化合物。从能够进一步抑制扭转角的移位的观点出发，液晶层4(液晶组合物)中的受阻胺化合物的浓度(为2种以上的情况下是它们的合计浓度)优选为10质量ppm以上、50质量ppm以上、100质量ppm以上、200质量ppm以上、300质量ppm以上、400质量ppm以上或500质量ppm以上。液晶层4(液晶组合物)中的受阻胺化合物的浓度(为2种以上的情况下是它们的合计浓度)例如可以为2000质量ppm以下、1500质量ppm以下或1000质量ppm以下。液晶层4(液晶组合物)中的受阻胺化合物的浓度(为2种以上的情况下是它们的合计浓度)也可以为10～2000质量ppm、10～1500质量ppm、10～1000质量ppm、50～2000质量ppm、50～1500质量ppm、50～1000质量ppm、100～2000质量ppm、100～1500质量ppm、100～1000质量ppm、200～2000质量ppm、200～1500质量ppm、200～1000质量ppm、300～2000质量ppm、300～1500质量ppm、300～1000质量ppm、400～2000质量ppm、400～1500质量ppm、400～1000质量ppm、500～2000质量ppm、500～1500质量ppm或500～1000质量ppm。
优选通式(i)所表示的化合物也以与上述同样的浓度含有。
液晶化合物例如为通式(L)所表示的化合物。
[化7]
式(L)中，
RL1和RL2各自独立地表示碳原子数1～8的烷基，该烷基中的1个或不相邻的2个以上-CH2-各自独立地可被-CH＝CH-、-C≡C-、-O-、-CO-、-COO-或-OCO-取代，
nL1表示0、1、2或3，
AL1、AL2和AL3各自独立地表示选自由如下基团组成的组中的基团，
(a)1,4-亚环己基(存在于该基团中的1个-CH2-或不相邻的2个以上-CH2-可被-O-取代。)；
(b)1,4-亚苯基(存在于该基团中的1个-CH＝或不相邻的2个以上-CH＝可被-N＝取代。)；和
(c)萘-2,6-二基、1,2,3,4-四氢化萘-2,6-二基或十氢化萘-2,6-二基(萘-2,6-二基或1,2,3,4-四氢化萘-2,6-二基中存在的1个-CH＝或不相邻的2个以上-CH＝可被-N＝取代。)
前述基团(a)、基团(b)和基团(c)各自独立地可被氰基、氟原子或氯原子取代，
ZL1和ZL2各自独立地表示单键、-CH2CH2-、-(CH2)4-、-OCH2-、-CH2O-、-COO-、-OCO-、-OCF2-、-CF2O-、-CH＝N-N＝CH-、-CH＝CH-、-CF＝CF-或-C≡C-，
nL1为2或3而存在多个AL2的情况下，它们可以彼此相同也可以不同；nL1为2或3而存在多个ZL2的情况下，它们可以彼此相同也可以不同。
通式(L)所表示的化合物属于介电性大体中性的化合物(Δε的值为-2～2)。通式(L)所表示的化合物可以单独使用，也可以组合使用。能够组合的化合物的种类没有特别限制，根据低温下的溶解性、转变温度、电可靠性、双折射率等期望的性能适当组合使用。关于所使用的化合物的种类，例如，作为一个实施方式，为1种。或者在其他实施方式中为2种，为3种，为4种，为5种，为6种，为7种，为8种，为9种，为10种以上。
本实施方式的组合物中，通式(L)所表示的化合物的含量需要根据低温下的溶解性、转变温度、电可靠性、双折射率、工艺适应性、滴痕、烧屏、介电常数各向异性等所需的性能适当调整。
相对于本实施方式的组合物的总量，式(L)所表示的化合物的优选含量的下限值为1质量％以上，为10质量％以上，为20质量％以上，为30质量％以上，为40质量％以上，为50质量％以上，为55质量％以上，为60质量％以上，为65质量％以上，为70质量％以上，为75质量％以上，为80质量％以上。优选含量的上限值为95质量％以下，为85质量％以下，为75质量％以下，为65质量％以下，为55质量％以下，为45质量％以下，为35质量％以下，为25质量％以下。
保持本实施方式的组合物的粘度低、需要响应速度快的组合物的情况下，优选上述下限值高且上限值高。进一步，保持本实施方式的组合物的Tni高、需要温度稳定性好的组合物的情况下，优选上述下限值高且上限值高。此外，在为了保持驱动电压低而想要增大介电常数各向异性时，优选使上述下限值低且上限值低。
重视可靠性的情况下，优选RL1和RL2均为烷基；重视降低化合物的挥发性的情况下，优选为烷氧基；重视粘性的降低的情况下，优选至少一方为烯基。
分子内存在的卤原子优选为0、1、2或3个，优选为0或1；重视与其他液晶分子的相容性的情况下，优选为1。
RL1和RL2在其结合的环结构为苯基(芳香族)的情况下，优选为直链状的碳原子数1～5的烷基、直链状的碳原子数1～4的烷氧基和碳原子数4～5的烯基；在其结合的环结构为环己烷、吡喃和二
烷等饱和环结构的情况下，优选为直链状的碳原子数1～5的烷基、直链状的碳原子数1～4的烷氧基和直链状的碳原子数2～5的烯基。为了使向列相稳定，碳原子和存在氧原子的情况下与氧原子的合计优选为5以下，优选为直链状。
作为烯基，优选选自式(R1)至式(R5)中的任一个所表示的基团(各式中的黑点表示结合键。)。
[化8]
nL1在重视响应速度的情况下优选为0；为了改善向列相的上限温度，优选为2或3；为了取得它们的平衡，优选为1。此外，为了满足作为组合物所要求的特性，优选组合不同值的化合物。
在需要增大Δn的情况下，AL1、AL2和AL3优选为芳香族；为了改善响应速度，优选为脂肪族；各自独立地优选表示反式-1,4-亚环己基、1,4-亚苯基、2-氟-1,4-亚苯基、3-氟-1,4-亚苯基、3,5-二氟-1,4-亚苯基、1,4-亚环己烯基、1,4-二环[2.2.2]亚辛基、哌啶-1,4-二基、萘-2,6-二基、十氢化萘-2,6-二基或1,2,3,4-四氢化萘-2,6-二基，更优选表示下述结构：
[化9]
更优选表示反式1,4-亚环己基或1,4-亚苯基。
ZL1和ZL2在重视响应速度的情况下优选为单键。
通式(L)所表示的化合物的分子内的卤原子数优选为0个或1个。
通式(L)所表示的化合物优选为选自通式(L-1)～(L-7)所表示的化合物组中的化合物。
通式(L-1)所表示的化合物为下述化合物。
[化10]
(式中，RL11和RL12各自独立地表示与通式(L)中的RL1和RL2相同的意思。)
RL11和RL12优选为直链状的碳原子数1～5的烷基、直链状的碳原子数1～4的烷氧基和直链状的碳原子数2～5的烯基。
通式(L-1)所表示的化合物可以单独使用，也可以组合使用2种以上化合物。能够组合的化合物的种类没有特别限制，根据低温下的溶解性、转变温度、电可靠性、双折射率等所需的性能适当组合使用。关于所使用的化合物的种类，例如，作为一个实施方式，为1种，为2种，为3种，为4种，为5种以上。
相对于本实施方式的组合物的总量，优选含量的下限值为1质量％以上，为2质量％以上，为3质量％以上，为5质量％以上，为7质量％以上，为10质量％以上，为15质量％以上，为20质量％以上，为25质量％以上，为30质量％以上，为35质量％以上，为40质量％以上，为45质量％以上，为50质量％以上，为55质量％以上。相对于本实施方式的组合物的总量，优选含量的上限值为95质量％以下，为90质量％以下，为85质量％以下，为80质量％以下，为75质量％以下，为70质量％以下，为65质量％以下，为60质量％以下，为55质量％以下，为50质量％以下，为45质量％以下，为40质量％以下，为35质量％以下，为30质量％以下，为25质量％以下。
保持本实施方式的组合物的粘度低、需要响应速度快的组合物的情况下，优选上述下限值高且上限值高。进一步，保持本实施方式的组合物的Tni高、需要温度稳定性好的组合物的情况下，优选上述下限值为中等且上限值为中等。此外，在为了保持驱动电压低而想要增大介电常数各向异性时，优选上述下限值低且上限值低。
通式(L-1)所表示的化合物优选为选自通式(L-1-1)所表示的化合物组中的化合物。
[化11]
(式中，RL12表示与通式(L-1)中的意思相同的意思。)
通式(L-1-1)所表示的化合物优选为选自式(L-1-1.1)至式(L-1-1.3)所表示的化合物组中的化合物，优选为式(L-1-1.2)或式(L-1-1.3)所表示的化合物，特别优选为式(L-1-1.3)所表示的化合物。
[化12]
相对于本实施方式的组合物的总量，式(L-1-1.3)所表示的化合物的优选含量的下限值为1质量％以上，为2质量％以上，为3质量％以上，为5质量％以上，为7质量％以上，为10质量％以上。相对于本实施方式的组合物的总量，优选含量的上限值为20质量％以下，为15质量％以下，为13质量％以下，为10质量％以下，为8质量％以下，为7质量％以下，为6质量％以下，为5质量％以下，为3质量％以下。
通式(L-1)所表示的化合物优选为选自通式(L-1-2)所表示的化合物组中的化合物。
[化13]
(式中，RL12表示与通式(L-1)中的意思相同的意思。)
相对于本实施方式的组合物的总量，式(L-1-2)所表示的化合物的优选含量的下限值为1质量％以上，为5质量％以上，为10质量％以上，为15质量％以上，为17质量％以上，为20质量％以上，为23质量％以上，为25质量％以上，为27质量％以上，为30质量％以上，为35质量％以上。相对于本实施方式的组合物的总量，优选含量的上限值为60质量％以下，为55质量％以下，为50质量％以下，为45质量％以下，为42质量％以下，为40质量％以下，为38质量％以下，为35质量％以下，为33质量％以下，为30质量％以下。
进一步，通式(L-1-2)所表示的化合物优选为选自式(L-1-2.1)至式(L-1-2.4)所表示的化合物组中的化合物，优选为式(L-1-2.2)至式(L-1-2.4)所表示的化合物。特别是式(L-1-2.2)所表示的化合物尤其能改善本实施方式的组合物的响应速度，因此是优选的。此外，与响应速度相比更要求高Tni时，优选使用式(L-1-2.3)或式(L-1-2.4)所表示的化合物。为了使低温下的溶解度好，式(L-1-2.3)和式(L-1-2.4)所表示的化合物的含量不优选设为30质量％以上。
[化14]
相对于本实施方式的组合物的总量，式(L-1-2.2)所表示的化合物的优选含量的下限值为10质量％以上，为15质量％以上，为18质量％以上，为20质量％以上，为23质量％以上，为25质量％以上，为27质量％以上，为30质量％以上，为33质量％以上，为35质量％以上，为38质量％以上，为40质量％以上。相对于本实施方式的组合物的总量，优选含量的上限值为60质量％以下，为55质量％以下，为50质量％以下，为45质量％以下，为43质量％以下，为40质量％以下，为38质量％以下，为35质量％以下，为32质量％以下，为30质量％以下，为27质量％以下，为25质量％以下，为22质量％以下。
相对于本实施方式的组合物的总量，式(L-1-1.3)所表示的化合物和式(L-1-2.2)所表示的化合物的合计的优选含量的下限值为10质量％以上，为15质量％以上，为20质量％以上，为25质量％以上，为27质量％以上，为30质量％以上，为35质量％以上，为40质量％以上。相对于本实施方式的组合物的总量，优选含量的上限值为60质量％以下，为55质量％以下，为50质量％以下，为45质量％以下，为43质量％以下，为40质量％以下，为38质量％以下，为35质量％以下，为32质量％以下，为30质量％以下，为27质量％以下，为25质量％以下，为22质量％以下。
通式(L-1)所表示的化合物优选为选自通式(L-1-3)所表示的化合物组中的化合物。
[化15]
(式中，RL13和RL14各自独立地表示碳原子数1～8的烷基或碳原子数1～8的烷氧基。)
RL13和RL14优选为碳原子数2～8的烷基或碳原子数2～8的烷氧基，更优选为直链状的碳原子数1～5的烷基或直链状的碳原子数1～4的烷氧基。
相对于本实施方式的组合物的总量，式(L-1-3)所表示的化合物的优选含量的下限值为1质量％以上，为5质量％以上，为10质量％以上，为13质量％以上，为15质量％以上，为17质量％以上，为20质量％以上，为23质量％以上，为25质量％以上，为30质量％以上。相对于本实施方式的组合物的总量，优选含量的上限值为60质量％以下，为55质量％以下，为50质量％以下，为45质量％以下，为40质量％以下，为37质量％以下，为35质量％以下，为33质量％以下，为30质量％以下，为27质量％以下，为25质量％以下，为23质量％以下，为20质量％以下，为17质量％以下，为15质量％以下，为13质量％以下，为10质量％以下。
