CN111092165A - 显示装置 - Google Patents

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金东朝
金永敏
朴赞永
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Abstract

提供一种显示装置,所述显示装置包括：基底；密封构件，围绕基底的透射区域的一部分；多个像素，处于基底的显示区域中；封装基底，以使密封构件处于封装基底与基底之间的方式面对基底；透明材料层，处于基底与封装基底之间并且对应于透射区域；以及遮光部分，处于封装基底上并且对应于密封构件。遮光部分的宽度大于密封构件的宽度。

Description

显示装置
本申请要求于2018年10月23日提交的第10-2018-0126864号韩国专利申请的优先权和利益，该韩国专利申请出于所有的目的通过引用包含于此，如同在此充分阐述的一样。
技术领域
发明的示例性实施例总体涉及一种显示装置。
背景技术
最近，显示装置已经变得非常通用。另外，随着显示装置具有越来越小的厚度和越来越轻的重量，它们可以用在更宽范围的应用中。随着显示装置的显示区域的面积的扩大，各种组合功能或连接功能正被添加到显示装置。
在本背景技术部分中公开的上述信息仅用于对发明构思的背景的理解，因此，它可能包含不构成现有技术的信息。
发明内容
作为用于通过扩大显示区域的面积将各种功能添加到显示装置的方案，透射区域可以形成在显示区域的一部分上。本发明的示例性实施例提供了一种具有透射区域并且包括上述结构的显示装置。
发明构思的附加特征将在下面的描述中进行阐述，并且部分地将从描述中显而易见，或者可以通过发明构思的实践来获知。
本发明的一个示例性实施例提供了一种显示装置，该显示装置包括：基底；密封构件，围绕基底的透射区域的一部分；多个像素，位于基底的显示区域中；封装基底，以其中密封构件位于封装基底与基底之间的状态面对基底；透明材料层，设置在基底与封装基底之间并且对应于透射区域；以及遮光部分，位于封装基底上并且对应于密封构件。遮光部分的宽度大于密封构件的宽度。
窗的遮光部分可以完全地围绕透射区域。
透明材料层的侧表面可以暴露在外部并且处于基底的边缘与封装基底的边缘之间，基底的所述边缘与封装基底的所述边缘与透射区域相邻。
密封构件的在基底的边缘与显示区域之间的第一部分的外侧表面可以具有同密封构件的在显示区域与透射区域之间的第二部分的外侧表面的形状不同的形状。
基底的与基底的边缘对应的侧表面和封装基底的与封装基底的边缘对应的侧表面可以具有凸出表面，并且密封构件的第一部分的外侧表面可以具有与凸出表面连续地弯曲的特征。
显示装置还可以包括位于显示区域与透射区域之间的电源线。
密封构件可以与电源线叠置。
透明材料层可以与封装基底直接接触。
显示装置还可以包括插入在基底与透明材料层之间的无机层。
基底和透明材料层可以彼此直接接触。
所述多个像素可以包括第一像素和第二像素，第一像素和第二像素布置在穿过透射区域的假想线中，并以使透射区域处于第一像素与第二像素之间的方式彼此间隔开。
显示装置还可以包括插入在封装基底与窗之间的抗反射构件和粘合构件中的至少一个。抗反射构件和粘合构件中的所述至少一个可以包括对应于透射区域的开口。
显示装置还可以包括位于开口中的透明层。
所述多个像素中的每个可以包括有机发光二极管。
另一示例性实施例提供了一种显示装置，该显示装置包括：基底；密封构件，部分地围绕基底的透射区域；多个像素，位于基底的显示区域中；封装基底，以其中使密封构件定位在封装基底与基底之间的状态面对基底；透明材料层，设置在基底与封装基底之间并且对应于透射区域；以及窗，位于封装基底上。密封构件可以包括沿着基底的边缘延伸的第一部分以及连接到第一部分并且在透射区域与显示区域之间延伸以围绕透射区域的一部分的第二部分。
透明材料层可以包括面对密封构件的第二部分的内侧表面和与内侧表面相对的外侧表面，并且透明材料层的外侧表面可以处于基底的边缘与封装基底的边缘之间并且可以暴露于外部。
窗的遮光部分可以包括与密封构件的第二部分叠置的第一子遮光部分和在与第一子遮光部分的方向不同的方向上延伸的第二子遮光部分，并且第一子遮光部分和第二子遮光部分可以彼此连接以具有环形形状。
第二子遮光部分可以不与密封构件叠置。
密封构件的第一部分的外侧表面可以具有与密封构件的第二部分的外侧表面的形状不同的形状。
基底的与基底的边缘对应的侧表面具有凸出表面，封装基底的与封装基底的边缘对应的侧表面具有凸出表面，并且密封构件的第一部分的外侧表面具有与凸出表面连续地弯曲的特征。
显示装置还可以包括位于透射区域与显示区域之间的电源线。密封构件可以与电源线叠置。
基底和封装基底中的每个可以与透明材料层直接接触。
显示装置还可以包括：抗反射构件，插入在封装基底与窗之间并且具有对应于透射区域的开口；以及透明层，位于开口中。
像素可以包括有机发光二极管或液晶。
本发明的另一示例性实施例提供了一种显示装置，显示装置包括：基底，具有透射区域和部分地围绕透射区域的显示区域；多个显示元件，位于显示区域中；封装构件，覆盖所述多个显示元件；窗，位于封装构件上并且具有对应于透射区域和显示区域的透射部分；以及遮光部分，围绕透射部分。
显示装置还可以包括插入在封装构件与窗之间的抗反射构件。抗反射构件可以包括对应于透射区域的开口。
显示装置还可以包括位于开口中并且包括透明材料的透明层。
显示装置可以包括：封装基底，以其中使显示元件位于封装基底与基底之间的状态面对基底；以及密封构件，位于基底与封装基底之间。密封构件可以部分地围绕透射区域。
显示装置还可以包括位于基底与封装基底之间并且对应于透射区域的透明材料层。
密封构件的在基底的边缘与显示区域的边缘之间的第一部分的外侧表面可以具有同密封构件的在显示区域与透射区域之间的第二部分的外侧表面的形状不同的形状。
