CN110802052A - 一种蓝宝石衬底粗糙表面碳化硼的去除方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种蓝宝石衬底粗糙表面碳化硼的去除方法，该方法包括以下步骤：(1)将研磨后的蓝宝石晶片通过酸性溶液进行浸泡；(2)对浸泡后的晶片进行刷洗，刷洗的同时用纯水冲洗；(3)将晶片置于30～60℃的热水中，进行超声清洗3～5min；(4)将晶片进行高温有氧烧结；(5)将晶片置于纯水中双面刷洗，即可。本发明的去除方法避免了传统的多槽清洗、漂洗的处理方法，清洗工艺简单，稳定性好，良品率高，另一方面，用水较少，对环保要求低。
Description
技术领域
本发明属于晶体加工领域，具体涉及一种蓝宝石衬底粗糙表面碳化硼的去除方法。
背景技术
蓝宝石衬底作为LED的基板，已经大规模应用在现实工业中，对工业的发展起着举足轻重的地位。蓝宝石加工目前必须用到碳化硼的表面研磨，主要考虑蓝宝石衬底的硬度大，加工难。但通过碳化硼的表面高速研磨后，蓝宝石表面存在大量的研磨粗糙面，且粉末难以去除，这些问题长久以来一直是蓝宝石加工中间环节的难点，影响整体蓝宝石衬底加工的良率。目前行业内采用传统的药剂+超声的清洗模式，虽然有一定的清洗效果，但整体效果一般，而且稳定性非常差。局部存在污染等因素。
发明内容
针对现有技术的不足，本发明提供一种蓝宝石衬底粗糙表面碳化硼的去除方法，该方法避免了传统的多槽清洗、漂洗的处理方法，清洗工艺简单，稳定性好，良品率高，另一方面，用水较少，对环保要求低。
本发明是通过以下技术方案实现的：
一种蓝宝石衬底粗糙表面碳化硼的去除方法，包括以下步骤：
步骤1)将研磨后的蓝宝石晶片通过酸性溶液进行浸泡1～3h；
步骤2)对经步骤1)浸泡的晶片进行刷洗，刷洗的同时用纯水冲洗；
步骤3)将晶片置于30～60℃的热水中，进行超声清洗3～5min；
步骤4)将晶片进行800～1200℃有氧烧结；
步骤5)将晶片置于纯水中双面刷洗，即可。
优选地，步骤1)所述酸性溶液由盐酸、助洗剂、降低表面张力的非离子型表面活性剂及水按体积比10:3:0.3:86.7配成。
优选地，所述助洗剂为六聚磷酸钠，所述非离子型表面活性剂为烷基酚聚氧乙烯醚-10。
优选地，步骤1)所述酸性溶液的温度为30～50℃。
优选地，步骤2)所述刷洗采用双面尼龙滚筒毛刷。
优选地，步骤3)所述超声的频率为40HZ，强度为0.05～0.3V。
本发明的有益效果如下：
本发明的方法，避免了原有传统工艺中多槽(至少7槽以上)药剂超声清洗模式，大幅度降低了清洗槽的使用量，同时降低了环境污染。采用毛刷刷洗的模式，提高了清洗的效率，降低了用水成本的同时，保证了蓝宝石清洗片与片之间的清洗稳定性和良率。最后，结合有氧高温烧结的方式以及蓝宝石材料的耐高温特性，去除了蓝宝石表面的可挥发性杂质以及清洗剂的微量残留。确保了蓝宝石晶片表面的洁净度以及产品的粗糙度水平保持在1.0～1.2μm。本发明的清洗方法确保清洗品质的前提下，一次良率可以达到97％以上。
附图说明
图1为清洗后蓝宝石衬底表面的EDS分析图谱。
具体实施方式
下面结合附图与实施例对本发明做进一步阐述。实施例中所用试剂或者仪器设备未注明生产厂商的，均视为可以通过市场购买的常规产品。
实施例1
一种蓝宝石衬底粗糙表面碳化硼的去除方法，具体步骤如下：
(1)将研磨后的蓝宝石晶片通过30～50℃酸性溶液进行浸泡，时间控制在1～3h。
目的是将内嵌的大颗粒碳化硼浸泡松软，从而掉落表面，同时将碳化硼研磨液中的悬浮剂、分散剂等杂质或残留通过酸性溶液进行中和，打破悬浮体系，方便下一步对碳化硼的处理。
其中，酸性溶液主要由盐酸、助洗剂(六聚磷酸钠)以及降低表面张力的非离子型表面活性剂(烷基酚聚氧乙烯醚-10，简称OP-10)组成，三者分别占酸性溶液总体积的10％、3％和0.3％，余量为水。
(2)采用双面尼龙滚筒毛刷对经酸液浸泡后的晶片进行刷洗，刷洗头的上方伴随有纯水冲洗。
目的是将吸附在蓝宝石表面的粉末及其他杂质进行物理去除，同时将残留的药剂冲走。
(3)将晶片置于30～60℃的热水中，进行超声清洗3～5min。
目的是更进一步的将更细的粉末超声带出，同时起到漂洗作用。
其中，超声频率采用40HZ，强度在0.05～0.3V之间为最佳。
(4)对晶片进行800～1200℃有氧烧结，将蓝宝石表面可挥发物全部去除。
(5)将晶片置于纯水中双面刷洗，得到洁净的蓝宝石衬底表面(粗糙面)。
