CN111100499A - 一种高解析的阻焊油墨 - Google Patents

一种高解析的阻焊油墨 Download PDF

Info

Publication number
CN111100499A
CN111100499A CN201911333119.XA CN201911333119A CN111100499A CN 111100499 A CN111100499 A CN 111100499A CN 201911333119 A CN201911333119 A CN 201911333119A CN 111100499 A CN111100499 A CN 111100499A
Authority
CN
China
Prior art keywords
parts
refractive
index
epoxy resin
ethylene glycol
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201911333119.XA
Other languages
English (en)
Inventor
朱贤红
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Wuxi Derbell Phto Electronic Material Co ltd
Original Assignee
Wuxi Derbell Phto Electronic Material Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Wuxi Derbell Phto Electronic Material Co ltd filed Critical Wuxi Derbell Phto Electronic Material Co ltd
Priority to CN201911333119.XA priority Critical patent/CN111100499A/zh
Publication of CN111100499A publication Critical patent/CN111100499A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00—Inks
    • C09D11/02—Printing inks
    • C09D11/10—Printing inks based on artificial resins
    • C09D11/101—Inks specially adapted for printing processes involving curing by wave energy or particle radiation, e.g. with UV-curing following the printing
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00—Inks
    • C09D11/02—Printing inks
    • C09D11/03—Printing inks characterised by features other than the chemical nature of the binder
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)

Abstract

本发明涉及一种高解析的阻焊油墨，其特征为它包括以下质量比的各组分：邻甲酚醛环氧丙烯酸酯树脂25‑45份、高折射率无机填料25‑30份、高折射率光固化单体5‑8份、光引发剂2‑5份、胺类固化剂0.5‑1.5份、环氧树脂5‑10份、异氰尿酸三缩水甘油酯4‑6份、溶剂10‑15份、消泡剂0‑3份、流平剂0‑3份、稳定剂0‑3份和颜料0‑3份。本发明具有的优点为折射率大，折射角低，能减少非曝光区域感光，进而减少毛边，提高解析度。

