JP2015069844A - 表示装置および電子機器 - Google Patents
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Abstract
【課題】表示領域全面で表示不良の発生を抑えることが可能な表示装置および電子機器を提供する。【解決手段】第1基板の表示領域に設けられ、前記第1基板上に第1電極、発光層および第2電極をこの順に有する複数の発光素子と、前記発光素子を間にして前記第1基板に対向する第2基板に設けられ、前記表示領域から前記表示領域を囲む周辺領域に至るまで延在する補助配線と、前記補助配線と前記発光素子の第2電極とを電気的に接続する第1ピラーと、前記補助配線と前記第1基板の周辺領域に設けられた周辺電極とを電気的に接続する第2ピラーとを備えた表示装置。【選択図】図1
Description
本技術は、有機発光素子等の発光素子を有する表示装置および電子機器に関する。
近年、有機層を含む自発光型の有機発光素子を用いた有機ELディスプレイが実用化されている。有機ELディスプレイは、自発光型であるので、例えば液晶ディスプレイなどに比較して視野角が広く、また、高精細度の高速ビデオ信号に対しても十分な応答性を有するものである。
これまで有機発光素子については、共振器構造を導入し、発光色の色純度を向上させたり発光効率を高めたりするなど発光層で発生する光を制御することにより、表示性能を向上させる試みがなされている。有機発光素子は、例えば第1基板の上に、駆動トランジスタなどを含む駆動回路を介して第1電極と有機層と第2電極とが順に積層された構造を採用している。上面発光型(トップエミッション方式)の有機発光素子では、第2電極を透明導電材料により構成し、第1電極と第2電極との間で有機層からの光を多重反射させ、第1基板と反対側の第2基板(上面)から光を取り出すようになっている。第2電極として用いる透明導電材料は、一般に、金属材料よりも高い抵抗値を有するものである。したがって、より大型の有機発光表示装置では、表示部において端部領域から中央領域に向かうほど電圧降下の影響により表示性能が低下してしまう場合がある。第2電極の膜厚を厚くすると、抵抗値が下がり、表示面内での電圧降下が緩和されるものの、第2電極の可視光透過率が低下し、発光素子の光取出し効率を低下させてしまうことになる。
このような問題を解決するため、第2基板に補助配線を形成し、補助配線と有機発光素子の第2電極とを電気的に接続することにより、第2電極の電圧降下を緩和する手法が提案されている(例えば特許文献1参照)。補助配線は、例えば第1基板に設けられた配線を介して共通電源供給線に電気的に接続される。
しかしながら、補助配線を設けても表示領域内の第2電極に均等に電圧を印加することができず、表示不良が生じる虞がある。
本技術はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、表示領域全面で表示不良の発生を抑えることが可能な表示装置および電子機器を提供することにある。
本技術の表示装置は、第1基板の表示領域に設けられ、第1基板上に第1電極、発光層および第2電極をこの順に有する複数の発光素子と、発光素子を間にして第1基板に対向する第2基板に設けられ、表示領域から表示領域を囲む周辺領域に至るまで延在する補助配線と、補助配線と発光素子の第2電極とを電気的に接続する第1ピラーと、補助配線と第1基板の周辺領域に設けられた周辺電極とを電気的に接続する第2ピラーとを備えたものである。
本技術の電子機器は、上記表示装置を備えたものである。
本技術の表示装置または電子機器では、発光素子の第2電極に電気的に接続された第1ピラーとは別に、補助配線と周辺電極とを電気的に接続する第2ピラーが設けられているので、表示領域内の全ての発光素子の第2電極に均等に電圧が印加され易くなる。
本技術の表示装置および電子機器によれば、第1ピラーに加えて、補助配線と周辺電極とを電気的に接続する第2ピラーを設けるようにしたので、表示領域全面で表示不良の発生を抑えることが可能となる。なお、ここに記載された効果は必ずしも限定されるものではなく、本開示中に記載されたいずれの効果であってもよい。
以下、本技術の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
1.実施の形態(表示装置)
2.変形例(周辺領域のピラーの太さが表示領域のピラーの太さよりも大きい例)
3.適用例
1.実施の形態(表示装置)
2.変形例(周辺領域のピラーの太さが表示領域のピラーの太さよりも大きい例)
3.適用例
<実施の形態>
[表示装置1の全体構成]
図1は、本技術の一実施の形態としての有機EL表示装置(表示装置1)の要部断面構成、図2は表示装置1の平面構成をそれぞれ表したものである。表示装置1は、素子パネル10と封止パネル20とを有し、封止パネル20を透過した光を取り出す、いわゆるトップエミッション型の表示装置である。表示装置1は大型の表示装置であり、例えば32インチ以上のサイズを有している。
[表示装置1の全体構成]
図1は、本技術の一実施の形態としての有機EL表示装置(表示装置1)の要部断面構成、図2は表示装置1の平面構成をそれぞれ表したものである。表示装置1は、素子パネル10と封止パネル20とを有し、封止パネル20を透過した光を取り出す、いわゆるトップエミッション型の表示装置である。表示装置1は大型の表示装置であり、例えば32インチ以上のサイズを有している。
素子パネル10は、素子基板11(第1基板)の表示領域110A上に、赤色の光を発生する有機発光素子10R、緑色の光を発生する有機発光素子10G、青色の光を発生する有機発光素子10Bおよび白色の光を発生する有機発光素子10Wが設けられたものである(図2)。この有機発光素子10R,10G,10B,10Wは、例えば素子基板11上に第1電極14、有機層16、高抵抗層17および第2電極18をこの順に有している(図1)。図1には、有機発光素子10R,10Gの構成を示したが、有機発光素子10B,10Wもこれと略同じ構成を有している。有機発光素子10R,10G,10B,10Wと素子基板11との間にはTFT12および平坦化層13が設けられている。有機発光素子10R,10G,10B,10Wは、封止パネル20との間に設けられた充填樹脂層19に覆われている。封止パネル20は、素子基板11と対向する封止基板21(第2基板)を有しており、その封止基板21の素子基板11との対向面に、遮光層22、カラーフィルタ23、オーバーコート層24、および補助配線25がこの順に設けられたものである。
表示装置1の表示領域110Aでは、素子パネル10と封止パネル20との間にピラー26(第1ピラー)が設けられており、このピラー26を介して封止パネル20における補助配線25と、素子パネル10における第2電極18とが電気的に接続されている。
図3は、表示装置1の全体構成を表すものである。表示装置1の中央部に設けられた表示領域110Aには、有機発光素子10R,10G,10B,10Wがマトリクス状に二次元配置されている。例えばこの有機発光素子10R,10G,10B,10W各々がサブピクセルに相当し、この4色のサブピクセルにより1のピクセルが構成される。表示領域110Aを囲む周辺領域110Bには、例えば映像表示用のドライバである信号線駆動回路120、走査線駆動回路130および電源供給線駆動回路140が設けられている。
表示領域110Aには、複数の有機発光素子10R,10G,10B,10Wと共に、それらを駆動するための画素駆動回路150が形成されている。画素駆動回路150において、列方向(Y方向)には複数の信号線120A(120A1,120A2,・・・,120Am,・・・)が配置され、行方向(X方向)には複数の走査線130A(130A1,・・・,130An,・・・)および複数の電源供給線140A(140A1,・・・,140An,・・・)が配置されている。有機発光素子10R,10G,10B,10Wは、信号線120Aと走査線130Aとの交差点にそれぞれ設けられている。信号線120Aはその両端が信号線駆動回路120に接続され、走査線130Aはその両端が走査線駆動回路130に接続され、電源供給線140Aはその両端が電源供給線駆動回路140に接続されている。
信号線駆動回路120は、信号供給源(図示せず)から供給される輝度情報に応じた映像信号の信号電圧を、信号線120Aを介して選択された有機発光素子10R,10G,10B,10Wに供給する。走査線駆動回路130は、入力されるクロックパルスに同期してスタートパルスを順にシフト(転送)するシフトレジスタなどを含む。走査線駆動回路130は、各有機発光素子10R,10G,10B,10Wへの映像信号の書き込みに際し、行単位でそれらを走査し各走査線130Aに走査信号を順次供給する。信号線120Aには信号線駆動回路120からの信号電圧が、走査線130Aには走査線駆動回路130からの走査信号がそれぞれ供給される。
