CN110854159B

CN110854159B - 显示装置

Info

Publication number: CN110854159B
Application number: CN201910768439.1A
Authority: CN
Inventors: 郑京准; 朴振佑; 吴忠玩; 金嘉映
Original assignee: LG Display Co Ltd
Current assignee: LG Display Co Ltd
Priority date: 2018-08-20
Filing date: 2019-08-20
Publication date: 2023-11-03
Anticipated expiration: 2039-08-20
Also published as: CN110854159A; US11706962B2; US20200058729A1; US20230329058A1; KR102664769B1; KR20200021188A

Abstract

本发明提供了一种显示装置。该显示装置包括：布置在有源区域中的一个或更多个像素和与像素相关联的像素电路；以及电源线，其被布置在有源区域外的非有源区域中并且连接至像素电路。电源线的至少一侧可以覆盖有外涂层。外涂层包括与电源线的该侧相邻的第一部分和比第一部分更远离电源线的第二部分。第一部分具有比第二部分小的厚度。第一部分可以是第二部分的厚度的大约一半。

Description

显示装置

相关申请的交叉引用

本申请要求于2018年8月20日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2018-0096619号的优先权，其公开内容通过引用并入本文。

技术领域

本公开涉及一种显示装置。

背景技术

作为信息通信时代的核心技术，已经在高性能的方向上开发了用于在其屏幕上实现各种信息的图像显示装置，同时允许更薄、更轻和便携的装置。因此，已经广泛使用用于控制有机发光二极管(OLED)的发光量以显示图像的有机发光显示装置等。

OLED是在电极之间使用薄发光层的自发射元件，并且可以变薄。典型的有机发光显示装置具有如下结构，在该结构中，像素驱动电路和OLED形成在基板上，并且在从OLED发射的光穿过基板或阻挡层时显示图像。

近年来，出于美学原因并且响应于各种各样的消费者需求，包括有机发光显示装置的各种各样的显示装置已经变得更小和/或更薄。此外，有源区域外的边框宽度减小。因此，有源区域的外周边的设计已经改变成使得可以将大量部件容纳在窄区域中。每当发现由集成设计引起的副作用时，就已经研究了其对策。

发明内容

本公开要实现的一个目的是提供一种能够抑制可能发生在显示装置的外周边中的金属层之间的短路的结构。

本公开的目的不限于上面提到的目的，并且本领域技术人员从以下描述中可以清楚地理解上面未提及的其他目的。

根据本公开的一方面，提供了一种显示装置。该显示装置包括：布置在有源区域中的一个或更多个像素和与该一个或更多个像素相关联的像素电路；以及电源线，其被布置在有源区域外的非有源区域中并且连接至像素电路。电源线的至少一侧可以覆盖有外涂层。外涂层包括与电源线的侧相邻的第一部分和比第一部分更远离电源线的第二部分。第一部分具有比第二部分小的厚度。第一部分可以是第二部分的厚度的一半。

外涂层可以布置在有源区域和非有源区域两者中。外涂层可以暴露电源线的至少一部分。第一部分可以使用半色调掩模或狭缝掩模来制备。

显示装置还可以包括布置在电源线上的第一金属层，并且电源线和第一金属层可以彼此接触。第一金属层可以位于第一部分上而不位于第二部分上。第一金属层可以使用与包括在像素电路中的阳极电极相同的材料来制备。

显示装置还可以包括在外涂层和第一金属层上的堤部和在堤部上的第二金属层。第二金属层可以使用与包括在像素电路中的阴极电极相同的材料来制备。堤部可以在第一金属层上具有得以抑制第一金属层与第二金属层之间的接触的厚度。

电源线可以使用与包括在像素电路中的薄膜晶体管(TFT)的源电极或漏电极相同的材料来制备。电源线可以具有其中依次层叠钛(Ti)、铝(Al)和钛(Ti)的多层结构。电源线可以是高电位电源(V_DD)线、初始化电源线或低电位电源(V_SS)线。

