CN110841970A - 适用于表面附着物为Anodized部品的清洗方法 - Google Patents

适用于表面附着物为Anodized部品的清洗方法 Download PDF

Info

Publication number
CN110841970A
CN110841970A CN201810945443.6A CN201810945443A CN110841970A CN 110841970 A CN110841970 A CN 110841970A CN 201810945443 A CN201810945443 A CN 201810945443A CN 110841970 A CN110841970 A CN 110841970A
Authority
CN
China
Prior art keywords
workpiece
water
cleaning
soaking
drying
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201810945443.6A
Other languages
English (en)
Inventor
张远
熊志红
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shenzhen Shi Shang Electronic Science And Technology Co Ltd
Original Assignee
Shenzhen Shi Shang Electronic Science And Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenzhen Shi Shang Electronic Science And Technology Co Ltd filed Critical Shenzhen Shi Shang Electronic Science And Technology Co Ltd
Priority to CN201810945443.6A priority Critical patent/CN110841970A/zh
Publication of CN110841970A publication Critical patent/CN110841970A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/08Cleaning involving contact with liquid the liquid having chemical or dissolving effect
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B13/00Accessories or details of general applicability for machines or apparatus for cleaning
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/02Cleaning by the force of jets or sprays
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/10Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration
    • B08B3/12Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration by sonic or ultrasonic vibrations
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B23/00Portable grinding machines, e.g. hand-guided; Accessories therefor
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F26DRYING
    • F26BDRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
    • F26B21/00Arrangements or duct systems, e.g. in combination with pallet boxes, for supplying and controlling air or gases for drying solid materials or objects

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Abstract

本发明公开一种适用于表面附着物为Anodized部品的清洗方法,该方法包括下述步骤:S1、低温纯水浸泡;S2、湿式研磨:工件表面采用手持气动抛光机进行研磨抛光,手持气动抛光机的抛光头采用工业百洁布,研磨抛光采用湿式研磨法,研磨抛光时用工业百洁布沾着丙酮进行研磨;S3、低压冲洗:采用低压纯水水枪对工件表面进行低压冲洗;S4、纯水浸泡;S5、超声波震荡清洗;S6、纯水浸泡;S7、工件表面PH测试:对工件表面的残留水进行PH值测试,如果其PH值满足6‑7,则转入下一工序,如果其PH值小于6或大于7,则返回步骤S6,重新浸泡清洗;S8、采用CDA对工件表面吹干;S9、超声波震荡清洗;S10、CDA吹干;S11、自然冷却。

