CN110803869A - 一种玻璃减薄液 - Google Patents

一种玻璃减薄液 Download PDF

Info

Publication number
CN110803869A
CN110803869A CN201911163583.9A CN201911163583A CN110803869A CN 110803869 A CN110803869 A CN 110803869A CN 201911163583 A CN201911163583 A CN 201911163583A CN 110803869 A CN110803869 A CN 110803869A
Authority
CN
China
Prior art keywords
surfactant
glass
thinning liquid
hydrofluoric acid
glass thinning
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201911163583.9A
Other languages
English (en)
Inventor
王润杰
卢洪庆
陈浩
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Suzhou Boyang Chemicals Co Ltd
Original Assignee
Suzhou Boyang Chemicals Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Suzhou Boyang Chemicals Co Ltd filed Critical Suzhou Boyang Chemicals Co Ltd
Priority to CN201911163583.9A priority Critical patent/CN110803869A/zh
Publication of CN110803869A publication Critical patent/CN110803869A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

本发明属于化学制剂技术领域，涉及一种玻璃减薄液，配方包括10～20wt％氢氟酸，5～15wt％硝酸，5～10wt％硫酸，0.1～1wt％氢氟酸稳定剂，0.01～0.1wt％表面活性剂和余量的去离子水，所述表面活性剂为三硅氧烷类表面活性剂。本玻璃减薄液通过耐酸性更好的表面活性剂来提升玻璃蚀刻速率，在4小时后还能保持比较高的蚀刻速率，能够保证蚀刻精度。

Description

一种玻璃减薄液
技术领域
本发明涉及化学制剂技术领域，特别涉及一种玻璃减薄液。
背景技术
玻璃是显示屏屏幕的主要材料，随着目前市场对显示屏轻薄化的需要提高，玻璃的减薄要求也越来越高。玻璃薄化分为化学蚀刻薄化技术和物理研磨薄化技术。化学蚀刻薄化技术是利用氢氟酸化学溶液与玻璃面板表面的二氧化硅(SiO2)进行化学反应而使其溶解的原理，对基板进行咬蚀而将玻璃厚度变薄。其化学反应方程式为：6HF+SiO2->H2SiF6+2H2O。
之前TFT-LCD面板行业的玻璃减薄液多为氟化铵加强酸体系，此方法为性能较为稳定，但是蚀刻速率较慢。相对而言，氢氟酸加强酸体系蚀刻速率过快，而蚀刻液本身较不稳定。中国申请CN103922602A“TFT玻璃基板减薄液及其制备方法、TFT玻璃基板减薄工艺”中公开的玻璃减薄液配方包括氢氟酸、氟化氢铵、硝酸和硫酸，相当于通过两种体系的混合来平衡稳定性和蚀刻速度，但是效果不够理想。若在以上体系中使用普通表面活性剂来提升蚀刻速率，在有强酸的条件下表面活性剂容易失活，反应3小时过后蚀刻速率就会下降到5μm/min以下。
因此有必要开发一种蚀刻效率高而且较为稳定的玻璃减薄液来解决以上问题。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种玻璃减薄液，既具有良好的稳定性，又有较高的蚀刻效率。
本发明通过如下技术方案实现上述目的：
一种玻璃减薄液，配方包括10～20wt％氢氟酸，5～15wt％硝酸，5～10wt％硫酸，0.1～1wt％氢氟酸稳定剂，0.01～0.1wt％表面活性剂和余量的去离子水，所述表面活性剂为三硅氧烷类表面活性剂。
具体的，所述三硅氧烷类表面活性剂为甲基烯丙基聚醚改性三硅氧烷或炔二醇醚改性三硅氧烷。
具体的，所述氢氟酸稳定剂为氟化铵、氟化钠、氟化钾中的一种。
采用上述技术方案，本发明技术方案的有益效果是：
本玻璃减薄液通过耐酸性更好的表面活性剂来提升玻璃蚀刻速率，在4小时后还能保持比较高的蚀刻速率，能够保证蚀刻精度。
具体实施方式
本发明涉及一种玻璃减薄液，配方包括10～20wt％氢氟酸，5～15wt％硝酸，5～10wt％硫酸，0.1～1wt％氢氟酸稳定剂，0.01～0.1wt％表面活性剂和余量的去离子水，所述表面活性剂为三硅氧烷类表面活性剂。
三硅氧烷类表面活性剂是一类耐酸型的离子型表面活性剂，在玻璃蚀刻的过程中，这种表面活性剂能够在强酸性的溶液内保持活度。氟化铵、氟化钠、氟化钾都属于强电解质，能够在溶液中释放氟离子以压制氢氟酸的电离，保证氢氟酸的稳定。三硅氧烷类表面活性剂与氢氟酸稳定剂一起使用既能够维持比较高的蚀刻效率，也能保证蚀刻精度。
下面结合具体实施例对本发明作进一步详细说明。
实施例1～6：
按照表1配方将氢氟酸、硝酸、氢氟酸稳定剂、表面活性剂和去离子水混合，得到玻璃减薄液。
表1：
Figure BDA0002286815240000021
注：含量中不满100wt％的部分由去离子水补足余量。
以CN103922602A披露的玻璃减薄液作为对照例，与实施例1～6所得玻璃减薄液进行比较试验，分别测定4小时内每小时对玻璃的平均蚀刻效率，并且测试4小时蚀刻后的厚度公差。
对比情况见表2：
表2：
Figure BDA0002286815240000031
由表2可知，本玻璃减薄液通过加入三硅氧烷类表面活性剂，使蚀刻效率有明显的提升，而且在使用4小时之后仍有6μm/min以上的蚀刻速率，远高于对照例，所以本发明的蚀刻效率高，而且使用更加持久，而且能够保证蚀刻精度。
以上所述的仅是本发明的一些实施方式。对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明创造构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。

