CN111081627B - 导销及具有其的掩膜支撑单元与掩膜清洗装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种通过双重滑动结构而支撑掩膜的棱角的导销及具有其的掩膜支撑单元与掩膜清洗装置。所述掩膜支撑单元包括：支撑板；支撑轴，在支撑板的下部支撑支撑板；支撑板驱动器，使支撑板进行旋转；及导销，包含至少一个支柱部，其在支撑板上设置多个而支撑掩膜，并由平面向上方突出，且在侧面设置以相互不同的角度向下倾斜形成的第一滑动部与第二滑动部。

Description

导销及具有其的掩膜支撑单元与掩膜清洗装置
技术领域
本发明涉及一种用于支撑掩膜而形成于掩膜支撑单元上的导销、具有其的掩膜支撑单元及掩膜清洗装置。
背景技术
掩膜(photo mask)为在石英或玻璃基板上将半导体元件的精细电路形象化。该掩膜的精细图案通过光刻工艺(photo-lithography process)而转印至光阻层(photo-resist layer)，从而，在基板(wafer)上形成电路。
对于在掩膜残留杂质的情况，在曝光工艺中，再次使用掩膜时，因由光的催化剂而产生的能源被添加至杂质，杂质作为雾状缺陷(haze defect)而发生作用。因雾状缺陷引起不必要的图案转印，需要通过清洗工艺(cleaning process)而从掩膜去除。
现有技术文献
【专利文献】
韩国公开专利第10-2013-0028181号(公开日期:2013.03.19.)
发明的内容
发明要解决的技术问题
在通过清洗工艺，而从掩膜去除杂质时，掩膜在被安装至形成于平台(stage)的多个支撑销上之后，在多个支撑销上发生旋转。此时，因掩膜与支撑销面对面接触，通过支撑销而在掩膜的一面上产生划痕(scratch)。
在本发明中要解决的课题为提供一种导销(guide pin)及具备其的掩膜支撑单元与掩膜清洗装置，其通过双重滑动结构而支撑掩膜的棱角。
本发明的课题并非通过上述言及的课题限定，未言及的其它课题由其它记载而使本领域技术人员明确理解。
用于解决问题的技术方案
用于实现所述课题的本发明的掩膜支撑单元的一方面(aspect)包括：支撑板，具有大于掩膜(photo mask)的直径；支撑轴，在所述支撑板的下部支撑所述支撑板；支撑板驱动器，使所述支撑板发生旋转；及导销，包含至少一个支柱部，在所述支撑板上具有多个，支撑所述掩膜，由平面向上方突出，并在侧面具有按相互不同的角度向下倾斜形成的第一滑动部与第二滑动部。
所述第一滑动部对于所述支柱部的侧面而按第一倾斜角向下倾斜形成，所述第二滑动部对于所述支柱部的侧面而按第二倾斜角向下倾斜形成，所述第二倾斜角大于所述第一倾斜角。
所述第一滑动部与所述第二滑动部连续形成于所述支柱部的侧面，所述第一滑动部处于所述第二滑动部上部。
所述支柱部在所述导销的平面上突出形成一个，或在所述导销的平面上突出形成两个。
对于所述支柱部在所述导销的平面上突出形成两个的情况，形成有所述第一滑动部与所述第二滑动部的第一支柱部的侧面未与形成有所述第一滑动部与所述第二滑动部的第二支柱部的侧面平行。
所述第一支柱部与所述第二支柱部支撑所述掩膜的棱角。
对于所述支柱部在所述导销的平面上突出形成一个的情况，所述支柱部支撑所述掩膜的平坦的侧面。
所述第一滑动部的长度比所述第二滑动部的长度长。
用于实现所述课题的本发明的导销的一方面(aspect)，包括：至少一个支柱部，在清洗掩膜时，支撑所述掩膜的掩膜支撑单元上具有多个，由平面向上方突出，并在侧面具有按相互不同的角度向下倾斜形成的第一滑动部与第二滑动部。