进一步，通式(L-1-3)所表示的化合物优选为选自式(L-1-3.1)至式(L-1-3.13)所表示的化合物组中的化合物，优选为式(L-1-3.1)、式(L-1-3.3)或式(L-1-3.4)所表示的化合物。特别是式(L-1-3.1)所表示的化合物尤其改善本实施方式的组合物的响应速度，因此是优选的。此外，与响应速度相比更要求高Tni时，优选使用式(L-1-3.3)、式(L-1-3.4)、式(L-1-3.11)和式(L-1-3.12)所表示的化合物。为了使低温下的溶解度好，式(L-1-3.3)、式(L-1-3.4)、式(L-1-3.11)和式(L-1-3.12)所表示的化合物的合计含量不优选设为20％以上。
[化16]
相对于本实施方式的组合物的总量，式(L-1-3.1)所表示的化合物的优选含量的下限值为1质量％以上，为2质量％以上，为3质量％以上，为5质量％以上，为7质量％以上，为10质量％以上，为13质量％以上，为15质量％以上，为18质量％以上，为20质量％以上。相对于本实施方式的组合物的总量，优选含量的上限值为20质量％以下，为17质量％以下，为15质量％以下，为13质量％以下，为10质量％以下，为8质量％以下，为7质量％以下，为6质量％以下。
通式(L-1)所表示的化合物优选为选自通式(L-1-4)和/或(L-1-5)所表示的化合物组中的化合物。
[化17]
[化18]
(式中，RL15和RL16各自独立地表示碳原子数1～8的烷基或碳原子数1～8的烷氧基。)
RL15和RL16优选为直链状的碳原子数1～5的烷基、直链状的碳原子数1～4的烷氧基和直链状的碳原子数2～5的烯基。
相对于本实施方式的组合物的总量，式(L-1-4)所表示的化合物的优选含量的下限值为1质量％以上，为5质量％以上，为10质量％以上，为13质量％以上，为15质量％以上，为17质量％以上，为20质量％以上。相对于本实施方式的组合物的总量，优选含量的上限值为25质量％以下，为23质量％以下，为20质量％以下，为17质量％以下，为15质量％以下，为13质量％以下，为10质量％以下。
相对于本实施方式的组合物的总量，式(L-1-5)所表示的化合物的优选含量的下限值为1质量％以上，为5质量％以上，为10质量％以上，为13质量％以上，为15质量％以上，为17质量％以上，为20质量％以上。相对于本实施方式的组合物的总量，优选含量的上限值为25质量％以下，为23质量％以下，为20质量％以下，为17质量％以下，为15质量％以下，为13质量％以下，为10质量％以下。
进一步，通式(L-1-4)和(L-1-5)所表示的化合物优选为选自式(L-1-4.1)至式(L-1-4.3)和式(L-1-5.1)至式(L-1-5.3)所表示的化合物组中的化合物，优选为式(L-1-4.2)或式(L-1-5.2)所表示的化合物。
[化19]
相对于本实施方式的组合物的总量，式(L-1-4.2)所表示的化合物的优选含量的下限值为1质量％以上，为2质量％以上，为3质量％以上，为5质量％以上，为7质量％以上，为10质量％以上，为13质量％以上，为15质量％以上，为18质量％以上，为20质量％以上。相对于本实施方式的组合物的总量，优选含量的上限值为20质量％以下，为17质量％以下，为15质量％以下，为13质量％以下，为10质量％以下，为8质量％以下，为7质量％以下，为6质量％以下。
优选将选自式(L-1-1.3)、式(L-1-2.2)、式(L-1-3.1)、式(L-1-3.3)、式(L-1-3.4)、式(L-1-3.11)和式(L-1-3.12)所表示的化合物中的2种以上化合物组合，优选将选自式(L-1-1.3)、式(L-1-2.2)、式(L-1-3.1)、式(L-1-3.3)、式(L-1-3.4)和式(L-1-4.2)所表示的化合物中的2种以上化合物组合。相对于本实施方式的组合物的总量，这些化合物的合计含量的优选含量的下限值为1质量％以上，为2质量％以上，为3质量％以上，为5质量％以上，为7质量％以上，为10质量％以上，为13质量％以上，为15质量％以上，为18质量％以上，为20质量％以上，为23质量％以上，为25质量％以上，为27质量％以上，为30质量％以上，为33质量％以上，为35质量％以上。相对于本实施方式的组合物的总量，优选含量的上限值为80质量％以下，为70质量％以下，为60质量％以下，为50质量％以下，为45质量％以下，为40质量％以下，为37质量％以下，为35质量％以下，为33质量％以下，为30质量％以下，为28质量％以下，为25质量％以下，为23质量％以下，为20质量％以下。
重视组合物的可靠性的情况下，优选将选自式(L-1-3.1)、式(L-1-3.3)和式(L-1-3.4))所表示的化合物中的2种以上化合物组合；重视组合物的响应速度的情况下，优选将选自式(L-1-1.3)、式(L-1-2.2)所表示的化合物中的2种以上化合物组合。
通式(L-1)所表示的化合物优选为选自通式(L-1-6)所表示的化合物组中的化合物。
[化20]
(式中，RL17和RL18各自独立地表示甲基或氢原子。)
相对于本实施方式的组合物的总量，式(L-1-6)所表示的化合物的优选含量的下限值为1质量％以上，为5质量％以上，为10质量％以上，为15质量％以上，为17质量％以上，为20质量％以上，为23质量％以上，为25质量％以上，为27质量％以上，为30质量％以上，为35质量％以上。相对于本实施方式的组合物的总量，优选含量的上限值为60质量％以下，为55质量％以下，为50质量％以下，为45质量％以下，为42质量％以下，为40质量％以下，为38质量％以下，为35质量％以下，为33质量％以下，为30质量％以下。
进一步，通式(L-1-6)所表示的化合物优选为选自式(L-1-6.1)至式(L-1-6.3)所表示的化合物组中的化合物。
[化21]
通式(L-1)所表示的化合物可以单独使用，也可以组合使用2种以上化合物。能够组合的化合物的种类没有特别限制，根据低温下的溶解性、转变温度、电可靠性、双折射率等所需的性能适当组合使用。关于所使用的化合物的种类，例如，作为一个实施方式，为1种，为2种，为3种，为4种，为5种以上。
通式(L-2)所表示的化合物为下述化合物。
[化22]
(式中，RL21和RL22各自独立地表示与通式(L)中的RL1和RL2相同的意思。)
RL21优选为碳原子数1～5的烷基或碳原子数2～5的烯基，RL22优选为碳原子数1～5的烷基、碳原子数4～5的烯基或碳原子数1～4的烷氧基。
重视低温下的溶解性的情况和重视响应速度的情况下，将式(L-1-1)、(L-1-2)、(L-1-4)、(L-1-5)和(L-1-6)所表示的化合物的含量设定为稍多则效果好，将式(L-1-1)和(L-1-2)所表示的化合物的含量设定为稍多则效果更好。重视可靠性的情况下，将式(L-1-3)所表示的化合物的含量设定为稍多则效果好。进一步，改善滴痕、烧屏特性的情况下，优选将含量范围设为中等。
相对于本实施方式的组合物的总量，式(L-2)所表示的化合物的优选含量的下限值为1质量％以上，为2质量％以上，为3质量％以上，为5质量％以上，为7质量％以上，为10质量％以上。相对于本实施方式的组合物的总量，优选含量的上限值为20质量％以下，为15质量％以下，为13质量％以下，为10质量％以下，为8质量％以下，为7质量％以下，为6质量％以下，为5质量％以下，为3质量％以下。
进一步，通式(L-2)所表示的化合物优选为选自式(L-2.1)至式(L-2.6)所表示的化合物组中的化合物，优选为式(L-2.1)、式(L-2.3)、式(L-2.4)和式(L-2.6)所表示的化合物。
[化23]
通式(L-3)所表示的化合物为下述化合物。
[化24]
(式中，RL31和RL32各自独立地表示与通式(L)中的RL1和RL2相同的意思。)
RL31和RL32各自独立地优选为碳原子数1～5的烷基、碳原子数4～5的烯基或碳原子数1～4的烷氧基。
通式(L-3)所表示的化合物可以单独使用，也可以组合使用2种以上化合物。能够组合的化合物的种类没有特别限制，根据低温下的溶解性、转变温度、电可靠性、双折射率等所需的性能适当组合使用。关于所使用的化合物的种类，例如，作为一个实施方式，为1种，为2种，为3种，为4种，为5种以上。
相对于本实施方式的组合物的总量，式(L-3)所表示的化合物的优选含量的下限值为1质量％以上，为2质量％以上，为3质量％以上，为5质量％以上，为7质量％以上，为10质量％以上。相对于本实施方式的组合物的总量，优选含量的上限值为20质量％以下，为15质量％以下，为13质量％以下，为10质量％以下，为8质量％以下，为7质量％以下，为6质量％以下，为5质量％以下，为3质量％以下。
获得高双折射率的情况下，将含量设定为稍多则效果好；相反，重视高Tni的情况下，将含量设定为稍少则效果好。进一步，改善滴痕、烧屏特性的情况下，优选将含量范围设为中等。
进一步，通式(L-3)所表示的化合物优选为选自式(L-3.1)至式(L-3.7)所表示的化合物组中的化合物，优选为式(L-3.2)至式(L-3.7)所表示的化合物。
[化25]
通式(L-4)所表示的化合物为下述化合物。
[化26]
(式中，RL41和RL42各自独立地表示与通式(L)中的RL1和RL2相同的意思。)
RL41优选为碳原子数1～5的烷基或碳原子数2～5的烯基，RL42优选为碳原子数1～5的烷基、碳原子数4～5的烯基或碳原子数1～4的烷氧基。)
通式(L-4)所表示的化合物可以单独使用，也可以组合使用2种以上化合物。能够组合的化合物的种类没有特别限制，根据低温下的溶解性、转变温度、电可靠性、双折射率等所需的性能适当组合使用。关于所使用的化合物的种类，例如，作为一个实施方式，为1种，为2种，为3种，为4种，为5种以上。
本实施方式的组合物中，通式(L-4)所表示的化合物的含量需要根据低温下的溶解性、转变温度、电可靠性、双折射率、工艺适应性、滴痕、烧屏、介电常数各向异性等所需的性能适当调整。
相对于本实施方式的组合物的总量，式(L-4)所表示的化合物的优选含量的下限值为1质量％以上，为2质量％以上，为3质量％以上，为5质量％以上，为7质量％以上，为10质量％以上，为14质量％以上，为16质量％以上，为20质量％以上，为23质量％以上，为26质量％以上，为30质量％以上，为35质量％以上，为40质量％以上。相对于本实施方式的组合物的总量，式(L-4)所表示的化合物的优选含量的上限值为50质量％以下，为40质量％以下，为35质量％以下，为30质量％以下，为20质量％以下，为15质量％以下，为10质量％以下，为5质量％以下。
通式(L-4)所表示的化合物例如优选为式(L-4.1)至式(L-4.3)所表示的化合物。
[化27]
根据低温下的溶解性、转变温度、电可靠性、双折射率等所需的性能，可以含有式(L-4.1)所表示的化合物，可以含有式(L-4.2)所表示的化合物，可以含有式(L-4.1)所表示的化合物和式(L-4.2)所表示的化合物两者，也可以式(L-4.1)至式(L-4.3)所表示的化合物全部含有。
相对于本实施方式的组合物的总量，式(L-4.1)或式(L-4.2)所表示的化合物的优选含量的下限值为3质量％以上，为5质量％以上，为7质量％以上，为9质量％以上，为11质量％以上，为12质量％以上，为13质量％以上，为18质量％以上，为21质量％以上。优选含量的上限值为45质量％以下，为40质量％以下，为35质量％以下，为30质量％以下，为25质量％以下，为23质量％以下，为20质量％以下，为18质量％以下，为15质量％以下，为13质量％以下，为10质量％以下，为8质量％以下。
含有式(L-4.1)所表示的化合物和式(L-4.2)所表示的化合物两者的情况下，相对于本实施方式的组合物的总量，两化合物的优选含量的下限值为15质量％以上，为19质量％以上，为24质量％以上，为30质量％以上。优选含量的上限值为45质量％以下，为40质量％以下，为35质量％以下，为30质量％以下，为25质量％以下，为23质量％以下，为20质量％以下，为18质量％以下，为15质量％以下，为13质量％以下。
通式(L-4)所表示的化合物例如优选为式(L-4.4)至式(L-4.6)所表示的化合物，优选为式(L-4.4)所表示的化合物。
[化28]
根据低温下的溶解性、转变温度、电可靠性、双折射率等所需的性能，可以含有式(L-4.4)所表示的化合物，可以含有式(L-4.5)所表示的化合物，也可以含有式(L-4.4)所表示的化合物和式(L-4.5)所表示的化合物两者。