将理解的是，先前的一般性描述和以下的详细的描述都是示例性的和说明性的，并且旨在提供对所要求保护的发明的进一步说明。
附图说明
附图示出了发明的示例性实施例，并与描述一起用于解释发明构思，其中，附图被包括以提供对发明的进一步理解，并且被并入本说明书中且构成本说明书的一部分。
图1是示意性地示出根据示例性实施例的显示装置的透视图。
图2A、图2B和图2C是根据示例性实施例的显示装置沿着图1的线II-II'截取的剖视图。
图3是示意性地示出根据示例性实施例的显示面板的平面图。
图4是示意性地示出根据示例性实施例的窗的平面图。
图5A是根据示例性实施例的显示面板的剖视图。
图5B是图5A的区域Vb的放大剖视图。
图5C是根据示例性实施例的显示面板的剖视图。
图5D是根据另一示例性实施例的显示面板的剖视图。
图6A、图6B、图6C和图6D是根据示例性实施例的显示装置的对应于图5C的区域VI的剖视图。
图7是示意性地示出根据另一示例性实施例的显示面板的剖视图。
图8是根据示例性实施例的显示面板的一部分的平面图。
图9是示出窗位于图8的显示面板上的状态的平面图。
图10是根据示例性实施例的显示装置的剖视图。
图11和图12是示出根据示例性实施例的位于显示面板的第二非显示区域中的布线的平面图。
图13A和图13B是图10的区域XIII的提取的剖视图。
具体实施方式
在下面的描述中，为了解释的目的，阐述了许多具体的细节以便提供对发明的各种示例性实施例的透彻理解。如在此使用的，“实施例”是采用在此公开的一个或更多个发明构思的装置或方法的非限制性的示例。然而，显而易见的是，各种示例性实施例可以在没有这些具体细节的情况下或在具有一个或更多个等同布置的情况下实践。在其它实例中，以框图形式示出公知的结构和装置，以避免不必要地模糊各种示例性实施例。此外，各种示例性实施例可以不同，但不必是排它的。例如，在不脱离发明构思的情况下，一个示例性实施例的具体形状、构造和特性可以在另一示例性实施例中使用或实施。
除非另有说明，否则所示的示例性实施例将理解为提供其中可以在实践中实施发明构思的一些方式的变化细节的示例性特征。因此，除非另有说明，否则在不脱离发明构思的情况下，各种实施例的特征、组件、模块、层、膜、面板、区域和/或方面等(在下文中，单独地或共同地被称为“元件”)可以另外结合、分离、互换和/或重新布置。
在附图中的交叉影线和/或阴影的使用通常被提供以阐明相邻元件之间的边界。如此，除非说明，否则交叉影线或阴影的存在或不存在都不传达或指示对元件的特定材料、材料属性、尺寸、比例、图示元件之间的共性和/或任何其它特性、性质、属性等的任何偏好或需求。此外，在附图中，为了清楚和/或描述性的目的，可以夸大元件的尺寸和相对尺寸。当可以不同地实施示例性实施例时，可以不同于所描述的顺序来执行具体的工艺顺序。例如，两个连续描述的工艺可以基本同时执行，或者可以以与所描述的顺序相反的顺序执行。另外，同样的附图标记表示同样的元件。
当元件或层被称为“在”另一元件或层“上”、“连接到”或“结合到”另一元件或层时，它可以直接在另一元件或层上、直接连接到或直接结合到另一元件或层，或者可以存在中间元件或层。然而，当元件或层被称为“直接在”另一元件或层“上”、“直接连接到”或“直接结合到”另一元件或层时，不存在中间元件或层。为此，术语“连接”可以指具有或不具有中间元件的物理连接、电连接和/或流体连接。另外，D1轴、D2轴和D3轴不限于诸如x轴、y轴和z轴的直角坐标系的三个轴，而是可以在更广泛的意义上来解释。例如，D1轴、D2轴和D3轴可以彼此垂直，或者可以代表彼此不垂直的不同方向。为了本公开的目的，“X、Y和Z中的至少一个(种/者)”和“从由X、Y和Z组成的组中选择的至少一个(种/者)”可以解释为仅X、仅Y、仅Z或者X、Y和Z中的两个(种/者)或更多个(种/者)的任何组合(诸如以XYZ、XYY、YZ和ZZ为例)。如在此使用的，术语“和/或”包括一个或更多个相关的所列项的任何组合和所有组合。
尽管术语“第一”、“第二”等可以在此用于描述各种类型的元件，但这些元件不应该受这些术语的限制。这些术语用于将一个元件与另一元件区分开。因此，在不脱离公开的教导的情况下，下面讨论的第一元件可以被命名为第二元件。
为了描述的目的，可以在此使用诸如“在……之下”、“在……下方”、“在……下面”、“下”、“在……上方”、“上”、“在……上面”、“较高的”、“侧”(例如，如在“侧壁”中)等空间相对术语，由此来描述如在附图中所示的一个元件与另一(其它)元件的关系。空间相对术语旨在包含除了在附图中描绘的方位之外的装置在使用、操作和/或制造中的不同方位。例如，如果附图中的装置被翻转，则描述为“在”其它元件或特征“下方”或“之下”的元件随后将被定位为“在”所述其它元件或特征“上方”。因此，示例性术语“在……下方”可以包括上方和下方两种方位。此外，装置可以被另外定位(例如，旋转90度或在其它方位)，如此相应地解释在此使用的空间相对描述语。
在此使用的术语是为了描述具体实施例的目的，并且不旨在进行限制。如在此使用的，除非上下文另外清楚地指出，否则单数形式“一个(种/者)”和“该(所述)”也旨在包括复数形式。此外，术语“包含”及其变型和/或“包括”及其变型用在本说明书中时，说明存在所陈述的特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组，但不排除存在或添加一个或更多个其它特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。还注意的是，如在此使用的，术语“基本”、“大约”和其它类似术语被用作近似术语而不用作程度术语，并且如此用于解释本领域普通技术人员将认识到的测量值、计算值和/或提供值的固有偏差。