用于实现所述课题的本发明的掩膜清洗装置的一方面(aspect)包括：外壳；容器，配置在所述外壳内，提供清洗掩膜的空间；掩膜支撑单元，配置在所述容器内，支撑所述掩膜；胶水清洗单元，配置在所述容器的第一侧，向所述掩膜供应化学制剂，而从所述掩膜去除胶水；及图案清洗单元，配置在所述容器的第二侧，向所述掩膜供应清洗液而清洗图案，所述掩膜支撑单元包括：支撑板，具有大于掩膜(photo mask)的直径；支撑轴，在所述支撑板的下部支撑所述支撑板；支撑板驱动器，使所述支撑板进行旋转；及导销，包括至少一个支柱部，在所述支撑板上具有多个，而支撑所述掩膜，并具有由平面向上方突出，而在侧面以相互不同的角度向下倾斜形成的第一滑动部与第二滑动部。
其它实施例的具体事项包含于具体说明及附图中。
附图说明
图1为简要显示本发明的一个实施例的掩膜清洗设备的正面图；
图2为显示设置在掩膜清洗设备的下部的结构的平面图；
图3为显示设置在掩膜清洗设备的上部的结构的平面图；
图4为显示设置在工艺外壳的掩膜清洗装置的平面图；
图5为显示设置在工艺外壳的掩膜清洗装置的侧面图；
图6为显示设置在掩膜清洗装置的掩膜支撑单元的一实施形式的立体图；
图7为设置在一实施形式的掩膜支撑单元的导销的立体图；
图8为显示在图7的导销的局部放大图；
图9为显示设置在掩膜清洗装置的掩膜支撑单元的其它实施形式的立体图；
图10为设置在其它实施形式的掩膜支撑单元的导销的立体图。
附图标记说明
100:掩膜清洗设备 110:索引模块
111:油杆腔 112:输送支架
113:载体 120:工艺处理模块
121:上部处理模块 122:下部处理模块
210:输送外壳 220:缓冲单元
221:上部缓冲 222:下部缓冲
230:工艺外壳 240:导轨
250:主机器人 310:索引轨道
320:索引机器人 400:掩膜清洗装置
410:外壳 420:容器
430:掩膜支撑单元 431:支撑板
432:导销 433:支撑轴
434:支撑板驱动器 440:胶水清洗单元
450:图案清洗单元 460:控制器
500:掩膜 510:第一支柱部
520:第二支柱部 530:第一滑动部
540:第二滑动部
具体实施方式
下面，参照附图对本发明的优选的实施例进行具体说明。本发明的优点及特征及实现其的方法与附图一起参照具体说明的实施例而变得明确。但本发明并非限定于下面公开的实施例，以相互不同的各种形式实现，仅本实施例完全公开本发明，在本发明所属技术领域中，被提供以向普通技术人员完全理解发明的范围，本发明仅通过权利要求范围定义。整个说明书中相同的参照符号代表相同的构成要素。
元件(elements)或层处于不同的元件或层的“上(on)”或“上面(on)”包含直接处于其它元件或层上或在中间介有其它层或其它元件。而对于称元件为“直接处于上(directly on)”或“直接处于上面”的情况，显示在中间未介有其它元件或层的情况。
空间上相对的用语即“下(below)”、“下面(beneath)”、“下部(lower)”、“上(above)”、“上部(upper)”等如显示于附图上所示，容易记述一个元件或构成要素与其它元件或构成要素的相互关系而使用。空间上相对的用语在对于显示于附图中的方向而使用时或运行时，应以按包含元件的相互不同的方向的用语理解。例如，对于翻转显示于附图的元件的情况，按其它元件的“下(below)”或“下面(beneath)”记述的元件被放置在其它元件的“上(above)”。因此，例示的用语即“下”包含下与上的方向。元件也能够按其它方向配置，由此，空间上相对的用语按配向解释。
