CN110959125A - 层叠体 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种层叠体，其具有起偏器材料膜和基材膜，上述基材膜设置在上述起偏器材料膜上且在一个以上方向进行了拉伸，上述起偏器材料膜的面内方向的相位差Re1为10nm以上，上述起偏器材料膜的厚度T1为40μm以下，上述起偏器材料膜的慢轴方向与上述基材膜的慢轴方向所成的角度θ1为1°以上且90°以下。上述起偏器材料膜可为通过干式拉伸得到的起偏器材料膜。

Description

层叠体
技术领域
本发明涉及层叠体。
背景技术
一直以来，作为液晶显示装置及有机电致发光显示装置等显示装置，要求显示面积大、重量轻、且厚度薄。因此，一直以来，要求构成显示装置的面板也要薄。
显示装置一般使用具有起偏器及保护起偏器的保护膜的偏振片。为了构成厚度薄的显示装置，要求偏振片也更薄。特别地，一般用作起偏器的聚乙烯醇等材料有时在显示装置的使用环境下会收缩，因此在薄且面积大的显示装置中，因这样的收缩导致的翘曲变成问题。因此，通过采用厚度10μm以下这样的薄起偏器，能够期待因起偏器的厚度减小本身所带来的显示装置的厚度减小，除了以外，还能够期待上述这样的翘曲的产生的减少。
然而，在想要通过现有的制造方法来制造这样的厚度薄的聚乙烯醇的起偏器的情况下，起偏器的熔断频繁发生。作为防止这样的起偏器的熔断、且制造包含薄起偏器的偏振片的方法，提出了几种方法。例如，专利文献1中提出了如下方法：将未拉伸聚乙烯醇系膜粘贴于未拉伸高密度聚乙烯制的基材膜，制成层叠体，拉伸处理该层叠体后，剥离基材膜，得到聚乙烯醇系膜。
此外，专利文献2中提出了如下方法：通过将包含聚乙烯醇系树脂的水溶液涂布于非晶质酯系热塑性树脂基材，将聚乙烯醇系树脂层制膜而制成层叠体，拉伸处理该层叠体后，使二色性物质取向而制成着色层叠体，拉伸处理该着色层叠体，得到光学膜。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特表2016-505404号公报(对应公报：美国专利申请公开第2016/084990号说明书)
专利文献2：日本特许第4691205号公报(对应公报：美国专利申请公开第2012/057232号说明书)
发明内容
发明要解决的问题
在通过专利文献1和2所述的方法制造薄偏振片的情况下，由于以高拉伸倍率拉伸层叠体，有时在拉伸处理后的基材膜中产生相位差。在这种情况下，难以将基材膜直接用作偏振片保护膜，剥离废弃，因此，会产生材料浪费。进而，产生了另行准备用于保护偏振片的保护膜，将其粘贴到偏振片的操作。
此外，为了得到充分宽的薄型偏振片，考虑准备宽度尺寸非常宽的基材膜来涂布或粘贴起偏器的材料(例如聚乙烯醇材料)，但是当基材膜的宽度尺寸过大时，有生产困难的问题。
因此，本发明的目的在于提供能够将基材膜也用作保护膜、且能够高效地制造厚度薄的偏振片的层叠体。
用于解决问题的方案
本发明人为了解决上述技术问题进行了研究，结果发现，通过使用面内方向的相位差为10nm以上且厚度为40μm以下的起偏器材料膜和进行了拉伸的基材膜、并且将起偏器材料膜的慢轴方向和基材膜的慢轴方向错开，可解决上述技术问题，以至完成了本发明。
因此，根据本发明，提供了下述[1]～[10]。
[1]一种层叠体，具有起偏器材料膜和基材膜，上述基材膜设置在上述起偏器材料膜上且在一个以上方向进行了拉伸，
上述起偏器材料膜的面内方向的相位差Re1为10nm以上，
上述起偏器材料膜的厚度T1为40μm以下，
上述起偏器材料膜的慢轴方向与上述基材膜的慢轴方向所成的角度θ1为1°以上且90°以下。
[2][1]所述的层叠体，其中，上述起偏器材料膜为通过干式拉伸得到的起偏器材料膜。
[3][1]或[2]所述的层叠体，其中，
上述起偏器材料膜为以1.5以上且5.5以下的拉伸倍率X进行了拉伸的膜，
将上述层叠体以拉伸倍率6.0/X进行了自由端单轴拉伸时的上述起偏器材料膜的厚度T2为20μm以下，
上述起偏器材料膜的拉伸方向与上述基材膜的拉伸方向所成的角度θ2为1°以上且90°以下。
[4][1]～[3]中任一项所述的层叠体，其中，上述起偏器材料膜的Nz系数为0.95以上且1.5以下。
[5][1]～[4]中任一项所述的层叠体，其中，上述基材膜的在50℃～120℃的温度条件下自由端单轴拉伸为4.0倍时产生的面内方向的相位差Re2为0nm以上且20nm以下。
[6][1]～[5]中任一项所述的层叠体，其中，上述基材膜为包含选自环烯烃树脂、非晶质聚酯树脂、聚烯烃树脂及丙烯酸树脂中的至少一种的膜。
[7][1]～[6]中任一项所述的层叠体，其中，
上述基材膜为包含环烯烃树脂的膜，
上述环烯烃树脂包含环烯烃系聚合物，
上述环烯烃系聚合物包含选自降冰片烯系单体的开环聚合物的氢化物、降冰片烯系单体与α-烯烃的加成共聚物及其氢化物中的至少一种。
[8][1]～[6]中任一项所述的层叠体，其中，
上述基材膜为包含环烯烃树脂的膜，
上述环烯烃树脂包含环烯烃系聚合物，
上述环烯烃系聚合物包含将嵌段共聚物[D]氢化了的嵌段共聚物氢化物，
上述嵌段共聚物[D]包含聚合物嵌段[A]、及聚合物嵌段[B]或聚合物嵌段[C]，
上述聚合物嵌段[A]以来自于芳香族乙烯基化合物的重复单元[I]作为主成分，
上述聚合物嵌段[B]以来自于芳香族乙烯基化合物的重复单元[I]及来自于链状共轭二烯化合物的重复单元[II]作为主成分，上述聚合物嵌段[C]以来自于链状共轭二烯化合物的重复单元[II]作为主成分。
[9][1]～[8]中任一项所述的层叠体，其中，上述基材膜含有增塑剂和/或柔软剂。
[10][9]所述的层叠体，其中，上述增塑剂和/或柔软剂为酯系增塑剂、脂肪族烃聚合物或它们的混合物。
发明效果
在拉伸本发明的层叠体得到的偏振片中，即使经过拉伸层叠体的工序后基材膜所显现的相位差也小，可防止断裂的产生，因此，能够提供能够将基材膜也用作保护膜、且能够高效地制造厚度薄的偏振片的层叠体。
附图说明
图1为示意性地示出本发明的层叠体的一个例子的剖面图。