采用本实施例的方法，清洗MN070118M029、MN070112H531等共计11个批次的蓝宝石4寸晶片，共1712片，合格良率97.8％。具体明细如下表1所示。
表1清洗结果
| 批次 | 数量 | 油亮 | 白斑 | 不良比例 |
| MN070118M029 | 149 | 2 | 1 | 2.0％ |
| MN070112H531 | 176 | 2 | 0 | 1.1％ |
| AR070109H225 | 150 | 3 | 2 | 3.3％ |
| AR061226D923 | 178 | 3 | 1 | 2.2％ |
| MN070222D871 | 152 | 1 | 1 | 1.3％ |
| MN070222D862 | 124 | 8 | 0 | 6.5％ |
| MN070206X246 | 118 | 0 | 1 | 0.8％ |
| AR061224D762 | 166 | 2 | 2 | 2.4％ |
| AR061224D750 | 161 | 0 | 1 | 0.6％ |
| AR061228Q751 | 191 | 4 | 2 | 3.1％ |
| MN070216A379 | 147 | 1 | 0 | 0.7％ |
| 合计 | 1712 | 26 | 11 | 2.2％ |
随机抽取清洗后的合格/不合格晶片进行EDS能谱仪分析，具体如图1所示，可以看出正常区域洁净的表面与异常区域有明显区别，通过EDS分析后得出异常区域内蓝宝石衬底表面杂质如C、N、Na等明显并未被清除干净。
对照例1
通过传统的研磨后清洗的方法进行晶片的清洗，采用“多槽+药剂+超声清洗”模式，共清洗蓝宝石4寸晶片2000片左右，共发现不良损失：油亮(研磨粉嵌入污染造成)277片；白斑(清洗剂残留污染造成)358片；其他不良15片，合计良率68％。
Claims (6)
1.一种蓝宝石衬底粗糙表面碳化硼的去除方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤1)将研磨后的蓝宝石晶片通过酸性溶液进行浸泡1～3h；
步骤2)对经步骤1)浸泡的晶片进行刷洗，刷洗的同时用纯水冲洗；
步骤3)将晶片置于30～60℃的热水中，进行超声清洗3～5min；
步骤4)将晶片进行800～1200℃有氧烧结；
步骤5)将晶片置于纯水中双面刷洗，即可。
2.根据权利要求1所述的一种蓝宝石衬底粗糙表面碳化硼的去除方法，其特征在于，步骤1)所述酸性溶液由盐酸、助洗剂、降低表面张力的非离子型表面活性剂及水按体积比10:3:0.3:86.7配成。
3.根据权利要求2所述的一种蓝宝石衬底粗糙表面碳化硼的去除方法，其特征在于，所述助洗剂为六聚磷酸钠，所述非离子型表面活性剂为烷基酚聚氧乙烯醚-10。
4.根据权利要求1所述的一种蓝宝石衬底粗糙表面碳化硼的去除方法，其特征在于，步骤1)所述酸性溶液的温度为30～50℃。
5.根据权利要求1所述的一种蓝宝石衬底粗糙表面碳化硼的去除方法，其特征在于，步骤2)所述刷洗采用双面尼龙滚筒毛刷。
6.根据权利要求1所述的一种蓝宝石衬底粗糙表面碳化硼的去除方法，其特征在于，步骤3)所述超声的频率为40HZ，强度为0.05～0.3V。
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|---|---|
| CN (1) | CN110802052A (zh) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114192452A (zh) * | 2020-09-18 | 2022-03-18 | 中国科学院微电子研究所 | 晶片清洗装置 |
| CN114425534A (zh) * | 2021-12-13 | 2022-05-03 | 金华博蓝特新材料有限公司 | 一种在蓝宝石衬底铜抛后清洗的方法 |
| CN114472341A (zh) * | 2022-04-19 | 2022-05-13 | 天通控股股份有限公司 | 一种铌酸锂单面抛光片的清洗方法 |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1102821A (zh) * | 1994-04-25 | 1995-05-24 | 天津大学 | 天然蓝宝石的改色方法 |
| CN1954042A (zh) * | 2004-09-23 | 2007-04-25 | 六号元素(控股)公司 | 多晶磨料及其制备方法 |
