CN110880561A - 显示面板及其制备方法、显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种本发明实施例提供了一种显示面板及其制备方法、显示装置，该显示面板包括第一凹槽、挡墙、第一无机层和有机层。第一凹槽和挡墙设置于基板上，第一凹槽相对于挡墙更靠近显示面板的显示区，挡墙包括远离基板设置的第一有机层。第一无机层设置于第一凹槽和第一有机层上。第二有机层相对于第一有机层设置于靠近显示区一侧的第一无机层之上。本发明的技术方案可以减少挡墙的数量，减小显示面板的边框，实现窄边框。

Description

显示面板及其制备方法、显示装置
技术领域
本发明涉及显示领域，具体涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。
背景技术
目前，有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)显示技术一般采用无机层/有机层交替设计的薄膜封装结构，其中，有机层主要通过喷墨打印(Ink JetPrinting，IJP)的方式形成。为了保证有机层的铺展区域和封装效果，在屏体边缘处会设计多个挡墙结构，使得显示面板边框较宽。
发明内容
有鉴于此，本发明实施例提供了一种显示面板及其制备方法、显示装置。解决了以上多个挡墙结构的设计导致显示面板边框宽的问题。
第一方面，本发明的实施例提供了一种显示面板，，包括：基板；设置于基板上的第一凹槽和挡墙，第一凹槽相对于挡墙靠近显示面板的显示区，挡墙包括远离基板设置的第一有机层；第一无机层，设置于第一凹槽和第一有机层上；第二有机层，相对于第一有机层设置于靠近显示区一侧的第一无机层之上。
在本发明某些实施例中，上述显示面板还包括：第二凹槽，设置于基板上并且相对于挡墙位于远离显示区的一侧。
在本发明某些实施例中，挡墙还包括设置于第一有机层上的第二无机层，第一无机层设置于第二无机层上。
在本发明某些实施例中，上述显示面板还包括：第三无机层，设置于第二有机层和第一无机层上。
在本发明某些实施例中，第二无机层的上表面在远离显示区的方向上向下倾斜。
在本发明某些实施例中，第一凹槽和/或第二凹槽的容积大于第二有机层溢出的体积；优选的，第一凹槽和/或第二凹槽的底部宽度为5μm至10μm；优选的，第一凹槽和/或第二凹槽的深度为3μm至4μm。
在本发明某些实施例中，挡墙与基板接触面的宽度为50μm至70μm。
在本发明某些实施例中，所述挡墙垂直于所述基板方向的高度大于所述第二有机层的厚度，优选的，所述第一有机层的厚度为4μm至6μm，所述第二无机层的厚度为0.5μm至1μm。
第二方面，本发明的实施例提供了一种显示装置，包括：如上所述的显示面板。
第三方面，本发明的实施例提供了一种显示面板的制备方法，包括：
在所述显示面板的基板上形成挡墙，所述挡墙包括远离所述基板设置的第一有机层；在所述显示面板的基板上形成第一凹槽，所述第一凹槽相对于所述挡墙靠近所述显示面板的显示区；在所述第一凹槽和所述第一有机层上形成第一无机层；在相对于所述第一有机层靠近所述显示区一侧的所述第一无机层之上形成第二有机层。
在本发明某些实施例中，上述方法还包括：在基板上并且相对于挡墙位于远离显示区的一侧形成第二凹槽。
本发明实施例提供了一种显示面板及其制备方法、显示装置，该显示面板通过在基板上设置第一凹槽，使得第二有机层的材料可以部分存储于第一凹槽中，保证第二有机层材料的铺展开的区域，避免第二有机层的溢流发生。一个挡墙的设置明显减少了挡墙的数量，第一凹槽和一个挡墙的设置减小了边框宽度，实现了窄边框的设计，同时保证封装效果。
附图说明
图1所示为本发明一实施例提供的显示面板的结构示意图。
图2所示为本发明另一实施例提供的显示面板的结构示意图。
图3所示为本发明一实施例提供的第二无机层的掩模板的结构俯视图。
图4所示为本发明另一实施例提供的显示面板的结构示意图。