即使用于叙述第一、第二等不同的元件、构成要素及/或部分而使用，但该多个元件、构成要素及/或部分未通过该多个用语限定。该用语仅将一个元件、构成要素或部分与其它元件、构成要素或部分区别而使用。因此，下面言及的第一元件、第一构成要素或第一部分在本发明的记述的思想内也能够指第二元件、第二构成要素或第二部分。
在本说明书中使用的用语为用于说明实施例，并非限制本发明。在本说明书中，单数型在文中未作特别言及的，也包含复数型。对于说明书中使用的“包括(comprises)”及/或“包含的(comprising)”所言及的构成要素、步骤、动作及/或元件未排除一个以上其它构成要素、步骤、动作及/或元件的存在或增加。
在不存在其它定义的情况下，本说明书中使用的所有用语(包含技术及科学用语)，在本发明所属技术领域中，按普通技术人员共同理解的意义使用。或者一般使用的词典定义的用语未作明确特别定义的，未以异常或夸张的形式解释。
下面，参照附图对本发明的实施例进行具体说明，在参照附图而进行说明时，与附图符号无关，相同或对应的构成要素赋予相同的参照符号，省略对其的重复说明。
本发明涉及一种掩膜支撑单元，在用于去除残留在掩膜(photo mask)的杂质而清洗掩膜时，通过双重滑动(slide)结构而将在上方支撑掩膜的棱角的多个导销(guide pin)设置在平台(stage)上。
并且，本发明涉及一种掩膜清洗装置，在通过具有多个导销的掩膜支撑单元而支撑掩膜的状态下，对掩膜而执行清洗工艺(cleaning process)。
下面，参照附图等，对本发明进行具体说明。
图1为简要显示本发明的一个实施例的掩膜清洗设备的正面图，图2为显示设置在掩膜清洗设备的下部的结构的平面图，图3为显示设置在掩膜清洗设备的上部的结构的平面图，下面说明参照图1至图3。
掩膜清洗设备100包括：索引模块110，具有油杆腔111和输送支架112；及工艺处理模块120。
在掩膜清洗设备100中油杆腔111、输送支架112及工艺处理模块120依次配置为一列。在下面说明中，将油杆腔111、输送支架112及工艺处理模块120所排列的方向定义为X方向。并且，从上部观察时，将垂直于X方向的方向定义为Y方向，将垂直于包含X方向与Y方向的平面的方向定义为Z方向。
油杆腔111用于安装收纳掩膜的载体113。该油杆腔111在掩膜清洗设备100内设置多个。
多个油杆腔111沿着Y方向而配置为一列。油杆腔111的数量根据工艺处理模块120的工艺效率、空间量条件等增加或减少。
在载体113的内部形成狭槽(未图示)，以支撑掩膜的边缘。狭槽按Z方向设置多个，此时，掩膜以按Z方向相互分隔的状态层叠，而设置在载体113内。
工艺处理模块120包括：上部处理模块121与下部处理模块122。上部处理模块121与下部处理模块122分别包括：输送外壳210、缓冲单元220及工艺外壳230。
输送外壳210的长度方向与X方向平行配置。在输送外壳210的两侧分别沿着Y方向而配置工艺外壳230。工艺外壳230在输送外壳210的两侧基于输送外壳210而相互对称。
在输送外壳210的一侧设置有多个工艺外壳230。多个工艺外壳230中的一部分沿着输送外壳210的长度方向配置。并且，多个工艺外壳230中的一部分相互层叠配置。即，在输送外壳210的一侧，工艺外壳230按A*B的排列而配置。