相对于本实施方式的组合物的总量，式(L-4.4)或式(L-4.5)所表示的化合物的优选含量的下限值为3质量％以上，为5质量％以上，为7质量％以上，为9质量％以上，为11质量％以上，为12质量％以上，为13质量％以上，为18质量％以上，为21质量％以上。优选的上限值为45质量％以下，为40质量％以下，为35质量％以下，为30质量％以下，为25质量％以下，为23质量％以下，为20质量％以下，为18质量％以下，为15质量％以下，为13质量％以下，为10质量％以下，为8质量％以下。
含有式(L-4.4)所表示的化合物和式(L-4.5)所表示的化合物两者的情况下，相对于本实施方式的组合物的总量，两化合物的优选含量的下限值为15质量％以上，为19质量％以上，为24质量％以上，为30质量％以上；优选的上限值为45质量％以下，为40质量％以下，为35质量％以下，为30质量％以下，为25质量％以下，为23质量％以下，为20质量％以下，为18质量％以下，为15质量％以下，为13质量％以下。
通式(L-4)所表示的化合物优选为式(L-4.7)至式(L-4.10)所表示的化合物，特别优选为式(L-4.9)所表示的化合物。
[化29]
通式(L-5)所表示的化合物为下述化合物。
[化30]
(式中，RL51和RL52各自独立地表示与通式(L)中的RL1和RL2相同的意思。)
RL51优选为碳原子数1～5的烷基或碳原子数2～5的烯基，RL52优选为碳原子数1～5的烷基、碳原子数4～5的烯基或碳原子数1～4的烷氧基。
通式(L-5)所表示的化合物可以单独使用，也可以组合使用2种以上化合物。能够组合的化合物的种类没有特别限制，根据低温下的溶解性、转变温度、电可靠性、双折射率等所需的性能适当组合使用。关于所使用的化合物的种类，例如，作为一个实施方式，为1种，为2种，为3种，为4种，为5种以上。
本实施方式的组合物中，通式(L-5)所表示的化合物的含量需要根据低温下的溶解性、转变温度、电可靠性、双折射率、工艺适应性、滴痕、烧屏、介电常数各向异性等所需的性能适当调整。
相对于本实施方式的组合物的总量，式(L-5)所表示的化合物的优选含量的下限值为1质量％以上，为2质量％以上，为3质量％以上，为5质量％以上，为7质量％以上，为10质量％以上，为14质量％以上，为16质量％以上，为20质量％以上，为23质量％以上，为26质量％以上，为30质量％以上，为35质量％以上，为40质量％以上。相对于本实施方式的组合物的总量，式(L-5)所表示的化合物的优选含量的上限值为50质量％以下，为40质量％以下，为35质量％以下，为30质量％以下，为20质量％以下，为15质量％以下，为10质量％以下，为5质量％以下。
通式(L-5)所表示的化合物优选为式(L-5.1)或式(L-5.2)所表示的化合物，特别优选为式(L-5.1)所表示的化合物。
[化31]
相对于本实施方式的组合物的总量，这些化合物的优选含量的下限值为1质量％以上，为2质量％以上，为3质量％以上，为5质量％以上，为7质量％以上。这些化合物的优选含量的上限值为20质量％以下，为15质量％以下，为13质量％以下，为10质量％以下，为9质量％以下。
通式(L-5)所表示的化合物优选为式(L-5.3)或式(L-5.4)所表示的化合物。
[化32]
相对于本实施方式的组合物的总量，这些化合物的优选含量的下限值为1质量％以上，为2质量％以上，为3质量％以上，为5质量％以上，为7质量％以上。这些化合物的优选含量的上限值为20质量％以下，为15质量％以下，为13质量％以下，为10质量％以下，为9质量％以下。
通式(L-5)所表示的化合物优选为选自式(L-5.5)至式(L-5.7)所表示的化合物组中的化合物，特别优选为式(L-5.7)所表示的化合物。
[化33]
相对于本实施方式的组合物的总量，这些化合物的优选含量的下限值为1质量％以上，为2质量％以上，为3质量％以上，为5质量％以上，为7质量％以上。这些化合物的优选含量的上限值为20质量％以下，为15质量％以下，为13质量％以下，为10质量％以下，为9质量％以下。
通式(L-6)所表示的化合物为下述化合物。
[化34]
(式中，RL61和RL62各自独立地表示与通式(L)中的RL1和RL2相同的意思，XL61和XL62各自独立地表示氢原子或氟原子。)
RL61和RL62各自独立地优选为碳原子数1～5的烷基或碳原子数2～5的烯基，优选XL61和XL62中的一个为氟原子、另一个为氢原子。
通式(L-6)所表示的化合物可以单独使用，也可以组合使用2种以上化合物。能够组合的化合物的种类没有特别限制，根据低温下的溶解性、转变温度、电可靠性、双折射率等所需的性能适当组合使用。关于所使用的化合物的种类，例如，作为一个实施方式，为1种，为2种，为3种，为4种，为5种以上。
相对于本实施方式的组合物的总量，式(L-6)所表示的化合物的优选含量的下限值为1质量％以上，为2质量％以上，为3质量％以上，为5质量％以上，为7质量％以上，为10质量％以上，为14质量％以上，为16质量％以上，为20质量％以上，为23质量％以上，为26质量％以上，为30质量％以上，为35质量％以上，为40质量％以上。相对于本实施方式的组合物的总量，式(L-6)所表示的化合物的优选含量的上限值为50质量％以下，为40质量％以下，为35质量％以下，为30质量％以下，为20质量％以下，为15质量％以下，为10质量％以下，为5质量％以下。重点在于增大Δn的情况下，较优选增加含量；重点在于低温下的析出的情况下，较优选含量少。
通式(L-6)所表示的化合物优选为式(L-6.1)至式(L-6.9)所表示的化合物。
[化35]
能够组合的化合物的种类没有特别限制，优选含有来自这些化合物的1种～3种，进一步优选含有1种～4种。此外，所选化合物的分子量分布宽也对溶解性是有效的，因此，优选例如从式(L-6.1)或(L-6.2)所表示的化合物选择一种、从式(L-6.4)或(L-6.5)所表示的化合物选择一种、从式(L-6.6)或式(L-6.7)所表示的化合物选择一种、从式(L-6.8)或(L-6.9)所表示的化合物选择一种化合物，并将它们适当组合。其中，优选含有式(L-6.1)、式(L-6.3)、式(L-6.4)、式(L-6.6)和式(L-6.9)所表示的化合物。
进一步，通式(L-6)所表示的化合物例如优选为式(L-6.10)至式(L-6.17)所表示的化合物，其中，优选为式(L-6.11)所表示的化合物。
[化36]
相对于本实施方式的组合物的总量，这些化合物的优选含量的下限值为1质量％以上，为2质量％以上，为3质量％以上，为5质量％以上，为7质量％以上。这些化合物的优选含量的上限值为20质量％以下，为15质量％以下，为13质量％以下，为10质量％以下，为9质量％以下。
通式(L-7)所表示的化合物为下述化合物。
[化37]
(式中，RL71和RL72各自独立地表示与通式(L)中的RL1和RL2相同的意思，AL71和AL72各自独立地表示与通式(L)中的AL2和AL3相同的意思，AL71和AL72上的氢原子各自独立地可被氟原子取代，ZL71表示与通式(L)中的ZL2相同的意思，XL71和XL72各自独立地表示氟原子或氢原子。)
式中，RL71和RL72各自独立地优选为碳原子数1～5的烷基、碳原子数2～5的烯基或碳原子数1～4的烷氧基，AL71和AL72各自独立地优选为1,4-亚环己基或1,4-亚苯基，AL71和AL72上的氢原子各自独立地可被氟原子取代，ZL71优选为单键或-COO-，优选为单键，XL71和XL72优选为氢原子。
能够组合的化合物的种类没有特别限制，根据低温下的溶解性、转变温度、电可靠性、双折射率等所需的性能而组合。关于所使用的化合物的种类，例如，作为一个实施方式，为1种，为2种，为3种，为4种。
本实施方式的组合物中，通式(L-7)所表示的化合物的含量需要根据低温下的溶解性、转变温度、电可靠性、双折射率、工艺适应性、滴痕、烧屏、介电常数各向异性等所需的性能适当调整。
相对于本实施方式的组合物的总量，式(L-7)所表示的化合物的优选含量的下限值为1质量％以上，为2质量％以上，为3质量％以上，为5质量％以上，为7质量％以上，为10质量％以上，为14质量％以上，为16质量％以上，为20质量％以上。相对于本实施方式的组合物的总量，式(L-7)所表示的化合物的优选含量的上限值为30质量％以下，为25质量％以下，为23质量％以下，为20质量％以下，为18质量％以下，为15质量％以下，为10质量％以下，为5质量％以下。
本实施方式的组合物在期望高Tni的实施方式时，优选增加式(L-7)所表示的化合物的含量；在期望低粘度的实施方式时，优选使含量少。
进一步，通式(L-7)所表示的化合物优选为式(L-7.1)至式(L-7.4)所表示的化合物，优选为式(L-7.2)所表示的化合物。
[化38]
进一步，通式(L-7)所表示的化合物优选为式(L-7.11)至式(L-7.13)所表示的化合物，优选为式(L-7.11)所表示的化合物。
[化39]
进一步，通式(L-7)所表示的化合物为式(L-7.21)至式(L-7.23)所表示的化合物。优选为式(L-7.21)所表示的化合物。
[化40]
进一步，通式(L-7)所表示的化合物优选为式(L-7.31)至式(L-7.34)所表示的化合物，优选为式(L-7.31)或/和式(L-7.32)所表示的化合物。
[化41]
进一步，通式(L-7)所表示的化合物优选为式(L-7.41)至式(L-7.44)所表示的化合物，优选为式(L-7.41)或/和式(L-7.42)所表示的化合物。
[化42]
进一步，通式(L-7)所表示的化合物优选为式(L-7.51)至式(L-7.53)所表示的化合物。
[化43]
液晶化合物也可以为选自由下述式(N-1)、(N-2)、(N-3)或(N-4)所表示的化合物组成的组中的化合物。
[化44]
式(N-1)、(N-2)、(N-3)和(N-4)中，
RN11、RN12、RN21、RN22、RN31、RN32、RN41和RN42各自独立地表示碳原子数1～8的烷基，该烷基中的1个或不相邻的2个以上-CH2-各自独立地可被-CH＝CH-、-C≡C-、-O-、-CO-、-COO-或-OCO-取代，
AN11、AN12、AN21、AN22、AN31、AN32、AN41和AN42各自独立地表示选自由如下基团组成的组中的基团，
(a)1,4-亚环己基(存在于该基团中的1个-CH2-或不相邻的2个以上-CH2-可被-O-取代。)、
(b)1,4-亚苯基(存在于该基团中的1个-CH＝或不相邻的2个以上-CH＝可被-N＝取代。)、
(c)萘-2,6-二基、1,2,3,4-四氢化萘-2,6-二基或十氢化萘-2,6-二基(萘-2,6-二基或1,2,3,4-四氢化萘-2,6-二基中存在的1个-CH＝或不相邻的2个以上-CH＝可被-N＝取代。)和
(d)1,4-亚环己烯基
基团(a)、基团(b)、基团(c)和基团(d)中的氢原子各自独立地可被氰基、氟原子或氯原子取代，
ZN11、ZN12、ZN21、ZN22、ZN31、ZN32、ZN41和ZN42各自独立地表示单键、-CH2CH2-、-(CH2)4-、-OCH2-、-CH2O-、-COO-、-OCO-、-OCF2-、-CF2O-、-CH＝N-N＝CH-、-CH＝CH-、-CF＝CF-或-C≡C-，
XN21表示氢原子或氟原子，
TN31表示-CH2-或氧原子，
XN41表示氧原子、氮原子或-CH2-，
YN41表示单键或-CH2-，
nN11、nN12、nN21、nN22、nN31、nN32、nN41、和nN42各自独立地表示0～3的整数，nN11+nN12、nN21+nN22和nN31+nN32各自独立地为1、2或3，AN11～AN32和ZN11～ZN32分别存在多个的情况下，它们可以彼此相同也可以不同，nN41+nN42表示0～3的整数，AN41、AN42、ZN41和ZN42分别存在多个的情况下，它们可以彼此相同也可以不同。
其中，上述通式(L)所表示的化合物除外。
通式(N-1)、(N-2)和(N-3)中的任一个所表示的化合物优选为Δε为负且其绝对值比3大的化合物。
通式(N-1)、(N-2)和(N-3)中，RN11、RN12、RN21、RN22、RN31和RN32各自独立地优选为碳原子数1～8的烷基、碳原子数1～8的烷氧基、碳原子数2～8的烯基或碳原子数2～8的烯氧基，优选为碳原子数1～5的烷基、碳原子数1～5的烷氧基、碳原子数2～5的烯基或碳原子数2～5的烯氧基，进一步优选为碳原子数1～5的烷基或碳原子数2～5的烯基，进一步优选为碳原子数2～5的烷基或碳原子数2～3的烯基，特别优选为碳原子数3的烯基(丙烯基)。
