CN108857856A - Cmp固定环清洗方法 - Google Patents
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Abstract
一种CMP固定环清洗方法,属于清洗方法领域。该CMP固定环清洗方法包括以下步骤:将CMP固定环投入具有油污清洗剂的水中清洗,随后用水漂洗;其中,所述油污清洗剂选自于氨基酸型两性表面活性剂、甜菜碱型两性表面活性剂中的至少一种。本发明提供的CMP固定环清洗方法可以有效的去除CMP固定环表面的油脂和杂质,避免使用CMP固定环研磨晶圆时造成划痕、油污影响质量。
Description
技术领域
本发明涉及清洗方法领域,具体而言,涉及一种CMP固定环清洗方法。
背景技术
化学机械研磨(Chemica Mechanical Polishing,CMP)是半导体器件制造中使用的重要工艺。化学机械研磨就是把晶圆放在旋转的研磨垫上,并施加一定的压力后用化学研磨液来进行化学和机械研磨以实现晶圆全局平坦化的工艺方法。在CMP作业过程中需要使用固定环(retaining ring)来固定硅片以便于进行研磨作业,这就要求CMP固定环的表面具有很高的洁净度,当CMP固定环的表面具有划伤、毛刺、油污时会对在研磨过程中对晶圆造成损伤,因此在作业前需要对固定环的表面进行清洁处理,目前现有的CMP固定环清洗方法是使用水进行清洗,这并不能很好的保证CMP固定环表面的洁净程度,导致晶圆质量不稳定。
因此,需要提供一种新的CMP固定环的清洗方法以便于提供所需的固定环洁净程度。
发明内容
本发明的目的在于提供一种CMP固定环清洗方法,其能够有效的去除CMP固定环表面的油脂和杂质,避免使用CMP固定环研磨晶圆时造成划痕、油污影响质量。
本发明的实施例是这样实现的:
一种CMP固定环清洗方法,其包括以下步骤:将CMP固定环投入具有油污清洗剂的水中清洗,随后用水漂洗;
其中,油污清洗剂选自于氨基酸型两性表面活性剂、甜菜碱型两性表面活性剂中的至少一种。
在本发明较佳的实施例中,上述氨基酸型两性表面活性剂选自于N-十二烷基丙氨酸、十二烷基氨基丙酸钠和N-酰基氨基酸钠组成的组合中的一种。
在本发明较佳的实施例中,上述甜菜碱型两性表面活性剂选自于α-烷基甜菜碱、椰油酰胺丙基甜菜碱、十二烷基磺基甜菜碱组成的组合中的一种。
在本发明较佳的实施例中,上述清洗的时间为4.5-5.5min。
在本发明较佳的实施例中,上述清洗的水温为58.5-61.5℃;优选的,清洗的水温为59.5-60.5℃。
在本发明较佳的实施例中,上述漂洗的时间为3-6min。
在本发明较佳的实施例中,上述漂洗的水温为40-60.5℃;优选的,漂洗的水温为55-60.5℃。
在本发明较佳的实施例中,上述具有油污清洗剂的水中的油污清洗剂的质量百分比为0.1%-6%;优选的,具有油污清洗剂的水中的油污清洗剂的质量百分比为0.5-3%。
在本发明较佳的实施例中,上述将CMP固定环投入以200-700r/min旋转的具有油污清洗剂的水中进行清洗;优选的,将CMP固定环投入以300-600r/min旋转的具有油污清洗剂的水中进行清洗。
在本发明较佳的实施例中,上述将CMP固定环投入以50-500r/min旋转的水中进行漂洗;优选的,将CMP固定环投入以100-200r/min旋转的水中进行漂洗。