所述中，A是指沿着X方向而设置为一列的工艺外壳230的数量，B是指沿着Y方向而设置为一列的工艺外壳230的数量。例如，对于在输送外壳210的一侧提供有四个工艺外壳230的情况，工艺外壳230按2*2的排列配置，对于在输送外壳210的一侧提供有六个工艺外壳230的情况，工艺外壳230按3*2的排列配置。工艺外壳230的数量发生增加或减少。
另外，在本实施例中，工艺外壳230也能够仅在输送外壳210的一侧提供。并且，工艺外壳230也能够在输送外壳210的一侧或两侧按单层提供。
缓冲单元220被配置在输送支架112与输送外壳210之间，掩膜被退回至工艺外壳230与载体113之间之前，提供掩膜停留的空间。该缓冲单元220包括：上部缓冲器221与下部缓冲器221。
上部缓冲器221设置于下部缓冲器221的上部。该上部缓冲器221配置于与上部处理模块121对应的高度。下部缓冲器221配置于与下部处理模块122对应的高度。
上部缓冲器221与下部缓冲器221提供有其内部分别供安装掩膜的狭槽，狭槽相互之间而沿着Z方向分隔而提供多个。缓冲单元220开启与输送支架112相对的面(与输送支架112相对的面)及与输送外壳210相对的面(与输送外壳210相对的面)。
输送支架112在安装于油杆腔111的载体113与缓冲单元220之间退回掩膜。在输送支架112提供索引轨道310与索引机器人320。
索引轨道310的长度方向与Y方向平行。
索引机器人320被设置在索引轨道310上，沿着索引轨道310而以Y方向直线移动。索引机器人320包括：第一基底321、第二主体322及索引臂323。
第一基底321沿着索引轨道310移动设置。
第二主体322与第一基底321结合。第二主体322在第一基底321上演着Z方向移动提供。并且，第二主体322在第一基底321上以能够旋转的方式提供。
索引臂323与第二主体322结合，以对于第二主体322而前进及后退方式移动。索引臂323设置多个，并被分别驱动。
多个索引臂323沿着Z方向而以相互分隔的状态层叠配置。多个索引臂323中的一部分在工艺处理模块120中通过载体113而退回掩膜时使用，另一部分在载体113中通过工艺处理模块120退回掩膜时使用。多个索引臂323在索引机器人320搬入及搬出掩膜的过程中，防止从工艺处理之前的掩膜产生的颗粒(particle)附着于工艺处理之后的掩膜。
输送外壳210将掩膜退回至缓冲单元220与工艺外壳230之间，将掩膜退回至相互不同的工艺外壳230之间。在输送外壳210提供有导轨240与主机器人250。
导轨240的长度方向与X方向平行配置。
主机器人250设置在导轨240上，在导轨240上沿着X方向而直线移动。主机器人250包括：第二基底251、第二主体252及主臂253。
第二基底251被设置为沿着导轨240而移动。
第二主体252与第二基底251结合。第二主体252在第二基底251上沿着Z方向而移动。并且，第二主体252以在第二基底251上能够旋转的提供。
主臂253与第二主体252结合，以对于第二主体252而能够前进及后退的方式移动。主臂253被提供为多个，并分别进行驱动。多个主臂253沿着Z方向而以相互分隔的状态层叠配置。
在工艺外壳230内提供有对掩膜执行清洗工艺的掩膜清洗装置。例如，上部处理模块121包括执行干式及功能水清洗工艺的腔与执行加热工艺的腔。并且，下部处理模块122包括：执行湿式清洗工艺的腔与执行冷却工艺的腔。
掩膜清洗装置根据清洗工艺的种类而具有相互不同的结构。但本实施例并非限定于此。设置在各个工艺外壳230内的掩膜清洗装置也能够具有相同的结构。
