CN111875832A - 一种抗uv低水接的tac薄膜及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种抗UV低水接的TAC薄膜及其制备方法，其薄膜包括从上往下层叠的抗UV低水接层和基材层，抗UV低水接层通过将抗UV低水接涂液涂布在基材层上固化后形成，抗UV低水接层的厚度为3～7μm；其方法包括以下步骤：步骤S001，选取基材层；步骤S002，配置抗UV低水接涂液；将不饱和的丙烯酸树脂、光稳定剂、光引发剂和低水接流平助剂溶于有机溶剂中并搅拌均匀，配置成抗UV低水接涂液；步骤S003，涂布抗UV低水接层；将抗UV低水接涂液涂布在基材层上固化后形成抗UV低水接层。本发明提供的一种抗UV低水接的TAC薄膜及其制备方法，其薄膜具有轻薄、抗UV、低水接触角、雾度低以及透过率高的特点，其方法操作简单，易贴合，生产率高。

Description

一种抗UV低水接的TAC薄膜及其制备方法
技术领域
本发明涉及薄膜领域，特别是涉及一种抗UV低水接的TAC薄膜及其制备方法。
背景技术
随着电子工业的迅猛发展，产品轻薄化成为追求的趋势。为满足新的需求，显示屏中的偏光片越来越薄，而偏光片的结构层主要包括依次层叠的TAC膜、PVA膜和TAC膜，无可避免的TAC膜的需求越来越轻薄，要求的性能也在提高。
目前，为满足TAC膜+PVA膜+TAC膜碱洗后的贴合效果，TAC膜的水接触角小于75°为佳。市面上的低水接助剂层出不穷，而TAC的抗UV的性能常见的是通过有机紫外吸收剂添加到TAC基膜中，达到抗UV的效果，也有通过纳米级的二氧化钛添加来实现的，但是由于基膜的厚度越来越薄，单纯的通过提高添加剂的量已不能满足新的需求，因此，在TAC膜二次处理中提高抗UV性能的方案被提出。
发明内容
(一)要解决的技术问题
本发明所要解决的问题是提供一种抗UV低水接的TAC薄膜及其制备方法，以克服现有TAC薄膜不能适用薄偏光片的缺陷。
(二)技术方案
为解决所述技术问题，本发明提供一种抗UV低水接的TAC薄膜包括从上往下层叠的抗UV低水接层和基材层，所述抗UV低水接层通过将抗UV低水接涂液涂布在所述基材层上固化后形成，所述抗UV低水接层的厚度为3～7μm。其抗UV低水接的TAC薄膜采用在现有TAC薄膜进行二次处理的方式，即以TAC薄膜为基材层，在基材层上涂布抗UV低水接层，通过基材层和抗UV低水接层的配合，从而使薄膜具有抗UV低水接的突出特点，还有一定硬度、耐划伤的硬化特点，兼顾雾度低，透过率高的TAC薄膜光学性能，能够紧随偏光片越来越薄的趋势。
进一步的，以质量百分比计，所述抗UV低水接涂液包括以下组分：不饱和的丙烯酸树脂40％～50％，光稳定剂1.6～3.2％，光引发剂1.6％～2.4％，低水接流平助剂0.03％～0.1％和有机溶剂42.6％～57.96％。所述不饱和的丙烯酸树脂为聚氨酯丙烯酸树脂、聚酯丙烯酸树脂、环氧丙烯酸树脂和特殊改性丙烯酸树脂中的一种或几种的组合，所述光稳定剂为紫外线吸收剂和受阻胺自由基捕捉剂中的一种或两种搭配使用，所述光引发剂为2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦、1-羟基环己基苯基甲酮、2,4,6-三甲基苯甲酰基-乙烯基-苯基氧化膦、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉丙酮-1、2-羟基-2-甲基-苯丙酮基-1和2-羟基-2-甲基-对羟乙基醚苯丙酮基-1中的一种或几种的组合，所述低水接流平助剂为聚酯改性硅氧烷类、聚丙烯酯类、非硅聚合物或含氟改性聚合物，所述有机溶剂为乙醇、异丙醇、丙醇、丙酮、甲基异丁基酮、丁酮、丙二醇甲醚、丙二醇单丁基醚、乙酸甲酯、乙酸乙酯和乙酸丁酯中的两种以上的混合溶剂。
进一步的，所述抗UV低水接层的厚度为4μm或6μm；所述基材层为TAC薄膜，厚度为40μm或25μm。
本发明还提供了一种抗UV低水接的TAC薄膜的制备方法，包括以下步骤：
