一种三维NAND存储器单元的建模方法及装置
技术领域
本发明涉及存储器技术领域,特别涉及一种三维NAND存储器单元的建模方法。
背景技术
随着技术的发展,半导体工业不断寻求新的方式生产,以使得存储器装置中的每一存储器裸片具有更多数目的存储器单元。在非易失性存储器中,例如NAND存储器,增加存储器密度的一种方式是通过使用垂直存储器阵列,即三维NAND存储器 (3D NAND Flash);随着集成度的越来越高,三维NAND存储器已经从32层发展到64层,甚至更高的层数。
由于三维NAND存储器特有的堆叠技术,其存储器单元构造有别去普通的闪存(NAND flash)。为了精确的仿真出三维NAND存储器的器件特性,需要建立一种模型来描述不同电压条件下的存储器单元的电流/电压关系。
发明内容
为了解决现有技术存在的不足,本发明的目的在于提供一种三维NAND存储器单元的建模方法,通过建立一种模型来描述不同电压条件下的存储器单元的电流/电压关系,精确的仿真出三维NAND存储器的器件特性。
为实现上述目的,本发明提供的一种三维NAND存储器单元的建模方法,包括以下步骤:
遍历所有存储器单元,得到所有层存储器单元的电阻特性关系;
运用BSIM4器件模型方法得到虚设存储器单元的电流/电压模型;
对所有存储器单元进行遍历测试,得到不同行为的电流/电压数据;
利用所述电阻特性关系和所述虚设存储器单元的电流/电压模型,优化各个层存储器单元电阻的权重系数,得到实际存储器单元器件电流/电压特性。
进一步地,所述遍历所有存储器单元,得到所有层存储器单元的电阻特性关系的步骤,进一步包括以下步骤:
选取顶层的存储器单元,根据选定的电压范围,测出电流特性,得到顶层的存储器单元电阻特性关系;
选取顶层之外的存储器单元,并根据选定的电压范围,测出其电流特性,得到该存储器单元的电阻特性,直至遍历至最底层,得到所有层的存储器单元的电阻特性关系。
进一步地,所述对所有存储器单元进行遍历测试,得到不同行为的电流/电压数据的步骤,包括:
根据获得的存储器单元漏端电流对栅压的曲线和漏端电流对漏端电压的曲线,利用BSIM4模型得到存储器单元的电流/电压模型。
更进一步地,利用所述电阻特性关系和所述虚设存储器单元的电流/电压模型,优化各个层存储器单元电阻的权重系数的步骤,包括,
根据对比存储器单元串联电阻组成的电路电流/电压仿真曲线和实测数据的差异,调整和/或优化所述电阻特性关系,从而得到符合存储器单元的电阻特性关系。
为实现上述目的,本发明还提供一种三维NAND存储器单元的建模装置,包括存储器和处理器,所述存储器上储存有在所述处理器上运行的程序,所述处理器运行所述程序时执行上述三维NAND存储器单元的建模方法的步骤。
为实现上述目的,本发明还提供一种计算机可读存储介质,其上存储有计算机指令,所述计算机指令运行时执行上述三维NAND存储器单元的建模方法的步骤。
有益效果:本发明提供的一种三维NAND存储器单元的建模方法,选取至少一层存储器单元,选择电压范围,测出电流特性,直至遍历至最后一层存储器单元,至此得到所有层存储器单元的电阻特性;运用器件模型方法得到虚设存储器单元的电流/电压模型;利用前面得到的电阻关系和虚设存储器单元的电流/电压模型,并优化各个层存储器单元电阻的权重系数,得到实际存储器单元器件特性精确的仿真出存储器单元的器件特性,并建立一种模型来描述不同电压条件下的存储器单元的电流/电压关系。
本发明的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述,并且,部分地从说明书中变得显而易见,或者通过实施本发明而了解。
附图说明
附图用来提供对本发明的进一步理解,并且构成说明书的一部分,并与本发明的实施例一起,用于解释本发明,并不构成对本发明的限制。在附图中:
图1为根据本发明的三维NAND存储器结构示意图。
图2为根据本发明的三维NAND存储器单元的建模方法流程图;
图3为根据本发明的存储器单元的加压示意图。
具体实施方式
以下结合附图对本发明的优选实施例进行说明,应当理解,此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本发明,并不用于限定本发明。
