CN110937813A - 低温泡泡釉陶瓷及其制备工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明属于陶瓷制品领域，具体地说，本发明涉及一种低温泡泡釉陶瓷及制备工艺。该种低温泡泡釉陶瓷，包括低温陶瓷坯体，还包括设置于低温陶瓷坯体表面的低温泡泡釉，所述低温泡泡釉的原料组分包括废弃玻璃、碳酸盐、助熔剂、高膨胀低温熔块、金属氧化物、降温剂。本发明提供的低温泡泡釉及其制备工艺，提供了一种全新效果的陶瓷釉面，釉面在釉面中形成大小不规则的气泡，实现低温烧成实现气泡，该种低温泡泡釉利用了废弃玻璃等废弃原料、烧成温度低，实现了固体废弃物的回收，减少能源消耗、降低排放，节能环保，而且釉面效果明显区别传统釉面的的陶瓷釉料，具有独特的的艺术性和美观性。
Description
技术领域
本发明属于陶瓷制品领域，具体地说，本发明涉及一种低温泡泡釉陶瓷及制备工艺。
背景技术
随着人们生活水平的不断提高，审美需求也在不断的变化，传统的对陶瓷产品的形状或是图案上进的改进，无法突破现有设计水平，缺乏创新，难以适应消费者求新求变的需求，因此如果能将传统的缺陷加以改性，实现新的艺术效果，是陶瓷生产企业解决的问题。
釉是覆盖在陶瓷制品表面的无色或有色的玻璃质薄层，是用矿物原料和化工原料按一定比例配合经过研磨制成釉浆，施于坯体表面，经一定温度煅烧而成。传统的釉面表面形成气泡必须是在高烧成温度(1300°以上)时，釉料沸腾，并在沸腾的瞬间快速降温，才能在釉面实现将气泡封闭于釉层中，形成气泡的效果，该种釉料的烧成温度高、烧成过程难控制，成品率低；此外，现有的陶瓷釉料多采用矿物原料制成，随着矿场资源的长期开采，导致了资源枯竭、严重的影响水土流失，陶瓷原料的成本逐年提高。
发明内容
为了解决上述问题，本发明提供一种低温泡泡釉陶瓷及制备工艺。
本发明提供的低温泡泡釉陶瓷，包括低温陶瓷坯体，还包括设置于低温陶瓷坯体表面的低温泡泡釉，所述低温泡泡釉的原料按重量份如下：废弃玻璃50－60份、碳酸盐5－10份、助熔剂15－20份、高膨胀低温熔块10－15份、金属氧化物5－10份、降温剂1－5份。
进一步的，所述高膨胀低温熔块的原料重量份如下：石英10－20份、长石10－20、二氧化硅10－20份、氧化铈10－20、硼砂10－15份、硼酸5－10份、碳酸锶5－10份。
进一步的，所述低温熔块的膨胀系数为8.5－8.7，始熔温度为630－660℃。
进一步的，所述高膨胀低温熔块的原料重量份如下：石英13份、长石16、二氧化硅13份、氧化铈12、硼砂12份、硼酸24份、碳酸锶10份。
进一步的，低温泡泡釉的原料按重量份如下：废弃玻璃56份、碳酸盐8份、助熔剂13份、高膨胀低温熔块12份、金属氧化物8份、降温剂3份。
进一步的，低温陶瓷坯体的原料组分如下：废弃陶瓷素坯20－30份、大同土20－30份、锂辉石10－20份、滑石10－20份、长石10－20份、紫节木5－10份。
进一步的，低温陶瓷坯体的原料组分如下：弃陶瓷素坯28份、大同土23份、锂辉石14份、滑石12份、长石16份、紫节木7份。
低温泡泡釉陶瓷的制备工艺，其特征在于，制备上述低温泡泡釉陶瓷的，具体步骤如下：
步骤1，按低温陶瓷坯体的原料组份配料，将原料放入球磨机中湿法研磨，获得坯体浆料，使用坯体浆料制备陶瓷坯体；
步骤2，按低温泡泡釉原料组份配料，将原料放入球磨机中湿法研磨，获得低温泡泡釉浆料；
步骤3，等待陶瓷坯体干燥后，将低温泡泡釉浆料施于陶瓷坯体表面，施釉浓度为、施釉厚度为；
