CN111123568A - 显示面板及其制备方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种显示面板及其制备方法、显示装置，所述显示面板包括玻璃基板、阵列基板、彩膜层、液晶以及隔垫物。所述显示面板的制备方法包括玻璃基板提供步骤、阵列基板制备步骤、彩膜层集成步骤、指纹识别模组制备步骤以及成盒步骤。本发明的技术效果在于，减少指纹反射光的损失，保证指纹识别的灵敏度。

Description

显示面板及其制备方法、显示装置

技术领域

本发明涉及显示领域，特别涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。

背景技术

指纹识别作为生物识别方式在最近引起了广泛的关注，尤其在移动支付上更具有广阔的前景。人们也发明了很多指纹识别的方法，譬如光学、电容式、微波，温度及超声波等很多种方式。但是，各种方式都有其优点和缺点。比如传统的光学传感器方式无法实现轻薄，尤其是在高分辨率的要求下，传统设备体积庞大无法便携，因此很难集成到手机这样的设备中。其他的方式虽然解决轻薄的问题，但是无法实现大面积阵列，或无法结合其他功能，而且工艺复杂，成本高。

通常光学指纹识别传感器需要独立的光路和电路支撑，对阵列基板Array制程工艺和开口率均有较大的影响，而且受液晶两次光吸收的影响，指纹传感器灵敏度大幅衰减。

发明内容

本发明的目的在于，解决现有技术中显示面板的指纹识别灵敏度不高、效果不佳的技术问题。

为实现上述目的，本发明提供一种显示面板，包括：玻璃基板；阵列基板，设于所述玻璃基板一侧的表面；彩膜层，设于所述阵列基板远离所述玻璃基板一侧的表面；指纹识别模组，设于所述彩膜层远离所述阵列基板的一侧；液晶层，填充于所述彩膜层及所述指纹识别模组之间；以及隔垫物，设于所述彩膜层及所述指纹识别模组之间。

进一步地，所述阵列基板包括：遮光层，设于所述玻璃基板一侧的表面；第一缓冲层，设于所述遮光层远离所述玻璃基板一侧的表面；第一有源层，设于所述第一缓冲层远离所述玻璃基板一侧的表面，且与所述遮光层相对设置；第一栅极绝缘层，设于所述第一有源层及所述第一缓冲层远离所述基板一侧的表面；第一栅极层，设于所述第一栅极绝缘层远离所述第一缓冲层一侧的表面，且与所述第一有源层相对设置；介电层，设于所述第一栅极层远离所述有源层一侧的表面；触控层，设于所述介电层远离所述第一栅极绝缘层一侧的表面；以及第一源漏极层，设于所述介电层远离所述第一栅极绝缘层一侧的表面，且电连接至所述第一有源层。

进一步地，所述彩膜层包括：色阻层，设于所述触控层、所述第一源漏极层及所述介电层远离所述第一栅极绝缘层一侧的表面；以及平坦层，设于所述色阻层远离所述阵列基板一侧的表面。

进一步地，所述彩膜层还包括：第一电极层，设于所述平坦层远离所述色阻层一侧的表面，且穿过所述平坦层及所述色阻层，电连接至所述触控层；第一钝化层，设于所述第一电极层及所述平坦层远离所述色阻层一侧的表面；以及第二电极层，设于所述第一钝化层远离所述平坦层一侧的表面，且穿过所述第一钝化层，电连接至所述第一源漏极层。

进一步地，所述指纹识别模组包括：衬底基板，设于隔垫物远离所述彩膜层一侧的表面；第二缓冲层，设于所述衬底基板远离所述彩膜层一侧的表面；第二栅极层，设于所述第二缓冲层远离所述衬底基板一侧的表面；第二栅极绝缘层，设于所述第二栅极层及所述第二缓冲层远离所述衬底基板一侧的表面；第二有源层，设于所述第二栅极绝缘层远离所述第二缓冲层一侧的表面，且与所述第二栅极层相对设置；第二源漏极层，设于所述第二栅极绝缘层远离所述第二缓冲层一侧的表面，且搭接至所述第二有源层；光电二极管，设于所述第二源漏极远离所述第二栅极绝缘层一侧的表面；以及第二钝化层，设于所述第二源漏极层及所述光电二极管远离所述第二栅极绝缘层一侧的表面。

