JP2015197475A - 表示装置および電子機器 - Google Patents
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Abstract
【課題】より良好な表示性能を有する表示装置を提供する。【解決手段】この表示装置は、第1の方向において隣り合う第1の画素および第2の画素を含む表示部と、第1の画素および第2の画素の各々に対応して配置され、第1の方向において隣り合う第1のフィルタおよび第2のフィルタを含むフィルタ層とを有する。第1のフィルタの屈折率は第2のフィルタの屈折率よりも低く、第1の方向における第1のフィルタの寸法は、少なくとも一部において、第1の方向における第2のフィルタの寸法よりも大きく、第1のフィルタと第2のフィルタとの境界は、少なくとも一部において、第2の画素が占める領域に位置する。【選択図】図1
Description
本開示は、カラーフィルタを有する表示装置、およびこの表示装置を備えた電子機器に関する。
有機EL素子などの自発光素子は、第1電極と第2電極との間に発光層を有しており、その発光層に対し直流電圧が印加されると発光層において正孔−電子再結合が生じ、発光するものである。このような有機EL素子を複数有する表示装置としては、全ての有機EL素子から白色光を発生させ、画素ごとに所定の波長光を選択的に透過するカラーフィルタにその白色光を透過させることで各色光を表示するようにしたものが知られている(例えば特許文献1参照)。
しかしながら、このようなカラーフィルタを用いて色分離する構造においては、有機EL素子からカラーフィルタに対し斜め方向に白色光が入射することで、隣り合う1の画素と他の1の画素との境界近傍において色にじみが生じる場合がある。そこで、カラーフィルタの射出側にブラックマトリクスと呼ばれる遮光部を設けることも考えられるが、その場合には画面全体の輝度が低下したり、視野角特性が劣化したりするおそれがある。
本開示はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、視野角特性を損なうことなく、混色や色滲みが低減された良好な表示性能を有する表示装置、およびこの表示装置を備えた電子機器を提供することにある。
本開示の一実施形態としての表示装置は、第1の方向において隣り合う第1の画素および第2の画素を含む表示部と、第1の画素および第2の画素の各々に対応して配置され、第1の方向において隣り合う第1のフィルタおよび第2のフィルタを含むフィルタ層と を有する。ここで、第1のフィルタの屈折率は第2のフィルタの屈折率よりも低く、第1の方向における第1のフィルタの寸法は、少なくとも一部において、第1の方向における第2のフィルタの寸法よりも大きく、第1のフィルタと第2のフィルタとの境界は、少なくとも一部において、第2の画素と対応する領域に位置する。
本開示の一実施形態としての電子機器は、上記表示装置を備えたものである。
本開示の一実施形態としての表示装置では、第1の画素に対応する第1のフィルタの屈折率が第2の画素に対応する第2のフィルタの屈折率よりも低い。また、第1の方向において第1のフィルタの寸法が少なくとも一部において第2のフィルタの寸法よりも大きく、第1のフィルタと第2のフィルタとの境界が少なくとも一部において第2の画素と対応する領域に位置するようにした。このため、第2の画素から第2のフィルタへ入射した光が、第1のフィルタへ進入することが生じにくくなる。
本開示の一実施形態としての表示装置および電子機器によれば、視野角特性の低下を招くことなく第1の画素と第2の画素との境界近傍での混色や色滲みが抑制されるので、良好な表示性能を発揮することができる。なお、本開示の効果はこれに限定されるものではなく、以下の記載のいずれの効果であってもよい。
以下、本開示の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
1.第1の実施の形態(基本構成の表示装置:トップエミッション方式)
2.第2の実施の形態(遮光層をさらに有する表示装置:トップエミッション方式)
3.第3の実施の形態(表示装置:ボトムエミッション方式)
4.表示装置の適用例(モジュールおよびスマートフォン)
5.変形例
(1)遮光層をカラーフィルタの内部に配置した例
(2)カラーフィルタの平面形状の変形例
1.第1の実施の形態(基本構成の表示装置:トップエミッション方式)
2.第2の実施の形態(遮光層をさらに有する表示装置:トップエミッション方式)
3.第3の実施の形態(表示装置:ボトムエミッション方式)
4.表示装置の適用例(モジュールおよびスマートフォン)
5.変形例
(1)遮光層をカラーフィルタの内部に配置した例
(2)カラーフィルタの平面形状の変形例
<1.第1の実施の形態>
[表示装置1の構成]
図1〜図4を参照して、本開示における第1の実施の形態としての有機EL表示装置(表示装置1)について説明する。図1は、表示装置1の要部断面構成を表したものである。図2は、表示装置1の全体構成を表すものである。図3は、表示装置1に含まれる画素駆動回路150(後出)の一構成例を表すものである。図4は、表示装置1の要部構成を表す平面図である。なお、図1は図4に示したI−I線に沿った矢視方向の断面に相当する。表示装置1は、素子パネル10と封止パネル20とを有し、封止パネル20を透過した光を取り出す、いわゆるトップエミッション型の表示装置であり、複数の有機発光素子30を含んでいる。有機発光素子30には、例えば赤色光、緑色光、青色光および白色光を各々射出する有機発光素子30R,30G,30B,30Wが含まれている。
[表示装置1の構成]
図1〜図4を参照して、本開示における第1の実施の形態としての有機EL表示装置(表示装置1)について説明する。図1は、表示装置1の要部断面構成を表したものである。図2は、表示装置1の全体構成を表すものである。図3は、表示装置1に含まれる画素駆動回路150(後出)の一構成例を表すものである。図4は、表示装置1の要部構成を表す平面図である。なお、図1は図4に示したI−I線に沿った矢視方向の断面に相当する。表示装置1は、素子パネル10と封止パネル20とを有し、封止パネル20を透過した光を取り出す、いわゆるトップエミッション型の表示装置であり、複数の有機発光素子30を含んでいる。有機発光素子30には、例えば赤色光、緑色光、青色光および白色光を各々射出する有機発光素子30R,30G,30B,30Wが含まれている。
図1に示したように、素子パネル10は、素子基板11上に有機発光素子30R,30G,30B,30Wの下部構造31が設けられたものである。有機発光素子30R,30G,30B,30Wの各下部構造31は、第1〜第4の画素PX1〜PX4(図4)を構成するものであり、例えば第1電極層12、有機層14、第2電極層15および保護膜16からなる積層構造を有する。各下部構造31は、いずれも封止パネル20との間に設けられた接着層17に覆われている。封止パネル20は、素子基板11と対向する封止基板21を有しており、その封止基板21の素子基板11との対向面に、有機発光素子30R,30G,30B,30Wの上部構造32としてカラーフィルタ(CF)層19とオーバーコート層18とが順に設けられたものである。ここで、有機発光素子30R,30G,30B,30Wの各下部構造31は、例えば共通の有機層14、第2電極層15および保護膜16を有し、全て白色光を発するものである。また、CF層19は、有機発光素子30R,30G,30B,30Wの各下部構造31からの白色光を赤色光、緑色光、青色光および白色光に色分離するものである。なお、図1では、有機発光素子30B,30Wのみが示されている。
図2に示したように、表示装置1は、中央部に有機発光素子30R,30G,30B,30Wがマトリクス状に二次元配置された表示領域110を有している。表示領域110の周辺には、例えば映像表示用のドライバである信号線駆動回路120、走査線駆動回路130および電源供給線駆動回路140が設けられている。