步骤4，将施有低温泡泡釉陶瓷坯体的放入窑炉中烧成，烧成温度为1060－1120度。
进一步的，步骤2中低温泡泡釉的原料按照原料：球：水＝1：1－2：0.5－0.6的比例在研磨机中研磨12－16小时。
进一步的，烧成温度控制如下：
低温预热，窑炉经20－30分钟由常温升至400℃；
气泡形成阶段，窑经2－3小时升温至630－660℃，保持5－10分钟；
快速升温，窑炉内经1－2小时升温至烧成温度，到达烧成温度；
快速降温，窑炉经过1－2小时降温至200－300℃。
本发明提供的低温泡泡釉及其制备工艺，提供了一种全新效果的陶瓷釉面，釉面在釉面中形成大小不规则的气泡，该气泡的形成是通过在烧制过程中将釉料中的废弃玻璃、硫酸盐分解放出的气体，滞留在釉层中，形成气泡，实现低温烧成实现气泡，该种低温泡泡釉利用了废弃玻璃等废弃原料、烧成温度低，实现了固体废弃物的回收，减少能源消耗、降低排放，节能环保，而且釉面效果明显区别传统釉面的的陶瓷釉料，具有独特的的艺术性和美观性。
具体实施方式
以下通过具体实施方式对本发明作进一步的描述。
低温泡泡釉陶瓷，包括低温陶瓷坯体，还包括设置于低温陶瓷坯体表面的低温泡泡釉，所述
低温陶瓷坯体的原料组分如下：废弃陶瓷素坯20－30份、大同土20－30份、锂辉石10－20份、滑石10－20份、长石10－20份、紫节木5－10份；
低温泡泡釉的原料按重量份如下：废弃玻璃50－60份、碳酸盐5－10份、助熔剂15－20份、高膨胀低温熔块10－15份、金属氧化物5－10份、降温剂1－5份；
高膨胀低温熔块的原料重量份如下：石英10－20份、长石10－20、二氧化硅10－20份、氧化铈10－20、硼砂10－15份、硼酸5－10份、碳酸锶5－10份，低温熔块的膨胀系数为8.5－8.7，始熔温度为630－660℃。
具体实施例一：
低温泡泡釉陶瓷，包括低温陶瓷坯体，还包括设置于低温陶瓷坯体表面的低温泡泡釉，
低温陶瓷坯体的原料组分如下：弃陶瓷素坯28份、大同土23份、锂辉石14份、滑石12份、长石16份、紫节木7份；
低温泡泡釉的原料按重量份如下：废弃玻璃56份、碳酸盐8份、助熔剂13份、高膨胀低温熔块12份、金属氧化物8份、降温剂3份；
高膨胀低温熔块的原料重量份如下：石英13份、长石16、二氧化硅13份、氧化铈12、硼砂12份、硼酸24份、碳酸锶10份。
一种低温泡泡釉陶瓷的制备工艺，具体步骤如下：
步骤1，按低温陶瓷坯体的原料组份配料，将原料放入球磨机中湿法研磨，获得坯体浆料，使用坯体浆料制备陶瓷坯体，低温泡泡釉的原料按照原料：球：水＝1：1：2的比例在研磨机中研磨5－10小时；
步骤2，按低温泡泡釉原料组份配料，将原料放入球磨机中湿法研磨，获得低温泡泡釉浆料，低温泡泡釉的原料按照原料：球：水＝1：22：0.5的比例在研磨机中研磨12－16小时；
步骤3，等待陶瓷坯体干燥后，将低温泡泡釉浆料施于陶瓷坯体表面，施釉浓度为、施釉厚度为；
步骤4，将施有低温泡泡釉陶瓷坯体的放入窑炉中烧成，烧成温度为1060－1120度，烧成温度控制如下：
低温预热，窑炉经20－30分钟由常温升至400℃；
气泡形成阶段，窑经2－3小时升温至630－660℃，保持5－10分钟；
快速升温，窑炉内经1－2小时升温至烧成温度，到达烧成温度；
快速降温，窑炉经过1－2小时降温至200－300℃。
上述低温泡泡釉陶瓷，烧制过程中低温泡泡釉陶瓷中的废弃玻璃、硫酸盐分解放出的气体，在气泡形成阶段通过5－10分钟形成气泡，在高膨胀低温熔块烧成之前未能充分排出，高膨胀低温熔块的釉料的粘度大使得气泡被滞留在釉层中，低温高膨胀釉料中引入了氧化铈，氧化铈具有很好的稳定性及不易化学反应的优点，在烧成状态下有良好的稳定性，提高烧成范围。