Description

一种高解析的阻焊油墨
技术领域
本发明涉及一种阻焊油墨，特别涉及一种高解析的阻焊油墨。
背景技术
阻焊油墨应用于印刷线路板的防焊、护板和绝缘。随着电子产业的发展印刷线路板的线路越来越细，越来越密集。因此，对阻焊油墨的解析度要求越来越高，以应对精密线路板的生产。
现有技术阻焊油墨通常以折射率低于1.50的普通单体和折射率低于2.0的无机填料进行配置，如专利CN 103788342、CN100469843。
在实现本发明的过程中，发明人发现现有技术阻焊油墨折射率较低，导致至少存在以下问题：
现有技术光刻胶折射率较低，PCB防焊曝光机多采用散光光源进行曝光，因此UV光会在阻焊油墨界面发生折射，折射率越低，折射角越大，从而导致非曝光区域感光，从而形成毛边，降低解析度。
发明内容
针对以上缺点，本发明的目的在于提供一种高解析的阻焊油墨，其具有高折射率，能减少非曝光区域感光，进而减少毛边，提高解析度。
本发明提供的技术方案如下，一种高解析的阻焊油墨，其特征为它包括以下质量比的各组分：邻甲酚醛环氧丙烯酸酯树脂25-45份、高折射率无机填料25-30份、高折射率光固化单体5-8份、光引发剂2-5份、胺类固化剂0.5-1.5份、环氧树脂5-10份、异氰尿酸三缩水甘油酯4-6份、溶剂10-15份、消泡剂0-3份、流平剂0-3份、稳定剂0-3份和颜料0-3份；其中
所述高折射率无机填料为折射率大于等于2.00的无机粉体；
所述高折射率光固化单体为联苯甲醇丙烯酸酯（折射率为1.60）、9,9-双[4-(2-丙烯酰氧基乙氧基)苯基]芴双酚芴系二丙烯酸酯（折射率为1.61）中的一种或几种；
所述光引发剂为苯偶姻、苯偶姻甲基醚、苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙酮、2-甲基-1-（4-甲硫基苯基）-2-吗啉基-1-丙酮、2-二甲氨基-2-苄基-1-[4-（4-吗啉基）苯基]-1-丁酮、2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦、2,4,6-三甲基苯甲酰基苯基膦酸乙酯、苯基双（2,4,6-三甲基苯甲酰基）氧化膦、二苯甲酮、4 -甲基二苯甲酮、4,4'-二（二乙氨基）二苯甲酮、2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、2-叔丁基基蒽醌、1-氯蒽醌等蒽醌类光引发剂；2-氯噻吨酮、2-甲基噻吨酮、2，4-二甲基噻吨酮、2，4-二乙基噻吨酮、2-异丙基噻吨酮、2,4,5-三芳基咪唑二聚体、氟化二苯基钛茂和双（五氟苯基）钛茂等钛茂中的一种或几种；
所述胺类固化剂为二氰二胺、三聚氰胺中的一种或几种；
所述环氧树脂为BPF 型环氧树脂、BPA 型环氧树脂、苯酚型酚醛环氧树脂、甲基酚型酚醛环氧树脂、DCPD型环氧树脂中的一种或几种；
所述溶剂为乙二醇单甲醚醋酸酯、乙二醇单乙醚醋酸酯、乙二醇单丁醚醋酸酯、二乙二醇单甲醚醋酸酯、丙二醇单甲醚醋酸酯、醋酸乙酯、醋酸丁酯、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单丁醚、二乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单丁醚、丙二醇单甲醚、二丙二醇单甲醚、甲苯、二甲苯、石脑油、氧化石脑油、溶剂石脑油、二元酸酯（DBE）中的一种或几种；
所述消泡剂为有机硅或者非硅类消泡剂，如日本信越化学工业株式会社的信越KS-66消泡剂及毕克助剂（上海）有限公司的BYK051、BYK052、BYK066N消泡剂。
所述流平剂为有机硅或者丙烯酸流平剂，如毕克助剂（上海）有限公司的BYK361N、BYK358N、BYK333流平剂；
所述稳定剂为抗氧剂，为2-羟基-4-甲氧基二甲酮、2,6-二叔丁基-4-甲基苯酚或对甲氧基苯酚；
所述颜料为酞青绿、酞青蓝、炭黑、颜料红或联苯胺黄。
在上述高解析的阻焊油墨中高折射率无机填料为金红色（折射率为2.71）、锐钛（折射率为2.55）、硫酸锌（折射率为2.37）、氧化锌（折射率为2.02）、钛酸钡（折射率为2.40）中的一种或几种。
本发明与现有技术相比所具有的优点为：本发明的阻焊油墨含有高折射率光固化单体和高折射率无机填料，提高了阻焊油墨的折射率，其折射率越大，折射角越低，从而减少非曝光区域感光，进而减少毛边，提高解析度。
具体实施方式
以下将结合具体的实施例来说明本发明的技术方案，在一下实施例中邻甲酚醛环氧丙烯酸酯树脂为化药化工（无锡）有限公司的CCR-4959HW。
实施例1、
一种高解析的阻焊油墨，其通过将以下质量比的各组份混合搅拌后制得：
邻甲酚醛环氧丙烯酸酯树脂27份、高折射率无机填料25份、高折射率光固化单体8份、2-甲基-1-（4-甲硫基苯基）-2-吗啉-1-丙酮光引发剂3份、2-异丙基噻吨酮光引发剂2份、胺类固化剂1份、环氧树脂10份、异氰尿酸三缩水甘油酯6份、溶剂15份、消泡剂1份、流平剂1份和颜料1份；
其中高折射率无机填料为金红石，其折射率为2.71；高折射率光固化单体为联苯甲醇丙烯酸酯，其折射率为1.60；胺类固化剂为二氰二胺；环氧树脂为BPF 型环氧树脂；溶剂为二丙二醇单甲醚；消泡剂为日本信越化学工业株式会社的信越KS-66；流平剂为毕克助剂（上海）有限公司的BYK333；颜料为酞青绿。
实施例2、