表示領域110には、複数の有機発光素子30R,30G,30B,30Wと共に、それらを駆動するための画素駆動回路150が形成されている。画素駆動回路150において、列方向(Y方向)には複数の信号線120A(120A1,120A2,・・・,120Am,・・・)が配置され、行方向(X方向)には複数の走査線130A(130A1,・・・,130An,・・・)および複数の電源供給線140A(140A1,・・・,140An,・・・)が配置されている。有機発光素子30R,30G,30B,30Wは、信号線120Aと走査線130Aとの交差点にそれぞれ設けられている。信号線120Aはその両端が信号線駆動回路120に接続され、走査線130Aはその両端が走査線駆動回路130に接続され、電源供給線140Aはその両端が電源供給線駆動回路140に接続されている。
信号線駆動回路120は、信号供給源(図示せず)から供給される輝度情報に応じた映像信号の信号電圧を、信号線120Aを介して選択された有機発光素子30R,30G,30B,30Wに供給する。走査線駆動回路130は、入力されるクロックパルスに同期してスタートパルスを順にシフト(転送)するシフトレジスタなどを含む。走査線駆動回路130は、各有機発光素子30R,30G,30B,30Wへの映像信号の書き込みに際し、行単位でそれらを走査し各走査線130Aに走査信号を順次供給する。信号線120Aには信号線駆動回路120からの信号電圧が、走査線130Aには走査線駆動回路130からの走査信号がそれぞれ供給される。
電源供給線駆動回路140は、入力されるクロックパルスに同期してスタートパルスを順にシフト(転送)するシフトレジスタなどを含む。電源供給線駆動回路140は、走査線駆動回路130による行単位の走査と同期して、各電源供給線140Aに対し、各々の両端から、互いに異なる第1電位および第2電位のいずれかを適宜供給する。これにより、後述するトランジスタTr1の導通状態または非導通状態の選択が行われる。
図3に示したように、画素駆動回路150は、トランジスタTr1およびトランジスタTr2と、キャパシタ(保持容量)Csと、有機発光素子30R,30G,30B,30Wとを有するアクティブ型の駆動回路である。有機発光素子30R,30G,30B,30Wは、電源供給線140Aおよび共通電源供給線(GND)の間においてトランジスタTr1と直列に接続されている。トランジスタTr1およびトランジスタTr2は、逆スタガ構造(いわゆるボトムゲート型)であってもスタガ構造(トップゲート型)であってもよい。
トランジスタTr2は、例えばドレイン電極が信号線120Aと接続されており、信号線駆動回路120からの映像信号が供給されるようになっている。また、トランジスタTr2のゲート電極は走査線130Aと接続されており、走査線駆動回路130からの走査信号が供給されるようになっている。さらに、トランジスタTr2のソース電極は、駆動トランジスタTr1のゲート電極と接続されている。
トランジスタTr1は、例えばドレイン電極が電源供給線140Aと接続されており、電源供給線駆動回路140による第1電位または第2電位のいずれかに設定される。トランジスタTr1のソース電極は、有機発光素子30R,30G,30B,30Wと接続されている。
保持容量Csは、トランジスタTr1のゲート電極(トランジスタTr2のソース電極)と、トランジスタTr1のソース電極との間に形成されるものである。
[表示装置1の要部構成]
次に、再び図1を参照して、素子パネル10および封止パネル20の詳細な構成について説明する。
次に、再び図1を参照して、素子パネル10および封止パネル20の詳細な構成について説明する。
素子基板11は、例えば、水分(水蒸気)および酸素の透過を遮断可能なガラスまたはプラスチック材料などにより形成されている。素子基板11は、その一主面に有機発光素子10R,10G,10Bが配列形成される支持体である。素子基板11の構成材料としては、例えば高歪点ガラス、ソーダガラス(Na2O・CaO・SiO2)、硼珪酸ガラス(Na2O・B2O3・SiO2)、フォルステライト(2MgO・SiO2)および鉛ガラス(Na2O・PbO・SiO2)等のガラス基板、石英基板あるいはシリコン基板が挙げられる。このようなガラス基板、石英基板およびシリコン基板の表面に絶縁膜を設けて素子基板11を構成してもよい。素子基板11には、金属箔もしくは樹脂製のフィルムやシートなどを用いることも可能である。樹脂の材質としては、例えば、ポリメチルメタクリレート(ポリメタクリル酸メチル,PMMA)、ポリビニルアルコール(PVA)、ポリビニルフェノール(PVP)、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート(PET)およびポリエチレンナフタレート(PEN)などの有機ポリマーが挙げられる。なお、トップエミッション型では封止基板21から光が取り出されるため、素子基板11は、透過性材料または非透過性材料のいずれにより形成されていてもよい。封止基板21には素子基板11と同じ材料を用いるようにしてもよく、あるいは、異なる材料を用いるようにしてもよい。また、可撓性材料により素子基板11を構成してもよい。
有機発光素子30R,30G,30B,30Wは、素子基板11の上に、第1電極層12、発光層を含む有機層14、第2電極層15、保護膜16、封止層でもある接着層17、オーバーコート層18およびCF層19が順に積層されてなるものである。隣り合う有機発光素子30R,30G,30B,30Wの間には絶縁膜13が配置されている。有機発光素子30R,30G,30B,30Wの配列は特に限定されず、図2および後出の図4に示したレクタングル配列のほか、例えばストライプ配列やダイアゴナル配列などが採用可能である。
第1電極層12は有機発光素子30R,30G,30B,30Wの各々に応じて設けられているため、複数の第1電極層12が素子基板11上に互いに離間して配置されている。第1電極層12は例えばアノード電極としての機能および反射層としての機能を兼ね備えたものであり、反射率が高く、かつ、正孔注入性も高い材料により構成されていることが望ましい。このような第1電極層12としては、例えば、クロム(Cr),金(Au),白金(Pt),ニッケル(Ni),銅(Cu),モリブデン(Mo),タングステン(W),チタン(Ti),タンタル(Ta),アルミニウム(Al),鉄(Fe)あるいは銀(Ag)などの金属元素の単体または合金が挙げられる。第1電極層12は、このような金属膜を複数積層したものであってもよい。銀に0.3重量%〜1重量%のパラジウム(Pd)と0.3重量%〜1重量%の銅とを含有させたAg―Pd―Cu合金あるいはAl―ネオジム(Nd)合金を第1電極層12に用いるようにしてもよい。第1電極層12には仕事関数の高い材料を用いることが好ましいが、アルミニウムおよびアルミニウム合金等の仕事関数の小さい金属であっても、適切な有機層14(特に、後述の正孔注入層)を選択することにより、第1電極層12として用いることが可能となる。
第1電極層12の表面(第2電極層15との対向面)から側面は、絶縁膜13で覆われており、この絶縁膜13には有機発光素子30R,30G,30B,30Wの発光領域を規定するための開口が設けられている。絶縁膜13は、発光領域を正確に所望の形状に制御すると共に、第1電極層12と第2電極層15との間の絶縁性を確保する役割を担っている。絶縁膜13には例えば、ポリイミド等の有機材料または酸化シリコン(SiO2),窒化シリコン(SiNx)および酸窒化シリコン(SiON)等の無機材料を用いることができる。
有機層14は、例えば、全ての有機発光素子30R,30G,30B,30Wに共通して設けられ、第1電極層12の側から、正孔注入層,正孔輸送層,発光層,電子輸送層および電子注入層(いずれも図示せず)をこの順に有している。正孔輸送層,発光層および電子輸送層により有機層14を構成するようにしてもよく、このとき、発光層が電子輸送層を兼ねるようにしてもよい。このような一連の積層構造(いわゆるタンデムユニット)が接続層を介して複数重なることで有機層14が構成されてもよい。例えば、赤色、緑色および青色の色毎にタンデムユニットを有し、これらを積層して有機層14を構成するようにしてもよい。
正孔注入層は、正孔注入効率を高めるためのものであると共に、リークを防止するためのバッファ層である。正孔注入層は、例えば、化1または化2に示したヘキサアザトリフェニレン誘導体により構成されている。