電源供給線駆動回路140は、入力されるクロックパルスに同期してスタートパルスを順にシフト(転送)するシフトレジスタなどを含む。電源供給線駆動回路140は、走査線駆動回路130による行単位の走査と同期して、各電源供給線140Aに対し、各々の両端から、互いに異なる第1電位および第2電位のいずれかを適宜供給する。これにより、後述するトランジスタTr1の導通状態または非導通状態の選択が行われる。
図4に、画素駆動回路150の一構成例を表す。画素駆動回路150は、トランジスタTr1およびトランジスタTr2と、キャパシタ(保持容量)Csと、有機発光素子10R,10G,10B,10Wとを有するアクティブ型の駆動回路である。有機発光素子10R,10G,10B,10Wは、電源供給線140Aおよび共通電源供給線(GND)の間においてトランジスタTr1と直列に接続されている。トランジスタTr1およびトランジスタTr2は、逆スタガ構造(いわゆるボトムゲート型)であってもスタガ構造(トップゲート型)であってもよい。
トランジスタTr2は、例えばドレイン電極が信号線120Aと接続されており、信号線駆動回路120からの映像信号が供給されるようになっている。また、トランジスタTr2のゲート電極は走査線130Aと接続されており、走査線駆動回路130からの走査信号が供給されるようになっている。さらに、トランジスタTr2のソース電極は、駆動トランジスタTr1のゲート電極と接続されている。
トランジスタTr1は、例えばドレイン電極が電源供給線140Aと接続されており、電源供給線駆動回路140による第1電位または第2電位のいずれかに設定される。トランジスタTr1のソース電極は、有機発光素子10R,10G,10B,10Wと接続されている。
保持容量Csは、トランジスタTr1のゲート電極(トランジスタTr2のソース電極)と、トランジスタTr1のソース電極との間に形成されるものである。
[表示装置1の要部構成]
次に、再び図1および図2を参照して、素子パネル10および封止パネル20の詳細な構成について説明する。
次に、再び図1および図2を参照して、素子パネル10および封止パネル20の詳細な構成について説明する。
素子基板11は、例えば、水分(水蒸気)および酸素の透過を遮断可能なガラスまたはプラスチック材料などにより形成されている。素子基板11は、その一主面に有機発光素子10R,10G,10B,10Wが配列形成される支持体である。素子基板11の構成材料としては、例えば高歪点ガラス、ソーダガラス(Na2O・CaO・SiO2)、硼珪酸ガラス(Na2O・B2O3・SiO2)、フォルステライト(2MgO・SiO2)および鉛ガラス(Na2O・PbO・SiO2)等のガラス基板、石英基板あるいはシリコン基板が挙げられる。このようなガラス基板、石英基板およびシリコン基板の表面に絶縁膜を設けて素子基板11を構成してもよい。素子基板11には、金属箔もしくは樹脂製のフィルムやシートなどを用いることも可能である。樹脂の材質としては、例えば、ポリメチルメタクリレート(ポリメタクリル酸メチル,PMMA)、ポリビニルアルコール(PVA)、ポリビニルフェノール(PVP)、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート(PET)およびポリエチレンナフタレート(PEN)などの有機ポリマーが挙げられる。なお、トップエミッション型では封止基板21から光が取り出されるため、素子基板11は、透過性材料または非透過性材料のいずれにより形成されていてもよい。封止基板21には素子基板11と同じ材料を用いるようにしてもよく、あるいは、異なる材料を用いるようにしてもよい。また、可撓性材料により素子基板11を構成してもよい。
TFT12は、例えば、上記トランジスタTr1,Tr2のいずれかに対応するトランジスタであり、有機発光素子10R,10G,10B,10Wの能動素子として機能するものである。TFT12は例えば、ゲート電極、ゲート絶縁膜、ソース電極、ドレイン電極および半導体層を有している。例えば、このTFT12のソース電極およびドレイン電極は、酸化シリコン等からなる層間絶縁膜12Aを介して配線12Bに電気的に接続されている。TFT12が例えばトランジスタTr2であるとき、配線12Bは信号線120Aに接続され、TFT12が例えばトランジスタTr1であるとき、配線12Bは平坦化層13の接続孔13Aを介して有機発光素子10R,10G,10B,10W(の第1電極14)に接続される。層間絶縁膜12Aには、例えば、ポリイミド等の有機材料、あるいは酸化シリコン(SiO2)、窒化シリコン(SiN)などの無機材料を用いることができる。例えばBPSG(Boro-phosphosilicate glass)、PSG、BSG、AsSG、SiON、SOG(Spin on glass)、低融点ガラスおよびガラスペースト等のSiO2系材料を層間絶縁膜12Aに用いるようにしてもよい。配線12Bは、例えばアルミニウム(Al)またはアルミニウム―銅(Cu)合金等により構成されている。
平坦化層13は、TFT12が形成された素子基板11の表面を平坦化するためのものであり、配線12Bと第1電極14とを接続するための微細な接続孔13Aが形成されるためパターン精度が良い材料により構成されていることが好ましい。吸水率の低い材料を平坦化層13に用いると、有機発光素子10R,10G,10B,10Wの水分による劣化を防ぐことができる。平坦化層13には、例えば、ポリイミド等の有機材料を用いることができる。平坦化層13に、青色光またはUV光を遮光する機能を加えることで、TFT12の劣化を抑制できる。
隣り合う有機発光素子10R,10G,10B,10Wの間には隔壁15が配置されている。有機発光素子10R,10G,10B,10Wの配列は特に限定されず、例えばストライプ配列、ダイアゴナル配列、デルタ配列あるいはレクタングル配列などが採用される。
有機発光素子10R,10G,10B,10W各々の第1電極14は、平坦化層13上に互いに離間して配置されている。第1電極14は例えばアノード電極としての機能および反射層としての機能を兼ね備えたものであり、反射率が高く、かつ、正孔注入性も高い材料により構成されていることが望ましい。このような第1電極14としては、例えば、積層方向の厚み(以下、単に厚みと言う)が0.1μm以上1μm以下であり、クロム(Cr),金(Au),白金(Pt),ニッケル(Ni),銅(Cu),モリブデン(Mo),タングステン(W),チタン(Ti),タンタル(Ta),アルミニウム(Al),鉄(Fe)あるいは銀(Ag)などの金属元素の単体または合金が挙げられる。第1電極14は、このような金属膜を複数積層したものであってもよい。銀に0.3重量%〜1重量%のパラジウム(Pd)と0.3重量%〜1重量%の銅とを含有させたAg―Pd―Cu合金あるいはAl―ネオジム(Nd)合金を第1電極14に用いるようにしてもよい。第1電極14には仕事関数の高い材料を用いることが好ましいが、アルミニウムおよびアルミニウム合金等の仕事関数の小さい金属であっても、適切な有機層16(特に、後述の正孔注入層)を選択することにより、第1電極14として用いることが可能となる。
第1電極14の表面(第2電極18との対向面)から側面は、隔壁15で覆われている。この隔壁15の開口15Hが有機発光素子10R,10G,10B,10Wの発光領域となる。隔壁15は、この発光領域を正確に所望の形状に制御すると共に、第1電極14と第2電極18との間の絶縁性を確保する役割を担っている。隔壁15には例えば、ポリイミド等の有機材料または酸化シリコン(SiO2),窒化シリコン(SiNx)および酸窒化シリコン(SiON)等の無機材料を用いることができる。隔壁15の厚みは例えば50nm〜2500nmである。
有機層16は、例えば、全ての有機発光素子10R,10G,10B,10Wに共通して設けられ、第1電極14側から、正孔注入層,正孔輸送層,発光層,電子輸送層および電子注入層(いずれも図示せず)をこの順に有している。正孔輸送層,発光層および電子輸送層により有機層16を構成するようにしてもよく、このとき、発光層が電子輸送層を兼ねるようにしてもよい。このような一連の積層構造(いわゆるタンデムユニット)が接続層を介して複数重なることで有機層16が構成されてもよい。例えば、赤色、緑色、青色および白色の色毎にタンデムユニットを有し、これらを積層して有機層16を構成するようにしてもよい。
正孔注入層は、正孔注入効率を高めるためのものであると共に、リークを防止するためのバッファ層である。正孔注入層は、例えば、厚みが1nm以上300nm以下であり、化1または化2に示したヘキサアザトリフェニレン誘導体により構成されている。
正孔輸送層は、発光層への正孔輸送効率を高めるためのものである。正孔輸送層は、例えば、厚みが40nm程度であり、4,4′,4″−トリス(3−メチルフェニルフェニルアミノ)トリフェニルアミン(m−MTDATA)またはα−ナフチルフェニルジアミン(αNPD)により構成されている。