示例性实施例的其他详细内容包括在详细描述和附图中。

根据本公开，可以提供一种由线之间的短路引起的图像品质或可靠性的劣化得到改善的显示装置。此外，根据本公开的示例性实施例，可以提供一种能够抑制来自显示装置的外周边的堤部的损失的结构。

根据本公开的效果不限于上面例举的内容，并且在本说明书中包括更多的各种各样的效果。

附图说明

从以下结合附图进行的详细描述，将更清楚地理解本公开的以上和其他方面、特征和其他优点。

图1示出了可以包括在电子装置中的示例性显示装置。

图2A和图2B是根据本公开的一个实施例的显示装置的有源区域和非有源区域的示意性截面图。

图3示出了显示装置中的线的示例布局。

图4示出了根据本公开的一个实施例的显示装置。

具体实施方式

通过参考下面结合附图详细描述的示例性实施例，本公开的优点和特性以及实现优点和特性的方法将变得清楚。然而，本公开不限于本文中公开的示例性实施例，而是将以各种各样的形式实现。示例性实施例仅通过示例的方式提供，使得本领域技术人员可以完全理解本公开的公开内容和本公开的范围。因此，本发明将仅由所附权利要求的范围限定。

在用于描述本公开的示例性实施例的附图中示出的形状、尺寸、比率、角度、数目等仅仅是示例，并且本公开不限于此。遍及说明书，相同附图标记通常表示相同的元件。此外，在本公开的以下描述中，可以省略对已知相关技术的详细说明，以避免不必要地模糊本公开的主题。本文中使用的诸如“包括”、“具有”和“包含”的术语通常旨在允许添加其他部件，除非这些术语与术语“仅”一起使用。对单数的任何引用可以包括复数，除非另外明确说明。

即使没有明确说明，部件也被解释为包括普通误差范围。

当使用诸如“在…上”、“在…上方”、“在…下方”和“紧靠”的术语描述两个部分之间的位置关系时，一个或更多个部分可以定位在这两个部分之间，除非这些术语与术语“紧接”或“直接”一起使用。

当元件或层设置在另一元件或层“上”时，另一层或另一元件可以直接置于另一元件上或置于其间。

尽管术语“第一”、“第二”等用于描述各种各样的部件，但是这些部件不受这些术语的限制。这些术语仅用于区分一个部件与另外的部件。因此，下面将提到的第一部件可以是本公开的技术概念中的第二部件。

遍及说明书，相同的附图标记通常表示相同的元件。

为了便于描述，示出了附图中示出的每个部件的尺寸和厚度，并且本公开不限于示出的部件的尺寸和厚度。

本公开的各种各样的实施例的特征可以部分地或完全地彼此附着或组合，并且可以以技术上的各种各样的方式互锁和操作，并且这些实施例可以彼此独立地执行或相关联地执行。

在下文中，将参照附图详细描述根据本公开的示例性实施例的显示装置。

图1示出了可以包括在电子装置中的示例性显示装置。

参照图1，显示装置100包括至少一个有源区域。在有源区域中，形成像素的阵列。可以在有源区域周围布置至少一个非有源区域。也就是说，非有源区域可以与有源区域的至少一侧相邻。图1示出了非有源区域围绕具有矩形形状的有源区域。然而，有源区域的形状、与有源区域相邻的非有源区域的形状/布局不限于图1中示出的示例。有源区域和非有源区域可以设计成适合于配备有显示装置100的电子装置。有源区域可以是例如五边形、六边形、圆形、椭圆形等。

有源区域中的每个像素可以与像素电路相关联。像素电路可以包括在背板上的至少一个开关晶体管和至少一个驱动晶体管。每个像素电路可以电连接至栅极线和数据线，用于与位于非有源区域中的至少一个驱动电路(诸如栅极驱动器和数据驱动器)进行通信。

驱动电路可以在非有源区域中实现为薄膜晶体管(TFT)，如图1中所示。驱动电路可以被称为面板内栅极(GIP)。此外，一些部件诸如数据驱动器IC可以安装在单独的印刷电路板上。该部件可以通过诸如柔性印刷电路板(FPCB)、膜上芯片(COF)和载带封装(TCP)的电路膜耦合至设置在非有源区域中的连接接口(例如，焊盘、凸块、引脚等)。非有源区域可以与连接接口一起弯曲，使得印刷电路(例如，COF、PCB等)可以定位在显示装置100的后侧上。