图2为示意性地示出本发明的层叠体的制造工序的一个例子的图。
图3为示意性地示出使用了本发明的层叠体的偏振片的制造工序的一个例子的图。
图4为示意性地示出使用本发明的层叠体制造的偏振片的剖面图。
图5为示意性地示出使用本发明的层叠体制造的偏振片的剖面图。
具体实施方式
以下，示出实施方式及示例物对本发明进行详细说明。但是，本发明并不限定于以下说明的实施方式及示例物，可在不脱离本发明的请求保护的范围及其同等的范围的范围内进行任意变更而实施。
在本申请中，所谓“长条状”的膜是指相对于膜的宽度具有5倍以上的长度的膜，优选为相对于膜的宽度具有10倍或其以上的长度的膜，具体而言为具有卷绕为卷状保管或运输的程度的长度的膜。膜的长度与宽度的比例的上限没有特别限定，可设为例如100000倍以下。
在本申请中，膜的面内方向的相位差Re及厚度方向的相位差Rth根据式Re＝(nx-ny)×d及Rth＝[{(nx+ny)/2}-nz]×d算出。此外，膜的Nz系数为[(nx-nz)/(nx-ny)]表示的值，也可表示为[(Rth/Re)+0.5]。在此，nx为膜的面内的慢轴方向的折射率(面内的最大折射率)，ny为膜的面内的垂直于慢轴的方向的折射率，nz为膜的厚度方向的折射率，d为膜的厚度(nm)。只要没有另外说明，测定波长为作为可见光区域的代表性波长的590nm。
[1.层叠体的概要]
图1为示意性地示出本发明的层叠体10的剖面图的一个例子。如图1所示，本发明的层叠体10具有起偏器材料膜11和设置于起偏器材料膜上的进行了拉伸的基材膜12，上述起偏器材料膜11的面内方向的相位差为规定值且具有规定的厚度。在图1中，13为将起偏器材料膜11与基材膜12粘接的粘接剂。
本发明的层叠体10可作为用于制造偏振片的材料。
[2.起偏器材料膜]
起偏器材料膜为用于制造起偏器的膜(起偏器用膜)。在本发明中，起偏器材料膜为面内方向的相位差Re1为10nm以上、且厚度T1为40μm以下的膜。起偏器材料膜通过以面内方向的相位差成为10nm以上且厚度成为40μm以下的方式对包含起偏器的材料的未拉伸膜进行拉伸处理得到。起偏器材料膜为包含起偏器的材料(拉伸)的膜。在本申请中，为了与起偏器材料膜进行区别，有时将用于得到起偏器材料膜、未供于用于成为规定的相位差及厚度的拉伸处理的膜(包含起偏器的材料的未拉伸的膜)称为“原材料膜”。
在本发明中，只要可实现本发明的目的就不一定限定原材料膜，从高性价比方面考虑，优选聚乙烯醇树脂的膜。
在本发明中，并不一定限定聚乙烯醇树脂(以下，有时简称为PVA)，从可获得性等方面考虑，优选使用通过皂化将醋酸乙烯酯聚合而得到的聚醋酸乙烯酯从而制造的聚乙烯醇树脂。从拉伸性、得到的膜的偏光性能等优异的观点出发，优选PVA的聚合度在500～8000的范围，优选PVA的皂化度为90摩尔％以上。在此，所谓聚合度是指基于JIS K6726-1994的记载测定的平均聚合度，所谓皂化度是指基于JIS K6726-1994的记载测定的值。聚合度的更优选的范围为1000～6000，进一步优选的范围为1500～4000。皂化度的更优选的范围为95摩尔％以上，进一步优选的范围为99摩尔％以上。只要对本发明的效果无不良影响，PVA也可为醋酸乙烯酯与能够共聚的其它单体的共聚物或接枝聚合物。
在本发明中，PVA的原材料膜的制法并无特别限定，能够通过公知的方法制造，能够采用任意的方法，例如：将PVA溶解于溶剂的PVA溶液用作制膜原液的流延制膜法、湿式制膜法(向不良溶剂中吐出)、干湿式制膜法、凝胶制膜法(将PVA水溶液暂且冷却凝胶化后，萃取除去溶剂，得到PVA的原材料膜的方法)、及利用它们的组合的方法；将含有溶剂的PVA熔融得到的熔融物作为制膜原液而进行的熔融挤出制膜法等。在它们之中，流延制膜法及熔融挤出制膜法由于可得到透明性高、着色少的PVA的原材料膜因此优选，更优选熔融挤出制膜法。
在本发明中，为了改善机械物性、二次加工时的加工性能等，PVA的原材料膜优选相对于PVA含有0.01～30质量％的甘油等多元醇等增塑剂，并且，为了改善处理性、膜外观等，优选相对于PVA含有0.01～1质量％的阴离子系表面活性剂、非离子系表面活性剂等表面活性剂。
PVA的原材料膜在不妨碍本发明的效果的范围内也可根据需要进一步包含抗氧化剂、紫外线吸收剂、滑剂、pH调节剂、无机物微粒、着色剂、防腐剂、抗真菌剂、上述成分以外的其它高分子化合物、水分等其它成分。PVA的原材料膜能够包含1种或2种以上这些其它成分。
原材料膜厚度优选为50μm以下，更优选为40μm以下，进一步优选为30μm以下，优选为5μm以上，更优选为10μm以上，进一步优选为15μm以上。通过原材料膜的厚度为上述范围的下限值以上，能够获得具有足够高的偏振度的偏振片，通过原材料膜的厚度为上述范围的上限值以下，能够高效地提高对于偏振片的弯折的耐性。
起偏器材料膜通过对原材料膜进行拉伸处理而得到。作为拉伸处理的方法，可举出干式拉伸及湿式拉伸等。由于干式拉伸与湿式拉伸相比设备、工序精简，因此作为起偏器材料膜，优选通过干式拉伸得到的起偏器材料膜。作为干式拉伸，能够使用拉幅拉伸、浮动拉伸、热辊拉伸等拉伸方法。所谓干式拉伸是指在高温(例如100℃以上)的气体氛围下进行拉伸的拉伸处理的方法。作为在干式拉伸时使用的气体，可举出空气。
拉伸原材料膜而制作起偏器材料膜时的拉伸的条件能够在可得到期望的起偏器材料膜的前提下适宜选择。例如，拉伸原材料膜而制作起偏器材料膜时的拉伸的方式可为单轴拉伸、双轴拉伸等任意方式。此外，在原材料膜为长条状的膜的情况下，拉伸的方向可以为纵向(平行于长条状的膜的长度方向的方向)、横向(平行于长条状的膜的宽度方向的方向)、及斜向(既不是纵向也不是横向的方向)中的任一种。
