CN110819225A - 一种防析出涂料及其应用的聚酯膜 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种防析出涂料,包括以下重量份数的组分:去离子水0~40份、有机溶剂50~95份、第一硅烷2~10份、第二硅烷0.5~10份、助剂1~20份和催化剂0.01~0.5份;其中,所述第一硅烷为含有甲基、乙基或长链烷基的硅烷;所述第二硅烷为含有不饱和基、氨烃基、环氧烃基、甲基丙烯酰氧基或季氨烃基的硅烷。本发明还公开了一种防析出聚酯膜,其包括聚酯薄膜层和设置于聚酯薄膜层两侧面上的防析出涂层,该防析出涂层是将上述防析出涂料涂敷于聚酯薄膜层的侧面上,然后经过烘干制得。本发明的防析出涂料在用于制备防析出聚酯膜时,涂层形成工艺简单,成本低;该涂料采用了含有不同的基团的第一硅烷和第二硅烷的双组分,并与其他成分配合,实现了较好的防析出效果。
Description
技术领域
本发明涉及光学薄膜技术领域,特别涉及该领域的一种防析出涂料及其应用的聚酯膜。
背景技术
聚酯薄膜具有优异的物理、化学性能及尺寸稳定性、透明性、可回收性,可广泛的应用于磁记录、感光材料、电子、电气绝缘、工业用膜、包装装饰等领域。在柔性电路板、电子等技术领域,通常会对聚酯薄膜的透光率提出较高的技术要求。但是在这些应用的实际加工过程中,聚酯薄膜会经历持续的高温过程,在这个高温过程中,透明聚酯薄膜中的小分子物质会析出,造成聚酯薄膜的透光率下降,雾度增加,影响了聚酯薄膜的使用效果。
在现有技术中,可以通过在聚脂薄膜的两侧增加涂层的方式来改善析出的问题,降低高温过程对聚脂薄膜透光率的影响。例如申请号为201710734658.9的发明专利,通过在PET基材两侧涂布由光引发剂和改性UV光固化树脂组成的涂布液,通过烘箱干燥和UV照射得到防析出的PET聚酯薄膜。申请号为201720309719.2的实用新型专利,也通过在PET基材表面增加压敏胶层、防析出层,实现了PET聚酯薄膜的防析出。
但是,现有技术的聚酯薄膜的制备过程存在工艺路线复杂、成本较高的问题,需要增加UV照射或额外的压敏胶及其他层才能实现高温防析出的效果。随着电子工业的发展,高温环境也变得更严苛,需要提升耐高温防析出的能力,现有技术中的聚酯薄膜已经不能满足要求。
发明内容
为解决上述技术问题,本发明的目的在于提供一种防析出涂料及其应用的聚酯膜;该涂料在用于制备防析出聚酯膜时,涂层形成工艺简单,成本低;该涂料采用了含有不同的基团的第一硅烷和第二硅烷的双组分,并与其他成分配合,实现了较好的防析出效果。
为实现上述技术目的,达到上述技术效果,本发明通过以下技术方案实现:一种防析出涂料,包括以下重量份数的组分:去离子水0~40份、有机溶剂50~95份、第一硅烷2~10份、第二硅烷0.5~10份、助剂1~20份和催化剂0.01~0.5份;其中,所述第一硅烷为含有甲基、乙基或长链烷基的硅烷;所述第二硅烷为含有不饱和基、氨烃基、环氧烃基、甲基丙烯酰氧基或季氨烃基的硅烷。
优选的,有机溶剂选自甲醇、乙醇、异丙醇、丙酮、丁烷、己烷中的一种或两种以上的组合。
优选的,所述第一硅烷和第二硅烷的折射系数为1.35~1.5。
优选的,所述催化剂为二甲亚锡、甲苯磺酸-二丁基氧化锡、Pt-N(C2H5)3络合物、二月桂酸二丁基锡、二丁基醋酸锡、辛酸亚锡中的一种或两种以上的组合。
优选的,所述助剂为流平剂、润湿剂、分散剂中的一种或两种以上的组合。
本发明还提供了一种防析出聚酯膜,该聚酯膜包括聚酯薄膜层和设置于聚酯薄膜层两侧面上的防析出涂层,该防析出涂层是将上述防析出涂料涂敷于聚酯薄膜层的侧面上,然后经过烘干制得。
其中,所述聚酯薄膜层经过电晕处理。
优选的,所述聚酯薄膜层为聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚对苯二甲酸丁二醇酯薄膜、聚萘二甲酸乙二醇酯薄膜、聚碳酸酯薄膜中的一种。
其中,所述防析出涂层的厚度为2~20μm。
本发明的有益效果是:
该涂料采用了含有不同基团的第一硅烷和第二硅烷的双组分,解决了单组分不稳定、效果差的问题;该双组分与其他成分配合,应用于聚酯薄膜后,实现聚酯薄膜在高温环境下较好的防析出功能,可以保证聚酯薄膜160℃,2h或180℃,20min无析出,防止聚酯薄膜在后续的高温加工过程中透光率下降和雾度增加;且该防析出涂料形成的涂层更适用于极端温度场景,扩大了聚脂薄膜在电子领域的应用范围;
该涂料在用于制备防析出聚酯膜时,涂层形成工艺简单,成本低,只需涂布和烘干,即可实现防析出功能,无需增加UV照射或额外的压敏胶。
附图说明
图1为本发明实施例1的防析出聚酯膜的结构示意图。
具体实施方式
下面对本发明的较佳实施例进行详细阐述,以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解,从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。
实施例1
一种防析出涂料,包括以下重量份数的组分:去离子水10份、有机溶剂80份、第一硅烷6份、第二硅烷2份、助剂1.5份和催化剂0.5份;其中,第一硅烷为四乙氧基硅烷;所述第二硅烷为γ—(2,3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷,有机溶剂为乙醇,催化剂为二甲亚锡。