本发明实施例的有益效果是:本发明实施例提供的CMP固定环清洗方法包括以下步骤:将CMP固定环投入具有油污清洗剂的水中清洗,随后用水漂洗;其中,油污清洗剂选自于氨基酸型两性表面活性剂、甜菜碱型两性表面活性剂中的至少一种。本发明提供的CMP固定环清洗方法可以有效的去除CMP固定环表面的油脂和杂质,避免使用CMP固定环固定晶圆时造成划痕、油污影响质量。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。实施例中未注明具体条件者,按照常规条件或制造商建议的条件进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者,均为可以通过市售购买获得的常规产品。
下面对本发明实施例提供的降低炼钢时铁料消耗的方法进行具体说明。
本发明实施例提供了一种CMP固定环清洗方法,其包括以下步骤:将CMP固定环投入具有油污清洗剂的水中清洗,随后用水漂洗;
其中,油污清洗剂选自于氨基酸型两性表面活性剂、甜菜碱型两性表面活性剂中的至少一种。优选的,氨基酸型两性表面活性剂选自于N-十二烷基丙氨酸、十二烷基氨基丙酸钠和N-酰基氨基酸钠组成的组合中的一种;更优选的,甜菜碱型两性表面活性剂选自于α-烷基甜菜碱、椰油酰胺丙基甜菜碱、十二烷基磺基甜菜碱组成的组合中的一种;进一步优选的,具有油污清洗剂的水中的油污清洗剂的质量百分比为0.1%-6%;更进一步优选的,具有油污清洗剂的水中的油污清洗剂的质量百分比为0.5-3%;再进一步优选的,水为去离子水。
本发明实施例提供的CMP固定环清洗方法通过将需要清洗的CMP固定环投入到具有油污清洗剂的水中进行清洗,且该油污清洗剂选自于氨基酸型两性表面活性剂、甜菜碱型两性表面活性剂中的至少一种,采用无毒无害、性质温和且去油污性能优异的两性表面活性剂能够有效的去除CMP固定环表面的油污,从而提高CMP固定环的清洗效果,避免CMP固定环表面的油污对晶圆造成损伤,且能够避免清洗过程中油污清洗剂残留于CMP固定环表面以影响晶圆研磨作业。
清洗的时间为4.5-5.5min;优选的,清洗的水温为58.5-61.5℃;更优选的,清洗的水温为59.5-60.5℃。选用合适的清洗时间和清洗温度能够在保证在较短的时间内对CMP固定环表面进行有效的清洗,控制清洗时间能够保证CMP固定环的清洗效率以便于进行CMP作业,同时控制清洗水温能够避免对固定环造成损害的同时有效的去除其表面的油污以及研磨产生的颗粒和结块,避免对后续的晶圆研磨作业造成影响。
漂洗的时间为3-6min;优选的,漂洗的水温为40-60.5℃;更优选的,漂洗的水温为55-60.5℃。选用合适的漂洗时间和漂洗温度能够在保证快速高效的清洗CMP固定环的表面,避免油污、颗粒、结块等杂质以及水中的油污清洗剂残留在CMP固定环的表面,以获得清洁的CMP固定环。
将CMP固定环投入以200-700r/min旋转的具有油污清洗剂的水中进行清洗;优选的,将CMP固定环投入以300-600r/min旋转的具有油污清洗剂的水中进行清洗。将CMP固定环投入到旋转的水流中进行清洗,能够有效的提高清洗效率和清洗效果,相比普通的清水冲洗,使用旋转的水流对CMP固定环表面进行清洗具有更加的清洗效果,而且能够实现对CMP固定环表面的全面清洗,从而获得最佳的清洗效果。
将CMP固定环投入以50-500r/min旋转的水中进行漂洗;优选的,将CMP固定环投入以100-200r/min旋转的水中进行漂洗。采用旋转的水流对CMP固定环的表面进行漂洗,能够快速全面的对CMP固定环表面残留的油污清洗剂进行清洗,避免在CMP固定环表面产生残留。
以下结合具体实施例对本发明的特征和性能作进一步的详细描述。
实施例1
本发明实施例提供了一种CMP固定环清洗方法,其包括以下步骤:
将CMP固定环投入具有油污清洗剂的60℃的去离子水中清洗5min,随后使用60℃的去离子水漂洗5min后取出烘干;其中,具有油污清洗剂的去离子水中含有质量百分比为2%的椰油酰胺丙基甜菜碱。
实施例2
本发明实施例提供了一种CMP固定环清洗方法,其包括以下步骤:
将CMP固定环投入具有油污清洗剂的58.5℃的去离子水中清洗5.5min,随后使用55℃的去离子水漂洗4min后取出烘干;其中,具有油污清洗剂的去离子水中含有质量百分比为3%的N-酰基氨基酸钠。
实施例3
本发明实施例提供了一种CMP固定环清洗方法,其包括以下步骤:
将CMP固定环投入具有油污清洗剂的60.5℃的去离子水中清洗4.5min,随后使用40℃的去离子水漂洗6min后取出烘干;其中,具有油污清洗剂的去离子水中含有质量百分比为1%的N-十二烷基丙氨酸。
实施例4
本发明实施例提供了一种CMP固定环清洗方法,其包括以下步骤:
将CMP固定环投入具有油污清洗剂的59℃的去离子水中清洗5min,随后使用48℃的去离子水漂洗3.5min后取出烘干;其中,具有油污清洗剂的去离子水中含有质量百分比为1.5%的十二烷基氨基丙酸钠。
实施例5
本发明实施例提供了一种CMP固定环清洗方法,其包括以下步骤:
将CMP固定环投入具有油污清洗剂的58.5℃的去离子水中清洗5.2min,随后使用52℃的去离子水漂洗4.5min后取出烘干;其中,具有油污清洗剂的去离子水中含有质量百分比为2.5%的α-烷基甜菜碱。
实施例6
本发明实施例提供了一种CMP固定环清洗方法,其包括以下步骤:
将CMP固定环投入具有油污清洗剂的61℃的去离子水中清洗4.8min,随后使用60℃的去离子水漂洗5min后取出烘干;其中,具有油污清洗剂的去离子水中含有质量百分比为0.8%的十二烷基磺基甜菜碱。
实施例7
本发明实施例提供了一种CMP固定环清洗方法,其包括以下步骤:
将CMP固定环投入具有油污清洗剂的60.5℃的去离子水中清洗5min,随后使用58℃的去离子水漂洗5min后取出烘干;其中,具有油污清洗剂的去离子水中含有质量百分比为1%的十二烷基氨基丙酸钠和1%的十二烷基磺基甜菜碱。
实施例8
本发明实施例提供了一种CMP固定环清洗方法,其包括以下步骤:
将CMP固定环投入具有油污清洗剂的59℃的去离子水中清洗5.2min,随后使用55℃的去离子水漂洗4.5min后取出烘干;其中,具有油污清洗剂的去离子水中含有质量百分比为0.75%的N-十二烷基丙氨酸和0.5%的N-酰基氨基酸钠。
实施例9
本发明实施例提供了一种CMP固定环清洗方法,其包括以下步骤:
将CMP固定环投入具有油污清洗剂的60℃的去离子水中清洗4.5min,随后使用60℃的去离子水漂洗5.5min后取出烘干;其中,具有油污清洗剂的去离子水中含有质量百分比为0.5%的椰油酰胺丙基甜菜碱和0.5%的N-酰基氨基酸钠。
实施例10
本发明实施例提供了一种CMP固定环清洗方法,其包括以下步骤:
将CMP固定环投入具有油污清洗剂的60℃的去离子水中清洗7.5min,随后使用60℃的去离子水漂洗7.5min后取出烘干;其中,具有油污清洗剂的去离子水中含有质量百分比为0.1%的N-酰基氨基酸钠和0.5%的α-烷基甜菜碱。
实施例11
本发明实施例提供了一种CMP固定环清洗方法,其包括以下步骤:
将CMP固定环投入具有油污清洗剂的58.5℃的去离子水中清洗4.5min,随后使用40℃的去离子水漂洗4.5min后取出烘干;其中,具有油污清洗剂的去离子水中含有质量百分比为0.75%的N-十二烷基丙氨酸和0.5%的十二烷基磺基甜菜碱。
实施例12
本发明实施例提供了一种CMP固定环清洗方法,其包括以下步骤:
将CMP固定环投入具有油污清洗剂的61.5℃的去离子水中清洗6min,随后使用60.5℃的去离子水漂洗6min后取出烘干;其中,具有油污清洗剂的去离子水中含有质量百分比为0.5%的十二烷基氨基丙酸钠、0.5%的α-烷基甜菜碱和1%的椰油酰胺丙基甜菜碱。
实施例13
本发明实施例提供了一种CMP固定环清洗方法,其包括以下步骤:
将CMP固定环投入具有油污清洗剂的55℃的去离子水中清洗5min,随后使用55℃的去离子水漂洗5.5min后取出烘干;其中,具有油污清洗剂的去离子水中含有质量百分比为0.75%的十二烷基氨基丙酸钠和0.5%、0.75%的十二烷基磺基甜菜碱和0.5%的α-烷基甜菜碱。
实施例14
本发明实施例提供了一种CMP固定环清洗方法,其包括以下步骤:
将CMP固定环投入具有油污清洗剂的50℃的去离子水中清洗5min,随后使用60℃的去离子水漂洗4.5min后取出烘干;其中,具有油污清洗剂的去离子水中含有质量百分比为0.15%的十二烷基氨基丙酸钠和0.5%的椰油酰胺丙基甜菜碱。
对上述实施例1、实施例2、...、实施例14清洗后的CMP固定环进行检测,清洁度均达到SPC1级。
综上所述,本发明提供的CMP固定环清洗方法可以有效的去除CMP固定环表面的油脂和杂质,避免使用CMP固定环固定晶圆时造成划痕、油污影响质量。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,对于本领域的技术人员来说,本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种CMP固定环清洗方法,其特征在于,其包括以下步骤:将CMP固定环投入具有油污清洗剂的水中清洗,随后用水漂洗;
其中,所述油污清洗剂选自于氨基酸型两性表面活性剂、甜菜碱型两性表面活性剂中的至少一种。
2.根据权利要求1所述的CMP固定环清洗方法,其特征在于,所述氨基酸型两性表面活性剂选自于N-十二烷基丙氨酸、十二烷基氨基丙酸钠和N-酰基氨基酸钠组成的组合中的一种。
3.根据权利要求1所述的CMP固定环清洗方法,其特征在于,所述甜菜碱型两性表面活性剂选自于α-烷基甜菜碱、椰油酰胺丙基甜菜碱、十二烷基磺基甜菜碱组成的组合中的一种。
4.根据权利要求1所述的CMP固定环清洗方法,其特征在于,所述清洗的时间为4.5-5.5min。
5.根据权利要求4所述的CMP固定环清洗方法,其特征在于,所述清洗的水温为58.5-61.5℃;优选的,所述清洗的水温为59.5-60.5℃。
6.根据权利要求1所述的CMP固定环清洗方法,其特征在于,所述漂洗的时间为3-6min。
7.根据权利要求6所述的CMP固定环清洗方法,其特征在于,所述漂洗的水温为40-60.5℃;优选的,所述漂洗的水温为55-60.5℃。
8.根据权利要求1所述的CMP固定环清洗方法,其特征在于,具有油污清洗剂的水中的油污清洗剂的质量百分比为0.1%-6%;优选的,具有油污清洗剂的水中的油污清洗剂的质量百分比为0.5-3%。
9.根据权利要求1所述的CMP固定环清洗方法,其特征在于,将所述CMP固定环投入以200-700r/min旋转的具有油污清洗剂的水中进行清洗;优选的,将所述CMP固定环投入以300-600r/min旋转的具有油污清洗剂的水中进行清洗。
10.根据权利要求1所述的CMP固定环清洗方法,其特征在于,将所述CMP固定环投入以50-500r/min旋转的水中进行漂洗;优选的,将所述CMP固定环投入以100-200r/min旋转的水中进行漂洗。
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