在此参照作为理想化示例性实施例和/或中间结构的示意图的剖视图和/或分解图来描述各种示例性实施例。如此，将预料到由例如制造技术和/或公差导致的图示的形状变化。因此，在此公开的示例性实施例不应一定被解释为限于区域的具体示出的形状，而是要包括由例如制造导致的形状的偏差。以这种方式，附图中示出的区域本质上可以是示意性的，并且这些区域的形状可以不反映装置的区域的实际形状，如此不必旨在进行限制。
除非另有限定，否则在此使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本公开作为其一部分的领域的普通技术人员通常理解的含义相同的含义。除非在此明确地如此定义，否则术语(诸如，在通用字典中定义的术语)应该被解释为具有与它们在相关领域的上下文中的含义一致的含义，并且不应该以理想化或过于形式化的含义来解释。
图1是示意性地示出根据示例性实施例的显示装置的透视图。
参照图1，显示装置1包括在其中发光的显示区域DA和在其中不发光的非显示区域NDA。显示装置1可以利用从显示区域DA中的像素发射的光来提供图像。
显示装置1包括透射区域TA，该透射区域TA处于显示区域DA的边缘并且被显示区域DA部分地围绕。作为使光在其中透射的区域的透射区域TA对应于其中诸如相机(摄像头)或传感器等组件所处的区域。例如，显示装置1的透射区域TA可以具有大约90％或更大的透射率。
非显示区域NDA可以围绕显示区域DA。非显示区域NDA的一部分在显示区域DA与透射区域TA之间。在下文中，为了方便起见，将非显示区域NDA的处于显示区域DA与透射区域TA之间的区域称为第二非显示区域NDA2，并且将非显示区域NDA的其它区域称为第一非显示区域NDA1。第一非显示区域NDA1沿着显示装置1的边缘延伸，第二非显示区域NDA2连接到第一非显示区域NDA1并且围绕透射区域TA的一部分。透射区域TA可以被彼此连接的第二非显示区域NDA2和第一非显示区域NDA1的一部分完全围绕。
在下文中，根据示例性实施例的显示装置1将描述为有机发光显示装置。然而，根据发明构思的显示装置不限于此。在另一示例性实施例中，显示装置可以是诸如无机电致发光(EL)显示器、量子点发光显示器和液晶显示器(LCD)的各种显示装置中的一种。
图2A至图2C是根据示例性实施例的显示装置1沿着图1的线II-II'截取的剖视图。
参照图2A至图2C，显示装置1可以包括显示面板10、输入感测构件20、抗反射构件30和窗40。
显示面板10生成图像。显示面板10包括显示区域DA中的像素。每个像素可以包括显示元件和与显示元件连接的像素电路。
输入感测构件20根据外部输入(例如，触摸事件)获得坐标信息。输入感测构件20可以包括感测电极(或触摸电极)和连接到感测电极的迹线。输入感测构件20可以位于显示面板10上。可选地，尽管未示出，但是输入感测构件20可以位于抗反射构件30上。
可以在执行形成显示面板10的工艺之后连续地执行形成输入感测构件20的工艺。在这种情况下，如图2A和图2C中所示，可以在显示面板10与输入感测构件20之间不插入粘合构件。在另一示例性实施例中，形成输入感测构件20的工艺可以与形成显示面板10的工艺分开执行。在这种情况下，如图2B中所示，可以在输入感测构件20与显示面板10之间插入粘合构件。图2B示出了作为粘合构件的光学透明粘合剂(OCA)。
抗反射构件30减小通过窗40从外部朝向显示面板10入射的光(外部光)的反射率。抗反射构件30可以位于输入感测构件20上。可选地，抗反射构件30可以位于输入感测构件20下面。
在示例性实施例中，抗反射构件30可以包括延迟件和偏振件。延迟件可以是膜型延迟件或液晶涂覆型延迟件。延迟件可以包括λ/2延迟件和/或λ/4延迟件。偏振件也可以是膜型偏振件或液晶涂覆型偏振件。膜型偏振件可以包括可伸缩合成树脂膜，液晶涂覆型偏振件可以包括按预定排列布置的液晶。延迟件和偏振件中的每个还可以包括保护膜。延迟件、偏振件或保护膜可以被限定为抗反射构件30的基体层。
在另一示例性实施例中，抗反射构件30可以包括黑色矩阵和滤色器。滤色器可以考虑从显示面板10的像素发射的光的颜色来布置。在另一示例性实施例中，抗反射构件30可以包括相消干涉结构。相消干涉结构可以包括作为不同层的第一反射层和第二反射层。从第一反射层反射的第一反射光和从第二反射层反射的第二反射光可以彼此相消干涉，使得外部光的反射率可以被减小。
可以在执行形成输入感测构件20的工艺之后连续地执行形成抗反射构件30的工艺。在这种情况下，如图2C中所示，可以在抗反射构件30与输入感测构件20之间不插入粘合构件。在另一示例性实施例中，形成抗反射构件30的工艺可以与形成输入感测构件20的工艺分开执行。在这种情况下，如图2B中所示，可以在输入感测构件20与抗反射构件30之间插入粘合构件。图2B示出了作为粘合构件的光学透明粘合剂(OCA)。
窗40包括对应于显示区域DA的第一透射部分41A和对应于透射区域TA的第二透射部分41B。窗40包括对应于非显示区域NDA的遮光部分。窗40可以包括对应于第一非显示区域NDA1的第一遮光部分42A和对应于第二非显示区域NDA2的第二遮光部分42B。
如图2A的放大图中所示，窗40可以包括透明基体层TPL和遮光图案层LBL。窗40的第一遮光部分42A和第二遮光部分42B可以由与透明基体层TPL叠置的遮光图案层LBL限定，并且窗40的第一透射部分41A和第二透射部分41B可以被限定为透明基体层TPL的其中遮光图案层LBL不叠置的区域。
透明基体层TPL可以包括玻璃基底和/或合成树脂膜。透明基体层TPL可以具有单层结构或多层结构。例如，透明基体层TPL可以包括增强塑料。透明基体层TPL可以包括通过粘合构件彼此结合的两个或更多个膜。遮光图案层LBL可以包括着色有机层。
在示例性实施例中，如图2A至图2C中所示，窗40可以通过使用诸如OCA的粘合构件连接到以下组件。可选地，窗40可以直接形成在以下组件上，并且因此可以在不使用粘合构件的情况下连接到以下组件。