进一步地，所述第二钝化层设有钝化层通孔；一钝化层通孔与所述光电二极管相对设置；另一钝化层通孔与所述第二源漏极层相对设置。

进一步地，所述显示面板还包括第三电极层，设于所述钝化层通孔内，电连接至所述光电二极管及所述第二源漏极层。

为实现上述目的，本发明还提供一种显示面板的制备方法，包括以下步骤：玻璃基板提供步骤，提供一玻璃基板；阵列基板制备步骤，在所述玻璃基板的上表面制备出阵列基板；彩膜层集成步骤，在所述阵列基板的上表面集成出彩膜层；指纹识别模组制备步骤，制备出一指纹识别模组；以及成盒步骤，在所述彩膜层的上表面设置所述指纹识别模组，并在所述彩膜层及所述指纹识别模组之间填充液晶。

进一步地，所述指纹识别模组制备步骤包括以下步骤：栅极层制备步骤，在一衬底基板上制备出缓冲层与栅极层；有源层制备步骤，在所述栅极层的上表面制备出栅极绝缘层及有源层；源漏极层制备步骤，在所述栅极绝缘层的上表面制备出源漏极层，且搭接至所述有源层；光电二极管制备步骤，在所述源漏极层的上表面制备出光电二极管；钝化层制备步骤，在所述光电二极管的上表面制备出钝化层，并采用掩膜板制备出钝化层通孔；以及电极层制备步骤，在所述通孔内制备出电极层。

为实现上述目的，本发明还提供一种显示装置，包括前文所述的显示面板。

本发明的技术效果在于，在阵列基板上集成彩膜层，能够有效解决显示面板在对盒工艺中因对位偏差造成的漏光等问题，并能显著提升显示面板的开口率。在彩膜层的上表面集成指纹识别模组，有效减少指纹信号反射光的损失，保证指纹识别的灵敏度，同时可减小指纹识别模组对液晶产生干扰电场，提升显示面板的显示效果。

附图说明

下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。

图1为本发明实施例所述显示面板的结构示意图；

图2为本发明实施例所述显示面板的制备方法的流程图；

图3为本发明实施例所述阵列基板制备步骤的流程图；

图4为本发明实施例所述阵列基板制备步骤之后显示面板的结构示意图；

图5为本发明实施例所述彩膜层制备步骤的流程图；

图6为本发明实施例所述彩膜层制备步骤之后显示面板的结构示意图；

图7为本发明实施例所述隔垫物制备步骤之后显示面板的结构示意图；

图8为本发明实施例所述指纹识别模组制备步骤之后显示面板的示意图；

图9为本发明实施例所述指纹识别模组的结构示意图。

部分组件标识如下：

1、玻璃基板；2、阵列基板；3、彩膜层；4、隔垫物；5、液晶层；6、指纹识别模组；

21、遮光层；22、第一缓冲层；23、第一有源层；24、第一栅极绝缘层；25、第一栅极层；26、介电层；27、第一源漏极层；28、触控层；

31、色阻层；32、平坦层；33、第一电极层；34、第一钝化层；35、第二电极层；

61、衬底基板；62、第二缓冲层；63、第二栅极层；64、第二栅极绝缘层；65、第二有源层；66、第二源漏极层；67、光电二极管；68、第二钝化层；69、第三电极层。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接或可以相互通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本申请。此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。

本实施例提供一种显示装置，包括如图1所示的显示面板，所述显示面板包括：玻璃基板1、阵列基板2、彩膜层3、隔垫物4、液晶层5及指纹识别模组6。

玻璃基板1为硬质基板，起到支撑和衬底的作用。

阵列基板2设于玻璃基板1的上表面，起到电路开关的作用。阵列基板2包括遮光层21、第一缓冲层22、第一有源层23、第一栅极绝缘层24、第一栅极层25、介电层26、第一源漏极层27及触控层28。