步骤S001，选取基材层；选取合适厚度的TAC薄膜作为基材层；所述基材层的厚度可为40μm或25μm；
步骤S002，配置抗UV低水接涂液；将不饱和的丙烯酸树脂、光稳定剂、光引发剂和低水接流平助剂溶于有机溶剂中并搅拌均匀，配置成抗UV低水接涂液；以质量百分比计，先取有所述机溶剂42.6％～57.96％，再分别取所述不饱和的丙烯酸树脂40％～50％、所述光稳定剂1.6～3.2％、所述光引发剂1.6％～2.4％和所述低水接流平助剂0.03％～0.1％溶于所述有机溶剂中并搅拌均匀，配置成所述抗UV低水接涂液。
步骤S003，涂布抗UV低水接层；采用涂布的方式，将所述抗UV低水接涂液涂布在所述基材层上，依次经加热烘干和UV固化后形成抗UV低水接层。其中，通过凹版辊进行涂布，采用烤箱进行加热，加热温度为50℃～90℃；通过UV机进行UV固化，能量为600-800mj/cm2，所述抗UV低水接层的厚度为3～7μm。本抗UV低水接的TAC薄膜的制备方法，步骤简单易操作，制造方便，生产成本低。
进一步的，所述不饱和的丙烯酸树脂为聚氨酯丙烯酸树脂、聚酯丙烯酸树脂、环氧丙烯酸树脂和特殊改性丙烯酸树脂中的一种或几种的组合，所述光稳定剂为紫外线吸收剂和受阻胺自由基捕捉剂中的一种或两种搭配使用，所述光引发剂为2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦、1-羟基环己基苯基甲酮、2,4,6-三甲基苯甲酰基-乙烯基-苯基氧化膦、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉丙酮-1、2-羟基-2-甲基-苯丙酮基-1和2-羟基-2-甲基-对羟乙基醚苯丙酮基-1中的一种或几种的组合，所述低水接流平助剂为聚酯改性硅氧烷类、聚丙烯酯类、非硅聚合物或含氟改性聚合物，所述有机溶剂为乙醇、异丙醇、丙醇、丙酮、甲基异丁基酮、丁酮、丙二醇甲醚、丙二醇单丁基醚、乙酸甲酯、乙酸乙酯和乙酸丁酯中的两种以上的混合溶剂。
(三)有益效果
本发明提供的一种抗UV低水接的TAC薄膜及其制备方法，其抗UV低水接的TAC薄膜采用在现有TAC薄膜进行二次处理的方式，即以TAC薄膜为基材层，在基材层上涂布抗UV低水接层，通过基材层和抗UV低水接层的配合，从而使薄膜具有抗UV低水接的突出特点，还有一定硬度、耐划伤的硬化特点，兼顾雾度低，透过率高的TAC薄膜光学性能，能够紧随偏光片越来越薄的趋势；本抗UV低水接的TAC薄膜的制备方法，步骤简单易操作，制造方便，生产成本低；克服了现有TAC薄膜不能适用薄偏光片的缺陷。
附图说明
图1为本发明一种抗UV低水接的TAC薄膜的结构示意图；
图2为本发明一种抗UV低水接的TAC薄膜的制备方法的工艺流程简图；
图中各个附图标记的对应的部件名称是：1、基材层；2、抗UV低水接层。
具体实施方式
下面结合附图和实施例，对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。
实施例1：
参阅图1，本实施例提供一种抗UV低水接的TAC薄膜，包括从上往下层叠的抗UV(紫外线)低水接层1和基材层2，抗UV低水接层1通过将抗UV低水接涂液涂布在基材层2上固化后形成，抗UV低水接层1的厚度为3～7μm，在本实施例中，抗UV低水接层1的厚度为4μm。基材层2为TAC薄膜，厚度可为40μm或25μm，本实施例中，基材层2厚度为25μm。本抗UV低水接的TAC薄膜采用在现有TAC薄膜进行二次处理的方式，即以TAC薄膜为基材层，在基材层上涂布抗UV低水接层，通过基材层和抗UV低水接层的配合，从而使薄膜具有抗UV低水接的突出特点，还有一定硬度、耐划伤的硬化特点，兼顾雾度低，透过率高的TAC薄膜光学性能，能够紧随偏光片越来越薄的趋势。