显示装置1的至少一个元件可以包括对应于透射区域TA的开口。例如，如图2A至图2C中所示，抗反射构件30可以包括对应于透射区域TA的开口30H，并且OCA还可以包括对应于透射区域TA的开口OCA-H。在图2A和图2B中，开口OCA-H分别形成在位于抗反射构件30上下的每个OCA中和/或输入感测构件20上下的每个OCA中。然而，在另一示例性实施例中，OCA中的至少一个可以不包括开口。
透明层50可以形成在抗反射构件30的开口30H和OCA的开口OCA-H中。透明层50可以包括透明材料。例如，透明材料可以包括诸如树脂的有机材料。
参照图2B，显示面板10与窗40之间的输入感测构件20可以包括开口20H。输入感测构件20的开口20H、抗反射构件30的开口30H和OCA的开口OCA-H可以在空间上彼此连接，并且透明层50可以形成在开口20H、30H和OCA-H中。
光在其中透射的透射区域TA可以是用于改进显示装置1的功能或添加新功能的组件CMP将要位于其中的区域。例如，透射区域TA可以是使用光的组件CMP位于其中的区域。在这方面，图2A至图2C示出了位于显示面板10下面的组件CMP。组件CMP可以包括诸如用于捕获图像的相机和/或用于识别距离或指纹的光学传感器的电子元件。
参照图1描述的显示装置1的显示区域DA、透射区域TA、第一非显示区域NDA1和第二非显示区域NDA2可以理解为显示面板10的区域。例如，可以理解的是，显示面板10包括显示区域DA、透射区域TA、第一非显示区域NDA1和第二非显示区域NDA2。
图3是示意性地示出根据示例性实施例的显示面板的平面图。
参照图3，显示面板10可以包括显示区域DA、透射区域TA、第一非显示区域NDA1和第二非显示区域NDA2。显示面板10包括布置在显示区域DA中的多个像素。多个像素中的每个包括有机发光二极管(OLED)。OLED中的每个可以发射红光、绿光、蓝光或白光。
显示面板10包括透射区域TA，并且与显示区域DA中不同，没有像素位于透射区域TA中。透射区域TA是光在其中透射的区域，并且光可以在显示面板10的厚度方向上通过。透射区域TA可以位于显示区域DA的一侧处，并且可以被显示区域DA部分地围绕。
显示区域DA和透射区域TA被非显示区域围绕。如先前所述，沿着显示面板10的非显示区域的边缘延伸的区域可以被称为第一非显示区域NDA1，处于显示区域DA与透射区域TA之间的区域可以被称为第二非显示区域NDA2。透射区域TA的上侧可以被第一非显示区域NDA1部分地围绕，并且透射区域TA的下侧可以被第二非显示区域NDA2部分地围绕，第一非显示区域NDA1和第二非显示区域NDA2彼此连接。在图3中，透射区域TA位于显示区域DA的上侧处。然而，在另一示例性实施例中，透射区域TA可以位于显示区域DA的左侧、右侧和/或下侧处，并且透射区域TA的数量可以是两个或更多个。
图4是示意性地示出根据示例性实施例的窗的平面图。
参照图4，窗40包括遮光部分和透射部分。窗40的第一透射部分41A可以具有与图3中所示的显示面板10的显示区域DA对应的形状。窗40的第二透射部分41B可以具有与图3中所示的显示面板10的透射区域TA对应的形状。
窗40的遮光部分可以具有与图3中所示的显示面板10的第一非显示区域NDA1和第二非显示区域NDA2对应的形状。例如，窗40的第一遮光部分42A可以对应于第一非显示区域NDA1，并且窗40的第二遮光部分42B可以对应于第二非显示区域NDA2。窗40的第一遮光部分42A可以与显示面板(参见图3中的标号10)的第一非显示区域NDA1叠置，并且窗40的第二遮光部分42B可以与第二非显示区域NDA2叠置。
窗40的第一遮光部分42A可以沿着窗40的边缘延伸，并且窗40的第二遮光部分42B可以在与第一遮光部分42A的方向不同的方向上延伸。窗40的第二遮光部分42B可以部分地围绕第二透射部分41B的下部。第二透射部分41B可以被第一遮光部分42A的一部分和第二遮光部分42B完全地围绕。
图5A是根据示例性实施例的显示面板的与沿着图3的线Va-Va'截取的剖面对应的剖视图。图5B是图5A的区域Vb的放大剖视图。图5C是根据示例性实施例的显示面板的与沿着图3的线Vc-Vc'截取的剖面对应的剖视图。图5D是示出图5C的示例性实施例的修改版本的视图。
参照图5A，显示面板10包括基底100。基底100可以包括玻璃材料、增强塑料等。基底100具有第一内表面101和第一外表面102。第一外表面102可以理解为在稍后将基底100结合到封装基底300之后的外部表面。即，第一外表面102对应于位于显示面板10外部的表面。这里，基底100的侧表面可以理解为用于将第一内表面101连接到第一外表面102的表面或部分。
显示元件单元200位于基底100上。显示元件单元200位于参照图3描述的显示区域DA中。显示元件单元200可以包括显示元件，并且如上所述，显示元件可以包括OLED或液晶。除了包括显示元件之外，显示元件单元200还可以包括诸如薄膜晶体管(TFT)和/或电容器(例如，存储电容器)的电子元件。
封装基底300可以包括玻璃材料和增强塑料。封装基底300具有第二内表面301和第二外表面302。封装基底300的第二内表面301面对基底100的第一内表面101。
密封构件350定位在基底100与封装基底300之间。密封构件350定位在基底100的第一内表面101与封装基底300的第二内表面301之间以便围绕显示元件单元200，并且使基底100结合到封装基底300。密封构件350在图3中所示的平面上定位在第一非显示区域NDA1和第二非显示区域NDA2中，密封构件350的定位在第一非显示区域NDA1中的部分和密封构件350的定位在第二非显示区域NDA2中的部分可以彼此连续地连接，如稍后参照图8所述。密封构件350的在第一非显示区域NDA1中的部分形成显示面板10的侧表面，并且在基底100与封装基底300之间向外地指向。另一方面，密封构件350的在第二非显示区域NDA2中的部分定位在基底100与封装基底300之间并且不暴露于外部。