Description

适用于表面附着物为Anodized部品的清洗方法
技术领域
本发明公开一种Anodized部品的清洗方法,特别是一种适用于表面附着物为Anodized部品的清洗方法,属于特种清洗技术领域。
背景技术
AMAT DPS部品中的Upper Liner、Lower Liner、Screen、Slit Valve Door,AMATPRODUCER部品中的Cathode Liner Left、Cathode Liner Right、Cathode Sleeve、DoorSlit,AMAT eMax CT+部品中的Wall Liner、Slit Door Liner、Cathode Liner、SGD OuterPlate、SGD Inner Plate、TEL SCCM部品中的Inner Cooling Plate、Outer CoolingPlate、Plate Exhaust、Plate Shield、Ring Bottom Shield、Depo Shield、Window Depo、ESC、Liner Cover、Liner Manifront Large、Liner Manileft Large等诸多工件中的表面均为Al-Anodizing作为表面附着物,在长时间使用后,工件表面难免会附着些杂质,因此定期清洗就成了此类工件必不可少的工作,然而常规的工件表面清洗手段不能很好的去除工件表面的杂质,清洗效果不好。
发明内容
针对上述提到的现有技术中的Anodized部品工件表面清洗效果不好的缺点,本发明提供一种适用于表面附着物为Anodized部品的清洗方法,其采用湿式研磨法配合超声振荡清洗的方法对工件进行清洗,不仅清洗效果好,而且,对工件损伤较小。
本发明解决其技术问题采用的技术方案是:一种适用于表面附着物为Anodized部品的清洗方法,该方法包括下述步骤:
S1、低温纯水浸泡:采用12M超纯水对工件进行浸泡处理,浸泡时间为15~20分钟;
S2、湿式研磨:工件表面采用手持气动抛光机进行研磨抛光,手持气动抛光机的抛光头采用工业百洁布,研磨抛光采用湿式研磨法,研磨抛光时用工业百洁布沾着丙酮进行研磨;
S3、低压冲洗:采用低压纯水水枪对工件表面进行低压冲洗;
S4、纯水浸泡:将工件在DI Water中常温浸泡10分钟;
S5、超声波震荡清洗:将部品放进带有超音波的DI Water槽中,进行超声波震荡清洗5分钟以上;
S6、纯水浸泡:将工件在DI Water中常温浸泡30分钟以上;
S7、工件表面PH测试:对工件表面的残留水进行PH值测试,如果其PH值满足6-7,则转入下一工序,如果其PH值小于6或大于7,则返回步骤S6,重新浸泡清洗;
S8、CDA吹干:采用CDA对工件表面吹干;
S9、超声波震荡清洗:在无尘车间内进行,将部品放进带有超音波的DI Water槽中,进行超声波震荡清洗5分钟以上;
S10、CDA吹干:采用CDA对工件表面吹干;
S11、自然冷却:将加热干燥后的工件自然冷却至室温即可。
本发明解决其技术问题采用的技术方案进一步还包括:
所述的步骤S1中水温为30±5℃。
所述的步骤S3中冲洗时的水枪压力为:0.5-1bar。
所述的步骤S4中DI Water的电阻率为5MΩ以上,PH值:6-7。
所述的步骤S6中采用有效功率为1.2Kw的超声波进行超声波震荡清洗,超声波震荡清洗时要向超声波清洗槽中持续通入去离子水,保持水槽中的水从水槽上面不断溢流。
所述的步骤S8中压缩空气的压力为2kgf/cm2,干燥温度为100±5℃,干燥时间为30分钟以上。
所述的步骤S9中的无尘车间采用1000级无尘室。
所述的步骤S9中采用有效功率为1.2Kw的超声波进行超声波震荡清洗,超声波震荡清洗时要向超声波清洗槽中持续通入去离子水,保持水槽中的水从水槽上面不断溢流。
所述的步骤S10中压缩空气的压力为2kgf/cm2,干燥温度为100±5℃,干燥时间为120分钟以上。
本发明的有益效果是:本发明采用湿式研磨法配合超声振荡清洗的方法对工件进行清洗,不仅清洗效果好,而且,对工件损伤较小。
具体实施方式
本实施例为本发明优选实施方式,其他凡其原理和基本结构与本实施例相同或近似的,均在本发明保护范围之内。
本发明为一种适用于表面附着物为Anodized部品的清洗方法,该方法主要包括下述步骤:
S1、低温纯水浸泡:本实施例中,采用12M超纯水对工件进行浸泡处理,浸泡时间为15~20分钟,水温为30±5℃;
S2、湿式研磨:工件表面采用手持气动抛光机进行研磨抛光,手持气动抛光机的抛光头采用7447#工业百洁布,本实施例中,研磨抛光采用湿式研磨法,研磨抛光时用工业百洁布沾着丙酮进行研磨,即用丙酮浸泡工业百洁布后,进行研磨抛光,至工件表面光滑,本实施例中,丙酮清洗剂采用市售的丙酮清洗剂,丙酮纯度为大于或等于99.8%。
S3、低压冲洗:采用低压纯水水枪对工件表面进行低压冲洗,本实施例中,冲洗时的水枪压力为:0.5-1bar。
S4、纯水浸泡:将工件在DI Water(即去离子水,其电阻率为5MΩ以上,PH值:6-7)中常温浸泡10分钟;
S5、超声波震荡清洗:将部品放进带有超音波的DI Water(即去离子水,其电阻率为5MΩ以上,PH值:6-7)槽中,进行超声波震荡清洗5分钟,本实施例中,采用有效功率为1.2Kw的超声波进行超声波震荡清洗,以去除工件表面的残存的颗粒物质,超声波震荡清洗时要向超声波清洗槽中持续通入去离子水,保持水槽中的水从水槽上面不断溢流,以带走震荡下来的颗粒物质。
S6、纯水浸泡:将工件在DI Water(即去离子水,其电阻率为5MΩ以上,PH值:6-7)中常温浸泡30分钟;
S7、工件表面PH测试:对工件表面的残留水进行PH值测试,如果其PH值满足6-7,则转入下一工序,如果其PH值小于6或大于7,则返回步骤S6,重新浸泡清洗;
S8、CDA吹干:采用CDA(去油去水压缩空气)对工件表面吹干,压缩空气的压力为2kgf/cm2,干燥温度为100±5℃,干燥时间为30分钟以上,可去除表面残留水分;
S9、超声波震荡清洗:此次清洗需在无尘车间(本实施例中,无尘车间采用1000级无尘室)内进行,将部品放进带有超音波的DI Water(即去离子水,其电阻率为5MΩ以上,PH值:6-7)槽中,进行超声波震荡清洗5分钟,本实施例中,采用有效功率为1.2Kw的超声波进行超声波震荡清洗,以去除工件表面的残存的颗粒物质,超声波震荡清洗时要向超声波清洗槽中持续通入去离子水,保持水槽中的水从水槽上面不断溢流,以带走震荡下来的颗粒物质。
S10、CDA吹干:采用CDA(去油去水压缩空气)对工件表面吹干,压缩空气的压力为2kgf/cm2,干燥温度为80±5℃,干燥时间为120分钟以上,可去除表面残留水分;
S11、自然冷却:将加热干燥后的工件自然冷却至室温即可。
本发明采用湿式研磨法配合超声振荡清洗的方法对工件进行清洗,不仅清洗效果好,而且,对工件损伤较小。