発光層は例えば白色発光用の発光層であり、第1電極14と第2電極18との間に例えば赤色発光層、緑色発光層および青色発光層(いずれも図示せず)の積層体を有している。赤色発光層,緑色発光層および青色発光層は、電界をかけることにより、第1電極14から正孔注入層および正孔輸送層を介して注入された正孔の一部と、第2電極18から電子注入層および電子輸送層を介して注入された電子の一部とが再結合して、それぞれ赤色,緑色および青色の光を発生させるものである。
赤色発光層は、例えば、赤色発光材料,正孔輸送性材料,電子輸送性材料および両電荷輸送性材料のうち少なくとも1種を含んでいる。赤色発光材料は、蛍光性のものでも燐光性のものでもよい。赤色発光層は、例えば、厚みが5nm程度であり、4,4−ビス(2,2−ジフェニルビニン)ビフェニル(DPVBi)に2,6−ビス[(4’−メトキシジフェニルアミノ)スチリル]−1,5−ジシアノナフタレン(BSN)を30重量%混合したものにより構成されている。
緑色発光層は、例えば、緑色発光材料,正孔輸送性材料,電子輸送性材料および両電荷輸送性材料のうち少なくとも1種を含んでいる。緑色発光材料は、蛍光性のものでも燐光性のものでもよい。緑色発光層は、例えば、厚みが10nm程度であり、DPVBiにクマリン6を5重量%混合したものにより構成されている。
青色発光層は、例えば、青色発光材料,正孔輸送性材料,電子輸送性材料および両電荷輸送性材料のうち少なくとも1種を含んでいる。青色発光材料は、蛍光性のものでも燐光性のものでもよい。青色発光層は、例えば、厚みが30nm程度であり、DPVBiに4,4’−ビス[2−{4−(N,N−ジフェニルアミノ)フェニル}ビニル]ビフェニル(DPAVBi)を2.5重量%混合したものにより構成されている。
電子輸送層は、発光層への電子輸送効率を高めるためのものであり、例えば厚みが20nm程度の8−ヒドロキシキノリンアルミニウム(Alq3)により構成されている。電子注入層は、発光層への電子注入効率を高めるためのものであり、例えば厚みが0.3nm程度のLiFあるいはLi2O等により構成されている。
高抵抗層17は、第1電極14と第2電極18との間の短絡の発生を防止するためのものであり、全ての有機EL素子10R,10G,10B,10Wに共通して設けられている。高抵抗層17は、第1電極14および第2電極18よりも電気抵抗が高く、電荷の輸送機能あるいは電荷の注入機能を備えている。第1電極14上に意図せずパーティクル(異物)や突起物が付着し、その状態で有機EL素子10R,10G,10B,10Wを形成した場合、第1電極14と第2電極18との接触による短絡が生じるおそれがある。高抵抗層17により、このような第1電極14と第2電極18との接触を防ぐことができる。
高抵抗層17は、例えば、電気抵抗率が1×106Ω・m以上1×108Ω・m以下の材料により構成されていることが好ましい。この範囲内であれば、十分に短絡の発生を防止し、かつ、駆動電圧を低く抑えることができるためである。高抵抗層17は、例えば、酸化ニオブ(Nb2O5),酸化チタン(TiO2),酸化モリブデン(MoO2,MoO3),酸化タンタル(Ta2O5),酸化ハフニウム(HfO),酸化マグネシウム(MgO),IGZO(InGaZnOx),酸化ニオブと酸化チタンとの混合物,酸化チタンと酸化亜鉛(ZnO)との混合物,酸化ケイ素(SiO2)と酸化錫(SnO2)との混合物または酸化亜鉛に酸化マグネシウム、酸化ケイ素あるいは酸化アルミニウム(Al2O3)のうちから少なくとも1つを混合した混合物により構成されている。これらの材料を適宜組み合わせて高抵抗層17を構成するようにしてもよい。有機層16および第2電極18の屈折率に近い値、例えば屈折率1.7以上の高抵抗層17を用いることが好ましく、1.9以上であることがより好ましい。これにより、有機層16の発光層の外部量子効率が向上する。高抵抗層17の厚みは、例えば100nm〜1000nm程度である。
第2電極18は、有機層16を間にして第1電極14と対をなし、例えば電子注入層の上に全ての有機EL素子10R,10G,10B,10Wに共通して設けられている。第2電極18は例えばカソード電極としての機能および光透過層としての機能を兼ね備えたものであり、導電性が高く、かつ、光透過率も高い材料により構成されていることが望ましい。したがって、第2電極18は、例えば、アルミニウム(Al),マグネシウム(Mg),銀(Ag),カルシウム(Ca)またはナトリウム(Na)の合金により構成されている。中でも、マグネシウムと銀との合金(Mg−Ag合金)は、薄膜での導電性と吸収の小ささとを兼ね備えているので好ましい。Mg−Ag合金におけるマグネシウムと銀との比率は特に限定されないが、膜厚比でMg:Ag=20:1〜1:1の範囲であることが望ましい。また、第2電極18の材料には、アルミニウム(Al)とリチウム(Li)との合金(Al−Li合金)を用いるようにしてもよく、インジウム錫酸化物(ITO),酸化亜鉛(ZnO),アルミナドープ酸化亜鉛(AZO),ガリウムドープ酸化亜鉛(GZO),インジウム亜鉛酸化物(IZO),インジウムチタン酸化物(ITiO)またはインジウムタングステン酸化物(IWO)等を用いてもよい。詳細は後述するが、表示装置1には補助電極25が設けられているので、第2電極18を薄膜化することが可能であり、第2電極18の厚みは、例えば10〜500nm程度である。第2電極18および高抵抗層17は、有機層16への水分の浸入を防ぐ機能も有している。
素子パネル10と封止パネル20との間の充填樹脂層19は、有機層16への水分の侵入を防ぐと共に、表示装置1の機械的強度を高めるためのものであり、第2電極18を覆うように設けられている。この充填樹脂層19の光透過率は80%程度、厚みは3μm〜20μm、中でも5μm〜15μmであることが好ましい。充填樹脂層19の厚みが20μmよりも大きいと、有機発光素子10R,10G,10B,10Wとカラーフィルタ23との間の距離が長くなり、素子基板11に対して斜め方向の輝度が正面方向の輝度に比べて低くなる虞がある。また、混色が発生して色度が低下することにより、視野角が狭くなる虞もある。一方、充填樹脂層19の厚みが3μmよりも小さいと、素子パネル10と封止パネル20とを貼り合わせる際に異物を挟み込んでしまった場合に、この異物が有機発光素子10R,10G,10B,10Wに接触しやすい。異物により有機発光素子10R,10G,10Bに圧力がかかり、画素抜けなどの滅点が生じる虞がある。
図5に示したように、表示装置1の周縁には封止材39が設けられている。この封止材39は、素子パネル10と封止パネル20との間に充填樹脂層19を囲むように設けられ、素子パネル10と封止パネル20とを接着している。封止材39は、外部から表示領域110Aへの水分の侵入を防ぐ役割も担っている。
封止パネル20の遮光層22は、いわゆるブラックマトリクス(BM)である。この遮光層22は、表示領域110Aでは有機発光素子10R,10G,10B,10Wの配置に合わせて、例えばマトリクス状にパターニングされており、周辺領域110Bでは全面に設けられている。遮光層22は、例えばカーボンブラックにより構成される。遮光性と導電性を兼ねた材料、クロムおよびグラファイト等を遮光層22に用いるようにしてもよい。あるいは、薄膜の干渉を利用した薄膜フィルタにより遮光層22を構成するようにしてもよい。この薄膜フィルタは、例えば、金属、金属窒化物または金属酸化物等の薄膜を1層以上積層することにより、薄膜の干渉を生じさせて光を減衰させるものである。このような薄膜フィルタとしては、例えば、封止基板21側から、窒化シリコン(SiN)65nm、アモルファスシリコン(a−Si)20nmおよびモリブデン(Mo)50nm以上をこの順に積層させたもの、あるいは、封止基板21側から、酸化モリブデン(MoOx)45nm、モリブデン10nm、酸化モリブデン40nmおよびモリブデン(Mo)50nm以上をこの順に積層させたもの等を挙げることができる。
カラーフィルタ23は、例えば、赤色フィルタ、緑色フィルタ、青色フィルタおよび白色フィルタを含み、これらが遮光層22および有機発光素子10R,10G,10B,10Wのパターン毎に配色されている。遮光層22に重なる位置にカラーフィルタ23が設けられていてもよい。赤色フィルタ、緑色フィルタ、青色フィルタおよび白色フィルタは、例えば顔料または染料を混入した樹脂により構成されている。この顔料または染料の種類を適宜選択することにより、赤色フィルタ、緑色フィルタ、青色フィルタおよび白色フィルタではそれぞれ、赤色、緑色、青色または白色それぞれの波長域の光透過率が高くなるように調整されている。赤色、緑色、青色および白色の目的とする波長域以外では、カラーフィルタ23の光透過率は低くなっている。カラーフィルタ23の厚みは例えば、1〜4μmである。カラーフィルタ23は、封止基板21のどちらの面(素子基板11との対向面あるいはその反対側の面)に設けられてもよいが、素子基板11との対向面に設けられることが好ましい。カラーフィルタ23が表面に露出せず、充填樹脂層19や補助配線25により保護することができるからである。また、有機層16とカラーフィルタ23との間の距離が狭くなることにより、有機層16から出射した光が隣接する他の色のカラーフィルタに入射して混色を生じることを避けることができるからである。