此外，在其结合的环结构为苯基(芳香族)的情况下，优选为直链状的碳原子数1～5的烷基、直链状的碳原子数1～4的烷氧基和碳原子数4～5的烯基；在其结合的环结构为环己烷、吡喃和二
烷等饱和环结构的情况下，优选为直链状的碳原子数1～5的烷基、直链状的碳原子数1～4的烷氧基和直链状的碳原子数2～5的烯基。为了使向列相稳定，碳原子和存在氧原子的情况下与氧原子的合计优选为5以下，优选为直链状。
作为烯基，优选选自式(R1)至式(R5)中的任一个所表示的基团(各式中的黑点表示结合键。)。
[化45]
需要增大Δn的情况下，AN11、AN12、AN21、AN22、AN31和AN32各自独立地优选为芳香族；为了改善响应速度，优选为脂肪族；优选表示反式1,4-亚环己基、1,4-亚苯基、2-氟-1,4-亚苯基、3-氟-1,4-亚苯基、3,5-二氟-1,4-亚苯基、2,3-二氟-1,4-亚苯基、1,4-亚环己烯基、1,4-二环[2.2.2]亚辛基、哌啶-1,4-二基、萘-2,6-二基、十氢化萘-2,6-二基或1,2,3,4-四氢化萘-2,6-二基，更优选表示下述结构：
[化46]
更优选表示反式1,4-亚环己基、1,4-亚环己烯基或1,4-亚苯基。
ZN11、ZN12、ZN21、ZN22、ZN31和ZN32各自独立地优选表示-CH2O-、-CF2O-、-CH2CH2-、-CF2CF2-或单键，进一步优选为-CH2O-、-CH2CH2-或单键，特别优选为-CH2O-或单键。
XN21优选为氟原子。
TN31优选为氧原子。
nN11+nN12、nN21+nN22和nN31+nN32优选为1或2，优选nN11为1且nN12为0的组合、nN11为2且nN12为0的组合、nN11为1且nN12为1的组合、nN11为2且nN12为1的组合、nN21为1且nN22为0的组合、nN21为2且nN22为0的组合、nN31为1且nN32为0的组合、nN31为2且nN32为0的组合。
相对于本实施方式的组合物的总量，式(N-1)所表示的化合物的优选含量的下限值为1质量％以上，为10质量％以上，为20质量％以上，为30质量％以上，为40质量％以上，为50质量％以上，为55质量％以上，为60质量％以上，为65质量％以上，为70质量％以上，为75质量％以上，为80质量％以上。优选含量的上限值为95质量％以下，为85质量％以下，为75质量％以下，为65质量％以下，为55质量％以下，为45质量％以下，为35质量％以下，为25质量％以下，为20质量％以下。
相对于本实施方式的组合物的总量，式(N-2)所表示的化合物的优选含量的下限值为1质量％以上，为10质量％以上，为20质量％以上，为30质量％以上，为40质量％以上，为50质量％以上，为55质量％以上，为60质量％以上，为65质量％以上，为70质量％以上，为75质量％以上，为80质量％以上。优选含量的上限值为95质量％以下，为85质量％以下，为75质量％以下，为65质量％以下，为55质量％以下，为45质量％以下，为35质量％以下，为25质量％以下，为20质量％以下。
相对于本实施方式的组合物的总量，式(N-3)所表示的化合物的优选含量的下限值为1质量％以上，为10质量％以上，为20质量％以上，为30质量％以上，为40质量％以上，为50质量％以上，为55质量％以上，为60质量％以上，为65质量％以上，为70质量％以上，为75质量％以上，为80质量％以上。优选含量的上限值为95质量％以下，为85质量％以下，为75质量％以下，为65质量％以下，为55质量％以下，为45质量％以下，为35质量％以下，为25质量％以下，为20质量％以下。
保持本实施方式的组合物的粘度低、需要响应速度快的组合物的情况下，优选上述下限值低且上限值低。进一步，保持本实施方式的组合物的Tni高、需要温度稳定性好的组合物的情况下，优选上述下限值低且上限值低。此外，在为了保持驱动电压低而想要增大介电常数各向异性时，优选使上述下限值高且上限值高。
作为通式(N-1)所表示的化合物，可以列举下述通式(N-1a)～(N-1g)所表示的化合物组。
[化47]
(式中，RN11和RN12表示与通式(N-1)中的RN11和RN12相同的意思，nNa11表示0或1，nNb11表示0或1，nNc11表示0或1，nNd11表示1或2，nNe11表示1或2，nNf11表示1或2，nNg11表示1或2，ANe11表示反式1,4-亚环己基或1,4-亚苯基，ANg11表示反式1,4-亚环己基、1,4-亚环己烯基或1,4-亚苯基，至少1个表示1,4-亚环己烯基，ZNe11表示单键或亚乙基，但至少1个表示亚乙基。)
更具体地，通式(N-1)所表示的化合物优选为选自通式(N-1-1)～(N-1-21)所表示的化合物组中的化合物。
通式(N-1-1)所表示的化合物为下述化合物。
[化48]
(式中，RN111和RN112各自独立地表示与通式(N)中的RN11和RN12相同的意思。)
RN111优选为碳原子数1～5的烷基或碳原子数2～5的烯基，优选为丙基、戊基或乙烯基。RN112优选为碳原子数1～5的烷基、碳原子数4～5的烯基或碳原子数1～4的烷氧基，优选为乙氧基或丁氧基。
通式(N-1-1)所表示的化合物可以单独使用，也可以组合使用2种以上化合物。能够组合的化合物的种类没有特别限制，根据低温下的溶解性、转变温度、电可靠性、双折射率等所需的性能适当组合使用。关于所使用的化合物的种类，例如，作为一个实施方式，为1种，为2种，为3种，为4种，为5种以上。
重视Δε的改善的情况下，优选将含量设定为稍高；重视低温下的溶解性的情况下，将含量设定为稍多则效果好；重视TNI的情况下，将含量设定为稍少则效果好。进一步，改善滴痕、烧屏特性的情况下，优选将含量范围设为中等。
相对于本实施方式的组合物的总量，式(N-1-1)所表示的化合物的优选含量的下限值为5质量％以上，为10质量％以上，为13质量％以上，为15质量％以上，为17质量％以上，为20质量％以上，为23质量％以上，为25质量％以上，为27质量％以上，为30质量％以上，为33质量％以上，为35质量％以上。相对于本实施方式的组合物的总量，优选含量的上限值为50质量％以下，为40质量％以下，为38质量％以下，为35质量％以下，为33质量％以下，为30质量％以下，为28质量％以下，为25质量％以下，为23质量％以下，为20质量％以下，为18质量％以下，为15质量％以下，为13质量％以下，为10质量％以下，为8质量％以下，为7质量％以下，为6质量％以下，为5质量％以下，为3质量％以下。
进一步，通式(N-1-1)所表示的化合物优选为选自式(N-1-1.1)至式(N-1-1.23)所表示的化合物组中的化合物，优选为式(N-1-1.1)～(N-1-1.4)所表示的化合物，优选为式(N-1-1.1)和式(N-1-1.3)所表示的化合物。
[化49]
式(N-1-1.1)～(N-1-1.22)所表示的化合物可以单独使用，也可以组合使用，相对于本实施方式的组合物的总量，单独或这些化合物的优选含量的下限值为5质量％以上，为10质量％以上，为13质量％以上，为15质量％以上，为17质量％以上，为20质量％以上，为23质量％以上，为25质量％以上，为27质量％以上，为30质量％以上，为33质量％以上，为35质量％以上。相对于本实施方式的组合物的总量，优选含量的上限值为50质量％以下，为40质量％以下，为38质量％以下，为35质量％以下，为33质量％以下，为30质量％以下，为28质量％以下，为25质量％以下，为23质量％以下，为20质量％以下，为18质量％以下，为15质量％以下，为13质量％以下，为10质量％以下，为8质量％以下，为7质量％以下，为6质量％以下，为5质量％以下，为3质量％以下。
通式(N-1-2)所表示的化合物为下述化合物。
[化50]
(式中，RN121和RN122各自独立地表示与通式(N)中的RN11和RN12相同的意思。)
RN121优选为碳原子数1～5的烷基或碳原子数2～5的烯基，优选为乙基、丙基、丁基或戊基。RN122优选为碳原子数1～5的烷基、碳原子数4～5的烯基或碳原子数1～4的烷氧基，优选为甲基、丙基、甲氧基、乙氧基或丙氧基。
通式(N-1-2)所表示的化合物可以单独使用，也可以组合使用2种以上化合物。能够组合的化合物的种类没有特别限制，根据低温下的溶解性、转变温度、电可靠性、双折射率等所需的性能适当组合使用。关于所使用的化合物的种类，例如，作为一个实施方式，为1种，为2种，为3种，为4种，为5种以上。
重视Δε的改善的情况下，优选将含量设定为稍高；重视低温下的溶解性的情况下，将含量设定为稍少则效果好；重视TNI的情况下，将含量设定为稍多则效果好。进一步，改善滴痕、烧屏特性的情况下，优选将含量范围设为中等。
相对于本实施方式的组合物的总量，式(N-1-2)所表示的化合物的优选含量的下限值为5质量％以上，为7质量％以上，为10质量％以上，为13质量％以上，为15质量％以上，为17质量％以上，为20质量％以上，为23质量％以上，为25质量％以上，为27质量％以上，为30质量％以上，为33质量％以上，为35质量％以上，为37质量％以上，为40质量％以上，为42质量％以上。相对于本实施方式的组合物的总量，优选含量的上限值为50质量％以下，为48质量％以下，为45质量％以下，为43质量％以下，为40质量％以下，为38质量％以下，为35质量％以下，为33质量％以下，为30质量％以下，为28质量％以下，为25质量％以下，为23质量％以下，为20质量％以下，为18质量％以下，为15质量％以下，为13质量％以下，为10质量％以下，为8质量％以下，为7质量％以下，为6质量％以下，为5质量％以下。
进一步，通式(N-1-2)所表示的化合物优选为选自式(N-1-2.1)至式(N-1-2.22)所表示的化合物组中的化合物，优选为式(N-1-2.3)至式(N-1-2.7)、式(N-1-2.10)、式(N-1-2.11)、式(N-1-2.13)和式(N-1-2.20)所表示的化合物；重视Δε的改良的情况下，优选为式(N-1-2.3)至式(N-1-2.7)所表示的化合物；重视TNI的改良的情况下，优选为式(N-1-2.10)、式(N-1-2.11)和式(N-1-2.13)所表示的化合物；重视响应速度的改良的情况下，优选为式(N-1-2.20)所表示的化合物。
[化51]
式(N-1-2.1)至式(N-1-2.22)所表示的化合物可以单独使用，也可以组合使用，相对于本实施方式的组合物的总量，单独或这些化合物的优选含量的下限值为5质量％以上，为10质量％以上，为13质量％以上，为15质量％以上，为17质量％以上，为20质量％以上，为23质量％以上，为25质量％以上，为27质量％以上，为30质量％以上，为33质量％以上，为35质量％以上。相对于本实施方式的组合物的总量，优选含量的上限值为50质量％以下，为40质量％以下，为38质量％以下，为35质量％以下，为33质量％以下，为30质量％以下，为28质量％以下，为25质量％以下，为23质量％以下，为20质量％以下，为18质量％以下，为15质量％以下，为13质量％以下，为10质量％以下，为8质量％以下，为7质量％以下，为6质量％以下，为5质量％以下，为3质量％以下。
通式(N-1-3)所表示的化合物为下述化合物。
[化52]
(式中，RN131和RN132各自独立地表示与通式(N)中的RN11和RN12相同的意思。)
RN131优选为碳原子数1～5的烷基或碳原子数2～5的烯基，优选为乙基、丙基或丁基。RN132优选为碳原子数1～5的烷基、碳原子数3～5的烯基或碳原子数1～4的烷氧基，优选为1-丙烯基、乙氧基、丙氧基或丁氧基。
通式(N-1-3)所表示的化合物可以单独使用，也可以组合使用2种以上化合物。能够组合的化合物的种类没有特别限制，根据低温下的溶解性、转变温度、电可靠性、双折射率等所需的性能适当组合使用。关于所使用的化合物的种类，例如，作为一个实施方式，为1种，为2种，为3种，为4种，为5种以上。
重视Δε的改善的情况下，优选将含量设定为稍高；重视低温下的溶解性的情况下，将含量设定为稍多则效果好；重视TNI的情况下，将含量设定为稍多则效果好。进一步，改善滴痕、烧屏特性的情况下，优选将含量范围设为中等。
相对于本实施方式的组合物的总量，式(N-1-3)所表示的化合物的优选含量的下限值为5质量％以上，为10质量％以上，为13质量％以上，为15质量％以上，为17质量％以上，为20质量％以上。相对于本实施方式的组合物的总量，优选含量的上限值为35质量％以下，为30质量％以下，为28质量％以下，为25质量％以下，为23质量％以下，为20质量％以下，为18质量％以下，为15质量％以下，为13质量％以下。