拉伸原材料膜而制作起偏器材料膜时的拉伸倍率X优选为1.5以上，更优选为2.0以上，进一步优选为2.5以上，另一方面，优选为5.5以下，更优选为4.5以下，进一步优选为3.5以下。即，起偏器材料膜优选为以1.5以上且5.5以下的拉伸倍率X进行了拉伸的膜，更优选为以2.0以上且4.5以下的拉伸倍率X进行了拉伸的膜，进一步优选为以2.5以上且3.5以下的拉伸倍率X进行了拉伸的膜。当拉伸倍率X为上述范围的上限值以下时，能够防止拉伸原材料膜而制作起偏器材料膜时产生断裂。此外，当拉伸倍率X为上述范围的下限值以上，能够降低拉伸层叠体而得到偏振片时的拉伸倍率。在通过双轴拉伸等沿两个以上的方向的拉伸进行原材料膜的拉伸的情况下，拉伸倍率X为各个拉伸的倍率的乘积。
干式拉伸原材料膜而制作起偏器材料膜时的拉伸温度优选为100℃以上，更优选为110℃以上，另一方面，优选为150℃以下，更优选为140℃以下。通过干式拉伸的温度为上述范围，可得到均匀膜厚的起偏器材料膜。
起偏器材料膜的厚度T1为40μm以下，优选为30μm以下，更优选为20μm以下，优选为3μm以上，更优选为5μm以上。通过起偏器材料膜的厚度T1为上述范围的下限值以上，能够得到具有足够高的偏振度的偏振片，通过起偏器材料膜的厚度T1为上述范围的上限值以下，能够高效地提高对于偏振片的弯折的耐性。
起偏器材料膜的形状及尺寸可根据期望的用途进行适宜调节。从制造的效率方面考虑，优选起偏器材料膜为长条状的膜。
起偏器材料膜的面内方向的相位差Re1为10nm以上，优选为50nm以上，更优选为100nm以上，优选为500nm以下，更优选为400nm以下。通过起偏器材料膜的面内方向的相位差Re1为上述范围的下限值以上，能够将拉伸处理层叠体而制作偏振片时的拉伸倍率抑制得低，使拉伸处理后的基材的相位差保持得低。通过起偏器材料膜的面内方向的相位差Re1为上述范围的上限值以下，能够降低拉伸原材料膜而制作起偏器材料膜时的拉伸倍率，能够避免单独拉伸原材料膜时的皱褶的产生等问题。
起偏器材料膜的Nz系数优选为0.95以上，更优选为0.99以上，优选为1.5以下，更优选为1.4以下。通过Nz系数为上述范围内，能够得到具有足够偏振度的起偏器。
[3.基材膜]
在本发明的层叠体中，使用在一个以上方向进行了拉伸的膜作为基材膜。在本申请说明书中，为了与基材膜进行区别，将得到基材膜前的(拉伸处理前的)膜称为“未拉伸的膜”。
基材膜的厚度优选为5μm以上，更优选为10μm以上，另一方面，优选为50μm以下，更优选为30μm以下。通过基材膜的厚度为上述范围的下限值以上，能够得到良好的贴合面状况的层叠体，通过基材膜的厚度为上述范围的上限值以下，能够减少拉伸层叠体而得到偏振片时基材膜所产生的相位差。
作为基材膜，优选在50℃～120℃的温度条件下自由端单轴拉伸为4.0倍时所产生的面内方向的相位差Re2为0nm以上且20nm以下、更优选为10nm以下的基材膜。通过基材膜的上述面内方向的相位差Re2为上述范围内，即使经过包含拉伸处理的偏振片的制造工序，基材膜的相位差的显现性也能够充分低。
基材膜由树脂形成。作为形成基材膜的树脂，并无特别限定。基材膜优选为包含选自环烯烃树脂、非晶质聚酯树脂、聚烯烃树脂及丙烯酸树脂中的至少一种的膜，更优选为包含环烯烃树脂的膜。
作为形成基材膜的环烯烃树脂，优选为包含环烯烃系聚合物且环烯烃系聚合物为降冰片烯系单体的开环聚合物的氢化物、降冰片烯系单体与α-烯烃的加成共聚物及其氢化物的环烯烃树脂。在它们之中，作为环烯烃系聚合物，从即使在进行了拉伸的情况下也难以显现相位差的观点出发，优选降冰片烯系单体与α-烯烃的加成共聚物及其氢化物。作为降冰片烯系单体的开环聚合物的氢化物、降冰片烯系单体与α-烯烃的加成共聚物和/或其氢化物，可举出日本特开平2-180976号公报、日本特开平3-109418号公报、日本特开平3-223328号公报、日本特开平4-301415号公报、日本特开平5-212828号公报、日本特开平7-145213号公报等记载的高分子化合物。
此外，作为形成基材膜的环烯烃树脂，优选为包含环烯烃系聚合物且环烯烃系聚合物包含将嵌段共聚物[D]的主链和侧链的碳-碳不饱和键、以及芳香环的碳-碳不饱和键氢化了的嵌段共聚物氢化物等的环烯烃树脂，上述嵌段共聚物[D]包含聚合物嵌段[A]、及聚合物嵌段[B]或聚合物嵌段[C]，上述聚合物嵌段[A]以来自于芳香族乙烯基化合物的重复单元[I]作为主成分，上述聚合物嵌段[B]以来自于芳香族乙烯基化合物的重复单元[I]及来自于链状共轭二烯化合物的重复单元[II]作为主成分，聚合物嵌段[C]以来自于链状共轭二烯化合物的重复单元[II]作为主成分。作为这样的嵌段共聚物氢化物，可举出国际公开第2000/32646号、国际公开第2001/081957号、日本特开2002-105151号公报、日本特开2006-195242号公报、日本特开2011-13378号公报、国际公开第2015/002020号等记载的高分子化合物。
[3.1.增塑剂及柔软剂]
在本发明中，基材膜优选含有增塑剂和/或柔软剂(增塑剂及柔软剂中的任一者或两者)。通过含有增塑剂和/或柔软剂，能够减小拉伸层叠体而得到偏振片时基材膜所产生的相位差。
作为增塑剂及柔软剂，可使用能够均匀地溶解或分散在形成基材膜的树脂中的增塑剂及柔软剂。作为增塑剂及柔软剂的例子，可举出：由多元醇与一元羧酸形成的酯系增塑剂(以下称为“多元醇酯系增塑剂”)及由多元羧酸与一元醇形成的酯系增塑剂(以下称为“多元羧酸酯系增塑剂”)等酯系增塑剂、以及磷酸酯系增塑剂、碳水化合物酯系增塑剂、及其它聚合物柔软剂。
作为本发明中优选使用的酯系增塑剂的原料的多元醇的例子，没有特别限定，优选乙二醇、甘油、三羟甲基丙烷。
作为多元醇酯系增塑剂的例子，可举出：乙二醇酯系增塑剂、甘油酯系增塑剂、及其它多元醇酯系增塑剂。
作为多元羧酸酯系增塑剂的例子，可举出：二羧酸酯系增塑剂、及其它多元羧酸酯系增塑剂。
作为磷酸酯系增塑剂的例子，具体而言，可举出：磷酸三乙酰酯、磷酸三丁酯等磷酸烷基酯；磷酸三环戊酯、磷酸环己酯等磷酸环烷基酯；磷酸三苯酯、磷酸三甲苯酯等磷酸芳基酯。
作为碳水化合物酯系增塑剂，具体而言，能够优选举出：葡萄糖五乙酸酯、葡萄糖五丙酸酯、葡萄糖戊二酸酯、蔗糖八乙酸酯、蔗糖八苯甲酸酯等，其中，更优选蔗糖八乙酸酯。