一种高解析的阻焊油墨，其通过将以下质量比的各组份混合搅拌后制得：
邻甲酚醛环氧丙烯酸酯树脂45份、高折射率无机填料26.5份、高折射率光固化单体5份、2-甲基-1-（4-甲硫基苯基）-2-吗啉-1-丙酮光引发剂1.5份、2-异丙基噻吨酮光引发剂0.5份、胺类固化剂0.5份、环氧树脂5份、异氰尿酸三缩水甘油酯4份、溶剂10份、消泡剂1份、流平剂0.5份和颜料0.5份；
其中高折射率无机填料为锐钛，其折射率为2.55；高折射率光固化单体为9,9-双[4-(2-丙烯酰氧基乙氧基)苯基]芴双酚芴系二丙烯酸酯，其折射率为1.61；胺类固化剂为三聚氰胺；环氧树脂为BPF 型环氧树脂；溶剂为二丙二醇单甲醚；消泡剂为日本信越化学工业株式会社的信越KS-66；流平剂为毕克助剂（上海）有限公司的BYK333；颜料为酞青蓝。
实施例3、
一种高解析的阻焊油墨，其通过将以下质量比的各组份混合搅拌后制得：
邻甲酚醛环氧丙烯酸酯树脂35份、高折射率无机填料30份、高折射率光固化单体6份、2-甲基-1-（4-甲硫基苯基）-2-吗啉-1-丙酮光引发剂2.25份、2-异丙基噻吨酮光引发剂0.75份、胺类固化剂1份、环氧树脂6份、异氰尿酸三缩水甘油酯5份、溶剂12份、消泡剂1份、流平剂0.5份和颜料0.5份；
其中高折射率无机填料为锐钛，其折射率为2.55；高折射率光固化单体为9,9-双[4-(2-丙烯酰氧基乙氧基)苯基]芴双酚芴系二丙烯酸酯，其折射率为1.61；胺类固化剂为三聚氰胺；环氧树脂为BPF 型环氧树脂；溶剂为二丙二醇单甲醚；消泡剂为日本信越化学工业株式会社的信越KS-66；流平剂为毕克助剂（上海）有限公司的BYK333；颜料为酞青蓝。
实施例4、
一种高解析的阻焊油墨，其通过将以下质量比的各组份混合搅拌后制得：
邻甲酚醛环氧丙烯酸酯树脂25份、高折射率无机填料30份、高折射率光固化单体8份、2-甲基-1-（4-甲硫基苯基）-2-吗啉-1-丙酮光引发剂3份、2-异丙基噻吨酮光引发剂1.5份、胺类固化剂1.5份、环氧树脂10份、异氰尿酸三缩水甘油酯6份、溶剂15份；
其中高折射率无机填料为钛酸钡，其折射率为2.40；高折射率光固化单体为9,9-双[4-(2-丙烯酰氧基乙氧基)苯基]芴双酚芴系二丙烯酸酯，其折射率为1.61；胺类固化剂为三聚氰胺；环氧树脂为BPF 型环氧树脂；溶剂为二元酸酯（DBE）。
实施例5、
一种高解析的阻焊油墨，其通过将以下质量比的各组份混合搅拌后制得：
邻甲酚醛环氧丙烯酸酯树脂33份、高折射率无机填料30份、高折射率光固化单体6份、2-甲基-1-（4-甲硫基苯基）-2-吗啉-1-丙酮光引发剂2.25份、2-异丙基噻吨酮光引发剂0.75份、胺类固化剂1份、环氧树脂6份、异氰尿酸三缩水甘油酯5份、溶剂14份、消泡剂1份、流平剂0.5份和颜料0.5份；
其中高折射率无机填料为硫酸锌，其折射率为2.35；高折射率光固化单体为9,9-双[4-(2-丙烯酰氧基乙氧基)苯基]芴双酚芴系二丙烯酸酯，其折射率为1.61；胺类固化剂为三聚氰胺；环氧树脂为BPF 型环氧树脂；溶剂为二丙二醇单甲醚；消泡剂为日本信越化学工业株式会社的信越KS-66；流平剂为毕克助剂（上海）有限公司的BYK333；颜料为酞青绿。
实施例6、
一种高解析的阻焊油墨，其通过将以下质量比的各组份混合搅拌后制得：
邻甲酚醛环氧丙烯酸酯树脂35份、高折射率无机填料30份、高折射率光固化单体6份、2-甲基-1-（4-甲硫基苯基）-2-吗啉-1-丙酮光引发剂2.25份、2-异丙基噻吨酮光引发剂0.75份、胺类固化剂1份、环氧树脂6份、异氰尿酸三缩水甘油酯5份、溶剂12份、消泡剂1份、流平剂0.5份和颜料0.5份；
其中高折射率无机填料为氧化钡，其折射率为2.02；高折射率光固化单体为9,9-双[4-(2-丙烯酰氧基乙氧基)苯基]芴双酚芴系二丙烯酸酯，其折射率为1.61；胺类固化剂为三聚氰胺；环氧树脂为BPF 型环氧树脂；溶剂为二丙二醇单甲醚；消泡剂为日本信越化学工业株式会社的信越KS-66；流平剂为毕克助剂（上海）有限公司的BYK333；颜料为酞青绿。
对实施例1和6中制备的高解析的阻焊油墨所形成的涂膜的各项性能进行试验比较，进行评价，分别在表1中示出结果。
Figure DEST_PATH_IMAGE002
表1
上述表1中的性能试验的评估方法如下说明。
（1）指触干燥性
将各试验例涂布在铜面基板上（膜厚25μm），在75℃温度下烘烤30min，用手指轻压涂膜表面，对比粘手性差异。判定基准如下述所示。
◎：代表指触干燥性优异（未有粘手发生）
○：代表指触干燥性良好（有轻微粘手发生）。
△：代表指触干燥性一般（有严重粘手发生）。
（2）感光性
使用21格能量尺覆盖在各实施例高折射率光刻胶所形成的干燥涂膜上，利用500mJ/cm2能量的紫外光进行曝光，再进行碱性显像（1.0% 的NaCO3 溶液、温度30℃、压力1.8kg/cm2、时间60s），最后评估显像后残留格数（残留格数为涂膜几乎完整保留原始状态的格数）。
（3）解析度
将涂覆有高折射率光刻胶的铜面基板经烘烤后，使用解析度测试底片进行UV光曝光（500mJ/cm2），然后进行碱性显像（1.0% 的NaCO3 溶液、温度30℃、压力1.8kg/cm2、时间60s），显影后采用显微镜观察显影后的图像，评估显像后完整的最小解析度。
从表1所示的结果可知，根据本发明的高解析的阻焊油墨，优异的感光性和解析度。