カラーフィルタ23の表面(素子基板11との対向面)はオーバーコート層24に覆われている。オーバーコート層24は、カラーフィルタ23表面の平坦性を高め、保護するためのコーティング剤であり、例えば樹脂等の有機材料やSiO,SiNあるいはITOなどの無機材料により構成されている。
補助配線25は、有機発光素子10R,10G,10B,10Wの第2電極18と後述の配線32とを電気的に接続するものである。この補助配線25は、導電性が高く、かつ、空気中で酸化しにくい材料により構成されていることが好ましい。具体的には、補助配線25の構成材料として、アルミニウム(Al)、銀(Ag)、金(Au)、銅(Cu)、クロム(Cr)、亜鉛(Zn)、鉄(Fe)、タングステン(W)およびコバルト(Co)等が挙げられる。アルミニウムは比較的酸化しやすいので、表面をモリブデン(Mo)またはチタン(Ti)等で被覆して補助配線25を構成することが好ましい。このような補助配線25を設けることにより、所謂IRドロップの発生を抑えることが可能となる。以下、これについて説明する。
トップエミッション型の表示装置では、光透過性の導電膜を第2電極に使用するが、光透過性の導電膜は抵抗率が高いので、給電点から各有機発光素子までの距離に応じた配線抵抗の増加率が大きい。また、第2電極の厚みは薄い方が好ましいので、第2電極の抵抗は更に高くなる。このため、各々の有機発光素子と給電点との距離が長くなると、有機発光素子に印加される実効電圧が著しく降下し、輝度も大きく低下する。第2電極18と第2電極18の給電点との間の電流バイパスとして機能する補助配線25を設けることにより、このようなIRドロップの発生を、抑えることができる。
表示領域110A内の補助配線25は、例えば図2に示したように、遮光層22に重なるようにマトリクス状(格子状)に設けられている。補助配線25は一方向のみに延在させるようにしてもよい(帯状)。導電性の遮光層22を用いて、遮光層22が補助配線25を兼ねるようにしてもよい。補助配線25の構成材料、厚みおよび幅等はパネルサイズ等に応じて、第2電極18の電気抵抗率よりも低い電気抵抗率を有するように適宜調整する。補助配線25はこの表示領域110Aから周辺領域110Bに至るまで延在し、周辺領域110Bで後述の配線32(図1)に電気的に接続されている。周辺領域110Bの補助配線25は、例えば表示領域110Aを囲むように設けられている。周辺領域110Bでは、パターニングせずに補助配線25を設けるようにしてもよい。
ピラー26は、第2電極18への給電点となるものであり、第2電極18と補助配線25とを電気的に接続している。このピラー26は、例えば、テーパ状の成形部材26Aと成形部材26Aを覆う光透過性の導電膜26Bとを含んでおり、導電膜26Bが成形部材26Aの先端部で第2電極18に、基端部で補助配線25にそれぞれ接している。成形部材26Aは、隣り合う有機発光素子10R,10G,10B,10Wの間の領域(非発光領域)に配置されている。換言すれば、隔壁15上に延在した第2電極18と補助配線25との間に成形部材26Aが設けられている。この成形部材26Aは、一のピクセル(4色のサブピクセル)毎に設けるようにしてもよく(図2)、一の有機発光素子10R,10G,10B,10Wに、一の成形部材26Aを設けるようにしてもよい(図示せず)。成形部材26Aは例えば感光性樹脂材料により構成されている。成形部材26Aを、導電性材料、例えばアクリル樹脂、エポキシ樹脂およびポリイミド樹脂等の樹脂材料に導電性微粒子を混合したものにより構成することにより、導電膜26Bを省略するようにしてもよい。成形部材26Aの形状はどのようなものであってもよく、テーパ状のほか、例えば直方体あるいは円柱であってもよい。導電膜26Bは、成形部材26Aを覆うと共に補助配線25に接していればよいが、全てのピラー26に共通して導電膜26Bを設けるようにしてもよい。導電膜26Bは、例えば、上記第2電極18と同様に光透過性の高い導電材料により構成されている。
ピラー26は、封止パネル20側から例えば、3μm〜20μm、好ましくは5μm〜15μm程度突出して第2電極18に接していればよく、このピラー26の大きさにより、素子パネル10と封止パネル20との間の距離を規定することも可能である。弾性を有し、変形可能なピラー26を用い、素子パネル10の第2電極18と封止パネル20の補助配線25とを確実に接続させることが好ましい。形成したピラー26の大きさにばらつきがあると、封止パネル20を素子パネル10に貼り合わせていく際に、大きなピラー26から順に素子パネル10の第2電極18に接していくことになる。弾性かつ変形可能なピラー26は、この大きさのばらつきを吸収することが可能であり、最も小さなピラー26までも第2電極18に確実に接触させることができる。また、大きなピラー26に加わる圧力を吸収して、その損傷も防ぐことができる。ピラー26に加えて、遮光層22と補助配線24との間のカラーフィルタ23の厚みにより、素子パネル10と封止パネル20との間の距離を調整することも可能である。隣接する赤色フィルタ、緑色フィルタ、青色フィルタおよび白色フィルタの互いの端部を重ねることで、この距離を調整するようにしてもよい。
表示装置1の周辺領域110Bには配線32が設けられており、この配線32に、ピラー46(第2ピラー)、第2コンタクト電極38および第1コンタクト電極34を介して補助配線25が電気的に接続されている。本技術の周辺電極は、第1コンタクト電極34、第2コンタクト電極38および配線32に対応する。配線32は素子基板11上に設けられ、この配線32上に平坦化層13、第1コンタクト電極34、絶縁膜35および第2コンタクト電極38がこの順に配置されている。
配線32は、例えば図5に示したように、封止材39の内側に配置され、素子基板11の全ての辺にわたって設けられている。この配線32は、一方が補助配線25を介して有機発光素子10R,10G,10B,10Wの第2電極18に、他方が例えば、共通電源供給線(GND)にそれぞれ電気的に接続されている。
配線32上の平坦化層13は表示領域110Aの平坦化層13と同一のものであり、その厚みおよび構成材料も同じである。平坦化層13の接続孔13Bを介して配線32は第1コンタクト電極34に接続されている。
第1コンタクト電極34は、例えば、有機発光素子10R,10G,10B,10Wの第1電極14と同じ材料で構成され、その厚みも第1電極14の厚みと同じである。この第1コンタクト電極34は、例えば周辺領域110B全面に設けられている(図2)。絶縁膜35は、例えば、表示領域110Aの隔壁15と同じ材料、同じ厚みで構成されている。絶縁膜35は、第1コンタクト電極34上に複数の接続孔35Hを有しており、この複数の接続孔35Hで第1コンタクト電極34に第2コンタクト電極38が接している。接続孔35Hは、隣り合うピラー46の間に対向する位置に設けられていることが好ましく、例えば、周辺領域110Bの各々の辺に平行方向に延在している(図2)。周辺領域110Bの各々の辺に垂直方向に接続孔35Hが延在していてもよい(図示せず)。延在させずに、各々の位置に例えば円形の接続孔35Hを設けるようにしてもよい(図示せず)。
第2コンタクト電極38は、例えば、図6に示したように、表示領域110Aを囲むように設けられ、絶縁膜35および絶縁膜35の接続孔35Hを覆っている。この第2コンタクト電極38は、有機発光素子10R,10G,10B,10Wの第2電極18と同じ材料で構成され、その厚みも第2電極18の厚みと同じである。第2コンタクト電極38と第2電極18とが一体化していてもよい。
本実施の形態では、周辺領域110Bにおける封止パネル20と素子パネル10との間に、第2コンタクト電極38と補助配線25とを電気的に接続するためのピラー46(第2ピラー)が設けられている。詳細は後述するが、これにより、表示領域110Aの全面で表示不良を抑えることが可能となる。