利用上述防析出涂料制备防析出聚酯膜,具体过程为:将上述防析出涂料分别涂敷于经过电晕处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜的上下表面,然后利用烘箱,在120℃下,经过5min烘干,形成具有聚酯薄膜层1和设置于聚酯薄膜层1侧面上的防析出涂层2的聚酯膜,如图1所示,其中,防析出涂层的厚度为3μm。
实施例2
一种防析出涂料,包括以下重量份数的组分:去离子水10份、有机溶剂80份、第一硅烷6份、第二硅烷2份、助剂1.5份和催化剂0.5份;其中,第一硅烷为三氟丙基三乙氧基硅烷;所述第二硅烷为乙烯基三乙氧基硅烷,有机溶剂为异丙醇,催化剂为二甲亚锡。
利用上述防析出涂料制备防析出聚酯膜,具体过程为:将上述防析出涂料分别涂敷于经过电晕处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜的上下表面,然后利用烘箱,在120℃下,经过5min烘干,形成具有聚酯薄膜层和设置于聚酯薄膜层侧面上的防析出涂层的聚酯膜,其中,防析出涂层的厚度为3μm。
实施例3
一种防析出涂料,包括以下重量份数的组分:去离子水10份、有机溶剂80份、第一硅烷6份、第二硅烷2份、助剂1.5份和催化剂0.5份;其中,第一硅烷为三氟丙基三乙氧基硅烷;所述第二硅烷为3-氨基丙基三乙氧基硅烷,有机溶剂为异丙醇,催化剂为二甲亚锡。
利用上述防析出涂料制备防析出聚酯膜,具体过程为:将上述防析出涂料分别涂敷于经过电晕处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜的上下表面,然后利用烘箱,在120℃下,经过5min烘干,形成具有聚酯薄膜层和设置于聚酯薄膜层侧面上的防析出涂层的聚酯膜,其中,防析出涂层的厚度为3μm。
对比例
取未处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜作为对比例。
性能测试
采用薄膜透光率雾度测试仪测试实施例1-3制得的防析出聚酯膜和对比例的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜的初始雾度和初始透光率,然后将实施例1-3制得的防析出聚酯膜和对比例的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜分别放入烘箱中,进行160℃,2h和180℃,20min烘干后,再采用薄膜透光率雾度测试仪测试经过高温后的各个聚酯膜的雾度和透光率。测试结果如下表1所示。
表1测试结果
由表1可知,经过高温烘干后,实施例1-3的聚酯膜的雾度和透光率,相比于初始雾度和初始透光率,均未产生明显的改变;即,经过高温过程后,实施例1-3的聚酯膜仍然具有较低的雾度和较高的透光率;而对比例的聚酯薄膜的雾度则明显增大,透光率明显下降;由此可知,本发明实施例1-3的具有防析出涂层的聚酯膜可以有效抑制其在经历高温后的析出现象的产生。
以上所述仅为本发明的实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。
Claims (9)
1.一种防析出涂料,其特征在于,包括以下重量份数的组分:去离子水0~40份、有机溶剂50~95份、第一硅烷2~10份、第二硅烷0.5~10份、助剂1~20份和催化剂0.01~0.5份;其中,所述第一硅烷为含有甲基、乙基或长链烷基的硅烷;所述第二硅烷为含有不饱和基、氨烃基、环氧烃基、甲基丙烯酰氧基或季氨烃基的硅烷。
2.根据权利要求1所述的一种防析出涂料,其特征在于,所述有机溶剂选自甲醇、乙醇、异丙醇、丙酮、丁烷、己烷中的一种或两种以上的组合。
3.根据权利要求1所述的一种防析出涂料,其特征在于,所述第一硅烷和第二硅烷的折射系数为1.35~1.5。
4.根据权利要求1所述的一种防析出涂料,其特征在于,所述催化剂为二甲亚锡、甲苯磺酸-二丁基氧化锡、Pt-N(C2H5)3络合物、二月桂酸二丁基锡、二丁基醋酸锡、辛酸亚锡中的一种或两种以上的组合。
5.根据权利要求1所述的一种防析出涂料,其特征在于,所述助剂为流平剂、润湿剂、分散剂中的一种或两种以上的组合。
6.一种防析出聚酯膜,其特征在于,该聚酯膜包括聚酯薄膜层和设置于聚酯薄膜层两侧面上的防析出涂层,该防析出涂层是将权利要求1-5任一项所述的防析出涂料涂敷于聚酯薄膜层的侧面上,然后经过烘干制得。
7.根据权利要求6所述的防析出聚酯膜,其特征在于,所述聚酯薄膜层经过电晕处理。
8.根据权利要求6所述的防析出聚酯膜,其特征在于,所述聚酯薄膜层为聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚对苯二甲酸丁二醇酯薄膜、聚萘二甲酸乙二醇酯薄膜、聚碳酸酯薄膜中的一种。
9.根据权利要求6所述的防析出聚酯膜,其特征在于,所述防析出涂层的厚度为2~20μm。
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
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Application publication date: 20200221 |