作为聚合物柔软剂，具体而言，可举出：脂肪族烃系聚合物、脂环式烃系聚合物、聚丙烯酸乙酯、聚甲基丙烯酸甲酯，甲基丙烯酸甲酯与甲基丙烯酸-2-羟乙酯的共聚物、甲基丙烯酸甲酯与丙烯酸甲酯与甲基丙烯酸-2-羟乙酯的共聚物等丙烯酸系聚合物；聚乙烯基异丁基醚、聚N-乙烯基吡咯烷酮等的乙烯基系聚合物；聚苯乙烯、聚-4-羟基苯乙烯等苯乙烯系聚合物；聚丁二酸丁二醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯；聚环氧乙烷、聚环氧丙烷等聚醚；聚酰胺、聚氨酯、聚脲等。
作为脂肪族烃系聚合物的具体例子，可举出：聚异丁烯、聚丁烯、聚-4-甲基戊烯、聚-1-辛烯、乙烯/α-烯烃共聚物等低分子量物及其氢化物；聚异戊二烯、聚异戊二烯-丁二烯共聚物等的低分子量物及其氢化物等。从易于均匀地溶解或分散于环烯烃树脂的观点出发，脂肪族烃系聚合物优选数均分子量为300～5000。
这些聚合物柔软剂可为由1种重复单元形成的均聚物，也可为具有多种重复结构的共聚物。此外，也可并用2种以上的上述聚合物。
在本发明中，作为增塑剂和/或柔软剂，优选酯系增塑剂、脂肪族烃系聚合物及它们的混合物。
基材膜中的增塑剂和/或柔软剂(以下也称为“增塑剂等”)的比例相对于100重量份的形成基材膜的树脂，优选为0.2重量份以上，更优选为0.5重量份以上，进一步更优选为1.0重量份以上，另一方面，优选为40重量份以下，更优选为30重量份以下。通过使增塑剂等的比例为上述范围内，即使经过包含拉伸处理的偏振片的制造工序，基材膜的相位差的显现性也能够充分低。
[3.2.任意成分]
基材膜可包含树脂及增塑剂等以外的任意成分。作为任意成分的例子，可举出：抗氧化剂、紫外线吸收剂、光稳定剂等稳定剂；滑剂等树脂改性剂；染料、颜料等着色剂；及抗静电剂。这些配合剂能够单独使用1种或组合使用2种以上，其配合量可在不损害本发明的目的的范围内进行适宜选择。
[4.基材膜的制造方法]
基材膜可在将包含用于形成基材膜的成分(树脂及根据需要添加的成分)的组合物(以下，也称为“树脂组合物”)通过任意的成型方法成型为膜状而制造了未拉伸的膜后，将该未拉伸的膜拉伸，由此进行制造。
作为将树脂组合物成型为膜状的方法的例子，可举出熔融挤出成型。熔融挤出工序可通过如下方法进行：利用挤出机使树脂组合物熔融，从安装在该挤出机的T字模挤出为膜状，使挤出的膜密合在一个以上的冷却辊，将其成型而拉出。熔融挤出成型时的成型条件可配合使用的树脂组合物的组成及分子量等条件进行适宜设定。
未拉伸膜的厚度根据其使用目的等进行适宜设定。未拉伸膜的厚度优选为10μm以上，更优选为15μm以上，另一方面，优选为100μm以下，更优选为50μm以下。未拉伸膜也能够卷成辊状后供于接下来的拉伸工序，并且也能够供于与熔融挤出工序连接的拉伸工序。
拉伸未拉伸膜而制作基材膜时的拉伸的条件可在得到期望的基材膜的前提下进行适宜选择。
拉伸未拉伸膜而制作基材膜时的拉伸的方式可为单轴拉伸、双轴拉伸等任意的方式。此外，在未拉伸膜为长条状的膜的情况下，拉伸的方向可为纵向(平行于长条状的膜的长度方向的方向)、横向(平行于长条状的膜的宽度方向的方向)、及斜向(既不是纵向也不是横向的方向)中的任一种。
在本发明中，拉伸未拉伸膜而制作基材膜时的拉伸方向与起偏器材料膜的拉伸方向错开。具体而言，起偏器材料膜的拉伸方向(慢轴方向)与基材膜的拉伸方向(如果基材膜的原料为正的相位差显现性的树脂则为慢轴方向，如果其为负的相位差显现性的树脂则为快轴方向)所成的角度θ2(θ1)为1°以上且90°以下。角度θ2(θ1)优选为5°以上，更优选为10°以上，优选为85°以下，更优选为80°以下。当角度θ2(θ1)为上述范围时，通过起偏器材料膜与基材膜的拉伸方向错开，能够防止拉伸层叠体来制造偏振片的工序中的断裂的产生。此外，即使经过包含拉伸处理的偏振片的制造工序，基材膜的相位差的显现性也能够充分低。
算出θ2时，在起偏器材料膜为在2个以上的方向拉伸起偏器材料得到的膜的情况、及在基材膜为在2个以上的方向拉伸未拉伸膜得到的膜的情况下，将拉伸倍率大的那个拉伸方向设为膜的拉伸方向。
[5.层叠体的制造方法]
接着，对本发明的层叠体的制造方法的一个例子进行说明。
层叠体的制造方法包括：将原材料膜在一个以上方向拉伸得到面内方向的相位差Re1为10nm、厚度T1为40μm以上的起偏器材料膜的工序(a)、将未拉伸膜拉伸得到基材膜的工序(h)、以及在起偏器材料膜上设置基材膜层得到层叠体的工序(b)。
图2为示意性地示出在起偏器材料膜11上设置基材膜12制造层叠体10的制造装置200的一个例子的示意图。制造装置200具有：送出装置201、202；拉伸装置204、206；贴合装置205；以及卷绕装置203。
如图2所示，通过由送出装置201送出的原材料膜1运送到拉伸装置204，在拉伸装置204进行拉伸处理，得到起偏器材料膜11(工序(a))。另一方面，通过由送出装置202送出的未拉伸膜2运送到拉伸装置206，在拉伸装置206进行拉伸处理，得到基材膜12(工序(h))。
接着，通过将起偏器材料膜11运送到贴合装置205，在贴合装置205根据需要涂布粘接剂13，与基材膜12贴合，得到层叠体10(工序(b))。制造的层叠体10能够通过卷绕装置203卷绕，成为卷的形状，供于进一步的工序。在工序(b)中，粘接剂为任意成分。此外，在工序(b)中，粘接剂涂布在基材膜后，也可与起偏器材料膜贴合。在起偏器材料膜与基材膜之间涂布粘接剂由于能够防止两膜之间的剥离等问题因此优选，但是在即使不使用粘接剂在起偏器材料膜与基材膜之间也能得到足够的粘接力的情况下，也可不使用粘接剂。
工序(a)中的原材料膜的拉伸处理优选通过[2.起偏器材料膜]的项中说明的条件及方法(拉伸处理的方法、拉伸的方式、拉伸倍率、拉伸温度)进行。
工序(h)中的基材膜的拉伸处理优选通过[4.基材膜的制造方法]的项中说明的条件及方法(拉伸处理的方法、拉伸的方式、拉伸倍率、拉伸温度)进行。
工序(a)中的拉伸处理及工序(h)中的拉伸处理以基材膜的拉伸方向与起偏器材料膜的拉伸方向所成的角度θ2为1°以上且90°以下的方式进行。