掩膜清洗装置通过执行湿式清洗工艺的腔实现。例如，掩膜清洗装置通过利用化学制剂而从掩膜去除胶水的系统实现。
图4为显示设置在工艺外壳的掩膜清洗装置的平面图。并且，图5为显示设置在工艺外壳的掩膜清洗装置的侧面图。下面的说明参照图4及图5。
掩膜清洗装置400执行从处于掩膜500的图案区域(PA)边缘的胶水区域(GA)去除胶水的功能。该掩膜清洗装置400包括：外壳410、容器420、掩膜支撑单元430、胶水清洗单元440、图案清洗单元450及控制器460。
外壳410提供密闭的内部空间。在外壳410的上壁设置盘式过滤器单元(未图示)。盘式过滤器单元在外壳410的内部空间产生向下的垂直气流。
容器420配置在外壳410内。容器420防止在工艺中发生使用的化学制剂及工艺时产生的烟(fume)向外部迸溅或流出的情况。容器420上部在内部开启，具有处理掩膜500的空间。
掩膜支撑单元430配置在容器420内，在工艺处理时支撑掩膜500。掩膜支撑单元430包括：支撑板431、导销432、支撑轴433及支撑板驱动器434。
支撑板431大致形成为圆形。支撑板431具有大于掩膜500的直径。
支撑板431支撑掩膜500。在供应化学制剂期间，掩膜500以朝向上部的方式支撑于支撑板431。在支撑板431的上面提供有多个导销432。
导销432从支撑板431的上面向上部方向突出。导销432在支撑板431发生旋转时，通过离心力而防止掩膜500由支撑板431而侧向滑脱。
在掩膜500被放置在支撑板431上的固定位置时，在掩膜500的各个棱角设置一个导销432。因此，导销432整体上提供有四个。在进行工艺时，导销432支撑掩膜500的四个棱角而防止发生掩膜500由固定位置滑脱的情况。
在支撑板431的下部中央而连接有支撑轴433。支撑轴433支撑支撑板431。支撑轴433与支撑板431的中心轴对应。
在支撑轴433的下端连接有支撑板驱动器434。支撑板驱动器434使支撑板431发生旋转。支撑轴433将支撑板驱动器434的旋转力传输至支撑板431。
支撑板驱动器434通过控制器460进行控制。支撑板驱动器434包括：电机。
升降单元(未图示)将容器420按上下方向移动，以调节对于容器420的支撑板431的相对高度。升降单元在掩膜500在支撑板431加载，或从支撑板431上传时，使容器420下降，以使支撑板431突出至容器420的上部。
胶水清洗单元440配置在容器420的一侧。胶水清洗单元440向掩膜500的上面供应化学制剂而由掩膜500去除胶水。
胶水清洗单元440包括：喷嘴总成441、喷嘴臂442、臂支撑轴443、喷嘴驱动器444、化学制剂供应部445及排放气供应部446。
喷嘴总成441包括：化学制剂喷嘴(未图示)与排放气喷嘴(未图示)。化学制剂喷嘴将用于去除胶水的化学制剂喷射至胶水区域。例如，化学制剂喷嘴喷射硫酸与过氧化物的混合液(SPM；Sulfuric Peroxide Mixture)。排放气喷嘴相比于化学制剂喷嘴而以与图案区域临近的方式喷射排放气，以防止化学制剂喷射至图案区域。例如，排放气喷嘴喷射空气、惰性气体(N2)等。
喷嘴臂442被提供为杆状，并支撑喷嘴总成441。喷嘴臂442的长度方向与支撑板431平行配置。喷嘴总成441与喷嘴臂442的一端结合，喷嘴臂442的另一端与臂支撑轴443结合。
臂支撑轴443支撑喷嘴臂442。喷嘴臂442的长度方向以上下方向提供。喷嘴臂442通过喷嘴驱动器444而将臂支撑轴443作为中心轴转动。在臂支撑轴443的下端设置喷嘴驱动器444。