进一步，通式(N-1-3)所表示的化合物优选为选自式(N-1-3.1)至式(N-1-3.21)所表示的化合物组中的化合物，优选为式(N-1-3.1)～(N-1-3.7)和式(N-1-3.21)所表示的化合物，优选为式(N-1-3.1)、式(N-1-3.2)、式(N-1-3.3)、式(N-1-3.4)和式(N-1-3.6)所表示的化合物。
[化53]
式(N-1-3.1)～式(N-1-3.4)、式(N-1-3.6)和式(N-1-3.21)所表示的化合物可以单独使用，也可以组合使用，优选为式(N-1-3.1)和式(N-1-3.2)的组合、选自式(N-1-3.3)、式(N-1-3.4)和式(N-1-3.6)的2种或3种的组合。相对于本实施方式的组合物的总量，单独或这些化合物的优选含量的下限值为5质量％以上，为10质量％以上，为13质量％以上，为15质量％以上，为17质量％以上，为20质量％以上。相对于本实施方式的组合物的总量，优选含量的上限值为35质量％以下，为30质量％以下，为28质量％以下，为25质量％以下，为23质量％以下，为20质量％以下，为18质量％以下，为15质量％以下，为13质量％以下。
通式(N-1-4)所表示的化合物为下述化合物。
[化54]
(式中，RN141和RN142各自独立地表示与通式(N)中的RN11和RN12相同的意思。)
RN141和RN142各自独立地优选为碳原子数1～5的烷基、碳原子数4～5的烯基或碳原子数1～4的烷氧基，优选为甲基、丙基、乙氧基或丁氧基。
通式(N-1-4)所表示的化合物可以单独使用，也可以组合使用2种以上化合物。能够组合的化合物的种类没有特别限制，根据低温下的溶解性、转变温度、电可靠性、双折射率等所需的性能适当组合使用。关于所使用的化合物的种类，例如，作为一个实施方式，为1种，为2种，为3种，为4种，为5种以上。
重视Δε的改善的情况下，优选将含量设定为稍高；重视低温下的溶解性的情况下，将含量设定为稍多则效果好；重视TNI的情况下，将含量设定为稍少则效果好。进一步，改善滴痕、烧屏特性的情况下，优选将含量范围设为中等。
相对于本实施方式的组合物的总量，式(N-1-4)所表示的化合物的优选含量的下限值为3质量％以上，为5质量％以上，为7质量％以上，为10质量％以上，为13质量％以上，为15质量％以上，为17质量％以上，为20质量％以上。相对于本实施方式的组合物的总量，优选含量的上限值为35质量％以下，为30质量％以下，为28质量％以下，为25质量％以下，为23质量％以下，为20质量％以下，为18质量％以下，为15质量％以下，为13质量％以下，为11质量％以下，为10质量％以下，为8质量％以下。
进一步，通式(N-1-4)所表示的化合物优选为选自式(N-1-4.1)至式(N-1-4.14)所表示的化合物组中的化合物，优选为式(N-1-4.1)～(N-1-4.4)所表示的化合物，优选为式(N-1-4.1)、式(N-1-4.2)和式(N-1-4.4)所表示的化合物。
[化55]
式(N-1-4.1)～(N-1-4.14)所表示的化合物可以单独使用，也可以组合使用，相对于本实施方式的组合物的总量，单独或这些化合物的优选含量的下限值为3质量％以上，为5质量％以上，为7质量％以上，为10质量％以上，为13质量％以上，为15质量％以上，为17质量％以上，为20质量％以上。相对于本实施方式的组合物的总量，优选含量的上限值为35质量％以下，为30质量％以下，为28质量％以下，为25质量％以下，为23质量％以下，为20质量％以下，为18质量％以下，为15质量％以下，为13质量％以下，为11质量％以下，为10质量％以下，为8质量％以下。
通式(N-1-5)所表示的化合物为下述化合物。
[化56]
(式中，RN151和RN152各自独立地表示与通式(N)中的RN11和RN12相同的意思。)
RN151和RN152各自独立地优选为碳原子数1～5的烷基、碳原子数4～5的烯基或碳原子数1～4的烷氧基，优选为乙基、丙基或丁基。
通式(N-1-5)所表示的化合物可以单独使用，也可以组合使用2种以上化合物。能够组合的化合物的种类没有特别限制，根据低温下的溶解性、转变温度、电可靠性、双折射率等所需的性能适当组合使用。关于所使用的化合物的种类，例如，作为一个实施方式，为1种，为2种，为3种，为4种，为5种以上。
重视Δε的改善的情况下，优选将含量设定为稍高；重视低温下的溶解性的情况下，将含量设定为稍少则效果好；重视TNI的情况下，将含量设定为稍多则效果好。进一步，改善滴痕、烧屏特性的情况下，优选将含量范围设为中等。
相对于本实施方式的组合物的总量，式(N-1-5)所表示的化合物的优选含量的下限值为5质量％以上，为8质量％以上，为10质量％以上，为13质量％以上，为15质量％以上，为17质量％以上，为20质量％以上。相对于本实施方式的组合物的总量，优选含量的上限值为35质量％以下，为33质量％以下，为30质量％以下，为28质量％以下，为25质量％以下，为23质量％以下，为20质量％以下，为18质量％以下，为15质量％以下，为13质量％以下。
进一步，通式(N-1-5)所表示的化合物优选为选自式(N-1-5.1)至式(N-1-5.6)所表示的化合物组中的化合物，优选为式(N-1-5.1)、式(N-1-5.2)和式(N-1-5.4)所表示的化合物。
[化57]
式(N-1-5.1)、式(N-1-5.2)和式(N-1-5.4)所表示的化合物可以单独使用，也可以组合使用，相对于本实施方式的组合物的总量，单独或这些化合物的优选含量的下限值为5质量％以上，为8质量％以上，为10质量％以上，为13质量％以上，为15质量％以上，为17质量％以上，为20质量％以上。相对于本实施方式的组合物的总量，优选含量的上限值为35质量％以下，为33质量％以下，为30质量％以下，为28质量％以下，为25质量％以下，为23质量％以下，为20质量％以下，为18质量％以下，为15质量％以下，为13质量％以下。
通式(N-1-10)所表示的化合物为下述化合物。
[化58]
(式中，RN1101和RN1102各自独立地表示与通式(N)中的RN11和RN12相同的意思。)
RN1101优选为碳原子数1～5的烷基或碳原子数2～5的烯基，优选为乙基、丙基、丁基、乙烯基或1-丙烯基。RN1102优选为碳原子数1～5的烷基、碳原子数4～5的烯基或碳原子数1～4的烷氧基，优选为乙氧基、丙氧基或丁氧基。
通式(N-1-10)所表示的化合物可以单独使用，也可以组合使用2种以上化合物。能够组合的化合物的种类没有特别限制，根据低温下的溶解性、转变温度、电可靠性、双折射率等所需的性能适当组合使用。关于所使用的化合物的种类，例如，作为本实施方式的一个实施方式，为1种，为2种，为3种，为4种，为5种以上。
重视Δε的改善的情况下，优选将含量设定为稍高；重视低温下的溶解性的情况下，将含量设定为稍高则效果好；重视TNI的情况下，将含量设定为稍高则效果好。进一步，改善滴痕、烧屏特性的情况下，优选将含量范围设为中等。
相对于本实施方式的组合物的总量，式(N-1-10)所表示的化合物的优选含量的下限值为5质量％以上，为10质量％以上，为13质量％以上，为15质量％以上，为17质量％以上，为20质量％以上。相对于本实施方式的组合物的总量，优选含量的上限值为35质量％以下，为30质量％以下，为28质量％以下，为25质量％以下，为23质量％以下，为20质量％以下，为18质量％以下，为15质量％以下，为13质量％以下。
进一步，通式(N-1-10)所表示的化合物优选为选自式(N-1-10.1)至式(N-1-10.21)所表示的化合物组中的化合物，优选为式(N-1-10.1)～(N-1-10.5)、式(N-1-10.20)和式(N-1-10.21)所表示的化合物，优选为式(N-1-10.1)、式(N-1-10.2)、式(N-1-10.20)和式(N-1-10.21)所表示的化合物。
[化59]
式(N-1-10.1)、式(N-1-10.2)、式(N-1-10.20)和式(N-1-10.21)所表示的化合物可以单独使用，也可以组合使用，相对于本实施方式的组合物的总量，单独或这些化合物的优选含量的下限值为5质量％以上，为10质量％以上，为13质量％以上，为15质量％以上，为17质量％以上，为20质量％以上。相对于本实施方式的组合物的总量，优选含量的上限值为35质量％以下，为30质量％以下，为28质量％以下，为25质量％以下，为23质量％以下，为20质量％以下，为18质量％以下，为15质量％以下，为13质量％以下。
通式(N-1-11)所表示的化合物为下述化合物。
[化60]
(式中，RN1111和RN1112各自独立地表示与通式(N)中的RN11和RN12相同的意思。)
RN1111优选为碳原子数1～5的烷基或碳原子数2～5的烯基，优选为乙基、丙基、丁基、乙烯基或1-丙烯基。RN1112优选为碳原子数1～5的烷基、碳原子数4～5的烯基或碳原子数1～4的烷氧基，优选为乙氧基、丙氧基或丁氧基。
通式(N-1-11)所表示的化合物可以单独使用，也可以组合使用2种以上化合物。能够组合的化合物的种类没有特别限制，根据低温下的溶解性、转变温度、电可靠性、双折射率等所需的性能适当组合使用。关于所使用的化合物的种类，例如，作为一个实施方式，为1种，为2种，为3种，为4种，为5种以上。
重视Δε的改善的情况下，优选将含量设定为稍高；重视低温下的溶解性的情况下，将含量设定为稍低则效果好；重视TNI的情况下，将含量设定为稍高则效果好。进一步，改善滴痕、烧屏特性的情况下，优选将含量范围设为中等。
相对于本实施方式的组合物的总量，式(N-1-11)所表示的化合物的优选含量的下限值为5质量％以上，为10质量％以上，为13质量％以上，为15质量％以上，为17质量％以上，为20质量％以上。相对于本实施方式的组合物的总量，优选含量的上限值为35质量％以下，为30质量％以下，为28质量％以下，为25质量％以下，为23质量％以下，为20质量％以下，为18质量％以下，为15质量％以下，为13质量％以下。
进一步，通式(N-1-11)所表示的化合物优选为选自式(N-1-11.1)至式(N-1-11.15)所表示的化合物组中的化合物，优选为式(N-1-11.1)～(N-1-11.15)所表示的化合物，优选为式(N-1-11.2和式(N-1-11.4)所表示的化合物。
[化61]
式(N-1-11.2)和式(N-1-11.4)所表示的化合物可以单独使用，也可以组合使用，相对于本实施方式的组合物的总量，单独或这些化合物的优选含量的下限值为5质量％以上，为10质量％以上，为13质量％以上，为15质量％以上，为17质量％以上，为20质量％以上。相对于本实施方式的组合物的总量，优选含量的上限值为35质量％以下，为30质量％以下，为28质量％以下，为25质量％以下，为23质量％以下，为20质量％以下，为18质量％以下，为15质量％以下，为13质量％以下。
通式(N-1-12)所表示的化合物为下述化合物。
[化62]
(式中，RN1121和RN1122各自独立地表示与通式(N)中的RN11和RN12相同的意思。)
RN1121优选为碳原子数1～5的烷基或碳原子数2～5的烯基，优选为乙基、丙基或丁基。RN1122优选为碳原子数1～5的烷基、碳原子数4～5的烯基或碳原子数1～4的烷氧基，优选为乙氧基、丙氧基或丁氧基。
通式(N-1-12)所表示的化合物可以单独使用，也可以组合使用2种以上化合物。能够组合的化合物的种类没有特别限制，根据低温下的溶解性、转变温度、电可靠性、双折射率等所需的性能适当组合使用。关于所使用的化合物的种类，例如，作为一个实施方式，为1种，为2种，为3种，为4种，为5种以上。
重视Δε的改善的情况下，优选将含量设定为稍高；重视低温下的溶解性的情况下，将含量设定为稍多则效果好；重视TNI的情况下，将含量设定为稍多则效果好。进一步，改善滴痕、烧屏特性的情况下，优选将含量范围设为中等。
相对于本实施方式的组合物的总量，式(N-1-12)所表示的化合物的优选含量的下限值为5质量％以上，为10质量％以上，为13质量％以上，为15质量％以上，为17质量％以上，为20质量％以上。相对于本实施方式的组合物的总量，优选含量的上限值为35质量％以下，为30质量％以下，为28质量％以下，为25质量％以下，为23质量％以下，为20质量％以下，为18质量％以下，为15质量％以下，为13质量％以下。