ピラー46は周辺領域110Bの全ての辺各々に、複数設けられている。周辺領域110Bでのピラー46の分布密度は、表示領域110Aでのピラー26の分布密度よりも高いことが好ましい。配線32と共にピラー46は封止材39の内側に設けられ(図5)、ピラー46の周囲には充填樹脂層19が設けられている。このピラー46は、ピラー26と同様に、テーパ状の成形部材46Aと成形部材46Aを覆う導電膜46Bとを有している。導電膜46Bが成形部材46Aの先端部で第2コンタクト電極38に、基端部で補助配線25にそれぞれ接している。成形部材46Aは絶縁膜35上に配置されている。成形部材46Aおよび導電膜46Bは、それぞれ成形部材26Aおよび導電膜26Bと同じ材料により構成されていることが好ましく、また、成形部材46Aは成形部材26Aと同じ高さ(図1のZ方向)を有していることが好ましい。導電膜46Bの厚み(図1のZ方向)は導電膜26Bの厚みと同じであることが好ましい。即ち、ピラー46とピラー26とは互いに同じ材料により構成され、同じ高さを有していることが好ましい。成形部材46Aを導電性材料により構成して導電膜46Bを省略するようにしてもよい。ピラー46もピラー26と同様に弾性を有し、変形可能であることが好ましい。成形部材46Aの形状はどのようなものであってもよく、テーパ状のほか、例えば直方体あるいは円柱であってもよい。導電膜46Bは、成形部材46Aを覆うと共に補助配線25に接していればよいが、例えば、全てのピラー46に共通して導電膜46Bを設けるようにしてもよい。一の第1コンタクト電極34には、第2コンタクト電極38を介して、例えば複数のピラー46が電気的に接続されている。絶縁膜35は、例えば一のピラー46に対して一の接続孔35Hを有している。
周辺領域110Bでは、補助配線25と封止基板21との間に表示領域110Aから延在するオーバーコート層24および遮光層22が設けられている。
[表示装置1の製造方法]
表示装置1は、例えば素子パネル10および封止パネル20をそれぞれ形成したのち、これら素子パネル10と封止パネル20とを貼り合わせて製造する。以下、素子パネル10の形成工程(図7A〜図7C)と、封止パネル20の形成工程(図8)と、素子パネル10および封止パネル20の貼り合わせ工程(図9A〜図9C)とを順に説明する。
表示装置1は、例えば素子パネル10および封止パネル20をそれぞれ形成したのち、これら素子パネル10と封止パネル20とを貼り合わせて製造する。以下、素子パネル10の形成工程(図7A〜図7C)と、封止パネル20の形成工程(図8)と、素子パネル10および封止パネル20の貼り合わせ工程(図9A〜図9C)とを順に説明する。
[素子パネル10の製造方法]
まず、素子基板11の表示領域110AにTFT12、層間絶縁膜12Aおよび配線12Bを形成すると共に素子基板11の周辺領域110Bには配線32を形成する。次いで、素子基板11の全面に平坦化層13を形成する。平坦化層13は例えば、CVD(Chemical Vapor Deposition)法、塗布法、スパッタリング法および各種印刷法等により形成することができる。平坦化層13には接続孔13A,13Bを設けておく。
まず、素子基板11の表示領域110AにTFT12、層間絶縁膜12Aおよび配線12Bを形成すると共に素子基板11の周辺領域110Bには配線32を形成する。次いで、素子基板11の全面に平坦化層13を形成する。平坦化層13は例えば、CVD(Chemical Vapor Deposition)法、塗布法、スパッタリング法および各種印刷法等により形成することができる。平坦化層13には接続孔13A,13Bを設けておく。
次いで、平坦化層13上に導電膜を例えばスパッタ法により成膜したのち、これをフォトリソグラフィ工程によりパターニングし、表示領域110Aに第1電極14、周辺領域110Bに第1コンタクト電極34をそれぞれ形成する。続いて、第1電極14上および平坦化層13上に、例えばプラズマCVD法により例えば窒化シリコン膜を成膜した後、この窒化シリコン膜に開口15Hおよび接続孔35Hを設けて隔壁15および絶縁膜35を形成する(図7A)。
続いて、例えば真空蒸着法等の物理的気相成長法(PVD法:Physical Vapor Deposition
)により発光層を含む有機層16および高抵抗層17を素子基板11上の表示領域110Aの全面に形成する(図7B)。このとき、周辺領域110Bはマスク等で覆っておく。次いで、周辺領域110Bのマスク等を除去した後、例えば物理的気相成長法により、表示領域110Aから周辺領域110Bにわたる透明導電膜を成膜する。これにより、表示領域110Aの全面に第2電極18、周辺領域110Bに第2コンタクト電極38が形成される(図7C)。有機層16、高抵抗層17および第2電極18は、スクリーン印刷法およびインクジェット印刷法等の印刷法、レーザ転写法あるいは塗布法等により形成するようにしてもよい。レーザ転写法は、転写用基板上に形成されたレーザ吸収層と有機層16との積層構造にレーザを照射し、有機層16を素子基板11に転写する方法である。
)により発光層を含む有機層16および高抵抗層17を素子基板11上の表示領域110Aの全面に形成する(図7B)。このとき、周辺領域110Bはマスク等で覆っておく。次いで、周辺領域110Bのマスク等を除去した後、例えば物理的気相成長法により、表示領域110Aから周辺領域110Bにわたる透明導電膜を成膜する。これにより、表示領域110Aの全面に第2電極18、周辺領域110Bに第2コンタクト電極38が形成される(図7C)。有機層16、高抵抗層17および第2電極18は、スクリーン印刷法およびインクジェット印刷法等の印刷法、レーザ転写法あるいは塗布法等により形成するようにしてもよい。レーザ転写法は、転写用基板上に形成されたレーザ吸収層と有機層16との積層構造にレーザを照射し、有機層16を素子基板11に転写する方法である。
[封止パネル20の製造方法]
表示装置1の封止パネル20は、例えば以下のようにして形成する(図8)。まず、封止基板21の全面に遮光層22の構成材料を成膜したのち、これを例えばフォトリソグラフィ工程を用いてマトリクス状にパターニングすることで、有機発光素子10R,10G,10B,10Wの配置に合わせて開口を複数形成する。次いで、この遮光層22を設けた封止基板21上に赤色フィルタ、緑色フィルタ、青色フィルタおよび白色フィルタを順次パターニングしてカラーフィルタ23を形成する。続いて、封止基板21の全面にオーバーコート層24を成膜し、さらにオーバーコート層24上に導電膜を成膜する。次いで、この導電膜の表示領域110Aを例えばマトリクス状にパターニングして周辺領域110Bの導電膜に接続する。これにより、補助配線25が形成される。
表示装置1の封止パネル20は、例えば以下のようにして形成する(図8)。まず、封止基板21の全面に遮光層22の構成材料を成膜したのち、これを例えばフォトリソグラフィ工程を用いてマトリクス状にパターニングすることで、有機発光素子10R,10G,10B,10Wの配置に合わせて開口を複数形成する。次いで、この遮光層22を設けた封止基板21上に赤色フィルタ、緑色フィルタ、青色フィルタおよび白色フィルタを順次パターニングしてカラーフィルタ23を形成する。続いて、封止基板21の全面にオーバーコート層24を成膜し、さらにオーバーコート層24上に導電膜を成膜する。次いで、この導電膜の表示領域110Aを例えばマトリクス状にパターニングして周辺領域110Bの導電膜に接続する。これにより、補助配線25が形成される。
補助配線25を設けた後、ピラー26およびピラー46を形成する。具体的には、まず、例えばアクリル樹脂等を、補助配線25を設けた封止基板21上の表示領域110Aおよび周辺領域110Bに塗布した後、フォトリソグラフィ工程を用いてこれを所望の形状に成型して成形部材26Aおよび成形部材46Aを形成する。この後、成形部材26Aおよび成形部材46Aを含む封止基板21の全面に例えばスパッタ法によりITOからなる導電膜26Bおよび導電膜46Bを成膜することにより、ピラー26およびピラー46が形成される。導電膜26Bおよび導電膜46Bは一体化されていてもよい。以上の工程により、封止パネル20が完成する。
[素子パネル10と封止パネル20との貼り合わせ工程]
上記のようにして形成した素子パネル10と封止パネル20とは、例えば図9A〜図9Cに示したように、ODF(One Drop Fill)工程により貼り合わされる。具体的には、真空チャンバ内に一対の上プレート41Aおよび下プレート41Bを準備し、上プレート41Aにおける下プレート41Bと対向する面に封止パネル20を、下プレート41Bにける上プレート41Aと対向する面に素子パネル10を、それぞれ固定する。次いで、下プレート41B上の素子パネル10の周縁部を封止材39で囲み、この封止材39で囲まれた領域内に、充填樹脂層19を形成するための樹脂を滴下する(図9A)。続いて、真空チャンバ内で素子パネル10と封止パネル20とを貼り合わせたのち(図9B)、チャンバ内を窒素(N2)雰囲気にして、素子パネル10と封止パネル20とを押し付ける。この状態で樹脂を硬化させることにより、素子パネル10と封止パネル20との間に充填樹脂層19を隙間なく設けることができる(図9C)。以上により、図1に示した表示装置1が完成する。