图5所示为本发明一实施例提供的显示面板的制备方法的流程示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
图1所示为本发明一实施例提供的一种显示面板100的结构示意图。
如图1所示，显示面板100包括：第一凹槽110、挡墙120、第一无机层130、第二有机层140和基板150。
第一凹槽110和挡墙120设置于基板150上，第一凹槽110相对于挡墙120靠近显示面板的显示区(在图1中，显示区位于左侧)，挡墙120沿远离基板150的方向突出，包括远离所述基板150设置的第一有机层。第一无机层130设置于第一凹槽110和第一有机层上。第二有机层140相对于第一有机层设置于靠近显示区一侧的第一无机层130之上。
基于本发明的实施例，通过在基板上设置第一凹槽，使得第二有机层可以部分存储于第一凹槽中，保证第二有机层的铺展区域，避免第二有机层的溢流发生。一个挡墙的设置明显减少了挡墙的数量。第一凹槽和一个挡墙的设置缩短了边框位置在基板上沉积的第一无机层的长度，进而使得切割预留区内缩，减小了边框宽度，实现了窄边框的设计。
具体地，第一无机层130可以采用化学气相沉积法(Chemical Vapor Deposition，CVD)形成，第一无机层130的材料可以包括二氧化硅、氮化硅、氮氧化硅等无机材料，其分子排列紧密，粘附力较强，附着力好，不易剥落，能够对外界的水汽和氧气进行有效的阻隔。同时，第一无机层130具有同形覆盖的特性，可以覆盖在第一凹槽110和挡墙120上，且外形轮廓可以与第一凹槽110和挡墙120相同或近似相同。
第二有机层140通常采用喷墨打印(Ink Jet Printing，IJP)的方式形成，且第二有机层140的界面是具有弧度的。
挡墙120中的第一有机层可以与基板150上显示区的像素限定层在同一工艺中形成，例如，可以通过黄光工艺制成。第一有机层的材料可以选择光刻胶(Photoresist，PR)。优选的，挡墙120与基板150接触面的宽度可以为50μm至70μm，并向上形成“堤坝”造型，以保证第二有机层材料的铺展和封装效果。在本发明实施例中，挡墙120垂直于基板150方向的高度大于第二有机层140的厚度，优选的，第一有机层的厚度可以为4μm至6μm，用以限定第二有机层140的边界。
基板150可以为柔性显示基板，可以选用聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二酯和聚芳醚砜等高分子材料制成，本发明实施例对此不作限制。可以在基板150上刻蚀形成第一凹槽110，用以储存一定量的来自显示区的第二有机层140，使得显示区可以有足够厚度的第二有机层140并使其厚度更加均一，进而使得第二有机层140的边界更容易控制。在本发明实施例中，第一凹槽110的容积可以大于第二有机层140溢出的体积。优选的，第一凹槽110截面的形状可以是倒梯形，其底部宽度可以为5μm至10μm，这样可以更好地保证窄边框的实现，深度可以为3μm至4μm，这样可以使得第二有机层140更好地存储于第一凹槽110中。甚至，通过调整IJP的工艺可以达到无溢流的发生。另外，本发明实施例对第一凹槽110的形状不做任何限制，例如，第一凹槽110截面的形状还可以是正梯形、长方形或正方形等。在本发明实施例中，第一凹槽110的A处到挡墙120的B1处的距离可以为10μm至20μm，这样可以更好地保证显示面板的窄边框。第一凹槽110的A处到显示区靠近非显示区边缘的距离可以根据显示面板使用的产品的大小、用途等来设计，本发明实施例对此不做限制。
图2所示为本发明一实施例提供的一种显示面板200的结构示意图。第一凹槽210、第一无机层230、第二有机层240和基板250分别与图1所示实施例的第一凹槽110、第一无机层130、第二有机层140和基板150的结构类似，在此不再赘述。
根据本发明的实施例，显示面板200还包括第三无机层280，设置于第二有机层240和第一无机层230上。第三无机层280与第一无机层230的材料、结构和成型方式相似，在此不再赘述。第三无机层280可以更好地隔离水氧入侵显示面板中敏感的有机物质和电极。