喷嘴驱动器444将喷嘴总成441在大气位置与工艺位置之间移动。大气位置是指外壳410的侧部位置。工艺位置是指支撑板431的垂直上部位置。
喷嘴驱动器444还包括：旋转驱动器(未图示)。旋转驱动器将臂支撑轴443作为中心轴而使喷嘴总成441的化学制剂喷嘴进行旋转。例如，喷嘴驱动器444按具有电机、传动带、滑轮的总成等提供。
化学制剂供应部445包括：化学制剂供应源与化学制剂供应管道。化学制剂供应管道连接化学制剂供应源与喷嘴总成441的化学制剂喷嘴。存储至化学制剂供应源的化学制剂通过化学制剂供应管道而供应至喷嘴总成441的化学制剂喷嘴。在化学制剂供应管道上设置开闭化学制剂供应管道的阀门。
排放气供应部446包括：放气供应源与排放气供应管道。排放气供应管道连接放气供应源与排放气喷嘴。存储至放气供应源的排放气通过排放气供应管道而供应至排放气喷嘴。在排放气供应管道上设置开闭排放气供应管道的阀门。
图案清洗单元450被提供至容器420的另一侧。图案清洗单元450将清洗液供应至掩膜500的中心上部，而清洗图案。
清洗液包括：氢氧化铵与过氧化氢和去离子水的混合液、氨与去离子水的混合液、添加二氧化碳的去离子水等。清洗液以液状喷射或以通过气体气压而产生的喷雾形式喷射。
控制器460控制喷嘴驱动器444与支撑板驱动器434。该控制器460分别调整喷嘴总成441与掩膜500的旋转时期、旋转角度等，在进行工艺时，将喷嘴总成441配置在掩膜500的所需的区域上。
掩膜支撑单元430如上说明所示，在支撑板431的上面突出形成而具有多个支撑掩膜500的导销432。下面，对该导销432进行说明。
图6为显示设置在掩膜清洗装置的掩膜支撑单元的一实施形式的立体图。图6显示将掩膜500通过导销432而安装在掩膜支撑单元430上的形状。下面说明参照图6。
掩膜支撑单元430在进行工艺时支撑掩膜500，旋转掩膜500。在掩膜支撑单元430的下端固定结合有提供旋转力的电机等驱动器。
掩膜支撑单元430在从上部观察时，大致具有提供为圆形的支撑板431。在支撑板431的上面具有支撑掩膜500的棱角的多个导销432。
导销432通过掩膜支撑单元430而掩膜500进行旋转时，以掩膜500未滑脱至外部的方式引导掩膜500。
当前在各个导销432前具有另外的支撑销，在该支撑销上安装掩膜500而支撑了掩膜500。但对于该情况，在通过掩膜支撑单元430而掩膜500进行旋转时，因支撑销与掩膜500面对面接触，通过支撑销而在掩膜500的一面上产生多个划痕。
在本实施例中，为了解决该问题，在导销432前未具有支撑销，在导销432的侧面形成双重滑动结构。
图7为设置在一实施形式的掩膜支撑单元的导销的立体图，图8为图7显示的导销中C部分的局部放大图。下面说明参照图7及图8。
导销432包括由一面而向上部方向突出形成的两个支柱部510、520。第一支柱部510与第二支柱部520形成为多边支柱(例如，四角支柱)。
在第一支柱部510与第二支柱部520的侧面上分别形成包含第一滑动部530与第二滑动部540的双重滑动结构。
第一滑动部530与第二滑动部540在第一支柱部510与第二支柱部520均形成。但本实施例并非限定于此。第一滑动部530与第二滑动部540也能够仅形成于第一支柱部510与第二支柱部520中的任一个。
第一滑动部530与第二滑动部540在第一支柱部510与第二支柱部520的侧面分别相互连接，第一滑动部530形成于第二滑动部540上。此时，第一滑动部530形成得比第二滑动部540长。