上記のようにして形成した素子パネル10と封止パネル20とは、例えば図9A〜図9Cに示したように、ODF(One Drop Fill)工程により貼り合わされる。具体的には、真空チャンバ内に一対の上プレート41Aおよび下プレート41Bを準備し、上プレート41Aにおける下プレート41Bと対向する面に封止パネル20を、下プレート41Bにける上プレート41Aと対向する面に素子パネル10を、それぞれ固定する。次いで、下プレート41B上の素子パネル10の周縁部を封止材39で囲み、この封止材39で囲まれた領域内に、充填樹脂層19を形成するための樹脂を滴下する(図9A)。続いて、真空チャンバ内で素子パネル10と封止パネル20とを貼り合わせたのち(図9B)、チャンバ内を窒素(N2)雰囲気にして、素子パネル10と封止パネル20とを押し付ける。この状態で樹脂を硬化させることにより、素子パネル10と封止パネル20との間に充填樹脂層19を隙間なく設けることができる(図9C)。以上により、図1に示した表示装置1が完成する。
[表示装置1の動作]
表示装置1では、各有機発光素子10R,10G,10B,10Wに、各色の映像信号に応じた駆動電流が印加されると、第1電極14および第2電極18を通じて、有機層16に電子および正孔が注入される。これらの電子および正孔は、有機層16に含まれる発光層においてそれぞれ再結合され、発光を生じる。この光は、第2電極18,カラーフィルタ23および封止基板21を透過して外部へ取り出される。このようにして、表示装置1では、例えばR,G,B,Wのフルカラーの映像表示がなされる。また、この映像表示動作の際に容量素子Csの一端に、映像信号に対応する電位が印加されることにより、容量素子Csには、映像信号に対応する電荷が蓄積される。
表示装置1では、各有機発光素子10R,10G,10B,10Wに、各色の映像信号に応じた駆動電流が印加されると、第1電極14および第2電極18を通じて、有機層16に電子および正孔が注入される。これらの電子および正孔は、有機層16に含まれる発光層においてそれぞれ再結合され、発光を生じる。この光は、第2電極18,カラーフィルタ23および封止基板21を透過して外部へ取り出される。このようにして、表示装置1では、例えばR,G,B,Wのフルカラーの映像表示がなされる。また、この映像表示動作の際に容量素子Csの一端に、映像信号に対応する電位が印加されることにより、容量素子Csには、映像信号に対応する電荷が蓄積される。
[表示装置1の作用・効果]
表示装置1では、周辺領域110Bに、補助電極25と配線32とを電気的に接続するためのピラー46が設けられている。このため、各有機発光素子10R,10G,10B,10Wで発光した後の余剰の電流は、有機発光素子10R,10G,10B,10Wの第2電極18から、ピラー26、補助配線25およびピラー46を介して、配線32に流れるようになる。
表示装置1では、周辺領域110Bに、補助電極25と配線32とを電気的に接続するためのピラー46が設けられている。このため、各有機発光素子10R,10G,10B,10Wで発光した後の余剰の電流は、有機発光素子10R,10G,10B,10Wの第2電極18から、ピラー26、補助配線25およびピラー46を介して、配線32に流れるようになる。
仮に、周辺領域にピラーがないとすると、表示領域内の周縁に設けられたピラー、即ち有機発光素子に電気的に接続されたピラーを介して、封止パネルの補助配線から素子パネルの配線へと電流が流れる。この場合、表示領域の周縁のピラーに、全ての有機発光素子からの電流が集中するので、このピラーの抵抗が高くなり、補助配線を設けているのにも関わらず、表示領域全面に均一に電圧を印加できなくなる。これにより、表示領域の周縁の有機発光素子では表示不良が発生する虞がある。
これに対し、表示装置1では、周辺領域110Bに、有機発光素子10R,10G,10B,10Wに接続されたピラー26とは別のピラー46が設けられているので、表示領域110A内のピラー26の抵抗の上昇が抑えられる。従って、表示領域110A内の全ての有機発光素子10R,10G,10B,10Wに均一に電圧を印加することが可能となり、表示不良の発生を防止することができる。
また、ピラー46とピラー26とを同一工程で形成することにより、ピラー46の高さとピラー26の高さとが同じになる。従って、ピラー46以外の周辺領域110Bの構成も、表示領域110Aの構成と略同じであれば、表示領域110Aと周辺領域110Bとの間で素子パネル10と封止パネル20との間の距離を一定に保ち易くなる。具体的には、表示領域110Aの平坦化層13、第1電極14、隔壁15および第2電極18それぞれと同じ厚みの平坦化層13、第1コンタクト電極34、絶縁膜35および第2コンタクト電極38を周辺領域110Bに設けることにより、周辺領域110Bの構成を表示領域110Aの構成と略同じにすることができる。このように、表示領域110Aと周辺領域110Bとの間で素子パネル10と封止パネル20との間の距離を一定に保つことにより、ピラー26と第2電極18、およびピラー46と第2コンタクト電極38の接続不良を防ぎ、高い表示品位を実現すると共に歩留まりを向上させることが可能となる。更に、製造工程数が少なくなり、製造コストを抑えることも可能となる。
例えば、周辺領域で封止パネルの補助配線と素子パネルの配線とを接続するための構造体を、金属ペースト等の材料を用いて形成することも考えられるが、この場合、製造工程数が増え、コストが増大する。また、有機発光素子に金属ペースト等の不純物が付着して、表示不良および歩留まりの低下が生じる虞がある。
更に、弾性のピラー26およびピラー46を用いることにより、素子パネル10と封止パネル20との間の距離の調整が容易となり、ピラー26と有機発光素子10R,10G,10B,10Wの第2電極18との接続不良をより確実に防止することが可能となる。
加えて、封止材39の内側にピラー46を設け、ピラー46の周囲を加圧硬化した充填樹脂層19で囲むことにより、充填樹脂層19が接着補強材として機能し、ピラー46と第2コンタクト電極38との接続不良を防止することが可能となる。
また、更に、周辺領域110Bでのピラー46の分布密度を、表示領域110Aでのピラー26の分布密度よりも高くすることで、表示領域110A全体から流れてくる電流を分散させ、補助電極25と第2コンタクト電極38との接触抵抗を低減させることが可能となる。
以上のように、表示装置1では、周辺領域110Bにピラー46を設けるようにしたので、表示領域110A内の全ての有機発光素子10R,10G,10B,10Wに均一に電圧を印加することが可能となり、表示不良の発生を抑えることができる。よって、大型化した場合であっても表示品位を向上させることが可能となる。
以下、上記実施の形態の変形例について説明するが、以降の説明において上記実施の形態と同一構成部分については同一符号を付してその説明は適宜省略する。
<変形例>
図10に示したように、周辺領域110Bのピラー(ピラー56)の太さを表示領域110Aのピラー26(図1)の太さよりも大きくしてもよい。このとき、第2コンタクト電極38と第1コンタクト電極34とが接する絶縁膜35の接続孔35Hは、一のピラー56に対して複数であってもよく(図10)、一つであってもよい(図示せず)。
図10に示したように、周辺領域110Bのピラー(ピラー56)の太さを表示領域110Aのピラー26(図1)の太さよりも大きくしてもよい。このとき、第2コンタクト電極38と第1コンタクト電極34とが接する絶縁膜35の接続孔35Hは、一のピラー56に対して複数であってもよく(図10)、一つであってもよい(図示せず)。
ピラー56は、ピラー46(図1)と同様に成形部材56Aと導電膜56Bとを有しており、例えば成形部材56Aの太さは、表示領域110A内のピラー26の成形部材26A(図1)の太さの約5倍である。成形部材56Aは設計上可能な範囲で太くすることが好ましい。周辺領域110Bのピラー46Aを表示領域110Aのピラー26よりも太くすることにより、ピラー56と第2コンタクト電極38との接触面積が増し、補助電極25と第2コンタクト電極38との接触抵抗を低減させることが可能となる。
<適用例>
以下、上記のような表示装置1の電子機器への適用例について説明する。電子機器としては、例えばテレビジョン装置,デジタルカメラ,ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置あるいはビデオカメラ等が挙げられる。すなわち、上記表示装置は、外部から入力された映像信号あるいは内部で生成した映像信号を、画像あるいは映像として表示するあらゆる分野の電子機器に適用することが可能である。
以下、上記のような表示装置1の電子機器への適用例について説明する。電子機器としては、例えばテレビジョン装置,デジタルカメラ,ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置あるいはビデオカメラ等が挙げられる。すなわち、上記表示装置は、外部から入力された映像信号あるいは内部で生成した映像信号を、画像あるいは映像として表示するあらゆる分野の電子機器に適用することが可能である。
[モジュール]