以质量百分比计，抗UV低水接涂液包括以下组分：不饱和的丙烯酸树脂40％～50％，光稳定剂1.6～3.2％，光引发剂1.6％～2.4％，低水接流平助剂0.03％～0.1％和有机溶剂42.6％～57.96％。其中，不饱和的丙烯酸树脂为聚氨酯丙烯酸树脂、聚酯丙烯酸树脂、环氧丙烯酸树脂和特殊改性丙烯酸树脂中的一种或几种的组合，光稳定剂为紫外线吸收剂(苯并三唑，羟苯三嗪，三-间苯二酚三嗪等)和受阻胺自由基捕捉剂中的一种或两种搭配使用，光引发剂为2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦、1-羟基环己基苯基甲酮、2,4,6-三甲基苯甲酰基-乙烯基-苯基氧化膦、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉丙酮-1、2-羟基-2-甲基-苯丙酮基-1和2-羟基-2-甲基-对羟乙基醚苯丙酮基-1中的一种或几种的组合，低水接流平助剂为聚酯改性硅氧烷类、聚丙烯酯类、非硅聚合物或含氟改性聚合物，有机溶剂为乙醇、异丙醇、丙醇、丙酮、甲基异丁基酮、丁酮、丙二醇甲醚、丙二醇单丁基醚、乙酸甲酯、乙酸乙酯和乙酸丁酯中的两种以上的混合溶剂。
在本实施例中，抗UV低水接涂液包括不饱和的丙烯酸树脂40％，光稳定剂1.6％，光引发剂2.4％，低水接流平助剂0.06％和有机溶剂54.94％。
参阅图2，本实施例还提供了一种抗UV低水接的TAC薄膜的制备方法，包括以下步骤：
步骤S001，选取基材层；选取合适厚度的TAC薄膜作为基材层；其中，基材层的厚度为40μm或25μm，在本实施中，基材层的厚度选择为25μm。
步骤S002，配置抗UV低水接涂液；将不饱和的丙烯酸树脂、光稳定剂、光引发剂和低水接流平助剂溶于有机溶剂中并搅拌均匀，配置成抗UV低水接涂液；其中，以质量百分比计，先取有机溶剂42.6％～57.96％，再分别取不饱和的丙烯酸树脂40％～50％、光稳定剂1.6～3.2％、光引发剂1.6％～2.4％和低水接流平助剂0.03％～0.1％溶于有机溶剂中并搅拌均匀，配置成抗UV低水接涂液。在本实施例中，抗UV低水接涂液包括不饱和的丙烯酸树脂40％，光稳定剂1.6％，光引发剂2.4％，低水接流平助剂0.06％和有机溶剂54.94％。
步骤S003，涂布抗UV低水接层；采用涂布的方式，将抗UV低水接涂液涂布在基材层上，依次经加热烘干和UV固化后形成抗UV低水接层。其中，通过凹版辊进行涂布，采用烤箱进行加热，加热温度为50℃～90℃；通过UV机进行UV固化，能量为600-800mj/cm2，抗UV低水接层的厚度为3～7μm，在本实施例中，抗UV低水接层的厚度为4μm。
在步骤S002中，不饱和的丙烯酸树脂为聚氨酯丙烯酸树脂、聚酯丙烯酸树脂、环氧丙烯酸树脂和特殊改性丙烯酸树脂中的一种或几种的组合，光稳定剂为紫外线吸收剂和受阻胺自由基捕捉剂的一种或两种搭配使用，光引发剂为2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦、1-羟基环己基苯基甲酮、2,4,6-三甲基苯甲酰基-乙烯基-苯基氧化膦、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉丙酮-1、2-羟基-2-甲基-苯丙酮基-1和2-羟基-2-甲基-对羟乙基醚苯丙酮基-1中的一种或几种的组合，低水接流平助剂为聚酯改性硅氧烷类、聚丙烯酯类、非硅聚合物或含氟改性聚合物，有机溶剂为乙醇、IPA、丙醇、丙酮、甲基异丁基酮、丁酮、丙二醇甲醚、丙二醇单丁基醚、乙酸甲酯、乙酸乙酯和乙酸丁酯中的两种以上的混合溶剂。
实施例2：
本实施例提供的一种抗UV低水接的TAC薄膜与实施例1的区别在于：抗UV低水接涂液包括不饱和的丙烯酸树脂40％，光稳定剂2.4％，光引发剂2.4％，低水接流平助剂0.06％和有机溶剂54.14％。
本实施例提供的一种抗UV低水接的TAC薄膜的制备方法与实施例1的区别在于：在步骤S002中，抗UV低水接涂液包括不饱和的丙烯酸树脂40％，光稳定剂2.4％，光引发剂2.4％，低水接流平助剂0.06％和有机溶剂54.14％。
实施例3：
本实施例提供的一种抗UV低水接的TAC薄膜与实施例1的区别在于：抗UV低水接涂液包括不饱和的丙烯酸树脂40％，光稳定剂2.4％，光引发剂2.4％，低水接流平助剂0.08％和有机溶剂54.12％。