另外，第一滑动部530与第二滑动部540也能够从第一支柱部510与第二支柱部520的侧面分离形成。
第一滑动部530由第一支柱部510与第二支柱部520的侧面分别向下倾斜形成。此时，第一滑动部530对于第一支柱部510与第二支柱部520的侧面，以具有第一倾斜角(m)的方式向下倾斜形成。
第二滑动部540由与第一滑动部530的切线550向下倾斜形成。此时，第二滑动部540对于第一支柱部510与第二支柱部520的侧面，以具有第二倾斜角(n)的方式而向下倾斜形成。
所述中，第一倾斜角(m)与第二倾斜角(n)形成为锐角(acute angle)，第二倾斜角(n)具有比第一倾斜角(m)大的值。第二倾斜角(n)具有相当于第一倾斜角(m)的1.5倍的值。例如，第一倾斜角(m)形成为45度，第二倾斜角(n)形成为67.5度。
形成有第一滑动部530与第二滑动部540的第一支柱部510的侧面与第二支柱部520的侧面以固定掩膜500的棱角的方式形成第三角度。即，在形成有第一滑动部530与第二滑动部540的第一支柱部510的侧面未与形成有第一滑动部530与第二滑动部540的第二支柱部520的侧面平行，第三角度倾斜形成。在此，第三角度为直角。但本实施例并非限定于此。第三角度为锐角或钝角(obtuse angle)。
如上所示，对于在第一支柱部510与第二支柱部520的侧面形成包含第一滑动部530与第二滑动部540的双重滑动结构的情况，掩膜500的底面棱角以与双重滑动结构的坡度(slope)(例如，第一滑动部530与第二滑动部540之间的切线550)进行线接触而安装。此情况，导销432在通过掩膜支撑单元430而掩膜500发生旋转时，也能够稳定地支撑掩膜500。
并且，在通过掩膜支撑单元430而掩膜500发生旋转时，因导销432与掩膜500以面对线接触，导销432也能够去除发生在掩膜500的一面上的划痕产生因素。
如上说明所示，在第一支柱部510与第二支柱部520的侧面形成具有相互不同的角度的第一滑动部530与第二滑动部540的情况下，该双重滑动结构执行支撑掩膜500的棱角面的左右，并同时执行在掩膜支撑单元430上以未产生掩膜500的偏心的方式排列(guide)的作用。
另外多个导销432也能够形成为未支撑掩膜500的棱角，并支撑掩膜500的平坦的各个侧面。
图9为显示设置在掩膜清洗装置的掩膜支撑单元的另一实施形式的立体图，图10为设置在另一实施形式的掩膜支撑单元的导销的立体图。下面说明参照图9及图10。
导销432在上方支撑掩膜500的平坦的侧面。此情况，导销432仅具有第一支柱部510，而支撑掩膜500的平坦的侧面。
参照综上附图而对本发明的实施例进行了说明，但本发明所属技术领域的普通技术人员应当理解，本发明在不变更其技术思想或必要特征的情况下，能够以其它具体形式实施。因此，应当理解，综上记述的实施例在所有方面仅用于例示，而并非限定。

Claims (16)

1.一种掩膜支撑单元，其特征在于，
包括：
支撑板；
支撑轴，在所述支撑板的下部支撑所述支撑板；
支撑板驱动器，使所述支撑板旋转；及
导销，在所述支撑板上设置为多个并支撑掩膜，并且包含至少一个支柱部，所述至少一个支柱部由平面向上方突出并在侧面具有以相互不同的角度向下倾斜形成的第一滑动部与第二滑动部，
其中，所述第一滑动部相对于所述支柱部的侧面而以第一倾斜角向下倾斜形成，
所述第二滑动部相对于所述支柱部的侧面而以第二倾斜角向下倾斜形成，以及
所述第一倾斜角和所述第二倾斜角是锐角。
2.根据权利要求1所述的掩膜支撑单元，其特征在于，