| CN101062503A (zh) * | 2006-04-24 | 2007-10-31 | 联华电子股份有限公司 | 化学机械研磨后的晶片清洗方法 |
| US7638004B1 (en) * | 2006-05-31 | 2009-12-29 | Lam Research Corporation | Method for cleaning microwave applicator tube |
| CN104131354A (zh) * | 2013-05-02 | 2014-11-05 | 周黎 | 一种蓝宝石晶体加工后剩余碎晶的回收利用方法 |
| CN104498208A (zh) * | 2014-12-31 | 2015-04-08 | 镇江市港南电子有限公司 | 一种新型特效硅片清洗液制备方法 |
| CN105272177A (zh) * | 2015-11-09 | 2016-01-27 | 南京长江工业炉科技有限公司 | 一种氧化铝烧结体的制备方法 |
| CN105903694A (zh) * | 2016-04-27 | 2016-08-31 | 上海超硅半导体有限公司 | 大尺寸蓝宝石衬底退火前的清洗及背面不良返工方法 |
-
2019
- 2019-10-14 CN CN201910971713.5A patent/CN110802052A/zh active Pending
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1102821A (zh) * | 1994-04-25 | 1995-05-24 | 天津大学 | 天然蓝宝石的改色方法 |
| CN1954042A (zh) * | 2004-09-23 | 2007-04-25 | 六号元素(控股)公司 | 多晶磨料及其制备方法 |
| CN101062503A (zh) * | 2006-04-24 | 2007-10-31 | 联华电子股份有限公司 | 化学机械研磨后的晶片清洗方法 |
| US7638004B1 (en) * | 2006-05-31 | 2009-12-29 | Lam Research Corporation | Method for cleaning microwave applicator tube |
| CN104131354A (zh) * | 2013-05-02 | 2014-11-05 | 周黎 | 一种蓝宝石晶体加工后剩余碎晶的回收利用方法 |
| CN104498208A (zh) * | 2014-12-31 | 2015-04-08 | 镇江市港南电子有限公司 | 一种新型特效硅片清洗液制备方法 |
| CN105272177A (zh) * | 2015-11-09 | 2016-01-27 | 南京长江工业炉科技有限公司 | 一种氧化铝烧结体的制备方法 |
| CN105903694A (zh) * | 2016-04-27 | 2016-08-31 | 上海超硅半导体有限公司 | 大尺寸蓝宝石衬底退火前的清洗及背面不良返工方法 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114192452A (zh) * | 2020-09-18 | 2022-03-18 | 中国科学院微电子研究所 | 晶片清洗装置 |
| CN114425534A (zh) * | 2021-12-13 | 2022-05-03 | 金华博蓝特新材料有限公司 | 一种在蓝宝石衬底铜抛后清洗的方法 |
| CN114425534B (zh) * | 2021-12-13 | 2024-04-16 | 金华博蓝特新材料有限公司 | 一种在蓝宝石衬底铜抛后清洗的方法 |
| CN114472341A (zh) * | 2022-04-19 | 2022-05-13 | 天通控股股份有限公司 | 一种铌酸锂单面抛光片的清洗方法 |
| WO2023202192A1 (zh) * | 2022-04-19 | 2023-10-26 | 天通控股股份有限公司 | 一种铌酸锂单面抛光片的清洗方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
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Application publication date: 20200218 |