本实施例提供的一种抗UV低水接的TAC薄膜的制备方法与实施例1的区别在于：在步骤S002中，抗UV低水接涂液包括不饱和的丙烯酸树脂40％，光稳定剂2.4％，光引发剂2.4％，低水接流平助剂0.08％和有机溶剂54.12％。
实施例4：
本实施例提供的一种抗UV低水接的TAC薄膜与实施例1的区别在于：抗UV低水接层的厚度为6μm，抗UV低水接涂液包括不饱和的丙烯酸树脂40％，光稳定剂2.4％，光引发剂2.4％，低水接流平助剂0.06％和有机溶剂54.14％。
本实施例提供的一种抗UV低水接的TAC薄膜的制备方法与实施例1的区别在于：在步骤S002中，抗UV低水接涂液包括不饱和的丙烯酸树脂40％，光稳定剂2.4％，光引发剂2.4％，低水接流平助剂0.06％和有机溶剂54.14％。在步骤S003中，抗UV低水接层的厚度为6μm。
实施例5：
本实施例提供的一种抗UV低水接的TAC薄膜与实施例1的区别在于：抗UV低水接涂液包括不饱和的丙烯酸树脂40％，光稳定剂3.2％，光引发剂2.4％，低水接流平助剂0.06％和有机溶剂54.4％。
本实施例提供的一种抗UV低水接的TAC薄膜的制备方法与实施例1的区别在于：在步骤S002中，抗UV低水接涂液包括不饱和的丙烯酸树脂40％，光稳定剂3.2％，光引发剂2.4％，低水接流平助剂0.06％和有机溶剂54.4％。
实施例6：
本实施例提供的一种抗UV低水接的TAC薄膜与实施例1的区别在于：抗UV低水接层的厚度为6.1μm，抗UV低水接涂液包括不饱和的丙烯酸树脂40％，光稳定剂3.2％，光引发剂2.4％，低水接流平助剂0.06％和有机溶剂54.34％。
本实施例提供的一种抗UV低水接的TAC薄膜的制备方法与实施例1的区别在于：在步骤S002中，抗UV低水接涂液包括不饱和的丙烯酸树脂40％，光稳定剂3.2％，光引发剂2.4％，低水接流平助剂0.06％和有机溶剂54.34％。在步骤S003中，抗UV低水接层的厚度为6.1μm。
对实施例1～6中制备的薄膜进行性能测试，结果如表1所示
表1：实施例1～6中制备的薄膜的性能参数
Figure BDA0002633289570000081
由表1可知，本发明制备的薄膜具有低水接触角和抗UV的特点。由实施例1、实施例2和实施例5，可以得出相同涂布厚度下，随着光稳定剂添加量的增大，抗UV能力增强，抗UV380(测试紫外线通过率，反映抗UV能力)由9.1％降到3.14％，效果明显。由实施例3、实施例4、实施例5和实施例6对比不同涂布厚度对抗UV性能的影响，随着厚度的增加，抗UV能力增强，抗UV380降低明显。由实施例2、实施例3和实施例4对比不同厚度，不同低水接流平剂添加量对水接触角的影响，经过多次试验，随着厚度的增大和添加量的提高水接触角会增加，影响水接性能。
本发明提供的一种抗UV低水接的TAC薄膜及其制备方法，抗UV低水接的TAC薄膜及其制备方法，其抗UV低水接的TAC薄膜采用在现有TAC薄膜进行二次处理的方式，即以TAC薄膜为基材层，在基材层上涂布抗UV低水接层，通过基材层和抗UV低水接层的配合，从而使薄膜具有抗UV低水接的突出特点，还有一定硬度、耐划伤的硬化特点，兼顾雾度低，透过率高的TAC薄膜光学性能，能够紧随偏光片越来越薄的趋势；本抗UV低水接的TAC薄膜的制备方法，步骤简单易操作，制造方便，生产成本地；克服了现有TAC薄膜不能适用薄偏光片的缺陷。
以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明技术原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种抗UV低水接的TAC薄膜，其特征在于：包括从上往下层叠的抗UV低水接层(1)和基材层(2)，所述抗UV低水接层(1)通过将抗UV低水接涂液涂布在所述基材层(2)上固化后形成，所述抗UV低水接层(1)的厚度为3～7μm。
2.如权利要求1所述的抗UV低水接的TAC薄膜，其特征在于：以质量百分比计，所述抗UV低水接涂液包括以下组分：不饱和的丙烯酸树脂40％～50％，光稳定剂1.6～3.2％，光引发剂1.6％～2.4％，低水接流平助剂0.03％～0.1％和有机溶剂42.6％～57.96％。