显示装置100可以包括用于在有源区域中生成各种各样的信号或驱动像素的各种各样的附加部件。用于驱动像素的附加部件可以包括反相器电路、多路复用器(MUX)、静电放电电路(ESD)等。显示装置100还可以包括与除了像素驱动功能之外的功能相关联的附加部件。例如，显示装置100可以包括用于提供触摸感测功能、用户认证功能(例如，指纹识别)、多级压力感测功能、触觉反馈功能等的附加部件。上面提到的附加部件可以位于非有源区域和/或连接至连接接口的外部电路中。

显示装置100的至少一个边缘可以弯曲远离显示装置100的中央部。由于显示装置100的至少一部分是可弯曲的，因此显示装置100可以基本上被限定为平坦部和弯曲部。也就是说，显示装置100的一部分(例如，焊盘与有源区域之间的线部分)可以以预定角度弯曲，并且可以被称为弯曲部。弯曲部包括实际上以预定的弯曲半径弯曲的弯曲区段。显示装置100通常但不总是包括基本上平坦的中央部和可弯曲的边缘部分。

当非有源区域弯曲时，非有源区域不可见或者从显示装置的前面最低可见。非有源区域的从显示装置的前面可见的部分可能被边框阻挡。边框可以形成为独立的结构或外壳或其他适当的部件。非有源区域的从显示装置的前面可见的部分可以隐藏在由黑色墨水(例如，填充有炭黑的聚合物)制成的不透明掩模层下方。不透明掩模层可以设置在显示装置100中包括的各种各样的层(例如，触摸感测层、偏振层，覆盖层等)上。

弯曲部可以以弯曲角度θ以相对于弯曲轴的弯曲半径R从中央部向外弯曲。各个弯曲部的尺寸可以不相同。此外，弯曲轴的圆周的弯曲角度θ和距弯曲轴的曲率半径R可以在每个弯曲部中不同。

图2A和图2B中示出的有源区域A/A和非有源区域I/A可以应用于图1中示出的有源区域和非有源区域的至少一部分。在下文中，将描述有机发光显示装置作为显示装置的示例。

对于有机发光显示装置，TFT 112、114、116和118、OLED 122、124和126以及各种各样的功能层位于有源区域中的基础层111上。同时，各种各样的驱动电路、电极、线和功能结构可以位于非有源区域中的基础层111上。

基础层111支承有机发光显示装置100的各种各样的部件。基础层111可以由透明绝缘材料诸如玻璃、塑料等形成。基板(即，阵列基板)也可以被认为包括在其上形成的部件和功能层，例如开关TFT、驱动TFT、OLED和钝化层。

缓冲层可以位于基础层111上。缓冲层是用于保护TFT免受从基础层111或其他下层流出的诸如碱离子等的杂质的功能层。缓冲层可以由硅氧化物(SiOx)、硅氮化物(SiNx)或其多层形成。

TFT布置在基础层111或缓冲层上。TFT可以具有其中依次层叠半导体层112、栅极绝缘膜113、栅电极114、层间绝缘膜115以及源电极116和漏电极118的结构。半导体层112位于基础层111或缓冲层上。半导体层112可以由多晶硅(p-Si)制成，并且在这种情况下，预定区域可以掺杂有杂质。此外，半导体层112可以由非晶硅(a-Si)制成或者可以由诸如并五苯的各种各样的有机半导体材料制成。此外，半导体层112可以由氧化物材料制成。栅极绝缘膜113可以由诸如硅氧化物(SiOx)或硅氮化物(SiNx)的绝缘无机材料形成或者可以由绝缘有机材料形成。栅电极114可以由诸如镁(Mg)、铝(Al)、镍(Ni)、铬(Cr)、钼(Mo)、钨(W)、金(Au)或其合金的各种各样的导电材料形成。