上記表示装置1は、例えば図11に示したようなモジュールとして、後述の適用例1〜7などの種々の電子機器に組み込まれる。このモジュールは、例えば、素子パネル10または封止パネル20の一辺に、封止用基板21または素子基板11から露出した領域61を設け、この露出した領域61に、信号線駆動回路120、走査線駆動回路130および電源線供給回路140の配線を延長して外部接続端子(第1周辺電極および第2周辺電極等)を形成したものである。この外部接続端子には、信号の入出力のためのフレキシブルプリント配線基板(FPC;Flexible Printed Circuit)62が設けられていてもよい。
上記表示装置1は、例えば図11に示したようなモジュールとして、後述の適用例1〜7などの種々の電子機器に組み込まれる。このモジュールは、例えば、素子パネル10または封止パネル20の一辺に、封止用基板21または素子基板11から露出した領域61を設け、この露出した領域61に、信号線駆動回路120、走査線駆動回路130および電源線供給回路140の配線を延長して外部接続端子(第1周辺電極および第2周辺電極等)を形成したものである。この外部接続端子には、信号の入出力のためのフレキシブルプリント配線基板(FPC;Flexible Printed Circuit)62が設けられていてもよい。
[適用例1]
図12Aおよび図12Bはそれぞれ、上記実施の形態の表示装置1が適用される電子ブックの外観を表したものである。この電子ブックは、例えば、表示部210および非表示部220を有しており、この表示部210が上記実施の形態の表示装置1により構成されている。
図12Aおよび図12Bはそれぞれ、上記実施の形態の表示装置1が適用される電子ブックの外観を表したものである。この電子ブックは、例えば、表示部210および非表示部220を有しており、この表示部210が上記実施の形態の表示装置1により構成されている。
[適用例2]
図13は、上記実施の形態の表示装置1が適用されるスマートフォンの外観を表したものである。このスマートフォンは、例えば、表示部230および非表示部240を有しており、この表示部230が上記実施の形態の表示装置により構成されている。
図13は、上記実施の形態の表示装置1が適用されるスマートフォンの外観を表したものである。このスマートフォンは、例えば、表示部230および非表示部240を有しており、この表示部230が上記実施の形態の表示装置により構成されている。
[適用例3]
図14は、上記実施の形態の表示装置1が適用されるテレビジョン装置の外観を表したものである。このテレビジョン装置は、例えば、フロントパネル310およびフィルターガラス320を含む映像表示画面部300を有しており、この映像表示画面部300は、上記実施の形態の表示装置により構成されている。
図14は、上記実施の形態の表示装置1が適用されるテレビジョン装置の外観を表したものである。このテレビジョン装置は、例えば、フロントパネル310およびフィルターガラス320を含む映像表示画面部300を有しており、この映像表示画面部300は、上記実施の形態の表示装置により構成されている。
[適用例4]
図15A,図15Bは、上記実施の形態の表示装置1が適用されるデジタルカメラの外観を表したものである。このデジタルカメラは、例えば、フラッシュ用の発光部410、表示部420、メニュースイッチ430およびシャッターボタン440を有しており、この表示部420が上記実施の形態の表示装置1により構成されている。
図15A,図15Bは、上記実施の形態の表示装置1が適用されるデジタルカメラの外観を表したものである。このデジタルカメラは、例えば、フラッシュ用の発光部410、表示部420、メニュースイッチ430およびシャッターボタン440を有しており、この表示部420が上記実施の形態の表示装置1により構成されている。
[適用例5]
図16は、上記実施の形態の表示装置1が適用されるノート型パーソナルコンピュータの外観を表したものである。このノート型パーソナルコンピュータは、例えば、本体510,文字等の入力操作のためのキーボード520および画像を表示する表示部530を有しており、この表示部530が上記実施の形態の表示装置1により構成されている。
図16は、上記実施の形態の表示装置1が適用されるノート型パーソナルコンピュータの外観を表したものである。このノート型パーソナルコンピュータは、例えば、本体510,文字等の入力操作のためのキーボード520および画像を表示する表示部530を有しており、この表示部530が上記実施の形態の表示装置1により構成されている。
[適用例6]
図17は、上記実施の形態の表示装置1が適用されるビデオカメラの外観を表したものである。このビデオカメラは、例えば、本体部610,この本体部610の前方側面に設けられた被写体撮影用のレンズ620,撮影時のスタート/ストップスイッチ630および表示部640を有している。そして、この表示部640が上記実施の形態の表示装置により構成されている。
図17は、上記実施の形態の表示装置1が適用されるビデオカメラの外観を表したものである。このビデオカメラは、例えば、本体部610,この本体部610の前方側面に設けられた被写体撮影用のレンズ620,撮影時のスタート/ストップスイッチ630および表示部640を有している。そして、この表示部640が上記実施の形態の表示装置により構成されている。
[適用例7]
図18A,図18Bは、上記実施の形態の表示装置1が適用される携帯電話機の外観を表したものである。この携帯電話機は、例えば、上側筐体710と下側筐体720とを連結部(ヒンジ部)730で連結したものであり、ディスプレイ740,サブディスプレイ750,ピクチャーライト760およびカメラ770を有している。そして、これらのうちのディスプレイ740またはサブディスプレイ750が、上記実施の形態の表示装置1により構成されている。
図18A,図18Bは、上記実施の形態の表示装置1が適用される携帯電話機の外観を表したものである。この携帯電話機は、例えば、上側筐体710と下側筐体720とを連結部(ヒンジ部)730で連結したものであり、ディスプレイ740,サブディスプレイ750,ピクチャーライト760およびカメラ770を有している。そして、これらのうちのディスプレイ740またはサブディスプレイ750が、上記実施の形態の表示装置1により構成されている。
以上、実施の形態および変形例を挙げて本技術を説明したが、本技術はこれら実施の形態等に限定されず、種々の変形が可能である。例えば、上記実施の形態等では、全ての有機発光素子10R,10G,10B,10Wが共通の有機層16を有する場合を例に挙げて説明したが、有機層16のうちのいずれかの層が有機発光素子10R,10G,10B,10Wに共通していてもよく、あるいは、有機発光素子10R,10G,10B,10W毎に有機層16が塗り分けられていてもよい。
また、上記実施の形態等では、赤色発光層、緑色発光層および青色発光層を積層させて白色光を発生させる場合について説明したが、発光層の構成はどのようなものであってもよく、例えば、青色発光層と黄色発光層とを積層させるようにしてもよい。
更に、上記実施の形態等では、カラーフィルタ23として赤色フィルタ,緑色フィルタ,青色フィルタ,白色フィルタを設けて、赤色、緑色、青色および白色のサブピクセルを配置する場合について説明したが、白色に代えて黄色のサブピクセルを設けるようにしてもよい。あるいは、赤色、緑色および青色のサブピクセルにより1のピクセルを構成するようにしてもよい。
更にまた、上記実施の形態等では、高抵抗層17を設ける場合について説明したが、これらの高抵抗層およびオーバーコート層の一方または双方を省略してもよい。
加えてまた、上記実施の形態等では、第1コンタクト電極38および第2コンタクト電極を介してピラー46と配線32とを電気的に接続する場合について説明したが、第1コンタクト電極および第2コンタクト電極の一方または双方を省略してもよい。
なお、本明細書に記載された効果はあくまで例示であって限定されるものではなく、また他の効果があってもよい。
また、本技術は以下のような構成を取り得るものである。
(1)第1基板の表示領域に設けられ、前記第1基板上に第1電極、発光層および第2電極をこの順に有する複数の発光素子と、前記発光素子を間にして前記第1基板に対向する第2基板に設けられ、前記表示領域から前記表示領域を囲む周辺領域に至るまで延在する補助配線と、前記補助配線と前記発光素子の第2電極とを電気的に接続する第1ピラーと、
前記補助配線と前記第1基板の周辺領域に設けられた周辺電極とを電気的に接続する第2ピラーとを備えた表示装置。
(2)前記第2ピラーの高さは前記第1ピラーの高さと同じである前記(1)に記載の表示装置。
(3)前記第2電極は前記複数の発光素子に共通して設けられている前記(1)または(2)に記載の表示装置。
(4)隣り合う前記発光素子の間に隔壁を有し、前記隔壁上に延在した前記第2電極と前記補助配線との間に前記第1ピラーが設けられている前記(3)に記載の表示装置。
(5)前記第1基板の周辺領域には、前記隔壁と同じ厚みの絶縁膜が設けられている前記(4)に記載の表示装置。