3.如权利要求2所述的抗UV低水接的TAC薄膜，其特征在于：所述不饱和的丙烯酸树脂为聚氨酯丙烯酸树脂、聚酯丙烯酸树脂、环氧丙烯酸树脂和特殊改性丙烯酸树脂中的一种或几种的组合，所述光稳定剂为紫外线吸收剂和受阻胺自由基捕捉剂中的一种或两种搭配使用，所述光引发剂为2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦、1-羟基环己基苯基甲酮、2,4,6-三甲基苯甲酰基-乙烯基-苯基氧化膦、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉丙酮-1、2-羟基-2-甲基-苯丙酮基-1和2-羟基-2-甲基-对羟乙基醚苯丙酮基-1中的一种或几种的组合，所述低水接流平助剂为聚酯改性硅氧烷类、聚丙烯酯类、非硅聚合物或含氟改性聚合物，所述有机溶剂为乙醇、异丙醇、丙醇、丙酮、甲基异丁基酮、丁酮、丙二醇甲醚、丙二醇单丁基醚、乙酸甲酯、乙酸乙酯和乙酸丁酯中的两种以上的混合溶剂。
4.如权利要求1所述的抗UV低水接的TAC薄膜，其特征在于：所述抗UV低水接层(1)的厚度为4μm或6μm。
5.如权利要求1所述的抗UV低水接的TAC薄膜，其特征在于：所述基材层(2)为TAC薄膜，厚度为40μm或25μm。
6.一种抗UV低水接的TAC薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤S001，选取基材层；选取合适厚度的TAC薄膜作为基材层；
步骤S002，配置抗UV低水接涂液；将不饱和的丙烯酸树脂、光稳定剂、光引发剂和低水接流平助剂溶于有机溶剂中并搅拌均匀，配置成抗UV低水接涂液；
步骤S003，涂布抗UV低水接层；采用涂布的方式，将所述抗UV低水接涂液涂布在所述基材层上，依次经加热烘干和UV固化后形成抗UV低水接层。
7.如权利要求6所述的抗UV低水接的TAC薄膜的制备方法，其特征在于：在所述步骤S001中，所述基材层的厚度为40μm或25μm。
8.如权利要求6所述的抗UV低水接的TAC薄膜的制备方法，其特征在于：在所述步骤S002中，以质量百分比计，先取所述有机溶剂42.6％～57.96％，再分别取所述不饱和的丙烯酸树脂40％～50％、所述光稳定剂1.6～3.2％、所述光引发剂1.6％～2.4％和所述低水接流平助剂0.03％～0.1％溶于所述有机溶剂中并搅拌均匀，配置成所述抗UV低水接涂液。
9.如权利要求8所述的抗UV低水接的TAC薄膜的制备方法，其特征在于：所述不饱和的丙烯酸树脂为聚氨酯丙烯酸树脂、聚酯丙烯酸树脂、环氧丙烯酸树脂和特殊改性丙烯酸树脂中的一种或几种的组合，所述光稳定剂为紫外线吸收剂和受阻胺自由基捕捉剂中的一种或两种搭配使用，所述光引发剂为2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦、1-羟基环己基苯基甲酮、2,4,6-三甲基苯甲酰基-乙烯基-苯基氧化膦、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉丙酮-1、2-羟基-2-甲基-苯丙酮基-1和2-羟基-2-甲基-对羟乙基醚苯丙酮基-1中的一种或几种的组合，所述低水接流平助剂为聚酯改性硅氧烷类、聚丙烯酯类、非硅聚合物或含氟改性聚合物，所述有机溶剂为乙醇、异丙醇、丙醇、丙酮、甲基异丁基酮、丁酮、丙二醇甲醚、丙二醇单丁基醚、乙酸甲酯、乙酸乙酯和乙酸丁酯中的两种以上的混合溶剂。
10.如权利要求6所述的抗UV低水接的TAC薄膜的制备方法，其特征在于：在所述步骤S003中，通过凹版辊进行涂布，采用烤箱进行加热，加热温度为50℃～90℃；通过UV机进行UV固化，能量为600-800mj/cm2，所述抗UV低水接层的厚度为3～7μm。
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