在工序(b)中，作为使起偏器材料膜11与基材膜12贴合的粘接剂13，没有特别限制，可使用例如：丙烯酸系粘接剂、聚氨酯系粘接剂、聚酯系粘接剂、聚乙烯醇系粘接剂、聚烯烃系粘接剂、改性聚烯烃系粘接剂、聚乙烯基烷基醚系粘接剂、橡胶系粘接剂、氯乙烯-醋酸乙烯酯系粘接剂、SEBS(苯乙烯-乙烯-丁烯-苯乙烯共聚物)系粘接剂、乙烯-苯乙烯共聚物等乙烯系粘接剂、乙烯-(甲基)丙烯酸甲酯共聚物、乙烯-(甲基)丙烯酸乙酯共聚物等丙烯酸酯系粘接剂等。
基材膜的与起偏器材料膜粘贴的面也可实施电晕处理、皂化处理、底涂处理、锚固涂层(anchor coating)处理等易粘接处理。
本发明的层叠体10可作为用于制造偏振片的材料。在这种情况下，层叠体在进行拉伸处理及染色处理等处理后成为偏振片。
[6.偏振片的制造方法]
偏振片的制造方法包含上述的工序(a)及工序(b)、以及将经过这些工序得到的层叠体在一个以上方向进行拉伸的工序(c)。偏振片的制造方法也可在工序(b)后包含利用二色性物质对起偏器材料膜进行染色的工序(d)。起偏器材料膜的染色可对形成层叠体10前的起偏器材料膜进行。通过这样的制造方法，起偏器材料膜进行了拉伸、进而任意地进行了染色，其结果是，成为能够作为起偏器发挥功能的膜。偏振片的制造方法可进一步包含任意的工序。作为任意的工序的例子，可举出：在工序(c)后，直接或经由粘接剂将保护膜贴合到起偏器材料膜的工序(e1)、及对起偏器材料膜设置粘合剂层的工序(e2)。
偏振片能够通过例如图3所示的制造装置进行制造。
图3为示意性地示出通过对层叠体10进行拉伸处理及其它任意处理制造偏振片100的制造装置300的一个例子的示意图。制造装置300具有：送出装置301、307、处理装置302～305；干燥装置306、309；贴合装置308；及卷绕装置310。
如图3所示，将由送出装置301送出的层叠体10运送到处理装置302～305，进行染色处理(工序(d))及拉伸处理(工序(c))等处理。当在干燥装置306干燥进行了这些处理后的层叠体时，得到偏振片100。
图4为示意性地示出使用本发明的层叠体得到的偏振片100的剖面图。在偏振片100中，如图4所示，在起偏器材料膜111的一侧的面(图示的上侧面)上层叠有基材膜112。图4中，113为粘接剂。图4所示的偏振片100能够直接用作偏振片，也可在起偏器材料膜111的未层叠有基材膜112的一侧的面(图示的下侧面)层叠保护膜。
在将保护膜115层叠在起偏器材料膜111的情况下，如图3所示，将偏振片100运送到贴合装置308，在起偏器材料膜111的未层叠有基材膜112的一侧的面涂布粘接剂，与由送出装置307送出的保护膜115贴合，由此得到具有保护膜115的偏振片120(工序(e1))。制造的偏振片120能够通过卷绕装置310卷绕，成为卷的形状，供于进一步的工序。
图5为示意性地示出具有保护膜115的偏振片120的剖面图。在该偏振片120中，如图5所示，在起偏器材料膜111的一侧的面(图示的上侧面)上层叠有基材膜112，在起偏器材料膜111的另一侧的面(图示的下侧面)层叠有保护膜115。图5中，113、114为粘接剂。用于使保护膜贴合到起偏器材料膜的粘接剂能够使用与使基材膜贴合到起偏器材料膜的粘接剂同样的粘接剂。
作为使用本发明的层叠体制造偏振片时的拉伸处理的方法，没有特别限定，优选湿式拉伸。
使用本发明的层叠体通过湿式拉伸制造偏振片时的拉伸倍率优选为1.2以上，更优选为1.5以上，优选为5.0以下，更优选为4.0以下。当使层叠体的拉伸倍率为上述范围的上限值以下时，即使经过包含拉伸处理的偏振片的制造工序，也能够减少基材膜的相位差的显现，防止偏振片的断裂的产生，当使拉伸倍率为上述范围的下限值以上时，能够得到具有足够的偏光性能的偏振片。
层叠体的拉伸温度没有特别限制。例如，在将聚乙烯醇系树脂用作起偏器的材料的情况下，具体的拉伸温度优选为50℃以上，更优选为55℃以上，特别优选为60℃以上，优选为160℃以下，更优选为120℃以下，特别优选为110℃以下。通过拉伸温度为上述范围的下限值以上，能够顺利地进行拉伸，并且，通过拉伸温度为上述范围的上限值以下，能够通过拉伸进行高效的取向。无论是干式拉伸及湿式拉伸中的任一方法均优选上述拉伸温度的范围，湿式拉伸的情况特别优选该拉伸温度的范围。
层叠体的拉伸处理为包含沿至少一个方向的拉伸的处理，可包含仅在一个方向的拉伸，也可包含沿两个以上的方向的拉伸。作为层叠体的拉伸处理，优选进行单轴拉伸，进一步优选自由端单轴拉伸，特别优选纵向的自由端单轴拉伸。在包含仅在一个方向的拉伸的拉伸处理中，以该拉伸的拉伸倍率处于上述规定的拉伸倍率的范围的方式进行拉伸。此外，在包含沿两个以上的方向的拉伸的拉伸处理中，以各个拉伸的拉伸倍率的乘积处于上述规定的拉伸倍率的范围的方式进行拉伸。在包含沿两个以上的方向的拉伸的拉伸处理中，它们的拉伸可同时进行，也可依次进行。
将层叠体以拉伸倍率6.0/X进行了自由端单轴拉伸时的层叠体拉伸后的起偏器材料膜的厚度T2优选为20μm以下，更优选为15μm以下，优选为1μm以上，更优选为3μm以上。在此，X为拉伸原材料膜而制作起偏器材料膜时的拉伸倍率。通过上述T2为上限值以下，能够减小拉伸处理层叠体得到的偏振片的厚度，通过T2为下限值以上，能够得到具有足够高的偏振度的偏振片。
[7.本发明的效果]
本发明的层叠体具有面内方向的相位差为10nm以上且厚度为40μm以下的起偏器材料膜和进行了拉伸的基材膜。即，使用本发明的层叠体制造偏振片时，由于使用了预先进行了拉伸的起偏器材料膜，因此能够降低拉伸层叠体制造偏振片时的拉伸倍率。其结果是，能够减小经过拉伸层叠体的工序后的基材膜所显现的相位差。
此外，在本发明中，通过使起偏器材料膜的慢轴方向(拉伸方向)与基材膜的慢轴方向(拉伸方向)所成的角度θ1(θ2)为1°以上且90°以下，能够防止拉伸层叠体制造偏振片的工序中的断裂。其结果是，能够将基材膜直接用作保护膜。