正孔輸送層は、発光層への正孔輸送効率を高めるためのものである。正孔輸送層は、例えば、厚みが40nm程度であり、4,4′,4″−トリス(3−メチルフェニルフェニルアミノ)トリフェニルアミン(m−MTDATA)またはα−ナフチルフェニルジアミン(αNPD)により構成されている。
発光層は例えば白色発光用の発光層であり、第1電極層12と第2電極層15との間に例えば赤色発光層、緑色発光層および青色発光層(いずれも図示せず)の積層体を有している。赤色発光層,緑色発光層および青色発光層は、電界をかけることにより、第1電極層12から正孔注入層および正孔輸送層を介して注入された正孔の一部と、第2電極層15から電子注入層および電子輸送層を介して注入された電子の一部とが再結合して、それぞれ赤色,緑色および青色の光を発生させるものである。
赤色発光層は、例えば、赤色発光材料,正孔輸送性材料,電子輸送性材料および両電荷輸送性材料のうち少なくとも1種を含んでいる。赤色発光材料は、蛍光性のものでも燐光性のものでもよい。赤色発光層は、例えば、厚みが5nm程度であり、4,4−ビス(2,2−ジフェニルビニン)ビフェニル(DPVBi)に2,6−ビス[(4’−メトキシジフェニルアミノ)スチリル]−1,5−ジシアノナフタレン(BSN)を30重量%混合したものにより構成されている。
緑色発光層は、例えば、緑色発光材料,正孔輸送性材料,電子輸送性材料および両電荷輸送性材料のうち少なくとも1種を含んでいる。緑色発光材料は、蛍光性のものでも燐光性のものでもよい。緑色発光層は、例えば、厚みが10nm程度であり、DPVBiにクマリン6を5重量%混合したものにより構成されている。
青色発光層は、例えば、青色発光材料,正孔輸送性材料,電子輸送性材料および両電荷輸送性材料のうち少なくとも1種を含んでいる。青色発光材料は、蛍光性のものでも燐光性のものでもよい。青色発光層は、例えば、厚みが30nm程度であり、DPVBiに4,4’−ビス[2−{4−(N,N−ジフェニルアミノ)フェニル}ビニル]ビフェニル(DPAVBi)を2.5重量%混合したものにより構成されている。
電子輸送層は、発光層への電子輸送効率を高めるためのものであり、例えば厚みが20nm程度の8−ヒドロキシキノリンアルミニウム(Alq3)により構成されている。電子注入層は、発光層への電子注入効率を高めるためのものであり、例えば厚みが0.3nm程度のLiFあるいはLi2O等により構成されている。
第2電極層15は、有機層14を間にして第1電極層12と対をなし、例えば電子注入層の上に全ての有機EL素子30R,30G,30B,30Wに共通して設けられている。第2電極層15は例えばカソード電極としての機能および光透過層としての機能を兼ね備えたものであり、導電性が高く、かつ、光透過率も高い材料により構成されていることが望ましい。したがって、第2電極層15は、例えば、アルミニウム(Al),マグネシウム(Mg),銀(Ag),カルシウム(Ca)またはナトリウム(Na)の合金により構成されている。中でも、マグネシウムと銀との合金(Mg−Ag合金)は、薄膜での導電性と吸収の小ささとを兼ね備えているので好ましい。また、第2電極層15の材料としては、アルミニウム(Al)とリチウム(Li)との合金(Al−Li合金)を用いるようにしてもよく、インジウム錫酸化物(ITO),酸化亜鉛(ZnO),アルミナドープ酸化亜鉛(AZO),ガリウムドープ酸化亜鉛(GZO),インジウム亜鉛酸化物(IZO),インジウムチタン酸化物(ITiO)またはインジウムタングステン酸化物(IWO)等を用いてもよい。第2電極層15は、有機層14への水分の浸入を防ぐ機能も有している。
接着層17は、第2電極層15を覆うように素子パネル10の全面を覆い、素子パネル10と封止パネル20との間を封止している。接着層17は、外部から表示領域110への水分浸入を防ぐと共に、素子パネル10と封止パネル20との間の距離を規定するように機能する。接着層17は、例えば熱硬化型接着剤または紫外線硬化型接着剤などの透明樹脂からなる。そのような接着剤としては、例えば、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤、ウレタン系接着剤、シリコーン系接着剤またはシアノアクリレート系接着剤などが挙げられる。
オーバーコート層18は、CF層19の表面の平坦性を高め、保護するためのコーティング剤であり、例えば樹脂等の有機材料やSiO,SiNあるいはITOなどの無機材料により構成されている。
CF層19は、例えば、第1〜第4のフィルタCF1〜CF4を含み、これらが有機発光素子30R,30G,30B,30Wのパターン毎に配色されてレクタングル配列されている。具体的には、例えば図4に示したように、第1のフィルタCF1が青色(B)フィルタであり、第2のフィルタCF2が白色(W)フィルタであり、第3のフィルタCF3が緑色(G)フィルタであり、第4のフィルタCF4が赤色(R)フィルタである。有機発光素子30R,30G,30B,30Wの各下部構造31からの白色光が第1〜第4のフィルタCF1〜CF4を透過することにより、赤色光、緑色光、青色光および白色光がそれぞれ発せられる。第1〜第4のフィルタCF1〜CF4は、第1〜第4の画素PX1〜PX4の各々に対応して配置されている。ここでは、第1の画素PX1は有機発光素子30Bが構成し、第2の画素PX2は有機発光素子30Wが構成し、第3の画素PX3は有機発光素子30Gが構成し、第4の画素PX4は有機発光素子30Rが構成している。
本実施の形態では、第1の方向(X軸方向)において隣り合う第1のフィルタCF1および第2のフィルタCF2は、第1の画素PX1および第2の画素PX2にそれぞれ対応して配置されている。同様に、X軸方向において隣り合う第3のフィルタCF3および第4のフィルタCF4は、第3の画素PX3および第4の画素PX4にそれぞれ対応して配置されている。また、第2の方向(Y軸方向)において、第1のフィルタCF1と第3のフィルタCF3とが隣り合っており、第2のフィルタCF2と第4のフィルタCF4とが隣り合っている。
第1のフィルタCF1の屈折率N1は、第2のフィルタCF2の屈折率N2および第3のフィルタCF3の屈折率N3の双方よりも低い(N1<N2,N1<N3)。また、第4のフィルタCF4の屈折率N4は、第2のフィルタCF2の屈折率N2および第3のフィルタCF3の屈折率N3の双方よりも高い(N2<N4,N3<N4)。なお、ここでの各屈折率は、可視光(400nm〜700nm)に対する平均値をいう。例えば、屈折率N1は1.50であり、屈折率N2は1.55であり、屈折率N3は1.65であり、屈折率N4は1.75である。
また、X軸方向における第1のフィルタCF1の寸法X1はX軸方向における第2のフィルタCF2の寸法X2よりも大きく(X1>X2)、第1のフィルタCF1と第2のフィルタCF2との境界K12が第2の画素PX2が占める領域に位置している。同様に、X軸方向における第4のフィルタCF4の寸法X4はX軸方向における第3のフィルタCF3の寸法X3よりも小さく(X3>X4)、第3のフィルタCF3と第4のフィルタCF4との境界K34は第4の画素PX4が占める領域に位置している。
さらに、Y軸方向における第1のフィルタCF1の寸法Y1はY軸方向における第3のフィルタCF3の寸法Y3よりも大きく(Y1>Y3)、第1のフィルタCF1と第3のフィルタCF3との境界K13は第3の画素PX3が占める領域に位置している。同様に、Y軸方向における第4のフィルタCF4の寸法Y4はY軸方向における第2のフィルタCF2の寸法Y2よりも小さく(Y2>Y4)、第2のフィルタCF2と第4のフィルタCF4との境界K24は第4の画素PX4が占める領域に位置している。
第1〜第4のフィルタCF1〜CF4は、例えば顔料または染料を混入した樹脂により構成されている。この顔料または染料の種類を適宜選択することにより、赤色フィルタ、緑色フィルタおよび青色フィルタでは、それぞれ、赤色、緑色または青色の波長域の光透過率が高くなるように調整されている。
[表示装置1の動作]