层间绝缘膜115可以由诸如硅氧化物(SiOx)或硅氮化物(SiNx)的绝缘材料形成或者可以由绝缘有机材料等形成。可以通过选择性地去除层间绝缘膜115和栅极绝缘膜113来形成露出源区和漏区的接触孔。

源电极116和漏电极118在层间绝缘膜115上由电极材料形成为单层结构或多层结构。

外涂层117可以位于TFT上。外涂层117保护TFT并且使其上部变平。外涂层117可以以各种各样的形状形成，并且可以形成为诸如苯并环丁烯(BCB)或压克力(acryl)的有机绝缘层或诸如硅氮化物膜(SiNx)或硅氧化物膜(SiOx)的无机绝缘层。此外，外涂层117可以是单层、或双层或多层，并且可以具有各种各样的修改。

OLED可以具有其中依次层叠第一电极122、有机发光层124和第二电极126的结构。也就是说，OLED可以包括在外涂层117上的第一电极122、在第一电极122上的有机发光层124和在有机发光层124上的第二电极126。

第一电极122可以通过接触孔电连接至驱动TFT的漏电极118。如果有机发光显示装置100是顶部发射型，则第一电极122可以由具有高反射率的不透明导电材料制成。例如，第一电极122可以由银(Ag)、铝(Al)、金(Au)、钼(Mo)、钨(W)、铬(Cr)或其合金形成。

堤部120可以形成在除发光区域之外的其余区域中。因此，堤部120具有露出对应于发光区域的第一电极122的堤部孔。堤部120可以由诸如硅氮化物膜(SiNx)、硅氧化物膜(SiOx)的无机绝缘材料或诸如BCB、丙烯酸系树脂或酰亚胺系树脂的有机绝缘材料制成。

有机发光层124位于第一电极122的被堤部120暴露的部分上。有机发光层124可以包括发光层、电子注入层、电子传输层、空穴传输层、空穴注入层等。有机发光层124可以具有发射单一光的单发光层的结构或发射白光的多个发光层的结构。

第二电极126位于有机发光层124上。如果有机发光显示装置100是顶部发射型，则第二电极126可以由诸如铟锡氧化物(ITO)或铟锌氧化物(IZO)的透明导电层形成。因此，从有机发光层124产生的光朝向第二电极126的上侧发射。

钝化层128和封装层130位于第二电极126上。钝化层128和封装层130配置成抑制来自外部的氧气和水分的渗透，以抑制发光材料和电极材料的氧化。当OLED暴露于水分或氧气时，可能发生作为发光区域减小的像素收缩，或者可能在发光区域中产生暗点。钝化层和/或封装层可以形成为玻璃、金属、铝氧化物(AlOx)或硅(Si)基材料的无机层。另外，钝化层和/或封装层可以具有其中可以交替层叠有机层和无机层的结构。无机层用于阻挡水分或氧气的渗透，而有机层用于使无机层的表面变平。封装层可以形成为多个薄膜。这是因为与单层相比，多个薄膜使水分或氧气的渗透路径增加并变得复杂，这使得水分/氧气难以渗透到OLED中。

有机发光显示装置100还可以包括在封装层130上的触摸层、偏振层和覆盖层。用于感测用户的触摸输入的触摸面板/触摸感测电极可以设置在OLED的上表面(例如，封装层的上表面)上。可以在显示装置100内设置包括触摸感测电极和/或与触摸输入感测功能相关联的其他部件的单独层。触摸感测电极(例如，触摸驱动/感测电极)可以由诸如铟锡氧化物材料的透明导电材料、诸如石墨烯、碳纳米管的碳基材料、导电聚合物、由各种各样的导电和非导电材料的混合物制成的混合材料形成。此外，诸如铝网或银网的金属网也可以用作触摸感测电极。