进而，如上所述，在本发明中，由于使用了预先进行了拉伸的起偏器材料膜，因此在层叠基材膜制作层叠体时，不需要像使用未拉伸的起偏器材料膜时那样宽度尺寸非常大的基材膜，可高效地进行偏振片的制造。
综上，根据本发明，能够提供能够将基材膜也用作保护膜、且能够高效地制造厚度薄的偏振片的层叠体。
实施例
以下，参照实施例和比较例对本发明进行进一步详细说明，但是，本发明并不限定于下述实施例。以下，只要没有另外说明，涉及成分的量比的“份”及“％”表示重量份。
[评价方法]
[重均分子量(Mw)及分子量分布(Mw/Mn)]
嵌段共聚物及嵌段共聚物氢化物的分子量在38℃作为以THF作为洗脱液的GPC得到的标准聚苯乙烯换算值进行测定。作为测定装置，使用Tosoh Corporation制、HLC8020GPC。
[氢化率]
嵌段共聚物氢化物的氢化率利用1H-NMR谱或GPC分析算出。氢化率99％以下的区域测定1H-NMR谱算出，超过99％的区域利用GPC分析根据UV检测器及RI检测器得到的峰面积的比率算出。
[面内相位差Re1、Re2和Nz系数的测定方法]
在波长590nm使用相位差测定装置(Axometric公司制产品名称“Axoscan”)，测定Re及Rth，基于它们求出Nz系数。将与层叠体的制造所使用的基材膜相同的基材膜(例如，实施例1的情况下为基材膜A)在与偏振片制作时相同的温度条件下(但是，实施例9为110℃)自由端单轴拉伸为4.0倍，制备相位差Re2的测定试样。
[厚度的测定方法]
原材料膜的拉伸前与拉伸后的厚度、基材膜的厚度、偏振片所包含的各层的厚度通过下述的方法测定。
使用超薄切片机切断偏振片后，使用TEM观察其剖面。测定5处的厚度方向的尺寸，将其测定值的平均采用为厚度。
[层叠体的贴合面状况的评价]
通过目视观察层叠体，将无条纹或气泡的产生的层叠体评价为“良”、将产生条纹或气泡的层叠体评价为“不良”。
[拉伸性的评价]
拉伸层叠体制造偏振片的工序中的工序稳定性通过以下的基准评价。
A：未发生断裂(10次送料0次断裂)
B：断裂几乎未发生(10次送料1次断裂)
C：断裂频繁发生不能偏振片化
[耐撕裂性的评价]
使用岛津制作所(株)制的autograph AG-1(商品名称)，以牵引速度200mm/分钟(室温)对宽度5cm×长度15cm的样品进行测定。
耐撕裂性通过以下基准进行评价
A：1.0N/mm以上
B：0.3N/mm以上且低于1.0N/mm
C：低于0.3N/mm
[实施例1]
(1-1)基材膜的制造
(1-1-1)聚合物X的制作
参见日本特开2002-105151号公报记载的制造例，在第1阶段使25份的苯乙烯单体聚合后，在第2阶段使30份的苯乙烯单体及25份的异戊二烯单体聚合，其后，在第3阶段使20份的苯乙烯单体聚合得到嵌段共聚物[D1]，然后，将该嵌段共聚物氢化合成嵌段共聚物氢化物[E1]。嵌段共聚物氢化物[E1]的Mw为84500，Mw/Mn为1.20，主链及芳香环的氢化率为几乎100％。
在100份的嵌段共聚物氢化物[E1]中熔融混炼作为抗氧化剂的0.1份的季戊四醇四[3-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯](Matsubara Industry Inc.制，产品名称“Songnox1010”)且调配后，做成颗粒状，得到成型用的聚合物X。
(1-1-2)未拉伸膜A的制造
将在(1-1-1)所制造的聚合物X供给到具有T字模的热熔融挤出膜成型机。从T字模挤出聚合物X，以4m/分钟的牵引速度卷绕成卷，将聚合物X成型为膜状。由此，得到包含聚合物X的长条的未拉伸膜A(厚度25μm)。
(1-1-3)基材膜A的制造
使用拉幅拉伸机在拉伸温度130℃在宽度方向以拉伸倍率2.0拉伸未拉伸膜A，得到基材膜A(横单轴拉伸)。基材膜A的厚度为13μm。面内方向的相位差为2nm。
(1-2)起偏器材料膜的制造
作为原材料膜，使用未拉伸聚乙烯醇膜(平均聚合度约2400，皂化度99.9摩尔％，厚度20μm，以下也称为“PVA20”)。
使用纵单轴拉伸机在拉伸温度130℃在长度方向以拉伸倍率3.0对原材料膜进行干式拉伸，得到起偏器材料膜。起偏器材料膜的厚度T1为12μm、Re1为345nm、Nz系数为1.0。
(1-3)层叠体的制造
将100重量份的水、3重量份的聚乙烯醇系粘接剂(Nippon Synthetic ChemicalIndustry Co.制“Z-200”)、及0.3重量份的交联剂(Nippon Synthetic Chemical IndustryCo.制“SPM-01”)混合，得到粘接剂组合物。对在(1-1-2)得到的基材膜A的单面实施电晕处理，在其上涂敷该粘接剂组合物，使其贴合到起偏器材料膜的一侧的面。在该状态下，在70℃使粘接剂组合物加热干燥5分钟。由此，得到了具有“起偏器材料膜”/“粘接层”/“基材膜A”的层结构的层叠体。粘接剂层的厚度为1μm。在层叠体中，起偏器材料膜的拉伸方向与基材膜的拉伸方向所成的角度θ2为90°。
评价得到的层叠体的贴合面状况。结果示于表1。
(1-4)偏振片的制造(湿式)
一边将在(1-3)得到的层叠体经由导辊连续运送到长度方向，一边进行下述操作。
进行将上述的层叠体浸渍在包含碘及碘化钾的染色溶液的染色处理和拉伸染色处理后的层叠体的第一拉伸处理。接下来，进行将第一拉伸处理后的层叠体在包含硼酸及碘化钾的65℃的酸性浴中进行拉伸的第二拉伸处理。以由第一拉伸处理时的拉伸倍率与第二拉伸处理时的拉伸倍率的乘积表示的总的拉伸倍率变成2.0的方式进行设定。第一拉伸处理和第二拉伸处理时的拉伸方向均设为长度方向。
在干燥机中在70℃干燥第二拉伸处理后的层叠体5分钟得到偏振片。测定偏振片中的基材膜的厚度及相位差Re2、以及起偏器材料膜的厚度T2，在表1也一并示出拉伸性及耐撕裂性的评价结果。
[实施例2]
替代在(1-2)得到的起偏器材料膜，使用在以下的(2-2)得到的起偏器材料膜，除此以外，与实施例1同样地进行，制造偏振片，与实施例1同样地进行评价，结果示于表1。
(2-2)起偏器材料膜的制造