在本发明实施例中,存储器为三维NAND存储器(3D NAND Flash)。图1为根据本发明的三维NAND存储器结构示意图,其中substrate为衬底,CG为控制栅,SLS为源线选择器,BLS为位线选择器,BL为位线,source line为源线。如图1所示,三维NAND存储器因为其特有的堆叠技术,和普通的闪存(NAND flash)相比,其在结构上相当于多层普通的闪存通过堆叠技术形成立体的电路结构,在容量上得到了极大的提升。
中间CG层为可重复层,主要通过叠加CG层来实现存储器单元。
通过本发明的三维NAND存储器单元的建模方法构建的模型,能够准确的描述出被选中的存储器单元的电流/电压特性,选中的存储器单元可能位于最顶层,也可能位于中间层,也可能位于最底层。因为其不同的相对位置关系,类似于单个MOS器件source和drain端串联了不同的电阻。因此本发明通过描述单个MOS器件串联电阻的方法来描述三维NAND存储器单元电流/电压关系,即三维NAND存储器单元的器件模型。
图2为根据本发明的三维NAND存储器单元的建模方法流程图,下面将参考图2对本发明的三维NAND存储器单元的建模方法进行详细描述。
首先,在步骤201,选取顶层的存储器单元(cell),根据选择的电压范围,测出电流特性,得到顶层的存储器单元电阻特性关系。
在步骤202,选取顶层之外的存储器单元,并根据选择的电压范围,测出其电流特性,得到该存储器单元的电阻特性,直至遍历至最底层,得到所有层的存储器单元的电阻特性关系。
在步骤203,运用器件模型(BSIM4)方法得到虚设存储器单元(dummy cell)的电流/电压数据;
在步骤204,对所有层次存储器单元进行遍历测试,得到多组不同行为的存储器单元电流/电压数据。
本发明的实施例中,对所有层次存储器单元进行遍历测试,得到多组不同行为的存储器单元的漏端电流对栅压的曲线(Ids_Vgs)和漏端电流对漏端电压的曲线(Ids_Vds),利用BSIM4模型得到存储器单元的电流/电压模型。
在步骤205,利用前面得到的电阻特性关系、虚设存储器单元的电流/电压模型,以及存储器单元的电流/电压模型,优化各个层存储器单元电阻的权重系数(电阻特性关系),得到实际存储器单元器件的电流/电压特性。
本发明的实施例中,根据对比存储器单元串联电阻组成的电路电流/电压仿真曲线和实测数据的差异,优化得到的电阻特性关系,从而获得符合存储器单元的电阻特性关系。
本发明提供的一种三维NAND存储器单元的建模方法可以准确仿真的对象为三维NAND存储器单元的任意层,也可以准确仿真出仿真对象的操作电压范围内的电流/电压特性。本发明通过描述MOS串联电阻的方式准确的描述出三维NAND存储器单元。
通过源线选择器SSL和接地选择讯号GSL的电压用于决定要进行的操作类型(program/read/erase)。
选择电压范围,测出电流特性具体包括:
在串行选择导线SSL与接地选择讯号GSL施加电压,让至少一层存储器单元导通产生电流后,判断所选取的至少一层存储器单元的阈值电压Vt。
图3为根据本发明的存储器单元的加压示意图,如图3所示,对存储器单元的Sel.W/L加不同的电压,可以测出电流曲线。在本发明的实施例中,在存储器单元的SSL位置,选择合适的电压范围,测出电流特性。
本发明还提供一种三维NAND存储器单元的建模装置,包括存储器和处理器,所述存储器上储存有在所述处理器上运行的程序,所述处理器运行所述程序时执行上述三维NAND存储器单元的建模方法的步骤。
为实现上述目的,本发明还提供一种计算机可读存储介质,其上存储有计算机指令,所述计算机指令运行时执行上述三维NAND存储器单元的建模方法的步骤参见前述部分的介绍,不再赘述。
本领域普通技术人员可以理解:以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明,对于本领域的技术人员来说,其依然可以对前述各实施例记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。