显示装置100可以包括用以控制显示特性(例如，外部光反射、颜色准确度和亮度)的偏振层。覆盖层可以用于保护显示装置100，并且可以是例如覆盖玻璃。

为了增加显示装置100中的特定部分的强度和/或刚度，可以在基础层111下方设置至少一个支承层180。支承层180接合到基础层111的与其上设置有OLED的表面(第一表面)相对的表面(第二表面)。支承层180可以形成为聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚乙烯醚邻苯二甲酸酯、聚碳酸酯、聚芳酯、聚醚酰亚胺、聚醚磺酸酯/盐、聚酰亚胺、聚丙烯酸酯或聚合物的其他合适的组合的薄塑料膜。可以用于形成支承层180的其他合适材料可以包括薄玻璃，覆盖有介电材料的金属箔、多层聚合物以及包含与纳米颗粒或微颗粒结合的聚合物材料的聚合物膜。

为了便于更易弯曲和为了增强显示装置100的可靠性，弯曲部中的部件的配置可以不同于平坦的中央部。中央部中的部件中的一些部件可以不设置在弯曲部中，或者可以以不同的厚度设置。例如，弯曲部可以没有支承层180、偏振层、触摸感测层、滤色器层和/或可能阻碍显示装置100的弯曲的其他部件。此外，考虑到弯曲部的视角，可以以不同的形式设置OLED。

在非有源区域I/A中，没有设置像素电路，但是可以存在基础层111和有机和无机功能层113、115、117、128、130等。此外，在非有源区域I/A中，用于形成有源区域A/A的材料可以被设置成用于其他用途。例如，如图2B中所示，用作有源区域中的TFT的栅电极的金属114'或用作源电极/漏电极的金属118'可以设置为非有源区域I/A中的线或电极。此外，用作OLED的电极(例如，阳极)的金属也可以设置为非有源区域I/A中的线或电极。

图3示出了显示装置的电源线的示例。

图3是图1中示出的显示装置的部分A-A'的截面图。为了便于描述，图3仅简单地示出了显示装置包括基础层311、栅极绝缘膜313、电源线318'、外涂层317和金属层322'和326。

参照图1，电源线318'是初始化电源(V_REF)线。然而，即使对于电源线318'是V_DD线或V_SS线的情况，也可以应用以下描述。电源线318'可以在相同层上由与有源区域(例如，像素电路)中的TFT的源电极或漏电极相同的金属形成。电源线318'可以使用与包括在像素电路中的TFT的源电极或漏电极相同的材料制备。图3示出了电源线318'上的外涂层317，这仅是示例。可以在电源线318'上布置另一绝缘层。

在图3中示出的线单元的布局中，外涂层317不存在于特定区域，例如电源线318'上的部分区域中。这意味着外涂层的一部分被切断以抑制可能沿形成外涂层317的有机层发生的水分的扩散。

第一金属层322'可以位于电源线318'上。第一金属层322'可以由与图2A中示出的OLED的第一电极(例如，阳极电极)相同的金属形成。

外涂层317形成在全部有源区域和非有源区域上，并且可以根据设计去除其特定部分。此外，在外涂层317上布置第一金属层322'。

在有源区域中，对于每个像素，可以分离第一电极。然而，在非有源区域中，可以不需要第一电极(即第一金属层)。因此，常规上，非有源区域中的第一金属层322'已经被去除。然而，在去除第一金属层322'的同时，保留了第一金属层322'的残留物。此外，已经发现这样的残留物会引起各种问题(例如，裂纹等)。已经引入了如图3中所示的将第一金属层322'留在非有源区域中的设计。如图3中所示的留在非有源区域中的第一金属层322'可以积极地用于将电源线318'的电阻减小一定量。

堤部320覆盖外涂层317的上部。堤部320露出如图2A中示出的有源区域中的第一电极的一部分并且完全覆盖非有源区域中的第一金属层322'。

第二金属层326可以位于堤部320上。第二金属层326可以由与图2A中示出的OLED的第二电极(例如，阴极电极)相同的金属形成。与第一金属层322'不同，第二金属层326可以形成在整个有源区域和非有源区域上。

然而，线单元的上述结构具有一些缺点。这些缺点之一是第一金属层322'与第二金属层326之间的短路。根据研究，短路通常发生在外涂层317上的第一金属层322'与第二金属层326接触时，这是由相应部分R中堤部320的厚度减小引起的。