表示装置1では、各有機発光素子30R,30G,30B,30Wに、各色の映像信号に応じた駆動電流が印加されると、第1電極層12および第2電極層15を通じて、有機層14に電子および正孔が注入される。これらの電子および正孔は、有機層14に含まれる発光層においてそれぞれ再結合され、発光を生じる。この光は、第2電極層15,保護膜16、接着層17、オーバーコート層18、CF層19および封止基板21を順次透過して外部へ取り出される。このようにして、表示装置1では、例えばR,G,B,Wの各色光に基づくフルカラーの映像表示がなされる。また、この映像表示動作の際に容量素子Csの一端に、映像信号に対応する電位が印加されることにより、容量素子Csには、映像信号に対応する電荷が蓄積される。
表示装置1では、各有機発光素子30R,30G,30B,30Wに、各色の映像信号に応じた駆動電流が印加されると、第1電極層12および第2電極層15を通じて、有機層14に電子および正孔が注入される。これらの電子および正孔は、有機層14に含まれる発光層においてそれぞれ再結合され、発光を生じる。この光は、第2電極層15,保護膜16、接着層17、オーバーコート層18、CF層19および封止基板21を順次透過して外部へ取り出される。このようにして、表示装置1では、例えばR,G,B,Wの各色光に基づくフルカラーの映像表示がなされる。また、この映像表示動作の際に容量素子Csの一端に、映像信号に対応する電位が印加されることにより、容量素子Csには、映像信号に対応する電荷が蓄積される。
なお、例えば第1のフィルタCF1(相対的に低い屈折率を有するフィルタ)と第2のフィルタCF2(相対的に高い屈折率を有するフィルタ)との関係は、下記の数1に示した条件式(1)を満たすことが望ましい(図5参照)。第2の画素PX2から第2のフィルタCF2へ入射した光が全反射され、境界K12から第1のフィルタCF1へ進入するのを確実に防止できるからである。但し、n1は第2の画素PX2からの光が第2のフィルタCF2へ入射する直前に通過する媒質、すなわちオーバーコート層18の屈折率であり、nHは第2のフィルタCF2の屈折率であり、θ1は第2の画素PX2から第2のフィルタCF2へ入射する光の最大入射角であり、nL(nL<nH)は第1のフィルタCF1の屈折率である。
なお、条件式(1)は以下のようにして求められる。まず、第2のフィルタCF2へ入射した光の屈折角θH(図5参照)は、下記の数2に示した式(1.1)で表される。
また、第2のフィルタCF2と第1のフィルタCF1との間の臨界角θCは、下記の数3に示した式(1.2)で表される。
また、第2のフィルタCF2を伝播する光が第1のフィルタCF1との境界において全反射を生じるための条件は、下記の数4に示した式(1.3)により表される。
以上の式(1.1)から(1.3)により、上記の数1に示した条件式(1)が求められる。
また、図6A,6Bに示したように、第2のフィルタCF2の屈折率N2(nH)を小さくするには、第1のフィルタCF1の屈折率N1(nL)をできるだけ高くし、最大入射角θ1をできるだけ小さくすることが望ましい。なお、図6Aは、横軸が屈折率N1(nL)を表し、縦軸が屈折率N2(nH)を表し、各曲線が最大入射角θ1=20,25,30,35°の各水準における、条件式(1)を満たす屈折率N2(nH)の最小値を表す特性図である。また、図6Bは、図6Aの縦軸を、屈折率N2(nH)と屈折率N1(nL)との差分dn(nH−nL)に変更した特性図である。
[表示装置1の作用・効果]
この表示装置1では、CF層19が、第1〜第4の画素PX1〜PX4に対応するように配置された、互いに異なる屈折率N1〜N4(但し、屈折率N2と屈折率N3とは一致していてもよい。)を有する第1〜第4のフィルタCF1〜CF4を有するようにした。このため、比較的高い屈折率を有するフィルタ(例えばCF2)を透過した光L2のうち、隣り合う比較的低い屈折率を有するフィルタ(例えばCF1)へ進入してしまう光を低減することができる。特に、上記条件式(1)を満足する場合には、そのような漏れ光の発生を確実に防止できる。
この表示装置1では、CF層19が、第1〜第4の画素PX1〜PX4に対応するように配置された、互いに異なる屈折率N1〜N4(但し、屈折率N2と屈折率N3とは一致していてもよい。)を有する第1〜第4のフィルタCF1〜CF4を有するようにした。このため、比較的高い屈折率を有するフィルタ(例えばCF2)を透過した光L2のうち、隣り合う比較的低い屈折率を有するフィルタ(例えばCF1)へ進入してしまう光を低減することができる。特に、上記条件式(1)を満足する場合には、そのような漏れ光の発生を確実に防止できる。
また、隣り合う比較的低い屈折率のフィルタ(例えばCF1)と比較的高い屈折率のフィルタ(例えばCF2)との境界(K12)を、比較的高い屈折率のフィルタ(CF2)と対応する画素(PX2)に相当する領域に位置するようにした。これにより、比較的低い屈折率を有するフィルタ(CF1)を透過した光L1のうち、隣り合う比較的高い屈折率を有するフィルタ(CF2)へ進入する光も低減することができる。例えば、隣り合う画素間の境界Kと一致するように第1のフィルタCF1と第2のフィルタCF2との境界K12を設けた場合を考える(図17)。この場合には、第1のフィルタCF1における境界K12近傍へ斜めに入射した光LL1が、漏れ光として、隣接する第2のフィルタCF2へ入射してしまいやすくなる。これに対し、本実施の形態では、そのような漏れ光の発生を低減することができる。
このように、本実施の形態の表示装置1によれば、視野角特性を損なうことなく、混色や色滲みが低減された良好な表示性能を発揮することができる。
<2.第2の実施の形態>
[表示装置2の構成]
図7は、本開示における第2の実施の形態としての有機EL表示装置(表示装置2)の要部断面構成を表したものである。また、図8Aは、表示装置2の要部平面構成を表したものであり、図8Bは図8Aの一部をさらに拡大した平面図である。表示装置2は、遮光層22をさらに有するようにしたことを除き、他は第1の実施の形態の表示装置1と同様の構成である。したがって、以下の説明では主に遮光層22およびそれに関連する説明を行い、他の構成要素については表示装置1と同様の符号を付し、適宜説明を省略する。
[表示装置2の構成]
図7は、本開示における第2の実施の形態としての有機EL表示装置(表示装置2)の要部断面構成を表したものである。また、図8Aは、表示装置2の要部平面構成を表したものであり、図8Bは図8Aの一部をさらに拡大した平面図である。表示装置2は、遮光層22をさらに有するようにしたことを除き、他は第1の実施の形態の表示装置1と同様の構成である。したがって、以下の説明では主に遮光層22およびそれに関連する説明を行い、他の構成要素については表示装置1と同様の符号を付し、適宜説明を省略する。
図7に示したように、遮光層22は、例えば素子パネル10と封止パネル20との間、具体的には例えばオーバーコート層18の、CF層19とは反対側の面に選択的に設けられている。より詳細には、遮光層22は、第1のフィルタCF1と第2のフィルタCF2との境界K12を跨ぐように配置されており、第1のフィルタCF1の周縁部分を覆う第1の遮蔽部分22Aと第2のフィルタCF2の周縁部分を覆う第2の遮蔽部分22Bとを含む。ここで、X軸方向における第1の遮蔽部分22Aの寸法22AXは、X軸方向における第2の遮蔽部分22Bの寸法22BXよりも大きい。また、第1および第2のフィルタCF1,CF2の屈折率N1,N2は、CF層19と遮光層22との間のオーバーコート層18の屈折率よりも高いことが望ましい。光がオーバーコート層18からCF層19に入射する際、積層面に垂直な方向へ屈折することとなり、境界K12を透過して隣の第1のフィルタCF1または第2のフィルタCF2へ漏れる光が低減されるからである。
同様に、遮光層22は、第1のフィルタCF1と第3のフィルタCF3との境界K13を跨ぐように配置されており、第1のフィルタCF1の周縁部分を覆う第1の遮蔽部分22Aと隣接して第3のフィルタCF3の周縁部分を覆う第3の遮蔽部分22Cをさらに含む(図8B)。ここで、Y軸方向における第1の遮蔽部分22Aの寸法22AYは、Y軸方向における第3の遮蔽部分22Cの寸法22CYよりも大きい。