使用拉幅拉伸机在拉伸温度130℃在长度方向以拉伸倍率3.0拉伸原材料膜(PVA20)，得到起偏器材料膜。起偏器材料膜的厚度T1为7μm、Re1为270nm、Nz系数为1.4。
[实施例3]
替代在(1-2)得到的起偏器材料膜，使用在以下的(3-2)得到的起偏器材料膜，除此以外，与实施例1同样地进行，制造偏振片，与实施例1同样地进行评价，结果示于表1。
(3-2)起偏器材料膜的制造
使用斜拉伸用拉幅拉伸机在拉伸温度130℃以拉伸倍率3.0斜拉伸原材料膜(PVA20)，得到平均取向角为45°的起偏器材料膜。起偏器材料膜的厚度T1为7μm、Re1为310nm、Nz系数为1.1。
[实施例4]
替代在(1-2)得到的起偏器材料膜，使用在以下的(4-2)得到的起偏器材料膜，以及以(1-4)中的总的拉伸倍率变成4.0的方式拉伸层叠体，除此以外，与实施例1同样地进行，制造偏振片，与实施例1同样地进行评价，结果示于表1。
(4-2)起偏器材料膜的制造
使用未拉伸聚乙烯醇膜(平均聚合度约2400，皂化度99.9摩尔％，厚度30μm，以下也称为“PVA30”)作为原材料膜。
使用纵单轴拉伸机在拉伸温度130℃在长度方向以拉伸倍率1.5拉伸原材料膜(PVA30)，得到起偏器材料膜。起偏器材料膜的厚度T1为24μm、Re1为345nm、Nz系数为1.0。
[实施例5]
替代在(1-2)得到的起偏器材料膜，使用在以下的(5-2)得到的起偏器材料膜，以及以(1-4)中的总的拉伸倍率变成1.2的方式拉伸层叠体，除此以外，与实施例1同样地进行，制造偏振片，与实施例1同样地进行评价，结果示于表1。
(5-2)起偏器材料膜的制造
使用纵单轴拉伸机在拉伸温度130℃在长度方向以拉伸倍率5.0拉伸原材料膜(PVA20)，得到起偏器材料膜。起偏器材料膜的厚度T1为9μm、Re1为325nm、Nz系数为1.0。
[实施例6]
替代在(1-1)得到的基材膜A，使用在以下的(6-1)得到的基材膜B，除此以外，与实施例1同样地进行，制造偏振片，与实施例1同样地进行评价，结果示于表2。
(6-1)基材膜B的制造
使用拉幅拉伸机在拉伸温度130℃在宽度方向以拉伸倍率1.5拉伸在(1-1-2)得到的未拉伸膜A后，在长度方向以拉伸倍率1.3进行拉伸，得到基材膜B(双轴横拉伸)。基材膜B的厚度为13μm、面内方向的相位差为1nm。
[实施例7]
替代在(1-1)得到的基材膜A，使用在以下的(7-1)得到的基材膜D，除此以外，与实施例1同样地进行，制造偏振片，与实施例1同样地进行评价，结果示于表2。
(7-1)基材膜D的制造
使用斜拉伸用拉幅拉伸机在拉伸温度130℃在斜向以拉伸倍率1.5斜拉伸在(1-1-2)得到的未拉伸膜A，得到平均取向角为45°的基材膜D。基材膜D的厚度为17μm、面内方向的相位差为2nm。
[实施例8]
替代在(1-1)得到的基材膜A，使用在以下的(8-1)得到的基材膜E，除此以外，与实施例1同样地进行，制造偏振片，与实施例1同样地进行评价，结果示于表2。
(8-1)基材膜E的制造
(8-1-2)未拉伸膜E的制造
将在(1-1-1)制造的聚合物X和相对于100重量份的聚合物X以20重量份的比例添加的聚异丁烯(JX Nippon Oil&Energy Corporation制“Nisseki Polybutene HV-300”，数均分子量1400)的混合物供给到具有T字模的热熔融挤出膜成型机。从T字模挤出聚合物X及聚异丁烯的混合物，以4m/分钟的牵引速度卷绕成卷，由此得到膜状且成为长条状的未拉伸膜E(厚度25μm)。
(8-1-3)基材膜E的制造
使用拉幅拉伸机在拉伸温度130℃在宽度方向以拉伸倍率2.0拉伸未拉伸膜E，得到基材膜E(横单轴拉伸)。基材膜E的厚度为19μm、面内方向的相位差为2nm。
[实施例9]
通过以下的方法制造偏振片，与实施例1同样地进行评价，结果示于表2。
(9-1)基材膜F的制造
将丙烯酸树脂(Sumitomo Chemical Co.,LTd.制，SUMIPEX HT55X)供给到具有T字模的热熔融挤出膜成型机。从T字模挤出丙烯酸树脂，以4m/分钟的牵引速度卷绕成卷，由此将丙烯酸树脂成型为膜状。由此，得到包含丙烯酸树脂的长条的未拉伸膜F(厚度25μm)。
在(1-1-3)中，替代未拉伸膜A，使用未拉伸膜F，使用拉幅拉伸机，在拉伸温度130℃在宽度方向以拉伸倍率1.3拉伸该未拉伸膜F，得到基材膜F(横单轴拉伸)。基材膜F的厚度为19μm、面内方向的相位差为2nm。
(9-3)层叠体的制造
在(1-3)中，替代基材膜A使用在(9-1)制造的基材膜F，除此以外，与实施例1的(1-3)同样地进行，得到具有“起偏器材料膜”/“粘接层”/“基材膜F”的层结构的层叠体。
(9-4)偏振片的制造(干式)
使用纵单轴拉伸机在拉伸温度110℃在长度方向以拉伸倍率1.8拉伸在(9-3)得到的层叠体。将进行了拉伸的层叠体浸渍在包含碘、碘化钾及硼酸的染色溶液中进行染色，通过60℃的暖风进行干燥。接下来，使用纵单轴拉伸机，在拉伸温度90℃在长度方向以拉伸倍率1.1拉伸进行了染色的层叠体，得到偏振片。
[比较例1]
(C1-1)基材膜C1的制造
使用纵单轴拉伸机在拉伸温度130℃在长度方向(拉伸方向为90°)以拉伸倍率3.5拉伸在(1-1-2)得到的未拉伸膜A，得到基材膜C1(纵单轴拉伸)。基材膜C1的厚度为13μm、面内方向的相位差为3nm。
(C1-3)层叠体的制造
在(1-3)中，替代基材膜A，使用基材膜C1，除此以外，与(1-3)同样地进行，得到具有“起偏器材料膜”/“粘接剂”/“基材膜C1”的层结构的层叠体。在层叠体中，起偏器材料膜的拉伸方向与基材膜C1的拉伸方向所成的角度θ2为0°。
(C1-4)偏振片的制造(湿式)
替代(1-4)中的层叠体使用在(C1-3)得到的层叠体，除此以外，与(1-4)同样地进行，得到偏振片。测定偏振片中的基材膜的厚度及相位差Re2、以及起偏器材料膜的厚度T2，在表3一并示出拉伸性及耐撕裂性的评价结果。此外，与实施例1同样地进行层叠体的贴合面状况的变化。结果示于表3。