在示例性实施例中，密封构件350可以具有大约200μm至大约800μm的宽度和大约2μm至大约10μm的厚度。例如，可以使用玻璃料作为密封构件350。玻璃料是玻璃原料的辅助材料，并且可以在暴露于激光束之后固化。玻璃料可以是包括作为主要成分的15wt％-40wt％的V2O5、10wt％-30wt％的TeO2、1wt％-15wt％的P2O5、1wt％-15wt％的BaO、1wt％-20wt％的ZnO、5wt％-30wt％的ZrO2、5wt％-20wt％的WO3和1wt％-15wt％的BaO以及作为添加剂的Fe2O3、CuO、MnO、Al2O3、Na2O和Nb2O5中的至少一种的组合物。在另一示例性实施例中，密封构件350可以包括诸如环氧树脂的材料。
参照图3、图5A和图5B，基底100可以具有在从第一外表面102到第一内表面101的方向(+z方向)上具有均匀宽度的第一恒定部分CR1和在从第一外表面102到第一内表面101的方向(+z方向)上具有增大的宽度的第一增大部分IR1。这里，将理解的是，宽度是图5A和图5B中的x轴方向上的长度。
基底100的侧表面可以具有与第一外表面102相邻并且近似垂直于第一外表面102的第一恒定侧表面100b和在从基底100的第一恒定侧表面100b到第一内表面101的方向(+z方向)上向外凸出的第一增大侧表面100a。这里，第一恒定侧表面100b指基底100的第一恒定部分CR1的侧表面。
封装基底300可以具有在从第二外表面302到第二内表面301的方向(-z方向)上具有均匀宽度的第二恒定部分CR2和在从第二外表面302到第二内表面301的方向(-z方向)上具有增大的宽度的第二增大部分IR2。这里，将理解的是，宽度指图5A和图5B中的x轴方向上的长度。
封装基底300的侧表面可以具有与第二外表面302相邻并且近似垂直于第二外表面302的第二恒定侧表面300b和在从封装基底300的第二恒定侧表面300b到第二内表面301的方向(-z方向)上向外凸出的第二增大侧表面300a。这里，第二恒定侧表面300b指封装基底300的第二恒定部分CR2的侧表面。
显示面板10可以具有其中显示面板10的侧表面如图5A和图5B中所示整体凸出的形状。当显示面板10具有其中显示面板10的侧表面凸出的形状时，与显示面板10具有其中显示面板10的侧表面垂直于基底100的第一外表面102或封装基底300的第二外表面302的平坦形状的情况相比，在外部冲击的作用下损坏显示面板10的概率可以迅速地降低。这是因为显示面板10的侧表面具有整体凸出的形状，并且表现出弧形结构的效果，从而改善了抗冲击性(具体地，相对于侧表面冲击的强度)。因此，可以实现具有优异抗冲击性的显示面板。
基底100的第一增大部分IR1在基底100的(+y方向)厚度上相对于基底100的第一恒定部分CR1的比率可以相对大。例如，基底100的第一恒定部分CR1可以在基底100的(+y方向)厚度上与基底100的第一增大部分IR1的1/2相等或比基底100的第一增大部分IR1的1/2小。类似地，封装基底300的第二恒定部分CR2可以在封装基底300的(+y方向)厚度上与封装基底300的第二增大部分IR2的1/2相等或比封装基底300的第二增大部分IR2的1/2小。
在基底100与封装基底300之间的密封构件350的第一外侧表面350a1可以与基底100的侧表面和封装基底300的侧表面形成连续表面。例如，密封构件350的第一外侧表面350a1可以与基底100的第一增大侧表面100a和封装基底300的第二增大侧表面300a形成连续表面。
密封构件350的第一外侧表面350a1可以具有与密封构件350的内侧表面350b的形状不同的形状。通过执行使用密封构件350将基底100结合到封装基底300的工艺以及暴露和切割基底100的工艺，第一外侧表面350a1和内侧表面350b可以具有不同的形状。例如，密封构件350的内侧表面350b可以比第一外侧表面350a1更凸出。第一外侧表面350a1的曲率半径可以大于内侧表面350b的曲率半径。
参照图3、图5A和图5B，密封构件350定位在基底100与封装基底300之间，以便完全围绕显示区域DA或显示元件单元200。密封构件350完全围绕显示区域DA，其中，密封构件350的一部分可以定位在显示区域DA与透射区域TA之间。
参照图3和图5C，密封构件350定位在基底100与封装基底300之间，其中，密封构件350的一部分可以离基底100的边缘(或侧表面)和封装基底300的边缘(或侧表面)定位在显示面板10的内部。即，密封构件350的一部分位于第二非显示区域NDA2中，以部分地围绕透射区域TA。透明材料层400可以位于透射区域TA中。
透明材料层400可以包括例如树脂的透明(透光)材料。当透明材料层400插入在基底100与封装基底300之间以对应于透射区域TA时，与空气在基底100与封装基底300之间的情况相比，光透射率可以进一步得到改善。透明材料层400的折射率可以与基底100和/或封装基底300的折射率相似。例如，透明材料层400的折射率可以选择成与基底100和/或封装基底300之间具有大约0.5或更小的差值。可选地，透明材料层400的折射率可以与基底100或/和封装基底300之间具有大约0.3或更小或者0.2或更小的差值。
如图5C和图5D中所示，透明材料层400可以定位在基底100与封装基底300之间并且可以暴露于外部。通过利用密封构件350将基底100结合到封装基底300，然后在基底100与封装基底300之间注入透明材料并且使透明材料硬化，可以形成透明材料层400。