さらに、遮光層22は、第2のフィルタCF2と第4のフィルタCF4との境界K24、および第3のフィルタCF3と第4のフィルタCF4との境界K34をそれぞれ跨ぐように配置されている。すなわち、遮光層22は、第2の遮蔽部分22Bおよび第3の遮蔽部分22Cとそれぞれ隣接し、第4のフィルタCF4の周縁部分を覆う第4の遮蔽部分22Dをさらに含む(図8B)。ここで、Y軸方向における第2の遮蔽部分22Bの寸法22BYは、Y軸方向における第4の遮蔽部分22Dの寸法22DYよりも大きい。また、X軸方向における第3の遮蔽部分22Cの寸法22CXは、X軸方向における第4の遮蔽部分22Dの寸法22DXよりも大きい。
遮光層22は、さらに下記の数5に示した条件式(2)および数6に示した条件式(3)を満たすように構成されていることが望ましい(図9参照)。第1の画素PX1から第1のフィルタCF1へ入射した一部の光が遮光層22により遮られ、境界K12から第2のフィルタCF2へ進入するのを確実に防止できるからである。但し、W1は遮光層22の幅であり、WLは第1のフィルタCF1の幅(すなわちX軸方向の寸法X1)であり、WHは第2のフィルタCF2の幅(すなわちX軸方向の寸法X2)であり、tはCF層19の厚さであり、θLは第1の画素PX1から第1のフィルタCF1に入射した光の屈折角である。
なお、条件式(2)は以下のようにして求められる。まず、屈折角θLは、下記の数7に示した式(2.1)で表せる(スネルの法則)。
また、遮光層22に遮光されずに第1のフィルタCF1に入射した光が第2のフィルタCF2に入射しないための条件は、下記の数8に示した式(2.2)で表せる。
上記の式(2.2)より、第1のフィルタCF1(相対的に低い屈折率のフィルタ)へ入射した一部の光が第2のフィルタCF2(相対的に高い屈折率のフィルタ)へ進入するのを防ぐための条件式(2)が導かれる。
また、図10A,10Bに示したように、W1+WLをより小さくするには、CF層19の厚さを薄くし、第1のフィルタCF1の屈折率nLを高くし、屈折角θL(最大入射角θ1)を小さくすることが望ましい。なお、図10Aは、各曲線がCF層19の厚さt=2.0,2.4,2.8,3.2,3.6,4.0μmの各水準における、条件式(2)を満たすW1+WLの最小値を表す特性図である。図10Aにおいて、横軸が屈折率N1(nL)を表し、縦軸が遮光層22の幅W1と第1のフィルタCF1の幅WLとの和W1+WLを表す。また、図10Bは、各曲線が最大入射角θ1=20,25,30,35°の各水準における、条件式(2)を満たすW1+WLの最小値を表す特性図である。図10Bにおいて、横軸が屈折率N1(nL)を表し、縦軸が遮光層22の幅W1と第1のフィルタCF1の幅WLとの和W1+WLを表す。
[表示装置2の作用・効果]
この表示装置2では、CF層19における第1〜第4のフィルタCF1〜CF4の境界K12,K13,K24,K34をそれぞれ跨ぐように遮光層22を設けるようにした。このため、1のフィルタ(例えば第1のフィルタCF1)を透過した光L1が、隣り合う他の1のフィルタ(例えば第2のフィルタCF2)へ進入してしまうことを防止することができる。特に、上記条件式(2)および条件式(3)を満足する場合には、そのような漏れ光の発生を確実に防止できる。なお、この表示装置2においても、第1の実施の形態で説明した数1に示した条件式(1)を満たすことが望ましい。第2の画素PX2から第2のフィルタCF2へ入射した光が全反射され、境界K12から第1のフィルタCF1へ進入するのを確実に防止できるからである。
この表示装置2では、CF層19における第1〜第4のフィルタCF1〜CF4の境界K12,K13,K24,K34をそれぞれ跨ぐように遮光層22を設けるようにした。このため、1のフィルタ(例えば第1のフィルタCF1)を透過した光L1が、隣り合う他の1のフィルタ(例えば第2のフィルタCF2)へ進入してしまうことを防止することができる。特に、上記条件式(2)および条件式(3)を満足する場合には、そのような漏れ光の発生を確実に防止できる。なお、この表示装置2においても、第1の実施の形態で説明した数1に示した条件式(1)を満たすことが望ましい。第2の画素PX2から第2のフィルタCF2へ入射した光が全反射され、境界K12から第1のフィルタCF1へ進入するのを確実に防止できるからである。
また、遮光層22において、例えば比較的高い屈折率の第2のフィルタCF2の周縁部分を覆う第2の遮蔽部分22Bの幅22BXを、隣接する低い屈折率の第1のフィルタCF1の周縁部分を覆う第1の遮蔽部分22Aの幅22AXよりも狭くするようにした。これにより、漏れ光の発生を十分に低減しつつ、遮光される有効光を低減することができ、表示装置2の全体で得られる表示光の輝度を向上させることができる。
<3.第3の実施の形態>
図11は本開示の第3の実施の形態に係る表示装置(表示装置3)の要部構成例を表す断面図である。
図11は本開示の第3の実施の形態に係る表示装置(表示装置3)の要部構成例を表す断面図である。
表示装置3は、有機層14の発光層で発せられた光が第1電極層12および素子基板11を透過して外部へ放出される、いわゆるボトムエミッション方式の有機EL表示装置である。したがって、第1電極層12は、例えばIn−Sn−O,In−Zn−O,In−O,Zn−O,Al−Zn−Oなどの透明導電性材料からなる。素子基板11も光透過性を有する石英やガラスのほか、透明樹脂などにより構成される。一方、第2電極層15は、例えば、アルミニウムのほか、クロム,金,白金,ニッケル,銅,タングステンあるいは銀などの金属元素の単体または合金により形成され、反射層としての機能をも有する。表示装置3は、これらの点を除き、他は表示装置2と同様の構成である。この表示装置3においても、上記表示装置2と同様の効果が得られる。
<4.適用例>
以下、上記のような表示装置(表示装置1〜3)の電子機器への適用例について説明する。電子機器としては、例えばテレビジョン装置,デジタルカメラ,ノート型パーソナルコンピュータ、スマートフォン等の携帯端末装置あるいはビデオカメラ等が挙げられる。すなわち、上記表示装置は、外部から入力された映像信号あるいは内部で生成した映像信号を、画像あるいは映像として表示するあらゆる分野の電子機器に適用することが可能である。
以下、上記のような表示装置(表示装置1〜3)の電子機器への適用例について説明する。電子機器としては、例えばテレビジョン装置,デジタルカメラ,ノート型パーソナルコンピュータ、スマートフォン等の携帯端末装置あるいはビデオカメラ等が挙げられる。すなわち、上記表示装置は、外部から入力された映像信号あるいは内部で生成した映像信号を、画像あるいは映像として表示するあらゆる分野の電子機器に適用することが可能である。
[モジュール]
上記表示装置は、例えば図12に示したようなモジュールとして、後述の適用例をはじめとする種々の電子機器に組み込まれる。このモジュールは、例えば、素子基板11の一辺に、封止基板21から露出した領域61を設け、この露出した領域61に、信号線駆動回路120、走査線駆動回路130および電源線供給回路140の配線を延長して外部接続端子(第1周辺電極および第2周辺電極等)を形成したものである。この外部接続端子には、信号の入出力のためのフレキシブルプリント配線基板(FPC;Flexible Printed Circuit)62が設けられていてもよい。
上記表示装置は、例えば図12に示したようなモジュールとして、後述の適用例をはじめとする種々の電子機器に組み込まれる。このモジュールは、例えば、素子基板11の一辺に、封止基板21から露出した領域61を設け、この露出した領域61に、信号線駆動回路120、走査線駆動回路130および電源線供給回路140の配線を延長して外部接続端子(第1周辺電極および第2周辺電極等)を形成したものである。この外部接続端子には、信号の入出力のためのフレキシブルプリント配線基板(FPC;Flexible Printed Circuit)62が設けられていてもよい。
[適用例]
図13は、上記実施の形態の表示装置が適用されるスマートフォンの外観を表したものである。このスマートフォンは、例えば、表示部230および非表示部240を有しており、この表示部230が上記実施の形態の表示装置により構成されている。