如图2所示，显示面板200还包括第二凹槽260，设置于基板250上并且相对于挡墙220远离显示区的一侧。第二凹槽260的结构和成型方式与第一凹槽210相似，在此不再赘述。在本发明实施例中，挡墙220的B2处到第二凹槽260的C处的距离也可以为10μm至20μm，且第二凹槽260设置于CVD的Mask开口靠近显示面板显示区的一侧，以更好地保证显示面板的窄边框。在本发明的实施例中，第一无机层230还可以设置于第二凹槽260上。由于在没有第二凹槽260时，如果第二有机层240发生溢流，有机墨水会存储于第一无机层230上与B2处相对应的位置，使得第一无机层230和第三无机层280之间存有有机墨水。第二凹槽260的存在可以使得原本存储于第一无机层230上与B2相对应的位置处的溢流出的有机墨水流入到第二凹槽260中，这样保证了即使溢流发生，挡墙220的顶部至C处仍都是两层无机层(第一无机层230和第三无机层280)，进而实现了更好的封装效果。
由于氧气和水汽很容易通过显示面板的边缘进入显示面板内部。基于本发明的实施例，通过在基板上并且相对于挡墙远离显示区的一侧设置第二凹槽，保证了工艺异常的第二有机层溢流可以存储在第二凹槽的同时，还可以很好地避免水氧从显示面板的边缘进入导致显示面板失效。进而增加了仅设计一个挡墙的可能性，增加了显示面板窄边框设计的可能性。
根据本发明的实施例，挡墙220包括远离所述基板250设置的第一有机层221和设置于第一有机层221上的第二无机层270，第一无机层230设置于第二无机层270上。
图3所示为本发明一实施例提供的第二无机层270的Mask的结构俯视图。
具体而言，第二无机层270可以采用等离子体增强化学气相沉积法(PlasmaEnhanced Chemical Vapor Deposition，PECVD)形成。由于Mask的特性，在成膜过程中会有阴影效应，如图3所示，可以使用多个连接条310将Mask固定，例如，连接条310的数量可以是5个，本发明实施例对此不做限制。优选地，该条状连接条310的宽度可以设计为30μm以内，此设计较为合理且可满足第二无机层270在PECVD成膜过程中被连接条挡住的部分依然可以较好的成膜。另外，第二无机层270还可以覆盖在第二凹槽260的表面。
第二无机层270的材料也可以包括二氧化硅、氮化硅、氮氧化硅等无机材料，其分子排列紧密，粘附力较强，附着力好，不易剥落。由于显示面板易从挡墙220处失效，第二无机层270可以完全覆盖第一有机层221的表面。在本发明实施例中，其厚度可以为0.5μm至1μm。同时，增设第二无机层270增加了挡墙220的高度，可以在第二无机层270底部至第二无机层270顶部之间监控第二有机层240的流平边界，从而增加了第二有机层240流平的可检测区间。
基于本发明的实施例，第二无机层的加入在一定程度上使得挡墙处有三层无机层覆盖，增加了水汽和氧气入侵挡墙的路径，从而可以更好地保护挡墙不被水汽和氧气所入侵，减少挡墙的失效。同时，增加了挡墙的高度，降低了有机层溢流的风险，增加了设计一个挡墙的可能性，进而增加了显示面板窄边框设计的可能性。
图4所示为本发明另一实施例提供的显示面板400的结构示意图。第一凹槽410、挡墙420、第一无机层430、第一有机层421、第二有机层440、基板450、第二凹槽460、第二无机层470和第三无机层480分别与图2所示实施例的第一凹槽210、挡墙220、第一无机层230、第一有机层421、第二有机层240、基板250、第二凹槽260、第二无机层470和第三无机层280的结构类似，在此不再赘述。
如图4所示，第二无机层470的上表面在远离显示区的方向上向下倾斜，第二无机层470D处的高度高于E处的高度。本发明实施例对倾斜角度并不做限制，略微倾斜即可，例如，倾斜角度可以为5°到15°。
基于本发明的实施例，倾斜角度的设计使得第二无机层靠近显示区一侧略高于远离显示区一侧，这样可以更好地降低有机层溢流的风险。而且，一旦溢流，倾斜角的设计也可以使得溢流出的有机墨水方便地流入第二凹槽中，更好地避免溢流带来的风险。