通常，堤部320包括其上特定位置处的间隔物。间隔物是指在处理期间抑制掩模与显示装置的接触的结构。通过对堤部进行图案化而突出的部分通常用作间隔物。也就是说，堤部的上部被稀疏地去除，并且未被去除的部分可以用作间隔物。

当形成间隔物时，执行光学处理。相应部分R中的堤部320可能由于来自外涂层317上的第一金属层322'的反射光而露出。因此，相应部分R中的堤部在用于形成间隔物的蚀刻工艺期间进一步被蚀刻，并且因此在厚度上减小。此外，厚度小于其他部分的堤部最终可能导致第一金属层322'与第二金属层326之间的接触。

本公开提供了一种能够抑制第一金属层322'与第二金属层326之间的接触的结构。

图4示出了根据本公开的一个实施例的显示装置。

图4是图1的部分A-A'的放大图并且示出了线单元具有修改结构的示例。为了便于描述，图4仅简单地示出了显示装置包括基础层411、电源线418'、外涂层417和金属层422'和426，但未示出上功能层(例如，封装层)。图4中示出的显示装置包括与图1和图2中示出的部件基本上相同的部件，除了下面将描述的特定结构之外。

电源线418'可以是V_REF线、V_DD线或V_SS线。电源线418'从焊盘区域P中的连接接口(例如，焊盘、引脚等)朝向有源区域延伸。电源线418'可以在相同层上由与有源区域(例如，像素电路)中的TFT的源电极或漏电极相同的金属形成。电源线418'可以具有其中依次层叠钛(Ti)、铝(Al)和钛(Ti)的多层结构。图4示出了电源线418'上的外涂层417，这仅是示例。可以在电源线418'上布置另一绝缘层。

在图4中示出的线单元的布局中，外涂层417不存在于特定区域，例如电源线418'上的部分区域中。这意味着外涂层的一部分被切断以抑制可能沿形成外涂层417的有机层发生的水分的扩散。

图4中示出的显示装置具有如下的结构：其中堤部被控制成不会过分地薄以解决参照图3的上述问题。因此，根据本公开的一个实施例的显示装置400包括其在与第一金属层422'的接触部处的高度被调整的外涂层417。

显示装置400可以包括：布置在有源区域中的一个或更多个像素以及与像素相关联的像素电路；以及电源线418'，其布置在有源区域外的非有源区域中并且连接至像素电路。电源线418'的至少一侧可以覆盖有外涂层417。在一个实施例中，外涂层417可以包括与电源线418'的该侧相邻的第一部分417a和比第一部分417a更远离电源线418'的第二部分417b。第一部分417a可以具有比第二部分417b更小的厚度。在本文中，外涂层的厚度可以是从下层413测量的外涂层417的高度。例如，第一部分417a可以是第二部分417b的厚度的约一半。

外涂层417设置在有源区域和非有源区域两者中。在本文中，可以通过相同的涂覆工艺在有源区域和非有源区域两者中设置外涂层417。同时，外涂层417露出电源线418'的至少一部分。例如，如图4中所示，外涂层417可以露出电源线418'的中央部。通过上述图案化工艺(例如，光学工艺、蚀刻工艺等)外涂层可以使下层露出。特别地，如在图4中示出的一个实施例中那样，可以使用半色调掩模、狭缝掩模等形成具有两种或更多种不同厚度(高度)的外涂层417。例如，具有相对较小厚度(高度)的第一部分417a可以形成为对应于掩模的半色调或狭缝区域。此外，具有相对较大厚度(高度)的第二部分417b可以形成为对应于掩模的全色调或无狭缝区域。