Claims (9)

1.一种适用于表面附着物为Anodized部品的清洗方法,其特征是:所述的方法包括下述步骤:
S1、低温纯水浸泡:采用12M超纯水对工件进行浸泡处理,浸泡时间为15~20分钟;
S2、湿式研磨:工件表面采用手持气动抛光机进行研磨抛光,手持气动抛光机的抛光头采用工业百洁布,研磨抛光采用湿式研磨法,研磨抛光时用工业百洁布沾着丙酮进行研磨;
S3、低压冲洗:采用低压纯水水枪对工件表面进行低压冲洗;
S4、纯水浸泡:将工件在DI Water中常温浸泡10分钟;
S5、超声波震荡清洗:将部品放进带有超音波的DI Water槽中,进行超声波震荡清洗5分钟以上;
S6、纯水浸泡:将工件在DI Water中常温浸泡30分钟以上;
S7、工件表面PH测试:对工件表面的残留水进行PH值测试,如果其PH值满足6-7,则转入下一工序,如果其PH值小于6或大于7,则返回步骤S6,重新浸泡清洗;
S8、CDA吹干:采用CDA对工件表面吹干;
S9、超声波震荡清洗:在无尘车间内进行,将部品放进带有超音波的DI Water槽中,进行超声波震荡清洗5分钟以上;
S10、CDA吹干:采用CDA对工件表面吹干;
S11、自然冷却:将加热干燥后的工件自然冷却至室温即可。
2.根据权利要求1所述的适用于表面附着物为Anodized部品的清洗方法,其特征是:所述的步骤S1中水温为30±5℃。
3.根据权利要求1所述的适用于表面附着物为Anodized部品的清洗方法,其特征是:所述的步骤S3中冲洗时的水枪压力为:0.5-1bar。
4.根据权利要求1所述的适用于表面附着物为Anodized部品的清洗方法,其特征是:所述的步骤S4中DI Water的电阻率为5MΩ以上,PH值:6-7。
5.根据权利要求1所述的适用于表面附着物为Anodized部品的清洗方法,其特征是:所述的步骤S6中采用有效功率为1.2Kw的超声波进行超声波震荡清洗,超声波震荡清洗时要向超声波清洗槽中持续通入去离子水,保持水槽中的水从水槽上面不断溢流。
6.根据权利要求1所述的适用于表面附着物为Anodized部品的清洗方法,其特征是:所述的步骤S8中压缩空气的压力为2kgf/cm2,干燥温度为100±5℃,干燥时间为30分钟以上。
7.根据权利要求1所述的适用于表面附着物为Anodized部品的清洗方法,其特征是:所述的步骤S9中的无尘车间采用1000级无尘室。
8.根据权利要求1所述的适用于表面附着物为Anodized部品的清洗方法,其特征是:所述的步骤S9中采用有效功率为1.2Kw的超声波进行超声波震荡清洗,超声波震荡清洗时要向超声波清洗槽中持续通入去离子水,保持水槽中的水从水槽上面不断溢流。
9.根据权利要求1所述的适用于表面附着物为Anodized部品的清洗方法,其特征是:所述的步骤S10中压缩空气的压力为2kgf/cm2,干燥温度为100±5℃,干燥时间为120分钟以上。
CN201810945443.6A 2018-08-20 2018-08-20 适用于表面附着物为Anodized部品的清洗方法 Pending CN110841970A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810945443.6A CN110841970A (zh) 2018-08-20 2018-08-20 适用于表面附着物为Anodized部品的清洗方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810945443.6A CN110841970A (zh) 2018-08-20 2018-08-20 适用于表面附着物为Anodized部品的清洗方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN110841970A true CN110841970A (zh) 2020-02-28