[比较例2]
(C2-3)层叠体的制造
根据以下的步骤，在基材膜C2的表面制膜聚乙烯醇(PVA)层制造层叠体。
作为基材膜C2，使用使6mol％的间苯二甲酸共聚了的非晶质聚对苯二甲酸乙二醇酯(非晶质PET，玻璃化转变温度为75℃)的连续网格的基材膜(厚度为200μm)。作为形成PVA层的PVA溶液，使用聚合度1000以上、皂化度99％以上、玻璃化转变温度80℃的PVA粉末以成为浓度为4～5重量％的方式溶解在水中得到的水溶液。
在基材膜C2的一侧的面涂布PVA水溶液，在50～60℃的温度进行干燥，由此在基材膜C2的表面制膜PVA层得到具有“PVA层”/“基材膜C2”的层结构的层叠体。在本比较例中，PVA层通过PVA水溶液的涂布、干燥形成，但是层的厚度和面内方向的相位差分别记载在表2的“拉伸后的厚度T1”和“拉伸后的Re1”的栏中。
(C2-4)偏振片的制造
将在(C2-3)得到的层叠体放置于设定成130℃的拉伸温度环境的烘箱所配备的拉伸装置，以拉伸倍率变成1.8倍的方式进行自由端单轴拉伸(第一拉伸处理)。
进行将第一拉伸处理后的层叠体浸渍在包含碘及碘化钾的染色溶液的染色处理。接下来，将染色处理后的层叠体放置于设定成包含硼酸及碘化钾的65℃的硼酸水溶液的处理装置所配备的拉伸装置，以拉伸倍率变成3.3倍的方式进行自由端单轴拉伸处理(第二拉伸处理)。第一拉伸处理及第二拉伸处理的拉伸方向均为长度方向。
将第二拉伸处理后的层叠体从硼酸水溶液取出，将附着在制膜为非结晶性PET基材的3μm厚的PVA层的表面的硼酸通过碘化钾水溶液清洗后，通过基于60℃的暖风而进行的干燥工序进行干燥，得到偏振片。测定偏振片中的基材膜的厚度及相位差Re2、以及PVA层的厚度T2，拉伸性及耐撕裂性的评价结果一同示于表3。
实施例和比较例的结果示于表1～表3。
表中，Acryl表示丙烯酸树脂。
表中，拉伸方向(°)为将膜的宽度方向设为0°时的角度。
表3中，所谓非晶质PET意为非晶质聚对苯二甲酸乙二醇酯。
[表1]
表1
Figure BDA0002374553320000251
【表2】
表2
Figure BDA0002374553320000261
【表3】
表3
Figure BDA0002374553320000271
从表1～表3的结果可知，根据本发明，由于经过拉伸层叠体的工序后的基材膜所显现的相位差小，且可防止断裂的产生，因此，可高效地制造能够将基材膜也用作保护膜且厚度薄的偏振片。
附图标记说明
1：原材料膜；
2：未拉伸膜；
10：层叠体；
11：起偏器材料膜；
12：基材膜；
13：粘接剂；
100：偏振片；
111：起偏器材料膜；
112：基材膜；
113、114：粘接剂；
115：保护膜；
120：具有保护膜的偏振片；
200：制造装置；
201、202：送出装置；
203：卷绕装置；
204、206：拉伸装置；
205：贴合装置；
300：制造装置；
301、307：送出装置；
302～305：处理装置；
306、309：干燥装置；
308：贴合装置；
310：卷绕装置。

Claims (10)

1.一种层叠体，具有起偏器材料膜和基材膜，所述基材膜设置在所述起偏器材料膜上且在一个以上方向进行了拉伸，
所述起偏器材料膜的面内方向的相位差Re1为10nm以上，
所述起偏器材料膜的厚度T1为40μm以下，
所述起偏器材料膜的慢轴方向与所述基材膜的慢轴方向所成的角度θ1为1°以上且90°以下。
2.根据权利要求1所述的层叠体，其中，所述起偏器材料膜为通过干式拉伸得到的起偏器材料膜。
3.根据权利要求1或2所述的层叠体，其中，
所述起偏器材料膜为以1.5以上且5.5以下的拉伸倍率X进行了拉伸的膜，
将所述层叠体以拉伸倍率6.0/X进行了自由端单轴拉伸时的所述起偏器材料膜的厚度T2为20μm以下，
所述起偏器材料膜的拉伸方向与所述基材膜的拉伸方向所成的角度θ2为1°以上且90°以下。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的层叠体，其中，所述起偏器材料膜的Nz系数为0.95以上且1.5以下。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的层叠体，其中，所述基材膜的在50℃～120℃的温度条件下自由端单轴拉伸为4.0倍时产生的面内方向的相位差Re2为0nm以上且20nm以下。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的层叠体，其中，所述基材膜为包含选自环烯烃树脂、非晶质聚酯树脂、聚烯烃树脂及丙烯酸树脂中的至少一种的膜。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的层叠体，其中，
所述基材膜为包含环烯烃树脂的膜，
所述环烯烃树脂包含环烯烃系聚合物，
所述环烯烃系聚合物包含选自降冰片烯系单体的开环聚合物的氢化物、降冰片烯系单体与α-烯烃的加成共聚物及其氢化物中的至少一种。
8.根据权利要求1～6中任一项所述的层叠体，其中，
所述基材膜为包含环烯烃树脂的膜，
所述环烯烃树脂包含环烯烃系聚合物，
所述环烯烃系聚合物包含将嵌段共聚物D氢化了的嵌段共聚物氢化物，
所述嵌段共聚物D包含聚合物嵌段A、以及聚合物嵌段B或聚合物嵌段C，
所述聚合物嵌段A以来自于芳香族乙烯基化合物的重复单元I作为主成分，
所述聚合物嵌段B以来自于芳香族乙烯基化合物的重复单元I及来自于链状共轭二烯化合物的重复单元II作为主成分，所述聚合物嵌段C以来自于链状共轭二烯化合物的重复单元II作为主成分。
9.根据权利要求1～8中任一项所述的层叠体，其中，所述基材膜含有增塑剂和/或柔软剂。
10.根据权利要求9所述的层叠体，其中，所述增塑剂和/或柔软剂为酯系增塑剂、脂肪族烃聚合物或它们的混合物。
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