図13は、上記実施の形態の表示装置が適用されるスマートフォンの外観を表したものである。このスマートフォンは、例えば、表示部230および非表示部240を有しており、この表示部230が上記実施の形態の表示装置により構成されている。
<5.変形例>
以上、いくつかの実施の形態を挙げて本技術を説明したが、本技術は上記実施の形態に限定されるものではなく、種々変形が可能である。例えば上記第2の実施の形態では、遮光層22を、素子パネル10と封止パネル20との間に設けるようにしたが、本開示はこれに限定されるものではない。例えば図14に示した表示装置1Aのように、遮光層22が、CF層19の内部に設けられていてもよい(第1の変形例)。
以上、いくつかの実施の形態を挙げて本技術を説明したが、本技術は上記実施の形態に限定されるものではなく、種々変形が可能である。例えば上記第2の実施の形態では、遮光層22を、素子パネル10と封止パネル20との間に設けるようにしたが、本開示はこれに限定されるものではない。例えば図14に示した表示装置1Aのように、遮光層22が、CF層19の内部に設けられていてもよい(第1の変形例)。
また、上記実施の形態では、第1〜第4のフィルタCF1〜CF4の境界K12,K13,K24,K34の全てが、画素間の境界Kに対して平行または垂直である場合について説明したが、本技術はこれに限定されるものではない。例えば図15Aおよび図15Bに示した表示装置1B,1C(第2および第3の変形例)のように、一部の境界(例えば境界K12)が画素間の境界Kに対して斜め方向であってもよい。すなわち、例えばX軸方向における第1のフィルタCF1の寸法は、第1のフィルタCF1の少なくとも一部において、X軸方向における第2のフィルタCF2の寸法よりも大きく、境界K12は、その少なくとも一部において、第2の画素PX2が占める領域に位置するようにすればよい。その場合であっても、例えば境界K12が境界Kと完全に一致する場合よりも、漏れ光を低減する効果が得られる。あるいは、図15Cに示した表示装置1Dのように、境界K12,K13,K24,K34の全てが画素間の境界Kに対して平行または垂直である場合に、フィルタ相互間における幅の大小関係や屈折率の大小関係を満たさない領域Rが一部にあってもよい。
また、上記実施の形態では、第1〜第4のフィルタCF1〜CF4が有機発光素子10R,10G,10B,10Wの配列に対応してレクタングル配列された場合について説明したが、本技術はこれに限定されるものではない。例えば図16Aに示した表示装置1Eのように、第1〜第4のフィルタCF1〜CF4が全体として平行四辺形をなすように構成されていてもよい(第5の変形例)。また、図16Bに示した表示装置1Fのように、第1および第2のフィルタCF1,CF2からなる平行四辺形と第3および第4のフィルタCF3,CF4からなる平行四辺形とが結合し、全体として屈曲した形状をなすように構成されていてもよい(第6の変形例)。さらには、図16Cに示した表示装置1Gのように、第1〜第4のフィルタCF1〜CF4がストライプ配列されていてもよい(第7の変形例)。図16Cの場合、第1および第3のフィルタCF1,CF3の屈折率が、それぞれ第2および第4のフィルタCF2,CF4の屈折率と異なっていればよい。
また、上記実施の形態等では、各有機発光素子の下部構造として白色光を発するものを例示して説明したが、本技術はこれに限定されるものではない。例えば、赤色有機発光素子、緑色有機発光素子、青色有機発光素子および白色有機発光素子が、それぞれ、赤色光、緑色光、青色光および白色光を発する下部構造を有するようにしてもよい。すなわち、赤色光、緑色光、青色光および白色光を発する発光層をそれぞれ含む複数の有機層を、画素ごとに塗り分けるようにしてもよい。その場合であっても、色純度を向上させるために各色のフィルタを用いるので、本技術が有効である。
さらに、上記実施の形態等では、アクティブマトリクス型の表示装置の場合について説明したが、本技術はパッシブマトリクス型の表示装置への適用も可能である。また、アクティブマトリクス駆動のための画素駆動回路の構成は、上記実施の形態で説明したものに限られず、必要に応じて容量素子やトランジスタを追加してもよい。その場合、画素駆動回路の変更に応じて、上述した信号線駆動回路120や走査線駆動回路130のほかに、他の駆動回路を追加してもよい。
なお、本明細書中に記載された効果はあくまで例示であってその記載に限定されるものではなく、他の効果があってもよい。また、本技術は以下のような構成を取り得るものである。
(1)
第1の方向において隣り合う第1の画素および第2の画素を含む表示部と、
前記第1の画素および前記第2の画素の各々に対応して配置され、前記第1の方向において隣り合う第1のフィルタおよび第2のフィルタを含むフィルタ層と
を有し、
前記第1のフィルタの屈折率は前記第2のフィルタの屈折率よりも低く、
前記第1の方向における前記第1のフィルタの寸法は、少なくとも一部において、前記第1の方向における前記第2のフィルタの寸法よりも大きく、
前記第1のフィルタと前記第2のフィルタとの境界は、少なくとも一部において、前記第2の画素が占める領域に位置する
表示装置。
(2)
前記第1のフィルタと前記第2のフィルタとの境界に配置され、前記第1のフィルタの周縁部分と対応する領域を占める第1の遮光部分と前記第2のフィルタの周縁部分と対応する領域を占める第2の遮光部分とを含む遮光層をさらに有し、
前記第1の方向における前記第1の遮光部分の寸法は、少なくとも一部において、前記第1の方向における前記第2の遮光部分の寸法よりも大きい
上記(1)記載の表示装置。
(3)
前記表示部は、第2の方向において前記第1の画素と隣り合う第3の画素をさらに含み、
前記フィルタ層は、前記第2の方向において前記第1のフィルタと隣り合うように前記第3の画素に対応して配置された第3のフィルタをさらに含み、
前記第1のフィルタの屈折率は前記第3のフィルタの屈折率よりも低く、
前記第2の方向における前記第1のフィルタの寸法は、少なくとも一部において、前記第2の方向における前記第3のフィルタの寸法よりも大きく、
前記第1のフィルタと前記第3のフィルタとの境界は、少なくとも一部において、前記第3の画素が占める領域に位置する
上記(1)記載の表示装置。
(4)
前記表示部は、第1の方向において前記第3の画素と隣り合うと共に第2の方向において前記第2の画素と隣り合う第4の画素をさらに含み、
前記フィルタ層は、前記第1の方向において前記第3のフィルタと隣り合うと共に前記第2の方向において前記第2のフィルタと隣り合うように、前記第4の画素に対応して配置された第4のフィルタをさらに含み、
前記第4のフィルタの屈折率は前記第2のフィルタの屈折率および前記第3のフィルタの屈折率の双方よりも高く、
前記第1の方向における前記第4のフィルタの寸法は、少なくとも一部において、前記第1の方向における前記第3のフィルタの寸法よりも小さく、
前記第3のフィルタと前記第4のフィルタとの境界は、少なくとも一部において、前記第4の画素が占める領域に位置し、
前記第2の方向における前記第4のフィルタの寸法は、少なくとも一部において、前記第2の方向における前記第2のフィルタの寸法よりも小さく、
前記第2のフィルタと前記第4のフィルタとの境界は、少なくとも一部において、前記第4の画素が占める領域に位置する
上記(3)記載の表示装置。
(5)
前記第1のフィルタと前記第3のフィルタとの境界に配置され、前記第1のフィルタの周縁部分と対応する領域を占める第1の遮光部分と前記第3のフィルタの周縁部分と対応する領域を占める第3の遮光部分とを含む遮光層をさらに有し、
前記第2の方向における前記第1の遮光部分の寸法は、少なくとも一部において、前記第2の方向における前記第3の遮光部分の寸法よりも大きい
上記(3)記載の表示装置。
(6)
前記第1のフィルタと前記第2のフィルタとの境界、前記第1のフィルタと前記第3のフィルタとの境界、前記第2のフィルタと前記第4のフィルタとの境界、および前記第3のフィルタと前記第4のフィルタとの境界にそれぞれ配置され、前記第1のフィルタの周縁部分と対応する領域を占める第1の遮光部分、前記第2のフィルタの周縁部分と対応する領域を占める第2の遮光部分、前記第3のフィルタの周縁部分と対応する領域を占める第3の遮光部分、および前記第4のフィルタの周縁部分と対応する領域を占める第4の遮光部分を含む遮光層をさらに有し、