Claims (2)

1.一种高解析的阻焊油墨，其特征为它包括以下质量比的各组分：邻甲酚醛环氧丙烯酸酯树脂25-45份、高折射率无机填料25-30份、高折射率光固化单体5-8份、光引发剂2-5份、胺类固化剂0.5-1.5份、环氧树脂5-10份、异氰尿酸三缩水甘油酯4-6份、溶剂10-15份、消泡剂0-3份、流平剂0-3份、稳定剂0-3份和颜料0-3份；其中
所述高折射率无机填料为折射率大于等于2.00的无机粉体；
所述高折射率光固化单体为联苯甲醇丙烯酸酯（折射率为1.60）、9,9-双[4-(2-丙烯酰氧基乙氧基)苯基]芴双酚芴系二丙烯酸酯（折射率为1.61）中的一种或几种；
所述光引发剂为苯偶姻、苯偶姻甲基醚、苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙酮、2-甲基-1-（4-甲硫基苯基）-2-吗啉基-1-丙酮、2-二甲氨基-2-苄基-1-[4-（4-吗啉基）苯基]-1-丁酮、2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦、2,4,6-三甲基苯甲酰基苯基膦酸乙酯、苯基双（2,4,6-三甲基苯甲酰基）氧化膦、二苯甲酮、4 -甲基二苯甲酮、4,4'-二（二乙氨基）二苯甲酮、2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、2-叔丁基基蒽醌、1-氯蒽醌等蒽醌类光引发剂；2-氯噻吨酮、2-甲基噻吨酮、2，4-二甲基噻吨酮、2，4-二乙基噻吨酮、2-异丙基噻吨酮、2,4,5-三芳基咪唑二聚体、氟化二苯基钛茂和双（五氟苯基）钛茂等钛茂中的一种或几种；
所述胺类固化剂为二氰二胺、三聚氰胺中的一种或几种；
所述环氧树脂为BPF 型环氧树脂、BPA 型环氧树脂、苯酚型酚醛环氧树脂、甲基酚型酚醛环氧树脂、DCPD型环氧树脂中的一种或几种；
所述溶剂为乙二醇单甲醚醋酸酯、乙二醇单乙醚醋酸酯、乙二醇单丁醚醋酸酯、二乙二醇单甲醚醋酸酯、丙二醇单甲醚醋酸酯、醋酸乙酯、醋酸丁酯、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单丁醚、二乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单丁醚、丙二醇单甲醚、二丙二醇单甲醚、甲苯、二甲苯、石脑油、氧化石脑油、溶剂石脑油、二元酸酯中的一种或几种；
所述消泡剂为有机硅或者非硅类消泡剂；
所述流平剂为有机硅或者丙烯酸流平剂；
所述稳定剂为抗氧剂，为2-羟基-4-甲氧基二甲酮、2,6-二叔丁基-4-甲基苯酚或对甲氧基苯酚；
所述颜料为酞青绿、酞青蓝、炭黑、颜料红或联苯胺黄。
2.根据权利要求1所述的一种高解析的阻焊油墨，其特征为高折射率无机填料为金红色、锐钛、硫酸锌、氧化锌、钛酸钡中的一种或几种。
CN201911333119.XA 2019-12-23 2019-12-23 一种高解析的阻焊油墨 Pending CN111100499A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201911333119.XA CN111100499A (zh) 2019-12-23 2019-12-23 一种高解析的阻焊油墨

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201911333119.XA CN111100499A (zh) 2019-12-23 2019-12-23 一种高解析的阻焊油墨