通式(N-1-13)所表示的化合物为下述化合物。
[化63]
(式中，RN1131和RN1132各自独立地表示与通式(N)中的RN11和RN12相同的意思。)
RN1131优选为碳原子数1～5的烷基或碳原子数2～5的烯基，优选为乙基、丙基或丁基。RN1132优选为碳原子数1～5的烷基、碳原子数4～5的烯基或碳原子数1～4的烷氧基，优选为乙氧基、丙氧基或丁氧基。
通式(N-1-13)所表示的化合物可以单独使用，也可以组合使用2种以上化合物。能够组合的化合物的种类没有特别限制，根据低温下的溶解性、转变温度、电可靠性、双折射率等所需的性能适当组合使用。关于所使用的化合物的种类，例如，作为一个实施方式，为1种，为2种，为3种，为4种，为5种以上。
重视Δε的改善的情况下，优选将含量设定为稍高；重视低温下的溶解性的情况下，将含量设定为稍多则效果好；重视TNI的情况下，将含量设定为稍多则效果好。进一步，改善滴痕、烧屏特性的情况下，优选将含量范围设为中等。
相对于本实施方式的组合物的总量，式(N-1-13)所表示的化合物的优选含量的下限值为5质量％以上，为10质量％以上，为13质量％以上，为15质量％以上，为17质量％以上，为20质量％以上。相对于本实施方式的组合物的总量，优选含量的上限值为35质量％以下，为30质量％以下，为28质量％以下，为25质量％以下，为23质量％以下，为20质量％以下，为18质量％以下，为15质量％以下，为13质量％以下。
通式(N-1-14)所表示的化合物为下述化合物。
[化64]
(式中，RN1141和RN1142各自独立地表示与通式(N)中的RN11和RN12相同的意思。)
RN1141优选为碳原子数1～5的烷基或碳原子数2～5的烯基，优选为乙基、丙基或丁基。RN1142优选为碳原子数1～5的烷基、碳原子数4～5的烯基或碳原子数1～4的烷氧基，优选为乙氧基、丙氧基或丁氧基。
通式(N-1-14)所表示的化合物可以单独使用，也可以组合使用2种以上化合物。能够组合的化合物的种类没有特别限制，根据低温下的溶解性、转变温度、电可靠性、双折射率等所需的性能适当组合使用。关于所使用的化合物的种类，例如，作为本实施方式的一个实施方式，为1种，为2种，为3种，为4种，为5种以上。
重视Δε的改善的情况下，优选将含量设定为稍高；重视低温下的溶解性的情况下，将含量设定为稍多则效果好；重视TNI的情况下，将含量设定为稍多则效果好。进一步，改善滴痕、烧屏特性的情况下，优选将含量范围设为中等。
相对于本实施方式的组合物的总量，式(N-1-14)所表示的化合物的优选含量的下限值为5质量％以上，为10质量％以上，为13质量％以上，为15质量％以上，为17质量％以上，为20质量％以上。相对于本实施方式的组合物的总量，优选含量的上限值为35质量％以下，为30质量％以下，为28质量％以下，为25质量％以下，为23质量％以下，为20质量％以下，为18质量％以下，为15质量％以下，为13质量％以下。
通式(N-1-15)所表示的化合物为下述化合物。
[化65]
(式中，RN1151和RN1152各自独立地表示与通式(N)中的RN11和RN12相同的意思。)
RN1151优选为碳原子数1～5的烷基或碳原子数2～5的烯基，优选为乙基、丙基或丁基。RN1152优选为碳原子数1～5的烷基、碳原子数4～5的烯基或碳原子数1～4的烷氧基，优选为乙氧基、丙氧基或丁氧基。
通式(N-1-15)所表示的化合物可以单独使用，也可以组合使用2种以上化合物。能够组合的化合物的种类没有特别限制，根据低温下的溶解性、转变温度、电可靠性、双折射率等所需的性能适当组合使用。关于所使用的化合物的种类，例如，作为一个实施方式，为1种，为2种，为3种，为4种，为5种以上。
重视Δε的改善的情况下，优选将含量设定为稍高；重视低温下的溶解性的情况下，将含量设定为稍多则效果好；重视TNI的情况下，将含量设定为稍多则效果好。进一步，改善滴痕、烧屏特性的情况下，优选将含量范围设为中等。
相对于本实施方式的组合物的总量，式(N-1-15)所表示的化合物的优选含量的下限值为5质量％以上，为10质量％以上，为13质量％以上，为15质量％以上，为17质量％以上，为20质量％以上。相对于本实施方式的组合物的总量，优选含量的上限值为35质量％以下，为30质量％以下，为28质量％以下，为25质量％以下，为23质量％以下，为20质量％以下，为18质量％以下，为15质量％以下，为13质量％以下。
通式(N-1-16)所表示的化合物为下述化合物。
[化66]
(式中，RN1161和RN1162各自独立地表示与通式(N)中的RN11和RN12相同的意思。)
RN1161优选为碳原子数1～5的烷基或碳原子数2～5的烯基，优选为乙基、丙基或丁基。RN1162优选为碳原子数1～5的烷基、碳原子数4～5的烯基或碳原子数1～4的烷氧基，优选为乙氧基、丙氧基或丁氧基。
通式(N-1-16)所表示的化合物可以单独使用，也可以组合使用2种以上化合物。能够组合的化合物的种类没有特别限制，根据低温下的溶解性、转变温度、电可靠性、双折射率等所需的性能适当组合使用。关于所使用的化合物的种类，例如，作为一个实施方式，为1种，为2种，为3种，为4种，为5种以上。
重视Δε的改善的情况下，优选将含量设定为稍高；重视低温下的溶解性的情况下，将含量设定为稍多则效果好；重视TNI的情况下，将含量设定为稍多则效果好。进一步，改善滴痕、烧屏特性的情况下，优选将含量范围设为中等。
相对于本实施方式的组合物的总量，式(N-1-16)所表示的化合物的优选含量的下限值为5质量％以上，为10质量％以上，为13质量％以上，为15质量％以上，为17质量％以上，为20质量％以上。相对于本实施方式的组合物的总量，优选含量的上限值为35质量％以下，为30质量％以下，为28质量％以下，为25质量％以下，为23质量％以下，为20质量％以下，为18质量％以下，为15质量％以下，为13质量％以下。
通式(N-1-17)所表示的化合物为下述化合物。
[化67]
(式中，RN1171和RN1172各自独立地表示与通式(N)中的RN11和RN12相同的意思。)
RN1171优选为碳原子数1～5的烷基或碳原子数2～5的烯基，优选为乙基、丙基或丁基。RN1172优选为碳原子数1～5的烷基、碳原子数4～5的烯基或碳原子数1～4的烷氧基，优选为乙氧基、丙氧基或丁氧基。
通式(N-1-17)所表示的化合物可以单独使用，也可以组合使用2种以上化合物。能够组合的化合物的种类没有特别限制，根据低温下的溶解性、转变温度、电可靠性、双折射率等所需的性能适当组合使用。关于所使用的化合物的种类，例如，作为一个实施方式，为1种，为2种，为3种，为4种，为5种以上。
重视Δε的改善的情况下，优选将含量设定为稍高；重视低温下的溶解性的情况下，将含量设定为稍多则效果好；重视TNI的情况下，将含量设定为稍多则效果好。进一步，改善滴痕、烧屏特性的情况下，优选将含量范围设为中等。
相对于本实施方式的组合物的总量，式(N-1-17)所表示的化合物的优选含量的下限值为5质量％以上，为10质量％以上，为13质量％以上，为15质量％以上，为17质量％以上，为20质量％以上。相对于本实施方式的组合物的总量，优选含量的上限值为35质量％以下，为30质量％以下，为28质量％以下，为25质量％以下，为23质量％以下，为20质量％以下，为18质量％以下，为15质量％以下，为13质量％以下。
通式(N-1-18)所表示的化合物为下述化合物。
[化68]
(式中，RN1181和RN1182各自独立地表示与通式(N)中的RN11和RN12相同的意思。)
RN1181优选为碳原子数1～5的烷基或碳原子数2～5的烯基，优选为甲基、乙基、丙基或丁基。RN1182优选为碳原子数1～5的烷基、碳原子数4～5的烯基或碳原子数1～4的烷氧基，优选为乙氧基、丙氧基或丁氧基。
通式(N-1-18)所表示的化合物可以单独使用，也可以组合使用2种以上化合物。能够组合的化合物的种类没有特别限制，根据低温下的溶解性、转变温度、电可靠性、双折射率等所需的性能适当组合使用。关于所使用的化合物的种类，例如，作为一个实施方式，为1种，为2种，为3种，为4种，为5种以上。
重视Δε的改善的情况下，优选将含量设定为稍高；重视低温下的溶解性的情况下，将含量设定为稍多则效果好；重视TNI的情况下，将含量设定为稍多则效果好。进一步，改善滴痕、烧屏特性的情况下，优选将含量范围设为中等。
相对于本实施方式的组合物的总量，式(N-1-18)所表示的化合物的优选含量的下限值为5质量％以上，为10质量％以上，为13质量％以上，为15质量％以上，为17质量％以上，为20质量％以上。相对于本实施方式的组合物的总量，优选含量的上限值为35质量％以下，为30质量％以下，为28质量％以下，为25质量％以下，为23质量％以下，为20质量％以下，为18质量％以下，为15质量％以下，为13质量％以下。
进一步，通式(N-1-18)所表示的化合物优选为选自式(N-1-18.1)至式(N-1-18.5)所表示的化合物组中的化合物，优选为式(N-1-18.1)～(N-1-18.3)所表示的化合物，优选为式(N-1-18.2)和式(N-1-18.3)所表示的化合物。
[化69]
通式(N-1-20)所表示的化合物为下述化合物。
[化70]
(式中，RN1201和RN1202各自独立地表示与通式(N)中的RN11和RN12相同的意思。)
RN1201和RN1202各自独立地优选为碳原子数1～5的烷基或碳原子数2～5的烯基，优选为乙基、丙基或丁基。
通式(N-1-20)所表示的化合物可以单独使用，也可以组合使用2种以上化合物。能够组合的化合物的种类没有特别限制，根据低温下的溶解性、转变温度、电可靠性、双折射率等所需的性能适当组合使用。关于所使用的化合物的种类，例如，作为一个实施方式，为1种，为2种，为3种，为4种，为5种以上。
重视Δε的改善的情况下，优选将含量设定为稍高；重视低温下的溶解性的情况下，将含量设定为稍多则效果好；重视TNI的情况下，将含量设定为稍多则效果好。进一步，改善滴痕、烧屏特性的情况下，优选将含量范围设为中等。
相对于本实施方式的组合物的总量，式(N-1-20)所表示的化合物的优选含量的下限值为5质量％以上，为10质量％以上，为13质量％以上，为15质量％以上，为17质量％以上，为20质量％以上。相对于本实施方式的组合物的总量，优选含量的上限值为35质量％以下，为30质量％以下，为28质量％以下，为25质量％以下，为23质量％以下，为20质量％以下，为18质量％以下，为15质量％以下，为13质量％以下。
通式(N-1-21)所表示的化合物为下述化合物。
[化71]
(式中，RN1211和RN1212各自独立地表示与通式(N)中的RN11和RN12相同的意思。)
RN1211和RN1212各自独立地优选为碳原子数1～5的烷基或碳原子数2～5的烯基，优选为乙基、丙基或丁基。
通式(N-1-21)所表示的化合物可以单独使用，也可以组合使用2种以上化合物。能够组合的化合物的种类没有特别限制，根据低温下的溶解性、转变温度、电可靠性、双折射率等所需的性能适当组合使用。关于所使用的化合物的种类，例如，作为一个实施方式，为1种，为2种，为3种，为4种，为5种以上。
重视Δε的改善的情况下，优选将含量设定为稍高；重视低温下的溶解性的情况下，将含量设定为稍多则效果好；重视TNI的情况下，将含量设定为稍多则效果好。进一步，改善滴痕、烧屏特性的情况下，优选将含量范围设为中等。
相对于本实施方式的组合物的总量，式(N-1-21)所表示的化合物的优选含量的下限值为5质量％以上，为10质量％以上，为13质量％以上，为15质量％以上，为17质量％以上，为20质量％以上。相对于本实施方式的组合物的总量，优选含量的上限值为35质量％以下，为30质量％以下，为28质量％以下，为25质量％以下，为23质量％以下，为20质量％以下，为18质量％以下，为15质量％以下，为13质量％以下。
通式(N-1-22)所表示的化合物为下述化合物。
[化72]
(式中，RN1221和RN1222各自独立地表示与通式(N)中的RN11和RN12相同的意思。)
RN1221和RN1222各自独立地优选为碳原子数1～5的烷基或碳原子数2～5的烯基，优选为乙基、丙基或丁基。
通式(N-1-22)所表示的化合物可以单独使用，也可以组合使用2种以上化合物。能够组合的化合物的种类没有特别限制，根据低温下的溶解性、转变温度、电可靠性、双折射率等所需的性能适当组合使用。关于所使用的化合物的种类，例如，作为一个实施方式，为1种，为2种，为3种，为4种，为5种以上。