遮光层21设于玻璃基板1的上表面，起到遮光作用。遮光层21设于基板1的上表面，遮光层21的材质为遮光材料，所述遮光材料为金属，包括：钼(Mo)、铝(Al)、铜(Cu)、钛(Ti)等，或者是合金。

第一缓冲层22设于遮光层21及玻璃基板1的上表面，起到缓冲的作用，第一缓冲层22的材质为无机材料，所述无机材料包括硅的氧化物或硅的氮化物，或是多层结构。

第一有源层23设于第一缓冲层22的上表面，第一有源层23的材质为半导体材料，所述半导体材料包括铟镓锌氧化物(IGZO)、铟镓钛氧化物(IZTO)，铟镓锌钛氧化物(IGZTO)。第一有源层23设于遮光层21的上方，即第一有源层23与遮光层21相对设置，第一有源层23给显示面板提供电路支持。

第一栅极绝缘层24设于第一有源层23的上表面，第一栅极绝缘层24的材质为无机材料，所述无机材料包括硅的氧化物或硅的氮化物或是多层薄膜结构。第一栅极绝缘层24起到绝缘的作用，防止显示面板内部的各线路之间桥接后短路。

第一栅极层25设于第一栅极绝缘层24的上表面，且与第一栅极绝缘层24相对设置。第一栅极层25的材质为金属材料，所述金属材料包括钼(Mo)、铝(Al)、铜(Cu)、钛(Ti)等，或者是合金，或者是多层薄膜结构。

介电层26设于第一栅极层25、第一栅极绝缘层24及第一有源层23的上表面，介电层26为层间绝缘层，介电层26的材质为为无机材料，所述无机材料包括硅的氧化物或硅的氮化物或是多层薄膜结构，起到绝缘作用，防止电路短路。在第一有源层23的上方设有通孔，所述通孔便于电极层与第一有源层23之间的电性连接。

第一源漏极层27设于介电层26的上表面，第一源漏极层27的材质包括金属材料，所述金属材料包括钼(Mo)、铝(Al)、铜(Cu)、钛(Ti)等，或者是合金，或者是多层薄膜结构。部分金属材料设于所述通孔内，第一源漏极层27通过所述通孔电连接至第一有源层23，形成电路导通。

触控层28设于介电层26的上表面，为触控电极提供电路支持。触控层28的材质包括金属材料，所述金属材料包括钼(Mo)、铝(Al)、铜(Cu)、钛(Ti)等，或者是合金，或者是多层薄膜结构。

彩膜层3集成于阵列基板2的上表面，为彩色滤光结构。彩膜层3包括色阻层31、平坦层32、第一电极层33、第一钝化层34及第二电极层35。

色阻层31设于第一源漏极层27及触控层28的上表面，色阻层31包括多个颜色的色阻，如红色色阻、绿色色阻、蓝色色阻等，各个色阻并排设置于第一源漏极层27及触控层28的上表面，实现彩色滤光功能。在阵列基板2的上表面集成色阻层31，能够有效解决显示面板在对盒工艺中因对位偏差造成的漏光等问题，并能显著提升显示面板的开口率。

平坦层32设于色阻层31的上表面，平坦层32使得膜层表面平整，利于后续膜层的贴合，防止出现脱离的现象。在平坦层32上设有平坦层通孔，所述平坦层通孔与触控层28相对设置，为电极层提供通道。

第一电极层33设于平坦层32的上表面，且穿过平坦层32，通过导电平坦层通孔，电连接至触控层28，第一电极层33为触控电极。

第一钝化层34设于平坦层32及第一电极层33的上表面，第一钝化层34的材质包括硅的氧化物材料。第一钝化层34起到绝缘作用及隔绝外界水氧的作用。

第二电极层35设于第一钝化层34的上表面，且穿过第一钝化层34，电连接至第一源漏极层27，第二电极层35为像素电极层。

隔垫物4设于彩膜层3与指纹识别模组6之间，起到支撑的作用，隔垫物4呈柱状，可防止在显示面板成盒过程中出现液晶被压迫而导致显示面板的显示效果不佳的现象。

液晶层5设于彩膜层3与指纹识别模组6之间，液晶层5中充满液晶分子，通过阵列基板2上的信号与电压改变来控制液晶分子的转动方向，从而达到控制每个像素点偏振光出射与否而达到显示目的。