所述第二倾斜角大于所述第一倾斜角。
3.根据权利要求1所述的掩膜支撑单元，其特征在于，
所述第一滑动部与所述第二滑动部连续形成于所述支柱部的侧面，
所述第一滑动部处于所述第二滑动部上部。
4.根据权利要求1所述的掩膜支撑单元，其特征在于，
所述支柱部在所述导销的平面上突出形成一个，或在所述导销的平面上突出形成两个。
5.根据权利要求4所述的掩膜支撑单元，其特征在于，
对于所述支柱部在所述导销的平面上突出形成两个的情况，形成有所述第一滑动部与所述第二滑动部的第一支柱部的侧面未与形成有所述第一滑动部与所述第二滑动部的第二支柱部的侧面平行。
6.根据权利要求5所述的掩膜支撑单元，其特征在于，
所述第一支柱部与所述第二支柱部支撑所述掩膜的棱角。
7.根据权利要求4所述的掩膜支撑单元，其特征在于，
对于所述支柱部在所述导销的平面上突出形成一个的情况，所述支柱部支撑所述掩膜的平坦的侧面。
8.根据权利要求1所述的掩膜支撑单元，其特征在于，
所述第一滑动部的长度比所述第二滑动部的长度长。
9.一种导销，其特征在于，
在清洗掩膜时支撑所述掩膜的掩膜支撑单元上设置为多个，并且包括：
至少一个支柱部，其由平面向上方突出，且在侧面具有以相互不同的角度向下倾斜形成的第一滑动部与第二滑动部，
其中，所述第一滑动部相对于所述支柱部的侧面而以第一倾斜角向下倾斜形成，
所述第二滑动部相对于所述支柱部的侧面而以第二倾斜角向下倾斜形成，以及
所述第一倾斜角和所述第二倾斜角是锐角。
10.一种掩膜清洗装置，其特征在于，
包括：
外壳；
容器，配置在所述外壳内，提供清洗掩膜的空间；
掩膜支撑单元，配置在所述容器内，支撑所述掩膜；
胶水清洗单元，配置在所述容器的第一侧，并向所述掩膜供应化学制剂而从所述掩膜去除胶水；及
图案清洗单元，配置在所述容器的第二侧，并向所述掩膜供应清洗液而清洗图案，
所述掩膜支撑单元包括：
支撑板；
支撑轴，在所述支撑板的下部支撑所述支撑板；
支撑板驱动器，使所述支撑板进行旋转；及
导销，在所述支撑板上设置为多个并支撑掩膜，并且包括至少一个支柱部，所述至少一个支柱部由平面向上方突出且在侧面具有以相互不同的角度向下倾斜形成的第一滑动部与第二滑动部，
其中，所述第一滑动部相对于所述支柱部的侧面而以第一倾斜角向下倾斜形成，
所述第二滑动部相对于所述支柱部的侧面而以第二倾斜角向下倾斜形成，以及
所述第一倾斜角和所述第二倾斜角是锐角。
11.根据权利要求10所述的掩膜清洗装置，其特征在于，
所述第二倾斜角大于所述第一倾斜角。
12.根据权利要求10所述的掩膜清洗装置，其特征在于，
所述第一滑动部与所述第二滑动部连续形成于所述支柱部的侧面，
所述第一滑动部处于所述第二滑动部上部。
13.根据权利要求10所述的掩膜清洗装置，其特征在于，
所述支柱部在所述导销的平面上突出形成一个，或在所述导销的平面上突出形成两个。
14.根据权利要求13所述的掩膜清洗装置，其特征在于，
对于所述支柱部在所述导销的平面上突出形成两个的情况，形成有所述第一滑动部与所述第二滑动部的第一支柱部的侧面未与形成有所述第一滑动部与所述第二滑动部的第二支柱部的侧面平行。
15.根据权利要求14所述的掩膜清洗装置，其特征在于，
所述第一支柱部与所述第二支柱部支撑所述掩膜的棱角。
16.根据权利要求13所述的掩膜清洗装置，其特征在于，
对于所述支柱部在所述导销的平面上突出形成一个的情况，所述支柱部支撑所述掩膜的平坦的侧面。
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