重视Δε的改善的情况下，优选将含量设定为稍高；重视低温下的溶解性的情况下，将含量设定为稍多则效果好；重视TNI的情况下，将含量设定为稍多则效果好。进一步，改善滴痕、烧屏特性的情况下，优选将含量范围设为中等。
相对于本实施方式的组合物的总量，式(N-1-21)所表示的化合物的优选含量的下限值为1质量％以上，为5质量％以上，为10质量％以上，为13质量％以上，为15质量％以上，为17质量％以上，为20质量％以上。相对于本实施方式的组合物的总量，优选含量的上限值为35质量％以下，为30质量％以下，为28质量％以下，为25质量％以下，为23质量％以下，为20质量％以下，为18质量％以下，为15质量％以下，为13质量％以下，为10质量％以下，为5质量％以下。
进一步，通式(N-1-22)所表示的化合物优选为选自式(N-1-22.1)至式(N-1-22.12)所表示的化合物组中的化合物，优选为式(N-1-22.1)～(N-1-22.5)所表示的化合物，优选为式(N-1-22.1)～(N-1-22.4)所表示的化合物。
[化73]
通式(N-3)所表示的化合物优选为选自通式(N-3-2)所表示的化合物组中的化合物。
[化74]
(式中，RN321和RN322各自独立地表示与通式(N)中的RN11和RN12相同的意思。)
RN321和RN322优选为碳原子数1～5的烷基或碳原子数2～5的烯基，优选为丙基或戊基。
通式(N-3-2)所表示的化合物可以单独使用，也可以组合使用2种以上化合物。能够组合的化合物的种类没有特别限制，根据低温下的溶解性、转变温度、电可靠性、双折射率等所需的性能适当组合使用。关于所使用的化合物的种类，例如，作为一个实施方式，为1种，为2种，为3种，为4种，为5种以上。
重视Δε的改善的情况下，优选将含量设定为稍高；重视低温下的溶解性的情况下，将含量设定为稍多则效果好；重视TNI的情况下，将含量设定为稍少则效果好。进一步，改善滴痕、烧屏特性的情况下，优选将含量范围设为中等。
相对于本实施方式的组合物的总量，式(N-3-2)所表示的化合物的优选含量的下限值为3质量％以上，为5质量％以上，为10质量％以上，为13质量％以上，为15质量％以上，为17质量％以上，为20质量％以上，为23质量％以上，为25质量％以上，为27质量％以上，为30质量％以上，为33质量％以上，为35质量％以上。相对于本实施方式的组合物的总量，优选含量的上限值为50质量％以下，为40质量％以下，为38质量％以下，为35质量％以下，为33质量％以下，为30质量％以下，为28质量％以下，为25质量％以下，为23质量％以下，为20质量％以下，为18质量％以下，为15质量％以下，为13质量％以下，为10质量％以下，为8质量％以下，为7质量％以下，为6质量％以下，为5质量％以下。
进一步，通式(N-3-2)所表示的化合物优选为选自式(N-3-2.1)至式(N-3-2.3)所表示的化合物组中的化合物。
[化75]
上述通式(N-4)所表示的化合物优选为以下的通式(N-4-1)所表示的化合物。
[化76]
(式中，RN41和RN42各自独立地表示碳原子数1～8的烷基，该烷基中的1个或不相邻的2个以上-CH2-各自独立地可被-CH＝CH-、-C≡C-、-O-、-CO-、-COO-或-OCO-取代。)
通式(N-4-1)中，RN41和RN42各自独立地优选表示1个或不相邻的2个以上-CH2-各自独立地可被-O-、-COO-或-OCO-取代的碳原子数1～8的烷基，优选为碳原子数1～8的烷基或烷氧基。特别是为了显示优异的介电常数各向异性，优选为烷氧基。
具体地，通式(N-4-1)所表示的化合物优选为选自式(N-4-1.1)至式(N-4-1.9)所表示的化合物组中的化合物，优选为选自式(N-4-1.1)至式(N-4-1.5)所表示的化合物组中的化合物，优选为式(N-4-1.3)的化合物。从提高液晶组合物的低温保存性的观点出发，式(N-4-1.1)至式(N-4-1.9)所表示的化合物优选并用2种以上。
[化77]
液晶化合物也可以为选自由下述式(J)所表示的化合物组成的组中的化合物。
[化78]
上述式(J)所表示的化合物属于介电性为正的化合物(Δε大于2。)。
上述式(J)中，
RJ1表示碳原子数1～8的烷基，该烷基中的1个或不相邻的2个以上-CH2-各自独立地可被-CH＝CH-、-C≡C-、-O-、-CO-、-COO-或-OCO-取代，
nJ1表示0、1、2、3或4，
AJ1、AJ2和AJ3各自独立地表示选自由如下基团组成的组中的基团，
(a)1,4-亚环己基(存在于该基团中的1个-CH2-或不相邻的2个以上-CH2-可被-O-取代。)、
(b)1,4-亚苯基(存在于该基团中的1个-CH＝或不相邻的2个以上-CH＝可被-N＝取代。)和
(c)萘-2,6-二基、1,2,3,4-四氢化萘-2,6-二基或十氢化萘-2,6-二基(萘-2,6-二基或1,2,3,4-四氢化萘-2,6-二基中存在的1个-CH＝或不相邻的2个以上-CH＝可被-N＝取代。)
基团(a)、基团(b)和基团(c)中的氢原子各自独立地可被氰基、氟原子、氯原子、甲基、三氟甲基或三氟甲氧基取代，
ZJ1和ZJ2各自独立地表示单键、-CH2CH2-、-(CH2)4-、-OCH2-、-CH2O-、-OCF2-、-CF2O-、-COO-、-OCO-或-C≡C-，
nJ1为2、3或4而存在多个AJ2的情况下，它们可以彼此相同也可以不同，nJ1为2、3或4而存在多个ZJ1的情况下，它们可以彼此相同也可以不同，
XJ1表示氢原子、氟原子、氯原子、氰基、三氟甲基、氟甲氧基、二氟甲氧基、三氟甲氧基或2,2,2-三氟乙基。
其中，上述通式(L)所表示的化合物除外。
非聚合性液晶化合物优选含有一种或2种以上通式(M)所表示的化合物作为式(J)所表示的化合物。
[化79]
(式中，RM1表示碳原子数1～8的烷基，该烷基中的1个或不相邻的2个以上-CH2-各自独立地可被-CH＝CH-、-C≡C-、-O-、-CO-、-COO-或-OCO-取代，
nM1表示0、1、2、3或4，
AM1和AM2各自独立地表示选自由如下基团组成的组中的基团，
(a)1,4-亚环己基(存在于该基团中的1个-CH2-或不相邻的2个以上-CH2-可被-O-或-S-取代。)和
(b)1,4-亚苯基(存在于该基团中的1个-CH＝或不相邻的2个以上-CH＝可被-N＝取代。)
上述基团(a)和基团(b)上的氢原子各自独立地可被氰基、氟原子或氯原子取代，
ZM1和ZM2各自独立地表示单键、-CH2CH2-、-(CH2)4-、-OCH2-、-CH2O-、-OCF2-、-CF2O-、-COO-、-OCO-或-C≡C-，
nM1为2、3或4而存在多个AM2的情况下，它们可以相同也可以不同，nM1为2、3或4而存在多个ZM1的情况下，它们可以相同也可以不同，
XM1和XM3各自独立地表示氢原子、氯原子或氟原子，
XM2表示氢原子、氟原子、氯原子、氰基、三氟甲基、氟甲氧基、二氟甲氧基、三氟甲氧基或2,2,2-三氟乙基。)
上述通式(J)所表示的化合物优选为以下的式(M-1)～(M-18)所表示的化合物。
[化80]
[化81]
(上述式中，XM11～XM186各自独立地表示氢原子或氟原子，RJ111～RJ181各自独立地表示碳原子数1～5的烷基、碳原子数2～5的烯基或碳原子数1～4的烷氧基，XJ11～XJ181表示氟原子、氯原子或OCF3，
AM81和AM82各自独立地表示1,4-亚环己基、1,4-亚苯基或
[化82]
1,4-亚苯基上的氢原子可被氟原子取代，WM101～WM172各自独立地表示-CH2-或-O-。)
上述通式(J)所表示的化合物优选为以下的式(K-1)～(K-6)所表示的化合物。
[化83]
(式中，RK11表示碳原子数1～5的烷基、碳原子数2～5的烯基或碳原子数1～4的烷氧基，XK11～XK14各自独立地表示氢原子或氟原子，YK11表示氟原子或OCF3。)
[化84]
(式中，RK21表示碳原子数1～5的烷基、碳原子数2～5的烯基或碳原子数1～4的烷氧基，XK21～XK24各自独立地表示氢原子或氟原子，YK21表示氟原子或OCF3。)
[化85]
(式中，RK31表示碳原子数1～5的烷基、碳原子数2～5的烯基或碳原子数1～4的烷氧基，XK31～XK36各自独立地表示氢原子或氟原子，YK31表示氟原子或OCF3。)
[化86]
(式中，RK41表示碳原子数1～5的烷基、碳原子数2～5的烯基或碳原子数1～4的烷氧基，XK41～XK46各自独立地表示氢原子或氟原子，YK41表示氟原子或OCF3，ZK41表示-OCH2-、-CH2O-、-OCF2-或-CF2O-。)
[化87]
(式中，RK51表示碳原子数1～5的烷基、碳原子数2～5的烯基或碳原子数1～4的烷氧基，XK51～XK56各自独立地表示氢原子或氟原子，YK51表示氟原子或OCF3，ZK51表示-OCH2-、-CH2O-、-OCF2-或-CF2O-。)
[化88]
(式中，RK61表示碳原子数1～5的烷基、碳原子数2～5的烯基或碳原子数1～4的烷氧基，XK61～XK68各自独立地表示氢原子或氟原子，YK61表示氟原子或OCF3，ZK61表示-OCH2-、-CH2O-、-OCF2-或-CF2O-。)
具体地，上述通式(M)所表示的化合物优选为选自以下的式(M-1.1)至式(M-5.1)所表示的化合物组中的化合物。从提高液晶组合物的响应速度同时维持保存稳定性的观点出发，这些化合物优选并用2种以上。
[化89]
[化90]
[化91]
[化92]
(上述式中，RM各自独立地表示碳原子数1～8的烷基，该烷基中的1个或不相邻的2个以上-CH2-各自独立地可被-CH＝CH-、-C≡C-、-O-、-CO-、-COO-或-OCO-取代。)
液晶层4也可以含有受阻酚化合物。受阻酚化合物可以为属于上述受阻胺化合物的化合物(即具有受阻胺结构(骨架)和受阻酚结构(骨架)两者的化合物)，也可以为不属于上述受阻胺化合物的化合物(即不具有受阻胺结构(骨架)而具有受阻酚结构(骨架)的化合物)。
实施例
以下，基于实施例进一步具体地对本发明进行说明，但本发明不限于以下的实施例。
分别准备表1～3所示的液晶组成A～C和表4所示的受阻胺化合物。
[表1]
[表2]
[表3]
[表4]
＜实施例1＞
相对于100质量份液晶组成A，添加0.05质量份HALS1，调制n型液晶组合物A。然后，准备以n型液晶组合物相对于基板垂直取向的方式涂布了聚酰亚胺取向膜的、具有ITO电极的、以压入量0.15mm实施了摩擦取向处理的玻璃单元(单元间隔：3.5μm)。接下来，通过真空注入法在玻璃单元内注入n型组合物A后，将玻璃单元取出，将注入口用封口剂3026B((株)三键制)封闭，得到VA模式的液晶显示元件。对于得到的液晶显示元件，使用Shintech公司制的光学评价装置，测定使偏转板呈交叉状态时在0V下的透射率T0和以0V至12V施加60Hz交流矩形波时的最大透射率(T100)，得到对比度(T100/T0)。对比度为A。A为显著良好，B为良好，C为不良，D为显著不良。
对于得到的液晶显示元件，使用Opti-Pro((株)Shintech制)测定初始倾角，结果为89.7°。接下来，施加150分钟±30V、60Hz的矩形波后，再次测定应力后倾角，结果为89.3°。按照下述式，由得到的倾角算出倾斜移位。
倾斜移位(°)＝应力后倾角(°)-初始倾角(°)
倾斜移位的绝对值越小越好。倾斜移位为-0.35°。
然后，使用AUTRONIC制的DMS302测定液晶的响应速度。关于响应速度，◎为极良好，○为良好，△为不良。
＜实施例2-20＞
以下同样操作，制作改变了液晶组成、HALS的添加量、HALS的种类、取向膜的压入量的液晶显示元件，测定各物性值。将元件构成示于表5，将测定结果示于表6和表7。
[表5]
[表6]
[表7]
＜比较例1-1＞
不添加受阻胺，除此以外，与实施例1同样操作，制作单元，测定对比度、倾斜移位和响应速度。对比度为B。倾斜移位为-1.06°。
与比较例1同样操作，改变液晶、摩擦压入量、受阻胺的有无，进行研究。将元件构成示于表8，将测定结果示于表9和表10。
[表8]
[表9]
[表10]
| 比较例 | 对比度 | 响应速度 |
| 2 | A | ○ |
| 3 | A | ○ |
| 4 | C | △ |
| 5 | C | ○ |
| 6 | C | ○ |
| 7 | D | △ |
| 8 | D | ○ |
| 9 | D | ○ |
| 10 | D | △ |
| 11 | C | △ |