在示例性实施例中，透明材料层400的外侧表面400a可以与基底100和封装基底300的外侧表面形成连续表面。在这方面，图5C示出了透明材料层400的外侧表面400a与基底100的第一增大侧表面100a和封装基底300的第二增大侧表面300a连续。在另一示例性实施例中，根据在形成透明材料层400的工艺中的透明材料的注入量，透明材料层400的外侧表面400a可以不与基底100的第一增大侧表面100a和封装基底300的第二增大侧表面300a对齐。在这方面，图5D示出了：与基底100的第一增大侧表面100a和封装基底300的第二增大侧表面300a相比，透明材料层400的外侧表面400a定位在内部的位置，即，更靠近于显示元件单元200。
透明材料层400可以与密封构件350直接接触。密封构件350的定位在第二非显示区域NDA2中的部分的第二外侧表面350a2可以与透明材料层400的内侧表面400b直接接触。在这方面，图5C和图5D示出了透明材料层400的内侧表面400b和密封构件350的第二外侧表面350a2形成基本相同的表面。这里，透明材料层400的内侧表面400b代表围绕透射区域TA的面对第二外侧表面350a2的表面。
参照图5A至图5C，密封构件350的定位在第二非显示区域NDA2中的部分(在下文中，称为第二部分)的第二外侧表面350a2可以具有与密封构件350的定位在第一非显示区域NDA1中的部分(在下文中，称为第一部分)的第一外侧表面350a1的形状不同的形状。
例如，密封构件350的第一部分的第一外侧表面350a1可以是具有大的曲率半径的圆形表面(或者当密封构件350的曲率半径非常大时可以是基本平坦的表面)，如图5B中所示。另一方面，密封构件350的第二部分的第二外侧表面350a2可以具有与第一外侧表面350a1的形状不同的形状，如图5C和图5D中所示具有倾斜表面。在另一示例性实施例中，密封构件350的第二部分的第二外侧表面350a2可以是弯曲表面或具有拐点的表面。这将参照图6A至图6D进行描述。
图6A至图6D是根据示例性实施例的显示装置的可以对应于图5C的区域VI的剖视图。
在使用密封构件350将基底100结合到封装基底300的工艺中，根据用于形成密封构件350的材料的类型、成分和硬化条件，密封构件350的第二部分的第二外侧表面350a2可以具有各种形状。可选地，当包括布线或无机绝缘层的结构WSM设置在基底100上时，如稍后将描述的图6A至图6D中所示，用于在基底100与封装基底300之间形成密封构件350的材料的流动或扩散被改变，使得密封构件350的第二部分的第二外侧表面350a2具有各种形状。
参照图6A，密封构件350的第二部分的第二外侧表面350a2可以具有从其中倾斜表面与基底100接触的部分朝向其中倾斜表面与封装基底300接触的部分的相对平缓的倾斜表面。可选地，如图6B和图6C中所示，密封构件350的第二部分的第二外侧表面350a2从与基底100接触的部分朝向封装基底300具有相对平缓的倾斜面，并且在预定点处改变其方向并与封装基底300接触。可选地，密封构件350的第二部分的第二外侧表面350a2可以具有包括如图6D中所示的在基底100与封装基底300之间的凸出形状的各种形状。
图7是示意性地示出根据另一示例性实施例的显示面板的剖视图。图7的剖面可以对应于沿着图3的线Va-Va'截取的剖面。参照图5A描述的显示面板10包括作为封装构件并包括玻璃材料的封装基底300。然而，图7中所示的显示面板10'可以包括包含有机绝缘材料和无机绝缘材料的封装构件。
参照图7，显示面板10'包括覆盖位于基底100'上的显示元件单元200的封装构件。基底100'可以具有包括包含透明聚合物树脂的基体层和诸如氮化硅的无机层的多层结构。封装构件可以包括包含至少一个无机封装层和至少一个有机封装层的薄膜封装层300'。
在示例性实施例中，薄膜封装层300'可以包括第一无机封装层310和第二无机封装层330以及在第一无机封装层310与第二无机封装层330之间的有机封装层320。第一无机封装层310和第二无机封装层330可以包括一种或更多种诸如氧化硅、氮化硅和氮氧化硅的无机绝缘材料。有机封装层320可以包括聚合物类材料。聚合物类材料可以包括丙烯酸类树脂、环氧类树脂、聚酰亚胺和聚乙烯。例如，有机封装层320可以包括聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)或聚丙烯酸等。当显示元件单元200包括OLED时，薄膜封装层300'可以直接形成在OLED上。
图8是根据示例性实施例的显示面板的一部分的平面图，图9是示出了窗位于图8的显示面板上的状态的平面图。
参照图8，密封构件350包括沿着基底100的边缘和封装基底300的边缘延伸的部分350A(参照图5A描述的第一部分)以及部分地围绕透射区域TA的部分350B(参照图5C描述的第二部分)。第一部分350A和第二部分350B可以彼此连接，并且可以具有其中第一部分350A和第二部分350B中的每个的一侧敞开的近似欧米茄(Ω)形状。
因为透明材料层400定位在透射区域TA中，所以密封构件350的第二部分350B围绕透明材料层400的一部分。在图8的平面图中，透明材料层400的下侧在与密封构件350的第二部分350B接触的同时被第二部分350B围绕，而透明材料层400的上侧不被密封构件350围绕。
在平面图中，密封构件350可以具有平滑的曲线部分。第二部分350B可以呈具有整体第三曲率半径R3的弧形的形状。第二部分350B的连接到第一部分350A的部分可以弯曲以分别具有第一曲率半径R1和第二曲率半径R2。第一曲率半径R1和第二曲率半径R2的中心可以相同或不同。第三曲率半径R3的中心与第一曲率半径R1和第二曲率半径R2的中心不同。因此，第二部分350B可以呈具有至少一个拐点的曲线的形状。
透射区域TA被显示区域DA部分地围绕。即，包括多个像素P的像素阵列可以部分地围绕透射区域TA。多个像素P之中的布置在穿过透射区域TA的假想线中的第一像素P1与第二像素P2可以彼此间隔开，同时使透射区域TA处于第一像素P1和第二像素P2之间。