指纹识别模组6设于隔垫物4及液晶层5的上方，指纹识别模组6能识别指纹信号。指纹识别模组6包括衬底基板61、第二缓冲层62、第二栅极层63、第二栅极绝缘层64、第二有源层65、第二源漏极层66、光电二极管67、第二钝化层68及第三电极层69。

衬底基板1为硬质基板，设于隔垫物4及液晶层5的上方，起到支撑和衬底的作用。

第二缓冲层62设于衬底基板61的上表面，起到缓冲的作用，第二缓冲层62的材质为无机材料，所述无机材料包括硅的氧化物或硅的氮化物，或是多层结构。

第二栅极层63设于第二缓冲层62的上表面。第二栅极层63的材质为金属材料，所述金属材料包括钼(Mo)、铝(Al)、铜(Cu)、钛(Ti)等，或者是合金，或者是多层薄膜结构。

第二栅极绝缘层64设于第二栅极层63的上表面，第二栅极绝缘层64的材质为无机材料，所述无机材料包括硅的氧化物或硅的氮化物或是多层薄膜结构。第二栅极绝缘层64起到绝缘的作用，防止显示面板内部的各线路之间桥接后短路。

第二有源层65设于第二栅极绝缘层64的上表面，第二有源层65的材质为半导体材料，所述半导体材料包括铟镓锌氧化物(IGZO)、铟镓钛氧化物(IZTO)，铟镓锌钛氧化物(IGZTO)。第二有源层65与第二栅极层63相对设置，第二有源层65给指纹识别模组提供电路支持。

第二源漏极层66设于第二有源层65及第二栅极绝缘层64的上表面，第二源漏极层66的材质包括金属材料，所述金属材料包括钼(Mo)、铝(Al)、铜(Cu)、钛(Ti)等，或者是合金，或者是多层薄膜结构。部分金属材料设于第二栅极绝缘层64的通孔内，第二源漏极层66通过所述通孔电连接至第二栅极层63，形成电路导通。

光电二极管67设于第二源漏极层66的上表面，其材质为非晶硅，其工作原理为：在光电二极管67的阳极，即P型层上加一个在-3～-9V之间的负电压，当光信号照射到光电二极管67上时，光电二极管67产生电子空穴对。在电场的作用下，空穴汇聚在阳极P型层，电子汇聚到阴极N型层。在阵列基板2断电后，信号不断积累，当阵列基板2通电时，电荷输出到数据线。可依据检测到的电荷信号量的大小来判定光信号的强弱。

第二钝化层68设于第二栅极绝缘层64、第二有源层65、第二源漏极层66及光电二极管67的上表面，第二钝化层68的材质包括硅的氧化物材料。第二钝化层68起到绝缘作用及隔绝外界水氧的作用。

第三电极层69设于第二钝化层68的上表面，且穿过第二钝化层68电连接至第二源漏极层66，部分第三电极层69设于光电二极管的上表面，形成电路导通。

在彩膜层的上表面集成指纹识别模组，与现有的指纹识别显示面板中需要经过两次液晶的光吸收影响相比，本实施例只需经过一次液晶的光吸收的影响，有效减少指纹信号反射光的损失，保证指纹识别的灵敏度，同时可减小指纹识别模组对液晶产生干扰电场，提升显示面板的显示效果。

本实施例所述显示面板的技术效果在于，在阵列基板上集成彩膜层，能够有效解决显示面板在对盒工艺中因对位偏差造成的漏光等问题，并能显著提升显示面板的开口率。在彩膜层的上表面集成指纹识别模组，有效减少指纹信号反射光的损失，保证指纹识别的灵敏度，同时可减小指纹识别模组对液晶产生干扰电场，提升显示面板的显示效果。