堤部420布置在外涂层417和第一金属层422'上，并且第二金属层426位于堤部420上。第二金属层426可以由与包括在像素电路中的阴极电极相同的材料形成。

在一个实施例中，第一金属层422'布置在电源线418'上，并且电源线418'和第一金属层422'彼此接触。第一金属层422'可以由与包括在像素电路中的阳极电极相同的材料形成。第一金属层422'仅位于第一部分417a上，而不位于第二部分417b上。这样的布局与考虑在用于形成间隔物的工艺(特别是光学工艺)期间由来自第一金属层422'的光反射引起的第一金属层422'上的堤部的损失是一致的。也就是说，如果其上布置有第一金属层422'的外涂层具有小的厚度，则第一金属层422'上的堤部在厚度上相对增加。因此，即使由于反射而发生堤部的损失，如图3中示出的第一金属层422'与第二金属层426之间的接触也能够被抑制。因此，堤部420在第一金属层422'上具有足以抑制第一金属层422'与第二金属层426之间的接触的厚度。在一个实施例中，可以在第一部分417a具有约1μm的厚度而第二部分417b具有约2μm的厚度时改善上述缺陷。

根据上述实施例，可以提供一种显示装置，在该显示装置中在外周边中第一金属层422'与第二金属层426之间的接触和由第一金属层422'与第二金属层426之间的连接引起的低图像品质问题能够得到解决。

尽管已经参照附图详细描述了本公开的示例性实施例，但是本公开不限于此并且可以在不脱离本公开的技术概念的情况下以许多不同的形式实施。因此，提供本公开的示例性实施例仅用于说明性目的，而不是旨在限制本公开的技术概念。本公开的技术概念的范围不限于此。因此，应当理解，上述示例性实施例在所有方面都是说明性的，并不限制本公开。本公开的保护范围应当基于以下权利要求来解释，并且在其等同范围内的所有技术概念应当被解释为落入本公开的范围内。

Claims

1.一种显示装置，包括：

布置在有源区域中的一个或更多个像素和与所述一个或更多个像素相关联的像素电路；以及

电源线，其被布置在所述有源区域外的非有源区域中并且连接至所述像素电路，

其中所述电源线的至少一侧覆盖有外涂层，

所述外涂层包括与所述电源线的所述至少一侧相邻的第一部分和比所述第一部分更远离所述电源线的第二部分，并且

所述外涂层的第一部分具有比所述外涂层的所述第二部分小的厚度，使得所述外涂层的所述第一部分的上表面和所述外涂层的所述第二部分的上表面形成台阶，所述外涂层的所述第一部分和所述第二部分为具有相同材料的整体。

2.根据权利要求1所述的显示装置，其中所述外涂层布置在所述有源区域和所述非有源区域两者中。

3.根据权利要求2所述的显示装置，其中所述外涂层暴露所述电源线的至少一部分。

4.根据权利要求1所述的显示装置，还包括：

布置在所述电源线上的第一金属层，

其中所述电源线和所述第一金属层彼此接触。

5.根据权利要求4所述的显示装置，其中所述第一金属层位于所述第一部分上而不位于所述第二部分上。

6.根据权利要求4所述的显示装置，其中所述第一金属层是使用与包括在所述像素电路中的阳极电极相同的材料制备的。

7.根据权利要求4所述的显示装置，还包括：

在所述外涂层和所述第一金属层上的堤部。

8.根据权利要求7所述的显示装置，还包括：

在所述堤部上的第二金属层。

9.根据权利要求8所述的显示装置，其中所述第二金属层是使用与包括在所述像素电路中的阴极电极相同的材料制备的。

10.根据权利要求8所述的显示装置，其中所述堤部在所述第一金属层上具有得以抑制所述第一金属层与所述第二金属层之间的接触的厚度。

11.根据权利要求1所述的显示装置，其中所述电源线是使用与包括在所述像素电路中的薄膜晶体管的源电极和/或漏电极相同的材料制备的。

12.根据权利要求1所述的显示装置，其中所述电源线具有其中依次层叠钛、铝和钛的多层结构。

13.根据权利要求1所述的显示装置，其中所述第一部分是使用半色调掩模或狭缝掩模制备的。

14.根据权利要求1所述的显示装置，其中所述电源线是高电位电源线、初始化电源线或低电位电源线。

15.根据权利要求1所述的显示装置，其中所述第一部分是所述第二部分的厚度的一半。