本发明实施例还提供一种显示面板，包括以上的显示面板。
图5所示为本发明一实施例提供的显示面板的制备方法的流程示意图。如图4所示，该方法包括以下步骤。
510：在显示面板的基板上形成挡墙，挡墙包括远离基板设置的第一有机层；
520：在显示面板的基板上形成第一凹槽，第一凹槽相对于挡墙靠近显示面板的显示区；
530：在第一凹槽和第一有机层上形成第一无机层；
540：在相对于第一有机层靠近显示区一侧的第一无机层之上形成第二有机层。
基于本发明的实施例，通过在基板上形成第一凹槽，使得第二有机层可以部分存储于第一凹槽中，保证第二有机层的铺展区域，避免第二有机层的溢流发生。一个挡墙的形成明显减少了挡墙的数量。第一凹槽和一个挡墙的形成缩短了边框位置在基板上沉积的第一无机层的长度，进而使得切割预留区内缩，减小了边框宽度，实现了窄边框的设计。
根据本发明的实施例，以上步骤还包括：在基板上并且相对于挡墙位于远离显示区的一侧形成第二凹槽。
可理解，第一凹槽、第二凹槽、挡墙、基板、无机层和有机层等的具体结构的设置、功能和材料可以参考以上图1至图3实施例中的具体描述，为了避免重复，此处不再赘述。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：
基板；
设置于所述基板上的第一凹槽和挡墙，所述第一凹槽相对于所述挡墙靠近所述显示面板的显示区，所述挡墙包括远离所述基板设置的第一有机层；
第一无机层，设置于所述第一凹槽和所述第一有机层上；
第二有机层，相对于所述第一有机层设置于靠近所述显示区一侧的所述第一无机层之上。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，还包括：
第二凹槽，设置于所述基板上并且相对于所述挡墙位于远离所述显示区的一侧。
3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述挡墙还包括设置于所述第一有机层上的第二无机层，所述第一无机层设置于所述第二无机层上。
4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，还包括：
第三无机层，设置于所述第二有机层和所述第一无机层上。
5.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述第二无机层的上表面在远离所述显示区的方向上向下倾斜。
6.根据权利要求2至5中任一项所述的显示面板，其特征在于，
所述第一凹槽和/或所述第二凹槽的容积大于所述第二有机层溢出的体积；
优选的，所述第一凹槽和/或所述第二凹槽的底部宽度为5μm至10μm；
优选的，所述第一凹槽和/或所述第二凹槽的深度为3μm至4μm。
7.根据权利要求3至5中任一项所述的显示面板，其特征在于，
所述挡墙垂直于所述基板方向的高度大于所述第二有机层的厚度，
优选的，所述第一有机层的厚度为4μm至6μm，所述第二无机层的厚度为0.5μm至1μm。
8.一种显示装置其特征在于，包括：如权利要求1至7中任一项所述的显示面板。
9.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括：
在所述显示面板的基板上形成挡墙，所述挡墙包括远离所述基板设置的第一有机层；
在所述显示面板的基板上形成第一凹槽，所述第一凹槽相对于所述挡墙靠近所述显示面板的显示区；
在所述第一凹槽和所述第一有机层上形成第一无机层；
在相对于所述第一有机层靠近所述显示区一侧的所述第一无机层之上形成第二有机层。
10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，还包括：
在所述基板上并且相对于所述挡墙位于远离所述显示区的一侧形成第二凹槽。
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