前記第1の方向における前記第1の遮光部分の寸法は、少なくとも一部において、前記第1の方向における前記第2の遮光部分の寸法よりも大きく、
前記第1の方向における前記第3の遮光部分の寸法は、少なくとも一部において、前記第1の方向における前記第4の遮光部分の寸法よりも大きく、
前記第2の方向における前記第1の遮光部分の寸法は、少なくとも一部において、前記第2の方向における前記第3の遮光部分の寸法よりも大きく、
前記第2の方向における前記第2の遮光部分の寸法は、少なくとも一部において、前記第2の方向における前記第4の遮光部分の寸法よりも大きい
上記(4)記載の表示装置。
(7)
前記遮光層は、前記フィルタ層と前記表示部との間、または前記フィルタ層の内部に設けられている
上記(2),(5)または(6)のいずれか1つに記載の表示装置。
(8)
前記フィルタ層と前記遮光層との間に樹脂層をさらに有し、
前記フィルタ層の屈折率は、前記樹脂層の屈折率よりも高い
上記(2),(5)または(6)のいずれか1つに記載の表示装置。
(9)
下記の数9に示した条件式(1)を満たす
上記(1)から(8)のいずれか1つに記載の表示装置。
但し、n1は第2の画素からの光が第2のフィルタへ入射する直前に通過する媒質の屈折率であり、nHは第2のフィルタの屈折率であり、θ1は第2の画素から第2のフィルタへ入射する光の最大入射角であり、nLは第1のフィルタの屈折率である。
(10)
下記の数10および数11にそれぞれ示した条件式(2)および条件式(3)を満たす
上記(2),(5)〜(8)のいずれか1つに記載の表示装置。
但し、W1は遮光層の幅であり、WLは第1のフィルタの幅であり、WHは第2のフィルタの幅であり、tはフィルタ層の厚さであり、θLは第1の画素から第1のフィルタに入射した光の屈折角である。
(11)
表示装置を備えた電子機器であって、
前記表示装置は、
第1の方向において隣り合う第1の画素および第2の画素を含む表示部と、
前記第1の画素および前記第2の画素の各々に対応して配置され、前記第1の方向において隣り合う第1のフィルタおよび第2のフィルタを含むフィルタ層と
を有し、
前記第1のフィルタの屈折率は前記第2のフィルタの屈折率よりも低く、
前記第1の方向における前記第1のフィルタの寸法は、少なくとも一部において、前記第1の方向における前記第2のフィルタの寸法よりも大きく、
前記第1のフィルタと前記第2のフィルタとの境界は、少なくとも一部において、前記第2の画素が占める領域に位置する
電子機器。
(12)
前記表示装置は、
前記第1のフィルタと前記第2のフィルタとの境界に配置され、前記第1のフィルタの周縁部分を覆う第1の遮蔽部分と前記第2のフィルタの周縁部分を覆う第2の遮蔽部分とを含む遮光層をさらに有し、
前記第1の方向における前記第1の遮蔽部分の寸法は、少なくとも一部において、前記第1の方向における前記第2の遮蔽部分の寸法よりも大きい
上記(11)に記載の電子機器。
(1)
第1の方向において隣り合う第1の画素および第2の画素を含む表示部と、
前記第1の画素および前記第2の画素の各々に対応して配置され、前記第1の方向において隣り合う第1のフィルタおよび第2のフィルタを含むフィルタ層と
を有し、
前記第1のフィルタの屈折率は前記第2のフィルタの屈折率よりも低く、
前記第1の方向における前記第1のフィルタの寸法は、少なくとも一部において、前記第1の方向における前記第2のフィルタの寸法よりも大きく、
前記第1のフィルタと前記第2のフィルタとの境界は、少なくとも一部において、前記第2の画素が占める領域に位置する
表示装置。
(2)
前記第1のフィルタと前記第2のフィルタとの境界に配置され、前記第1のフィルタの周縁部分と対応する領域を占める第1の遮光部分と前記第2のフィルタの周縁部分と対応する領域を占める第2の遮光部分とを含む遮光層をさらに有し、
前記第1の方向における前記第1の遮光部分の寸法は、少なくとも一部において、前記第1の方向における前記第2の遮光部分の寸法よりも大きい
上記(1)記載の表示装置。
(3)
前記表示部は、第2の方向において前記第1の画素と隣り合う第3の画素をさらに含み、
前記フィルタ層は、前記第2の方向において前記第1のフィルタと隣り合うように前記第3の画素に対応して配置された第3のフィルタをさらに含み、
前記第1のフィルタの屈折率は前記第3のフィルタの屈折率よりも低く、
前記第2の方向における前記第1のフィルタの寸法は、少なくとも一部において、前記第2の方向における前記第3のフィルタの寸法よりも大きく、
前記第1のフィルタと前記第3のフィルタとの境界は、少なくとも一部において、前記第3の画素が占める領域に位置する
上記(1)記載の表示装置。
(4)
前記表示部は、第1の方向において前記第3の画素と隣り合うと共に第2の方向において前記第2の画素と隣り合う第4の画素をさらに含み、
前記フィルタ層は、前記第1の方向において前記第3のフィルタと隣り合うと共に前記第2の方向において前記第2のフィルタと隣り合うように、前記第4の画素に対応して配置された第4のフィルタをさらに含み、
前記第4のフィルタの屈折率は前記第2のフィルタの屈折率および前記第3のフィルタの屈折率の双方よりも高く、
前記第1の方向における前記第4のフィルタの寸法は、少なくとも一部において、前記第1の方向における前記第3のフィルタの寸法よりも小さく、
前記第3のフィルタと前記第4のフィルタとの境界は、少なくとも一部において、前記第4の画素が占める領域に位置し、
前記第2の方向における前記第4のフィルタの寸法は、少なくとも一部において、前記第2の方向における前記第2のフィルタの寸法よりも小さく、
前記第2のフィルタと前記第4のフィルタとの境界は、少なくとも一部において、前記第4の画素が占める領域に位置する
上記(3)記載の表示装置。
(5)
前記第1のフィルタと前記第3のフィルタとの境界に配置され、前記第1のフィルタの周縁部分と対応する領域を占める第1の遮光部分と前記第3のフィルタの周縁部分と対応する領域を占める第3の遮光部分とを含む遮光層をさらに有し、
前記第2の方向における前記第1の遮光部分の寸法は、少なくとも一部において、前記第2の方向における前記第3の遮光部分の寸法よりも大きい
上記(3)記載の表示装置。
(6)
前記第1のフィルタと前記第2のフィルタとの境界、前記第1のフィルタと前記第3のフィルタとの境界、前記第2のフィルタと前記第4のフィルタとの境界、および前記第3のフィルタと前記第4のフィルタとの境界にそれぞれ配置され、前記第1のフィルタの周縁部分と対応する領域を占める第1の遮光部分、前記第2のフィルタの周縁部分と対応する領域を占める第2の遮光部分、前記第3のフィルタの周縁部分と対応する領域を占める第3の遮光部分、および前記第4のフィルタの周縁部分と対応する領域を占める第4の遮光部分を含む遮光層をさらに有し、
前記第1の方向における前記第1の遮光部分の寸法は、少なくとも一部において、前記第1の方向における前記第2の遮光部分の寸法よりも大きく、
前記第1の方向における前記第3の遮光部分の寸法は、少なくとも一部において、前記第1の方向における前記第4の遮光部分の寸法よりも大きく、
前記第2の方向における前記第1の遮光部分の寸法は、少なくとも一部において、前記第2の方向における前記第3の遮光部分の寸法よりも大きく、
前記第2の方向における前記第2の遮光部分の寸法は、少なくとも一部において、前記第2の方向における前記第4の遮光部分の寸法よりも大きい
上記(4)記載の表示装置。
(7)
前記遮光層は、前記フィルタ層と前記表示部との間、または前記フィルタ層の内部に設けられている
上記(2),(5)または(6)のいずれか1つに記載の表示装置。
(8)
前記フィルタ層と前記遮光層との間に樹脂層をさらに有し、
前記フィルタ層の屈折率は、前記樹脂層の屈折率よりも高い
上記(2),(5)または(6)のいずれか1つに記載の表示装置。
(9)
下記の数9に示した条件式(1)を満たす
上記(1)から(8)のいずれか1つに記載の表示装置。