如图2所示，本实施例还提供一种显示面板的制备方法，包括步骤S1～S5。

S1玻璃基板提供步骤，提供一玻璃基板，所述玻璃基板为硬质基板，起到支撑和衬底的作用。

S2阵列基板制备步骤，在玻璃基板1的上表面制备出阵列基板2(参见图4)，如图3所示，所述阵列基板制备步骤包括步骤S21～S27。

S21遮光层制备步骤，清洗玻璃基板1，在玻璃基板1的上表面沉积一层遮光材料，所述遮光材料为金属，包括：钼(Mo)、铝(Al)、铜(Cu)、钛(Ti)等，或者是合金，通过蚀刻处理，蚀刻出图案，形成遮光层21，遮光层21起到遮光作用。

S22第一缓冲层制备步骤，在遮光层21及玻璃基板1的上表面沉积一层无机材料，所述无机材料包括硅的氧化物或硅的氮化物，或是多层结构，形成第一缓冲层22，起到缓冲的作用。

S23第一有源层制备步骤，在第一缓冲层22的上表面沉积一层半导体材料，所述半导体材料包括铟镓锌氧化物(IGZO)、铟镓钛氧化物(IZTO)，铟镓锌钛氧化物(IGZTO)，图案化处理所述半导体材料，形成第一有源层23。第一有源层23设于遮光层21的上方，即第一有源层23与遮光层21相对设置，第一有源层23给显示面板提供电路支持。

S24第一栅极绝缘层制备步骤，在第一有源层23的上表面沉积一层无机材料，所述无机材料包括硅的氧化物或硅的氮化物或是多层薄膜结构，图案化处理后，形成第一栅极绝缘层24。第一栅极绝缘层24起到绝缘的作用，防止显示面板内部的各线路之间短路。

S25第一栅极层制备步骤，在第一栅极绝缘层24的上表面沉积一层金属材料，所述金属材料包括钼(Mo)、铝(Al)、铜(Cu)、钛(Ti)等，或者是合金，或者是多层薄膜结构。利用一道黄光，蚀刻出第一栅极层25的图形，第一栅极层25与第一有源层23相对设置。

S26介电层制备步骤，在第一栅极层25、第一栅极绝缘层24及第一有源层23的上表面沉积一层介电层26，介电层26为层间绝缘层，介电层26为无机材料，所述无机材料包括硅的氧化物或硅的氮化物或是多层薄膜结构，起到绝缘作用，防止电路短路。采用掩膜板，曝光显影后，在第一有源层23的上方形成通孔，所述通孔便于后续膜层的电性连接。

S27第一源漏极层制备步骤，在介电层26的上表面沉积一层金属材料，所述金属材料包括钼(Mo)、铝(Al)、铜(Cu)、钛(Ti)等，或者是合金，或者是多层薄膜结构。部分金属材料设于所述通孔内，经图案化处理后，形成第一源漏极层27及触控层28，第一源漏极层27通过所述通孔，电连接至第一有源层23，形成电路导通，触控层28则设于介电层26的上表面，为触控电极提供电路支持。

S3彩膜层集成步骤，在阵列基板2的上表面集成彩膜层3(参见图6)，如图5所示，所述彩膜层集成步骤包括步骤S31～S35。

S31色阻层制备步骤，在第一源漏极层27及触控层28的上表面制备出色阻层，色阻层31包括多个颜色的色阻，如红色色阻、绿色色阻、蓝色色阻等，各个色阻并排设置于第一源漏极层27及触控层28的上表面，实现彩色滤光功能。在阵列基板2上集成色阻层31，能够有效解决显示面板在对盒工艺中因对位偏差造成的漏光等问题，并能显著提升显示面板的开口率。

S32平坦层制备步骤，在色阻层31的上表面制备出平坦层32，平坦层32使得膜层表面平整，利于电极层等膜层的贴合，防止出现脱离的现象。在平坦层32上制备出平坦层通孔，为电极层提供通道。