参照图9，窗40的遮光部分42与密封构件350叠置。遮光部分42的宽度W1可以大于密封构件350的宽度W2。在平面图中，与部分地围绕透明材料层400的密封构件350不同，遮光部分42可以完全地围绕透明材料层400。遮光部分42包括沿着基底100的边缘连续地延伸的第一遮光部分42A和从第一遮光部分42A延伸并且与第一遮光部分42A一起限定遮光部分42的第二遮光部分42B。
第一遮光部分42A可以包括与密封构件350的第一部分350A叠置的第一子遮光部分42Aa和不与密封构件350叠置的第二子遮光部分42Ab。透明材料层400可以直接定位在第二子遮光部分42Ab的下面。第二子遮光部分42Ab可以连接到第二遮光部分42B并且可以限定第二透射部分41B。
图10是根据示例性实施例的显示装置的对应于沿着图9的线X-X'截取的剖面的剖视图，图11和图12是示出了根据示例性实施例的位于显示面板的第二非显示区域中的布线的平面图。详细地，图11示出了定位在第二非显示区域中的电源线，图12示出了信号线。在图10中，为了方便，抗反射构件30和窗40位于封装基底300上。在一些示例性实施例中，先前参照图2A描述的输入感测构件20和粘合构件可以进一步位于封装基底300与窗40之间。为了方便，图10示出了具有矩形形状的密封构件350。然而，密封构件350的外侧表面和内侧表面可以具有先前参照图5A至图6D描述的形状。
首先，将描述图10的显示区域DA。
显示元件单元(部分)200位于基底100上。显示元件单元200包括像素。在这方面，图10示出了显示元件单元200包括像素，该像素包括像素电路PC和连接到像素电路PC的OLED。像素电路PC可以包括TFT和存储电容器Cst。
缓冲层201处于基底100与TFT之间。缓冲层201可以阻挡穿过基底100渗透到显示面板中的异物或湿气。例如，缓冲层201可以包括诸如氧化硅、氮化硅和/或氮氧化硅的无机材料，并且可以具有单层结构或多层结构。
TFT可以包括半导体层Act和栅电极GE。例如，半导体层Act可以包括多晶硅。半导体层Act可以包括与栅电极GE叠置的沟道区C以及位于沟道区C的两侧处并且包括具有比沟道区C的浓度高的浓度的杂质的源区S和漏区D。将理解的是，源区S和漏区D是TFT的源电极和漏电极。
栅极绝缘层203可以位于半导体层Act与栅电极GE之间。栅极绝缘层203可以是诸如氮氧化硅、氧化硅和/或氮化硅的无机绝缘层，并且无机绝缘层可以具有单层结构或多层结构。
存储电容器Cst包括彼此叠置的第一存储电容器板CE1和第二存储电容器板CE2。第一层间绝缘层205可以位于第一存储电容器板CE1与第二存储电容器板CE2之间。第一层间绝缘层205可以是包括氮化硅的无机绝缘层，并且可以具有单层结构或多层结构。在图10中，存储电容器Cst与TFT叠置，第一存储电容器板CE1是TFT的栅电极GE。然而，实施例不限于此。在另一示例性实施例中，存储电容器Cst可以不与TFT叠置。第一存储电容器板CE1可以是与TFT的栅电极GE分离的独立元件。
存储电容器Cst可以被第二层间绝缘层207覆盖。第二层间绝缘层207可以是包括氧化硅和氮化硅的无机绝缘层，并且可以具有单层结构或多层结构。
数据线DL和驱动电压线PL可以位于第二层间绝缘层207上并且可以被平坦化绝缘层209覆盖。平坦化绝缘层209包括有机绝缘材料。例如，平坦化绝缘层209可以包括聚酰亚胺。
像素电极210位于平坦化绝缘层209上。像素电极210可以通过穿过平坦化绝缘层209的接触孔电连接到像素电路PC。像素电极210是反射电极。像素电极210可以包括反射层，该反射层包括银(Ag)、镁(Mg)、铝(Al)、铂(Pt)、钯(Pd)、金(Au)、镍(Ni)、钕(Nd)、铱(Ir)和铬(Cr)。像素电极210还可以包括位于上述反射层上或/和下的诸如氧化铟锡(ITO)的透明导电层。
像素限定层211位于像素电极210上。像素限定层211具有用于暴露像素电极210的中心的开口。像素限定层211增大了像素电极210的边缘与对电极230的边缘之间的距离，从而防止在像素电极210与对电极230之间发生电弧。像素限定层211可以由诸如聚酰亚胺或六甲基二硅氧烷(HMDSO)的有机材料形成。
中间层220可以包括小分子量材料或聚合物材料。当中间层220包括小分子量材料时，中间层220可以具有其中空穴注入层(HIL)、空穴传输层(HTL)、发射层(EML)、电子传输层(ETL)和/或电子注入层(EIL)以单一或组合方式堆叠的结构。当中间层220包括聚合物材料时，中间层220可以具有包括HTL和EML的结构。
中间层220的结构不限于上面的描述，中间层220可以具有各种结构。用于形成中间层220的层之中的至少一个可以在显示区域DA中形成为一个主体。对电极230位于中间层220上。对电极230可以形成为一个主体，以覆盖多个像素。对电极230可以是包括Ag、Mg、Al、Pt、Pd、Au、Ni、Nd、Ir、Cr、锂(Li)、钙(Ca)或它们的合金的透光导电层。包括像素电极210、中间层220和对电极230的OLED可以被盖层CPL覆盖。
虚设像素DPX和密封构件350可以位于第二非显示区域NDA2中。密封构件350可以在第二非显示区域NDA2中位于虚设像素DPX的外部并且位于虚设像素DPX与透射区域TA之间。用于施加电力或信号的各种组件可以设置在第二非显示区域NDA2中。例如，包括电源线160和多条线的布线单元WLU可以位于第二非显示区域NDA2中。
电源线160可以向对电极230提供预定电压。如图10中所示，电源线160可以与数据线DL或驱动电压线PL位于同一层(第二层间绝缘层207)上，并且可以经由连接导电层260电连接到对电极230。
如图11中所示，电源线160可以沿着显示区域DA的边缘延伸，并且可以诸如在密封构件350中部分地围绕透射区域TA。布线单元WLU的多条线可以对应于图12中所示的驱动电压线PL的在第二非显示区域NDA2中延伸的部分和/或扫描线SL的在第二非显示区域NDA2中延伸的部分。驱动电压线PL的所述部分和扫描线SL的所述部分可以彼此叠置，使得可以调节显示元件单元200的负载。