但し、n1は第2の画素からの光が第2のフィルタへ入射する直前に通過する媒質の屈折率であり、nHは第2のフィルタの屈折率であり、θ1は第2の画素から第2のフィルタへ入射する光の最大入射角であり、nLは第1のフィルタの屈折率である。
下記の数10および数11にそれぞれ示した条件式(2)および条件式(3)を満たす
上記(2),(5)〜(8)のいずれか1つに記載の表示装置。
但し、W1は遮光層の幅であり、WLは第1のフィルタの幅であり、WHは第2のフィルタの幅であり、tはフィルタ層の厚さであり、θLは第1の画素から第1のフィルタに入射した光の屈折角である。
表示装置を備えた電子機器であって、
前記表示装置は、
第1の方向において隣り合う第1の画素および第2の画素を含む表示部と、
前記第1の画素および前記第2の画素の各々に対応して配置され、前記第1の方向において隣り合う第1のフィルタおよび第2のフィルタを含むフィルタ層と
を有し、
前記第1のフィルタの屈折率は前記第2のフィルタの屈折率よりも低く、
前記第1の方向における前記第1のフィルタの寸法は、少なくとも一部において、前記第1の方向における前記第2のフィルタの寸法よりも大きく、
前記第1のフィルタと前記第2のフィルタとの境界は、少なくとも一部において、前記第2の画素が占める領域に位置する
電子機器。
(12)
前記表示装置は、
前記第1のフィルタと前記第2のフィルタとの境界に配置され、前記第1のフィルタの周縁部分を覆う第1の遮蔽部分と前記第2のフィルタの周縁部分を覆う第2の遮蔽部分とを含む遮光層をさらに有し、
前記第1の方向における前記第1の遮蔽部分の寸法は、少なくとも一部において、前記第1の方向における前記第2の遮蔽部分の寸法よりも大きい
上記(11)に記載の電子機器。
1,1A〜1G,2,3…表示装置、10…素子パネル、11…素子基板、12…第1電極層、13…絶縁膜、14…有機層、15…第2電極層、16…保護膜、17…接着層、18…オーバーコート層、19…カラーフィルタ(CF)層、20…封止パネル、21…封止基板、22…遮光層、30R,30G,30B,30W…有機発光素子、31…下部構造、32…上部構造、110…表示領域、120…信号線駆動回路、130…走査線駆動回路、140…電源供給線駆動回路、150…画素駆動回路。
Claims (12)
- 第1の方向において隣り合う第1の画素および第2の画素を含む表示部と、
前記第1の画素および前記第2の画素の各々に対応して配置され、前記第1の方向において隣り合う第1のフィルタおよび第2のフィルタを含むフィルタ層と
を有し、
前記第1のフィルタの屈折率は前記第2のフィルタの屈折率よりも低く、
前記第1の方向における前記第1のフィルタの寸法は、少なくとも一部において、前記第1の方向における前記第2のフィルタの寸法よりも大きく、
前記第1のフィルタと前記第2のフィルタとの境界は、少なくとも一部において、前記第2の画素が占める領域に位置する
表示装置。 - 前記第1のフィルタと前記第2のフィルタとの境界に配置され、前記第1のフィルタの周縁部分と対応する領域を占める第1の遮光部分と前記第2のフィルタの周縁部分と対応する領域を占める第2の遮光部分とを含む遮光層をさらに有し、
前記第1の方向における前記第1の遮光部分の寸法は、少なくとも一部において、前記第1の方向における前記第2の遮光部分の寸法よりも大きい
請求項1記載の表示装置。 - 前記表示部は、第2の方向において前記第1の画素と隣り合う第3の画素をさらに含み、
前記フィルタ層は、前記第2の方向において前記第1のフィルタと隣り合うように前記第3の画素に対応して配置された第3のフィルタをさらに含み、
前記第1のフィルタの屈折率は前記第3のフィルタの屈折率よりも低く、
前記第2の方向における前記第1のフィルタの寸法は、少なくとも一部において、前記第2の方向における前記第3のフィルタの寸法よりも大きく、
前記第1のフィルタと前記第3のフィルタとの境界は、少なくとも一部において、前記第3の画素が占める領域に位置する
請求項1記載の表示装置。 - 前記表示部は、第1の方向において前記第3の画素と隣り合うと共に第2の方向において前記第2の画素と隣り合う第4の画素をさらに含み、
前記フィルタ層は、前記第1の方向において前記第3のフィルタと隣り合うと共に前記第2の方向において前記第2のフィルタと隣り合うように、前記第4の画素に対応して配置された第4のフィルタをさらに含み、
前記第4のフィルタの屈折率は前記第2のフィルタの屈折率および前記第3のフィルタの屈折率の双方よりも高く、
前記第1の方向における前記第4のフィルタの寸法は、少なくとも一部において、前記第1の方向における前記第3のフィルタの寸法よりも小さく、
前記第3のフィルタと前記第4のフィルタとの境界は、少なくとも一部において、前記第4の画素が占める領域に位置し、
前記第2の方向における前記第4のフィルタの寸法は、少なくとも一部において、前記第2の方向における前記第2のフィルタの寸法よりも小さく、
前記第2のフィルタと前記第4のフィルタとの境界は、少なくとも一部において、前記第4の画素が占める領域に位置する
請求項3記載の表示装置。 - 前記第1のフィルタと前記第3のフィルタとの境界に配置され、前記第1のフィルタの周縁部分と対応する領域を占める第1の遮光部分と前記第3のフィルタの周縁部分と対応する領域を占める第3の遮光部分とを含む遮光層をさらに有し、
前記第2の方向における前記第1の遮光部分の寸法は、少なくとも一部において、前記第2の方向における前記第3の遮光部分の寸法よりも大きい
請求項3記載の表示装置。 - 前記第1のフィルタと前記第2のフィルタとの境界、前記第1のフィルタと前記第3のフィルタとの境界、前記第2のフィルタと前記第4のフィルタとの境界、および前記第3のフィルタと前記第4のフィルタとの境界にそれぞれ配置され、前記第1のフィルタの周縁部分と対応する領域を占める第1の遮光部分、前記第2のフィルタの周縁部分と対応する領域を占める第2の遮光部分、前記第3のフィルタの周縁部分と対応する領域を占める第3の遮光部分、および前記第4のフィルタの周縁部分と対応する領域を占める第4の遮光部分を含む遮光層をさらに有し、
前記第1の方向における前記第1の遮光部分の寸法は、少なくとも一部において、前記第1の方向における前記第2の遮光部分の寸法よりも大きく、
前記第1の方向における前記第3の遮光部分の寸法は、少なくとも一部において、前記第1の方向における前記第4の遮光部分の寸法よりも大きく、
前記第2の方向における前記第1の遮光部分の寸法は、少なくとも一部において、前記第2の方向における前記第3の遮光部分の寸法よりも大きく、
前記第2の方向における前記第2の遮光部分の寸法は、少なくとも一部において、前記第2の方向における前記第4の遮光部分の寸法よりも大きい
請求項4記載の表示装置。 - 前記遮光層は、前記フィルタ層と前記表示部との間、または前記フィルタ層の内部に設けられている
請求項2記載の表示装置。 - 前記フィルタ層と前記遮光層との間に樹脂層をさらに有し、
前記フィルタ層の屈折率は、前記樹脂層の屈折率よりも高い
請求項2記載の表示装置。 - 表示装置を備えた電子機器であって、
前記表示装置は、
第1の方向において隣り合う第1の画素および第2の画素を含む表示部と、
前記第1の画素および前記第2の画素の各々に対応して配置され、前記第1の方向において隣り合う第1のフィルタおよび第2のフィルタを含むフィルタ層と
を有し、
前記第1のフィルタの屈折率は前記第2のフィルタの屈折率よりも低く、
前記第1の方向における前記第1のフィルタの寸法は、少なくとも一部において、前記第1の方向における前記第2のフィルタの寸法よりも大きく、
前記第1のフィルタと前記第2のフィルタとの境界は、少なくとも一部において、前記第2の画素が占める領域に位置する
電子機器。 - 前記表示装置は、
前記第1のフィルタと前記第2のフィルタとの境界に配置され、前記第1のフィルタの周縁部分を覆う第1の遮蔽部分と前記第2のフィルタの周縁部分を覆う第2の遮蔽部分とを含む遮光層をさらに有し、
前記第1の方向における前記第1の遮蔽部分の寸法は、少なくとも一部において、前記第1の方向における前記第2の遮蔽部分の寸法よりも大きい
請求項11記載の電子機器。
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