S33第一电极层制备步骤，在平坦层32的上表面制备出第一电极层33，第一电极层33部分设于所述平坦层通孔内，电连接至触控层28，第一电极层33为触控电极。

S34第一钝化层制备步骤，在平坦层32及第一电极层33的上表面沉积一层硅的氧化物材料，形成第一钝化层34，第一钝化层34起到绝缘作用及隔绝外界水氧的作用。

S35第二电极层制备步骤，在第一钝化层34的上表面制备出第二电极层35，第二电极层35穿过第一钝化层34、平坦层32及色阻层31，电连接至第一源漏极层27。在第二电极层35的上表面防止若干隔垫物4(参见图7)，隔垫物4起到支撑的作用，隔垫物4呈柱状，可防止在后续的显示面板成盒过程中出现液晶被压迫而导致显示面板的显示效果不佳的现象。

S4指纹识别模组制备步骤，制备出一指纹识别模组6(参见图9)，如图8所示，所述指纹识别模组制备步骤包括步骤S41～S46。

S41第二栅极层制备步骤，在衬底基板61的上表面沉积无机材料，所述无机材料包括硅的氧化物或硅的氮化物，或是多层结构，形成第二缓冲层62，起到缓冲作用。在第二缓冲层62的上表面沉积一层金属材料，所述金属材料包括钼(Mo)、铝(Al)、铜(Cu)、钛(Ti)等，或者是合金，或者是多层薄膜结构。利用一道黄光，蚀刻出第二栅极层63的图形。在第二栅极层63的上表面沉积一层无机材料，所述无机材料包括硅的氧化物或硅的氮化物或是多层薄膜结构，图案化处理后，形成第二栅极绝缘层64。第二栅极绝缘层64起到绝缘的作用，防止显示面板内部的各线路之间短路。

S42第二有源层制备步骤，在第二栅极绝缘层64的上表面沉积一层半导体材料，所述半导体材料包括铟镓锌氧化物(IGZO)、铟镓钛氧化物(IZTO)，铟镓锌钛氧化物(IGZTO)，图案化处理所述半导体材料，形成第二有源层64。第二有源层65与第二栅极层63相对设置。

S43第二源漏极层制备步骤，在第二有源层65及第二栅极绝缘层64的上表面沉积一层金属材料，所述金属材料包括钼(Mo)、铝(Al)、铜(Cu)、钛(Ti)等，或者是合金，或者是多层薄膜结构，形成第二源漏极层66，部分金属材料设于第二栅极绝缘层64的通孔内，第二源漏极层66通过所述通孔电连接至第二栅极层63，形成电路导通。

S44光电二极管制备步骤，在第二源漏极层66的上表面放置一光电二极管67，光电二极管67为非晶硅光电二极管，可根据检测到的电荷信号量的大小来判定光信号的强弱。

S45第二钝化层制备步骤，在第二栅极绝缘层64、第二有源层65、第二源漏极层66及光电二极管67的上表面沉积一层硅的氧化物材料，形成第二钝化层68，第二钝化层68起到绝缘作用及隔绝外界水氧的作用。

S46第三电极层制备步骤，在第二钝化层68的上表面沉积一层氧化铟锡材料，形成第三电极层69，第三电极层69部分地穿过第二钝化层68，电连接至第二源漏极层66，部分第三电极层69设于光电二极管的上表面，用以实现指纹信号的采集，形成电路导通。

本实施例所述显示面板的制备方法的技术效果在于，在阵列基板上集成彩膜层，能够有效解决显示面板在对盒工艺中因对位偏差造成的漏光等问题，并能显著提升显示面板的开口率。在彩膜层的上表面集成指纹识别模组，有效减少指纹信号反射光的损失，保证指纹识别的灵敏度，同时可减小指纹识别模组对液晶产生干扰电场，提升显示面板的显示效果。

在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。

以上对本申请实施例所提供的一种显示面板及其制备方法、显示装置进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