密封构件350可以位于电源线160上。密封构件350可以与电源线160至少部分地叠置。电源线160的端部160E可以定位在密封构件350的第二部分350B的第二外侧表面350a2和内侧表面350b之间。
抗反射构件30可以包括对应于透射区域TA的开口30H。如上所述，透明层50可以位于开口30H中。抗反射构件30的用于限定开口30H的侧表面可以在垂直于基底100的方向上位于密封构件350的内侧表面350b和第二外侧表面350a2之间。
如上所述，窗40的遮光部分(例如，第二遮光部分42B)可以与密封构件350叠置。因为第二遮光部分42B的宽度W1大于密封构件350的宽度W2，所以当在垂直于基底100的方向上观看窗40时，密封构件350是不可见的。遮光部分(例如，第二遮光部分42B)可以覆盖对电极230的端部230E和盖层CPL的端部CPL-E。
透明材料层400可以位于透射区域TA中，并且可以与密封构件350的第二外侧表面350a2直接接触。透明材料层400可以位于基底100与封装基底300之间，并且透明材料层400的顶表面可以与封装基底300的底表面直接接触。透明材料层400的底表面可以与基底100的顶表面接触，或者可以不与基底100的顶表面接触。
图13A和图13B是图10的区域XIII的提取的剖视图。
参照图10和图13A，可以从基底100的对应于透射区域TA的区域去除绝缘层(例如，缓冲层201至第二层间绝缘层207)。因此，与存在上述绝缘层的情况相比，可以改善透射区域TA的透射率。透明材料层400的底表面400c可以与基底100的顶表面直接接触。
参照图10和图13B，对应于缓冲层201至第二层间绝缘层207的绝缘层的一部分(例如，缓冲层201的一部分)可以位于基底100的对应于透射区域TA的区域中。如果缓冲层201的这部分保留在透射区域TA中，则与图13A的情况相比，透射率可以被减小。然而，当缓冲层201的厚度非常小或缓冲层201的折射率与基底100和/或透明材料层400的折射率相似时，透射率的减小会是小的。在这种情况下，透明材料层400不与基底100的顶表面直接接触。
根据示例性实施例，可以改善透射区域的透射率，并且可以形成透射区域而在不执行在显示面板中形成孔的工艺。因此，可以防止围绕透射区域的组件被损坏。然而，这些效果是说明性的，并且发明构思不限于此。
尽管在此已经描述了特定示例性实施例，但是通过该描述，其它实施例和修改将是显而易见的。因此，发明构思不限于这样的实施例，而是限于权利要求以及如本领域普通技术人员将清楚的各种明显的修改和等同布置的更广泛的范围。

Claims (14)

1.一种显示装置，所述显示装置包括：
基底；
密封构件，围绕所述基底的透射区域的一部分；
多个像素，处于所述基底的显示区域中；
封装基底，以使所述密封构件处于所述封装基底与所述基底之间的方式面对所述基底；
透明材料层，设置在所述基底与所述封装基底之间并且对应于所述透射区域；以及
窗，处于所述封装基底上，所述窗包括对应于所述密封构件的遮光部分，
其中，所述遮光部分的宽度大于所述密封构件的宽度。
2.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述窗的所述遮光部分完全地围绕所述透射区域。
3.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述透明材料层的侧表面暴露在外部，并且处于所述基底的边缘与所述封装基底的边缘之间，所述基底的所述边缘和所述封装基底的所述边缘与所述透射区域相邻。
4.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述密封构件的在所述基底的边缘与所述显示区域之间的第一部分的外侧表面具有同所述密封构件的在所述显示区域与所述透射区域之间的第二部分的外侧表面的形状不同的形状。
5.根据权利要求4所述的显示装置，其中，所述基底的与所述基底的边缘对应的侧表面具有凸出表面，所述封装基底的与所述封装基底的边缘对应的侧表面具有凸出表面，并且所述密封构件的所述第一部分的所述外侧表面具有与所述基底的所述凸出表面和所述封装基底的所述凸出表面连续地弯曲的特征。
6.根据权利要求3所述的显示装置，所述显示装置还包括处于所述显示区域与所述透射区域之间的电源线。
7.根据权利要求6所述的显示装置，其中，所述密封构件与所述电源线叠置。
8.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述透明材料层与所述封装基底直接接触。
9.根据权利要求8所述的显示装置，所述显示装置还包括设置在所述基底与所述透明材料层之间的无机层。
10.根据权利要求8所述的显示装置，其中，所述基底和所述透明材料层彼此直接接触。
11.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述多个像素包括第一像素和第二像素，所述第一像素和所述第二像素布置在穿过所述透射区域的假想线中，并且以使所述透射区域处于所述第一像素与所述第二像素之间的方式而彼此间隔开。
12.根据权利要求1所述的显示装置，所述显示装置还包括设置在所述封装基底与所述窗之间的抗反射构件和粘合构件中的至少一种，其中，所述抗反射构件和所述粘合构件中的所述至少一种具有对应于所述透射区域的开口。
13.根据权利要求12所述的显示装置，所述显示装置还包括处于所述开口中的透明层。
14.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述多个像素中的每个包括有机发光二极管。
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