本发明提供的低温泡泡釉及其制备工艺，提供了一种全新效果的陶瓷釉面，釉面在釉面中形成大小不规则的泡泡，该种低温泡泡釉利用了废弃玻璃等废弃原料、烧成温度低，实现了固体废弃物的回收，减少能源消耗、降低排放，节能环保，而且釉面效果明显区别传统釉面的的陶瓷釉料，具有独特的的艺术性和美观性。
上述仅为本发明的上述具体实施方式，但本发明的设计构思并不局限于此，凡利用此构思对本发明进行非实质性的改动，均应属于侵犯本发明保护范围的行为。
Claims (10)
1.低温泡泡釉陶瓷，包括低温陶瓷坯体，其特征在于：还包括设置于低温陶瓷坯体表面的低温泡泡釉，所述低温泡泡釉的原料按重量份如下：废弃玻璃50－60份、碳酸盐5－10份、助熔剂15－20份、高膨胀低温熔块10－15份、金属氧化物5－10份、降温剂1－5份。
2.根据权利要求1所述的低温泡泡釉陶瓷，其特征在于，所述高膨胀低温熔块的原料重量份如下：石英10－20份、长石10－20、二氧化硅10－20份、氧化铈10－20、硼砂10－15份、硼酸5－10份、碳酸锶5－10份。
3.根据权利要求2所述的低温泡泡釉陶瓷，其特征在于，所述低温熔块的膨胀系数为8.5－8.7，始熔温度为630－660℃。
4.根据权利要求2所述的低温泡泡釉陶瓷，其特征在于，所述高膨胀低温熔块的原料重量份如下：石英13份、长石16、二氧化硅13份、氧化铈12、硼砂12份、硼酸24份、碳酸锶10份。
5.根据权利要求2所述的低温泡泡釉陶瓷，其特征在于，所述低温泡泡釉的原料按重量份如下：废弃玻璃56份、碳酸盐8份、助熔剂13份、高膨胀低温熔块12份、金属氧化物8份、降温剂3份。
6.根据权利要求1所述的低温泡泡釉陶瓷，其特征在于，所述低温陶瓷坯体的原料组分如下：废弃陶瓷素坯20－30份、大同土20－30份、锂辉石10－20份、滑石10－20份、长石10－20份、紫节木5－10份。
7.根据权利要求6所述的低温泡泡釉陶瓷，其特征在于：所述低温陶瓷坯体的原料组分如下：弃陶瓷素坯28份、大同土23份、锂辉石14份、滑石12份、长石16份、紫节木7份。
8.低温泡泡釉陶瓷的制备工艺，其特征在于，制备权利要求1－7所述低温泡泡釉陶瓷的，具体步骤如下：
步骤1，按低温陶瓷坯体的原料组份配料，将原料放入球磨机中湿法研磨，获得坯体浆料，使用坯体浆料制备陶瓷坯体；
步骤2，按低温泡泡釉原料组份配料，将原料放入球磨机中湿法研磨，获得低温泡泡釉浆料；
步骤3，等待陶瓷坯体干燥后，将低温泡泡釉浆料施于陶瓷坯体表面，施釉浓度为、施釉厚度为；
步骤4，将施有低温泡泡釉陶瓷坯体的放入窑炉中烧成，烧成温度为1060－1120度。
9.根据权利要求5或6所述的低温泡泡釉陶瓷的制备工艺，其特征在于：所述步骤2中低温泡泡釉的原料按照原料：球：水＝1：1－2：0.5－0.6的比例在研磨机中研磨12－16小时。
10.根据权利要求8所述的低温泡泡釉陶瓷的制备工艺，其特征在于：所述烧成温度控制如下：
低温预热，窑炉经20－30分钟由常温升至400℃；
气泡形成阶段，窑经2－3小时升温至630－660℃，保持5－10分钟；
快速升温，窑炉内经1－2小时升温至烧成温度，到达烧成温度；
快速降温，窑炉经过1－2小时降温至200－300℃。
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