Family

ID=69595018

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201810945443.6A Pending CN110841970A (zh) 2018-08-20 2018-08-20 适用于表面附着物为Anodized部品的清洗方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN110841970A (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114231939A (zh) * 2021-12-20 2022-03-25 深圳浚漪科技有限公司 Oled cvd金属掩膜版再生的方法
CN114405918A (zh) * 2022-01-12 2022-04-29 合肥微睿光电科技有限公司 再生蚀刻机或pecvd设备的衬里的方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6686023B2 (en) * 2001-02-26 2004-02-03 Shin-Kobe Electric Machinery Co., Ltd. Polished-piece holder and manufacturing method thereof
CN101217101A (zh) * 2007-01-04 2008-07-09 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 一种洗净陶瓷表面污点的方法
CN101372748A (zh) * 2007-08-22 2009-02-25 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 清洗铝合金零件的方法
CN106868508A (zh) * 2017-02-19 2017-06-20 安徽晶海纳光电科技有限公司 一种真空设备工艺腔室壁板再生处理方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6686023B2 (en) * 2001-02-26 2004-02-03 Shin-Kobe Electric Machinery Co., Ltd. Polished-piece holder and manufacturing method thereof
CN101217101A (zh) * 2007-01-04 2008-07-09 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 一种洗净陶瓷表面污点的方法
CN101372748A (zh) * 2007-08-22 2009-02-25 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 清洗铝合金零件的方法
CN106868508A (zh) * 2017-02-19 2017-06-20 安徽晶海纳光电科技有限公司 一种真空设备工艺腔室壁板再生处理方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
张剑波等: "《清洁技术基础教程》", 31 July 2004, 中国环境科学出版社 *

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114231939A (zh) * 2021-12-20 2022-03-25 深圳浚漪科技有限公司 Oled cvd金属掩膜版再生的方法
CN114405918A (zh) * 2022-01-12 2022-04-29 合肥微睿光电科技有限公司 再生蚀刻机或pecvd设备的衬里的方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN111659640B (zh) 半导体设备腔体内铝基材多孔分气装置超洁净清洗工艺
CN110841970A (zh) 适用于表面附着物为Anodized部品的清洗方法
CN105366961A (zh) 防眩光玻璃的制造方法
CN101205621B (zh) 一种铝材料零件的清洗方法
CN101372748A (zh) 清洗铝合金零件的方法
CN110335807B (zh) 一种硅片清洗方法
CN111804674A (zh) 一种etch设备中阳极氧化部件面污染物的洗净方法
CN112620230A (zh) 零件的清洗方法
CN110586541A (zh) 水泵叶轮的清洗方法
CN103894367A (zh) 一种热处理生产线用真空清洗机
CN106637167A (zh) 一种不锈钢钝化工艺
CN106115715A (zh) 多晶硅铸锭半融工艺产生的循环尾料清洗处理方法
CN101205619A (zh) 金属件的表面清洗剂及清洗方法
CN106011866A (zh) 一种紫铜管工件的化学抛光表面处理方法
CN106312491B (zh) 一种高效、环保的钢材除氧化皮方法
CN101226872A (zh) 一种多晶刻蚀腔室中硅材质零件表面的清洗方法
CN105762062B (zh) 一种砷化镓半导体基片湿法刻蚀工艺
CN110813901A (zh) 一种工件清洗方法
CN113707535A (zh) 一种磷化铟晶片的腐蚀方法
CN101226873A (zh) 一种多晶刻蚀腔室中电极表面的清洗方法
CN212833969U (zh) 一种热镀锌钢板的漂洗装置
CN112295882A (zh) 一种电控柜钣金外壳的高效静电喷涂工艺
CN112658996A (zh) 一种实木家具喷砂打磨处理工艺
CN108857856A (zh) Cmp固定环清洗方法
CN116598192A (zh) 一种Coating Parts清洗工艺

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20200228

RJ01 Rejection of invention patent application after publication