玻璃基板；

阵列基板，设于所述玻璃基板一侧的表面；

彩膜层，设于所述阵列基板远离所述玻璃基板一侧的表面；

指纹识别模组，设于所述彩膜层远离所述阵列基板的一侧；

液晶层，填充于所述彩膜层及所述指纹识别模组之间；以及

隔垫物，设于所述彩膜层及所述指纹识别模组之间。

2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

所述阵列基板包括：

遮光层，设于所述玻璃基板一侧的表面；

第一缓冲层，设于所述遮光层远离所述玻璃基板一侧的表面；

第一有源层，设于所述第一缓冲层远离所述玻璃基板一侧的表面，且与所述遮光层相对设置；

第一栅极绝缘层，设于所述第一有源层及所述第一缓冲层远离所述玻璃基板一侧的表面；

第一栅极层，设于所述第一栅极绝缘层远离所述第一缓冲层一侧的表面，且与所述第一有源层相对设置；

介电层，设于所述第一栅极层远离所述有源层一侧的表面；

触控层，设于所述介电层远离所述第一栅极绝缘层一侧的表面；以及

第一源漏极层，设于所述介电层远离所述第一栅极绝缘层一侧的表面，且电连接至所述第一有源层。

3.如权利要求2所述的显示面板，其特征在于，

所述彩膜层包括：

色阻层，设于所述触控层、所述第一源漏极层及所述介电层远离所述第一栅极绝缘层一侧的表面；以及

平坦层，设于所述色阻层远离所述阵列基板一侧的表面。

4.如权利要求3所述的显示面板，其特征在于，

所述彩膜层还包括：

第一电极层，设于所述平坦层远离所述色阻层一侧的表面，且穿过所述平坦层及所述色阻层，电连接至所述触控层；

第一钝化层，设于所述第一电极层及所述平坦层远离所述色阻层一侧的表面；以及

第二电极层，设于所述第一钝化层远离所述平坦层一侧的表面，且穿过所述第一钝化层，电连接至所述第一源漏极层。

5.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

所述指纹识别模组包括：

衬底基板，设于隔垫物远离所述彩膜层一侧的表面；

第二缓冲层，设于所述衬底基板远离所述彩膜层一侧的表面；

第二栅极层，设于所述第二缓冲层远离所述衬底基板一侧的表面；

第二栅极绝缘层，设于所述第二栅极层及所述第二缓冲层远离所述衬底基板一侧的表面；

第二有源层，设于所述第二栅极绝缘层远离所述第二缓冲层一侧的表面，且与所述第二栅极层相对设置；

第二源漏极层，设于所述第二栅极绝缘层远离所述第二缓冲层一侧的表面，且搭接至所述第二有源层；

光电二极管，设于所述第二源漏极远离所述第二栅极绝缘层一侧的表面；以及

第二钝化层，设于所述第二源漏极层及所述光电二极管远离所述第二栅极绝缘层一侧的表面。

6.如权利要求5所述的显示面板，其特征在于，

所述第二钝化层设有钝化层通孔；

一钝化层通孔与所述光电二极管相对设置；

另一钝化层通孔与所述第二源漏极层相对设置。

7.如权利要求6所述的显示面板，其特征在于，还包括

第三电极层，设于所述钝化层通孔内，电连接至所述光电二极管及所述第二源漏极层。

8.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

玻璃基板提供步骤，提供一玻璃基板；

阵列基板制备步骤，在所述玻璃基板的上表面制备出阵列基板；

彩膜层集成步骤，在所述阵列基板的上表面集成出彩膜层；

指纹识别模组制备步骤，制备出一指纹识别模组；以及

成盒步骤，在所述彩膜层的上表面设置所述指纹识别模组，并在所述彩膜层及所述指纹识别模组之间填充液晶。

9.如权利要求8所述的显示面板的制备方法，其特征在于，

所述指纹识别模组制备步骤包括以下步骤：

栅极层制备步骤，在一衬底基板上制备出缓冲层与栅极层；

有源层制备步骤，在所述栅极层的上表面制备出栅极绝缘层及有源层；

源漏极层制备步骤，在所述栅极绝缘层的上表面制备出源漏极层，且搭接至所述有源层；

光电二极管制备步骤，在所述源漏极层的上表面制备出光电二极管；

钝化层制备步骤，在所述光电二极管的上表面制备出钝化层，并采用掩膜板制备出钝化层通孔；以及

电极层制备步骤，在所述通孔内制备出电极层。

10.一种显示装置，包括如权利要求1～7中任一项所述的显示面板。

Images