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN111100499A true CN111100499A (zh) 2020-05-05

Family

ID=70422569

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201911333119.XA Pending CN111100499A (zh) 2019-12-23 2019-12-23 一种高解析的阻焊油墨

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN111100499A (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112708305A (zh) * 2020-12-17 2021-04-27 广州亦盛环保科技有限公司 一种油墨及其制备方法和应用
CN113214692A (zh) * 2021-05-21 2021-08-06 武汉工程大学 一种高折射树脂组合物及其制备方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002294131A (ja) * 2001-03-30 2002-10-09 Goo Chemical Co Ltd フォトソルダーレジストインク
CN103890018A (zh) * 2011-08-11 2014-06-25 大阪燃气化学有限公司 具有芴骨架的多官能性(甲基)丙烯酸酯及其固化性组合物
CN106867308A (zh) * 2017-03-24 2017-06-20 广州西陇精细化工技术有限公司 一种感光阻焊油墨
CN108530987A (zh) * 2018-05-16 2018-09-14 江苏海田电子材料有限公司 一种液态显影白色感光阻焊油墨及其制备方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002294131A (ja) * 2001-03-30 2002-10-09 Goo Chemical Co Ltd フォトソルダーレジストインク
CN103890018A (zh) * 2011-08-11 2014-06-25 大阪燃气化学有限公司 具有芴骨架的多官能性(甲基)丙烯酸酯及其固化性组合物
CN106867308A (zh) * 2017-03-24 2017-06-20 广州西陇精细化工技术有限公司 一种感光阻焊油墨
CN108530987A (zh) * 2018-05-16 2018-09-14 江苏海田电子材料有限公司 一种液态显影白色感光阻焊油墨及其制备方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112708305A (zh) * 2020-12-17 2021-04-27 广州亦盛环保科技有限公司 一种油墨及其制备方法和应用
CN113214692A (zh) * 2021-05-21 2021-08-06 武汉工程大学 一种高折射树脂组合物及其制备方法
CN113214692B (zh) * 2021-05-21 2022-07-19 武汉工程大学 一种高折射树脂组合物及其制备方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3254572B2 (ja) 光重合性熱硬化性樹脂組成物
US5821031A (en) Photosensitive solder resist ink, printed circuit board and production thereof
CN109868004B (zh) 一种光固化油墨及pcb板
JP5117416B2 (ja) 感光性樹脂組成物、プリント配線板用のソルダーレジスト組成物およびプリント配線板
CN111100237B (zh) 高折射率的碱水可溶性树脂与制备方法及高折射率光刻胶
JP5722418B1 (ja) 感光性樹脂組成物、ドライフィルム、硬化物およびプリント配線板
EP1359172B1 (en) Ultraviolet-curable resin composition and photosolder resist ink containing the composition
CN113646698B (zh) 光致抗蚀剂组合物及其固化物
JP4768924B2 (ja) フォトソルダーレジストインク
KR20150106837A (ko) 감광성 수지 조성물
CN111100499A (zh) 一种高解析的阻焊油墨
CN106905759B (zh) 一种耐镀金药水的光固化油墨及其应用
JP2007102109A (ja) 感光性樹脂組成物、硬化物及びプリント配線板
JP5809182B2 (ja) 感光性樹脂組成物
EP1063247A1 (en) Curable resin composition, modified copolymer and resin composition, and alkali development type photocurable glass paste
KR20060081361A (ko) 광 경화성ㆍ열 경화성의 일액형 솔더 레지스트 조성물 및그것을 사용한 인쇄 배선판
CN106338887A (zh) 一种光致抗蚀剂组合物及其用途
JP4181329B2 (ja) 感光性樹脂組成物、フォトソルダーレジストインク、プリント配線板、フレキシブルプリント配線板及びドライフィルム
JP5300020B2 (ja) カルボキシル基含有樹脂、カルボキシル基含有樹脂組成物及びその硬化物
JP2009227848A (ja) 塩素含有量の少ないエポキシカルボキシレート化合物、その誘導体、それを含有する活性エネルギー線硬化型樹脂組成物およびその硬化物
JP4219641B2 (ja) アルカリ現像型感光性樹脂組成物
CN116348522A (zh) 含有聚合性不饱和基的碱可溶性树脂、以该树脂为必需成分的感光性树脂组合物及其固化物
JP2004264773A (ja) 感光性樹脂組成物、その硬化物及びプリント配線板
KR20220116721A (ko) 감광성 수지 조성물
KR20210119893A (ko) 경화성 수지 조성물, 드라이 필름, 경화물 및 전자 부품

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20200505

WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20200505