| 12 | C | △ |
与比较例1～3的倾斜移位相比，实施例1～20的倾斜移位显示小的良好的值。与未实施摩擦取向处理的比较例7～10相比，对比度也良好。与压入量过大的比较例11～12相比，倾斜移位和对比度均良好。因此可知，使用添加了受阻胺的液晶组合物、将摩擦压入量设为0.01～0.99mm，对于兼顾倾斜移位的抑制和对比度是有效的。
Claims (8)
1.一种液晶显示元件，其具备一对基板和配置于所述一对基板间的液晶层，
所述一对基板中的至少一方具备取向膜，
所述取向膜实施了摩擦处理，
所述摩擦处理时的压入量为0.01～0.99mm，
在所述取向膜上含有受阻胺化合物。
2.根据权利要求1所述的液晶显示元件，所述受阻胺化合物为通式(i)所表示的化合物，
[化1]
Mi1-Ni1 (i)
式中，Ni1表示通式(Ni1)所表示的取代基，通式(Ni1)所表示的取代基在＊处与Mi1结合，
Ri1表示氢原子、-O·、-OH或碳原子数1～12的烷基，该烷基中存在的1个或2个以上-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CH＝CH-、-C≡C-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-OCF2-或-CF2O-取代，
Ri2、Ri3、Ri4和Ri5各自独立地表示碳原子数1～8的烷基，该烷基中存在的1个或2个以上-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CH＝CH-、-C≡C-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-OCF2-或-CF2O-取代，Ri2和Ri3可以相互结合而形成环，Ri4和Ri5可以相互结合而形成环，
Ri6和Ri7各自独立地表示氢原子或碳原子数1～6的烷基，该烷基中存在的1个或2个以上-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CH＝CH-、-C≡C-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-OCF2-、或-CF2O-取代，
Ri8表示氢原子或1价有机基团，该1价有机基团可以与Mi1结合而形成环，
Mi1表示1价有机基团，
mi1表示0～2的整数，
Ri1、Ri2、Ri3、Ri4、Ri5、Ri6、Ri7、Ri8和Mi1可被通式(Ni1)所表示的取代基取代，
存在多个的Ri1、Ri2、Ri3、Ri4、Ri5、Ri6、Ri7、Ri8、mi1和Mi1各自可以彼此相同也可以不同。
3.根据权利要求1或2所述的液晶显示元件，所述液晶层中的所述受阻胺化合物的浓度为100～2000质量ppm。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的液晶显示元件，所述液晶层进一步含有下述式(L)所表示的化合物，
[化2]
式中，
RL1和RL2各自独立地表示碳原子数1～8的烷基，该烷基中的1个或不相邻的2个以上-CH2-各自独立地可被-CH＝CH-、-C≡C-、-O-、-CO-、-COO-或-OCO-取代，
nL1表示0、1、2或3，
AL1、AL2和AL3各自独立地表示选自由如下基团组成的组中的基团，
(a)1,4-亚环己基，存在于该基团中的1个-CH2-或不相邻的2个以上-CH2-可被-O-取代；
(b)1,4-亚苯基，存在于该基团中的1个-CH＝或不相邻的2个以上-CH＝可被-N＝取代；以及
(c)萘-2,6-二基、1,2,3,4-四氢化萘-2,6-二基或十氢化萘-2,6-二基，萘-2,6-二基或1,2,3,4-四氢化萘-2,6-二基中存在的1个-CH＝或不相邻的2个以上-CH＝可被-N＝取代，
所述基团(a)、基团(b)和基团(c)各自独立地可被氰基、氟原子或氯原子取代，
ZL1和ZL2各自独立地表示单键、-CH2CH2-、-(CH2)4-、-OCH2-、-CH2O-、-COO-、-OCO-、-OCF2-、-CF2O-、-CH＝N-N＝CH-、-CH＝CH-、-CF＝CF-或-C≡C-，
nL1为2或3而存在多个AL2的情况下，它们可以彼此相同也可以不同，nL1为2或3而存在多个ZL2的情况下，它们可以彼此相同也可以不同。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的液晶显示元件，所述液晶层进一步含有下述式(L-1-1)、(L-1-2)或(L-1-3)所表示的任一化合物，
[化3]
[化4]
[化5]
式中，RL12、RL13和RL14各自独立地表示碳原子数1～8的烷基或碳原子数1～8的烷氧基。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的液晶显示元件，所述液晶层进一步含有选自由下述式(N-1)、(N-2)、(N-3)或(N-4)所表示的化合物组成的组中的至少一种化合物，
[化6]
式中，
RN11、RN12、RN21、RN22、RN31、RN32、RN41和RN42各自独立地表示碳原子数1～8的烷基，该烷基中的1个或不相邻的2个以上-CH2-各自独立地可被-CH＝CH-、-C≡C-、-O-、-CO-、-COO-或-OCO-取代，
AN11、AN12、AN21、AN22、AN31、AN32、AN41和AN42各自独立地表示选自由如下基团组成的组中的基团，
(a)1,4-亚环己基，存在于该基团中的1个-CH2-或不相邻的2个以上-CH2-可被-O-取代；
(b)1,4-亚苯基，存在于该基团中的1个-CH＝或不相邻的2个以上-CH＝可被-N＝取代；
(c)萘-2,6-二基、1,2,3,4-四氢化萘-2,6-二基或十氢化萘-2,6-二基，萘-2,6-二基或1,2,3,4-四氢化萘-2,6-二基中存在的1个-CH＝或不相邻的2个以上-CH＝可被-N＝取代；以及
(d)1,4-亚环己烯基
基团(a)、基团(b)、基团(c)和基团(d)中的氢原子各自独立地可被氰基、氟原子或氯原子取代，
ZN11、ZN12、ZN21、ZN22、ZN31、ZN32、ZN41和ZN42各自独立地表示单键、-CH2CH2-、-(CH2)4-、-OCH2-、-CH2O-、-COO-、-OCO-、-OCF2-、-CF2O-、-CH＝N-N＝CH-、-CH＝CH-、-CF＝CF-或-C≡C-，
XN21表示氢原子或氟原子，
TN31表示-CH2-或氧原子，
XN41表示氧原子、-NH-或-CH2-，
YN41表示单键或-CH2-，
nN11、nN12、nN21、nN22、nN31、nN32、nN41和nN42各自独立地表示0～3的整数，nN11+nN12、nN21+nN22和nN31+nN32各自独立地为1、2或3，AN11～AN32和ZN11～ZN32分别存在多个的情况下，它们可以彼此相同也可以不同，nN41+nN42表示0～3的整数，AN41、AN42、ZN41和ZN42分别存在多个的情况下，它们可以彼此相同也可以不同。
7.根据权利要求1～5中任一项所述的液晶显示元件，其含有通式(1)中的n为1～3的化合物。
8.根据权利要求1～5中任一项所述的液晶显示元件，液晶层的预倾角为85°～89.9°。
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|---|---|---|---|---|
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Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08271902A (ja) * | 1995-03-31 | 1996-10-18 | Casio Comput Co Ltd | 液晶表示素子とその製造方法及びラビング装置 |
| JP2000292792A (ja) * | 1999-04-07 | 2000-10-20 | Sharp Corp | 液晶表示素子の製造方法 |
| JP2015020999A (ja) * | 2013-07-24 | 2015-02-02 | Jnc株式会社 | 新規ジアミン、これを用いたポリマー、液晶配向剤、液晶配向膜、および液晶表示素子 |
| JP2016029447A (ja) * | 2014-07-15 | 2016-03-03 | Jnc株式会社 | ジアミン、ポリアミック酸またはその誘導体、液晶配向剤、液晶配向膜および液晶表示素子 |
| WO2017061536A1 (ja) * | 2015-10-07 | 2017-04-13 | 公立大学法人兵庫県立大学 | 光学素子及びその製造方法 |
| JP2017145346A (ja) * | 2016-02-18 | 2017-08-24 | Jnc株式会社 | ジアミン、ポリアミック酸またはその誘導体、液晶配向剤、液晶配向膜および液晶表示素子 |
| WO2018079528A1 (ja) * | 2016-10-27 | 2018-05-03 | Dic株式会社 | 液晶表示素子 |
| WO2018143017A1 (ja) * | 2017-02-06 | 2018-08-09 | Jsr株式会社 | 液晶素子及びその製造方法、並びに表示装置 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4561607B2 (ja) * | 2005-11-18 | 2010-10-13 | チッソ株式会社 | 液晶配向剤及び液晶表示素子 |
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| JP6288412B2 (ja) * | 2013-01-17 | 2018-03-07 | Jsr株式会社 | 液晶配向剤 |
| JP2017105915A (ja) * | 2015-12-09 | 2017-06-15 | Dic株式会社 | 液晶組成物及びそれを使用した液晶表示素子 |
| KR101985637B1 (ko) * | 2016-03-08 | 2019-06-03 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | 액정 조성물 및 그것을 사용한 액정 표시 소자 |
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Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08271902A (ja) * | 1995-03-31 | 1996-10-18 | Casio Comput Co Ltd | 液晶表示素子とその製造方法及びラビング装置 |
| JP2000292792A (ja) * | 1999-04-07 | 2000-10-20 | Sharp Corp | 液晶表示素子の製造方法 |
| JP2015020999A (ja) * | 2013-07-24 | 2015-02-02 | Jnc株式会社 | 新規ジアミン、これを用いたポリマー、液晶配向剤、液晶配向膜、および液晶表示素子 |
| JP2016029447A (ja) * | 2014-07-15 | 2016-03-03 | Jnc株式会社 | ジアミン、ポリアミック酸またはその誘導体、液晶配向剤、液晶配向膜および液晶表示素子 |
| WO2017061536A1 (ja) * | 2015-10-07 | 2017-04-13 | 公立大学法人兵庫県立大学 | 光学素子及びその製造方法 |
| JP2017145346A (ja) * | 2016-02-18 | 2017-08-24 | Jnc株式会社 | ジアミン、ポリアミック酸またはその誘導体、液晶配向剤、液晶配向膜および液晶表示素子 |
| WO2018079528A1 (ja) * | 2016-10-27 | 2018-05-03 | Dic株式会社 | 液晶表示素子 |
| WO2018143017A1 (ja) * | 2017-02-06 | 2018-08-09 | Jsr株式会社 | 液晶素子及びその製造方法、並びに表示装置 |
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