(6)前記周辺電極は、前記第1電極の厚みと同じ厚みの第1コンタクト電極と、前記絶縁膜上に設けられ、前記第2電極の厚みと同じ厚みを有する第2コンタクト電極とを含み、前記第2コンタクト電極は、前記絶縁膜に設けられた接続孔で前記第1コンタクト電極に接している前記(5)に記載の表示装置。
(7)前記第1コンタクト電極は、前記絶縁膜の複数の接続孔で前記第2コンタクト電極に接している前記(6)に記載の表示装置。
(8)前記周辺電極は共通電源供給線に電気的に接続されている前記(1)乃至(7)のうちいずれか1つに記載の表示装置。
(9)前記第1ピラーおよび前記第2ピラーはそれぞれ複数設けられ、前記周辺領域での前記第2ピラーの分布密度は前記表示領域での前記第1ピラーの分布密度よりも高い前記(1)乃至(8)のうちいずれか1つに記載の表示装置。
(10)前記第2ピラーの太さは前記第1ピラーの太さよりも大きい前記(1)乃至(9)のうちいずれか1つに記載の表示装置。
(11)前記第2ピラーの周囲には充填樹脂層が設けられている前記(1)乃至(10)のうちいずれか1つに記載の表示装置。
(12)前記第1ピラーおよび前記第2ピラーは弾性を有する前記(1)乃至(11)のうちいずれか1つに記載の表示装置。
(13)前記第1ピラーおよび第2ピラーは、樹脂材料を含む成形部材と前記成形部材を覆う導電膜とを有している前記(1)乃至(12)のうちいずれか1つに記載の表示装置。
(14)前記第1ピラーおよび第2ピラーは同じ材料により構成されている前記(1)乃至(13)のうちいずれか1つに記載の表示装置。
(15)表示装置を備え、前記表示装置は、第1基板の表示領域に設けられ、前記第1基板上に第1電極、発光層および第2電極をこの順に有する複数の発光素子と、前記発光素子を間にして前記第1基板に対向する第2基板に設けられ、前記表示領域から前記表示領域を囲む周辺領域に至るまで延在する補助配線と、前記補助配線と前記発光素子の第2電極とを電気的に接続する第1ピラーと、前記補助配線と前記第1基板の周辺領域に設けられた周辺電極とを電気的に接続する第2ピラーとを含む電子機器。
(1)第1基板の表示領域に設けられ、前記第1基板上に第1電極、発光層および第2電極をこの順に有する複数の発光素子と、前記発光素子を間にして前記第1基板に対向する第2基板に設けられ、前記表示領域から前記表示領域を囲む周辺領域に至るまで延在する補助配線と、前記補助配線と前記発光素子の第2電極とを電気的に接続する第1ピラーと、
前記補助配線と前記第1基板の周辺領域に設けられた周辺電極とを電気的に接続する第2ピラーとを備えた表示装置。
(2)前記第2ピラーの高さは前記第1ピラーの高さと同じである前記(1)に記載の表示装置。
(3)前記第2電極は前記複数の発光素子に共通して設けられている前記(1)または(2)に記載の表示装置。
(4)隣り合う前記発光素子の間に隔壁を有し、前記隔壁上に延在した前記第2電極と前記補助配線との間に前記第1ピラーが設けられている前記(3)に記載の表示装置。
(5)前記第1基板の周辺領域には、前記隔壁と同じ厚みの絶縁膜が設けられている前記(4)に記載の表示装置。
(6)前記周辺電極は、前記第1電極の厚みと同じ厚みの第1コンタクト電極と、前記絶縁膜上に設けられ、前記第2電極の厚みと同じ厚みを有する第2コンタクト電極とを含み、前記第2コンタクト電極は、前記絶縁膜に設けられた接続孔で前記第1コンタクト電極に接している前記(5)に記載の表示装置。
(7)前記第1コンタクト電極は、前記絶縁膜の複数の接続孔で前記第2コンタクト電極に接している前記(6)に記載の表示装置。
(8)前記周辺電極は共通電源供給線に電気的に接続されている前記(1)乃至(7)のうちいずれか1つに記載の表示装置。
(9)前記第1ピラーおよび前記第2ピラーはそれぞれ複数設けられ、前記周辺領域での前記第2ピラーの分布密度は前記表示領域での前記第1ピラーの分布密度よりも高い前記(1)乃至(8)のうちいずれか1つに記載の表示装置。
(10)前記第2ピラーの太さは前記第1ピラーの太さよりも大きい前記(1)乃至(9)のうちいずれか1つに記載の表示装置。
(11)前記第2ピラーの周囲には充填樹脂層が設けられている前記(1)乃至(10)のうちいずれか1つに記載の表示装置。
(12)前記第1ピラーおよび前記第2ピラーは弾性を有する前記(1)乃至(11)のうちいずれか1つに記載の表示装置。
(13)前記第1ピラーおよび第2ピラーは、樹脂材料を含む成形部材と前記成形部材を覆う導電膜とを有している前記(1)乃至(12)のうちいずれか1つに記載の表示装置。
(14)前記第1ピラーおよび第2ピラーは同じ材料により構成されている前記(1)乃至(13)のうちいずれか1つに記載の表示装置。
(15)表示装置を備え、前記表示装置は、第1基板の表示領域に設けられ、前記第1基板上に第1電極、発光層および第2電極をこの順に有する複数の発光素子と、前記発光素子を間にして前記第1基板に対向する第2基板に設けられ、前記表示領域から前記表示領域を囲む周辺領域に至るまで延在する補助配線と、前記補助配線と前記発光素子の第2電極とを電気的に接続する第1ピラーと、前記補助配線と前記第1基板の周辺領域に設けられた周辺電極とを電気的に接続する第2ピラーとを含む電子機器。
1…表示装置、10…素子パネル、10R,10G,10B,10W…有機発光素子、11…素子基板、12…TFT、12A…層間絶縁膜、12B…配線、13…平坦化層、14…第1電極、15…隔壁、16…有機層、17…高抵抗層、18…第2電極、19…充填樹脂層、20…封止パネル、21…封止基板、22…遮光層、23…カラーフィルタ、24…オーバーコート層、25…補助配線、26,46…ピラー、26A,46A…成形体、26B,46B…導電膜、32…配線、34…第1コンタクト電極、35…絶縁膜、38…第2コンタクト電極、13A,13B,15H,35H…接続孔、110A…表示領域、110B…周辺領域、120…信号線駆動回路、130…走査線駆動回路、140…電源供給線駆動回路、150…画素駆動回路。
Claims (15)
- 第1基板の表示領域に設けられ、前記第1基板上に第1電極、発光層および第2電極をこの順に有する複数の発光素子と、
前記発光素子を間にして前記第1基板に対向する第2基板に設けられ、前記表示領域から前記表示領域を囲む周辺領域に至るまで延在する補助配線と、
前記補助配線と前記発光素子の第2電極とを電気的に接続する第1ピラーと、
前記補助配線と前記第1基板の周辺領域に設けられた周辺電極とを電気的に接続する第2ピラーと
を備えた表示装置。 - 前記第2ピラーの高さは前記第1ピラーの高さと同じである
請求項1に記載の表示装置。 - 前記第2電極は前記複数の発光素子に共通して設けられている
請求項1に記載の表示装置。 - 隣り合う前記発光素子の間に隔壁を有し、
前記隔壁上に延在した前記第2電極と前記補助配線との間に前記第1ピラーが設けられている
請求項3に記載の表示装置。 - 前記第1基板の周辺領域には、前記隔壁と同じ厚みの絶縁膜が設けられている
請求項4に記載の表示装置。 - 前記周辺電極は、
前記第1電極の厚みと同じ厚みの第1コンタクト電極と、
前記絶縁膜上に設けられ、前記第2電極の厚みと同じ厚みを有する第2コンタクト電極とを含み、
前記第2コンタクト電極は、前記絶縁膜に設けられた接続孔で前記第1コンタクト電極に接している
請求項5に記載の表示装置。 - 前記第1コンタクト電極は、前記絶縁膜の複数の接続孔で前記第2コンタクト電極に接している
請求項6に記載の表示装置。 - 前記周辺電極は共通電源供給線に電気的に接続されている
請求項1に記載の表示装置。 - 前記第1ピラーおよび前記第2ピラーはそれぞれ複数設けられ、
前記周辺領域での前記第2ピラーの分布密度は前記表示領域での前記第1ピラーの分布密度よりも高い
請求項1に記載の表示装置。 - 前記第2ピラーの太さは前記第1ピラーの太さよりも大きい
請求項1に記載の表示装置。 - 前記第2ピラーの周囲には充填樹脂層が設けられている
請求項1に記載の表示装置。 - 前記第1ピラーおよび前記第2ピラーは弾性を有する
請求項1に記載の表示装置。 - 前記第1ピラーおよび第2ピラーは、樹脂材料を含む成形部材と前記成形部材を覆う導電膜とを有している
請求項1に記載の表示装置。 - 前記第1ピラーおよび第2ピラーは同じ材料により構成されている
請求項1に記載の表示装置。 - 表示装置を備え、
前記表示装置は、
第1基板の表示領域に設けられ、前記第1基板上に第1電極、発光層および第2電極をこの順に有する複数の発光素子と、
前記発光素子を間にして前記第1基板に対向する第2基板に設けられ、前記表示領域から前記表示領域を囲む周辺領域に至るまで延在する補助配線と、
前記補助配線と前記発光素子の第2電極とを電気的に接続する第1ピラーと、
前記補助配線と前記第1基板の周辺領域に設けられた周辺電極とを電気的に接続する第2ピラーとを含む
電子機器。
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