Claims (3)

1.一种玻璃减薄液，其特征在于：配方包括10～20wt％氢氟酸，5～15wt％硝酸，5～10wt％硫酸，0.1～1wt％氢氟酸稳定剂，0.01～0.1表面活性剂和余量的去离子水，所述表面活性剂为三硅氧烷类表面活性剂。
2.关于权利要求1所述的玻璃减薄液，其特征在于：所述三硅氧烷类表面活性剂为甲基烯丙基聚醚改性三硅氧烷或炔二醇醚改性三硅氧烷。
3.关于权利要求1所述的玻璃减薄液，其特征在于：所述氢氟酸稳定剂为氟化铵、氟化钠、氟化钾中的一种。
CN201911163583.9A 2019-11-25 2019-11-25 一种玻璃减薄液 Pending CN110803869A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201911163583.9A CN110803869A (zh) 2019-11-25 2019-11-25 一种玻璃减薄液

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201911163583.9A CN110803869A (zh) 2019-11-25 2019-11-25 一种玻璃减薄液

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN110803869A true CN110803869A (zh) 2020-02-18

Family

ID=69491460

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201911163583.9A Pending CN110803869A (zh) 2019-11-25 2019-11-25 一种玻璃减薄液

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN110803869A (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021082180A1 (zh) * 2019-10-30 2021-05-06 惠州市清洋实业有限公司 Dt-star材质激光切割镜片蚀刻液及其使用方法
CN113817413A (zh) * 2021-09-30 2021-12-21 苏州博洋化学股份有限公司 一种高性能玻璃盖板抛光液

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20070184005A1 (en) * 2006-02-09 2007-08-09 Policello George A Hydrolysis resistant organomodified trisiloxane surfactants
CN102923963A (zh) * 2012-11-15 2013-02-13 杭州格林达化学有限公司 一种玻璃减薄刻蚀液补充液
CN103922602A (zh) * 2014-04-04 2014-07-16 惠州市清洋实业有限公司 Tft玻璃基板减薄液及其制备方法、tft玻璃基板减薄工艺
CN104422723A (zh) * 2013-09-02 2015-03-18 株式会社堀场制作所 玻璃电极的响应玻璃用清洗液和响应玻璃清洗方法
CN105236754A (zh) * 2015-08-27 2016-01-13 惠晶显示科技（苏州）有限公司 一种液晶显示面板玻璃酸刻前表面处理方法
CN107531559A (zh) * 2015-02-26 2018-01-02 康宁股份有限公司 用于控制玻璃‑陶瓷制品上的表面特征体的方法以及利用该方法形成的制品

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20070184005A1 (en) * 2006-02-09 2007-08-09 Policello George A Hydrolysis resistant organomodified trisiloxane surfactants
CN102923963A (zh) * 2012-11-15 2013-02-13 杭州格林达化学有限公司 一种玻璃减薄刻蚀液补充液
CN104422723A (zh) * 2013-09-02 2015-03-18 株式会社堀场制作所 玻璃电极的响应玻璃用清洗液和响应玻璃清洗方法
CN103922602A (zh) * 2014-04-04 2014-07-16 惠州市清洋实业有限公司 Tft玻璃基板减薄液及其制备方法、tft玻璃基板减薄工艺
CN107531559A (zh) * 2015-02-26 2018-01-02 康宁股份有限公司 用于控制玻璃‑陶瓷制品上的表面特征体的方法以及利用该方法形成的制品
CN105236754A (zh) * 2015-08-27 2016-01-13 惠晶显示科技（苏州）有限公司 一种液晶显示面板玻璃酸刻前表面处理方法

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
张建彬: "新型三硅氧烷表面活性剂的合成与性能研究", 《中国优秀硕士学位论文全文数据库 工程科技I 辑》 *
李欢玲: "抗水解三硅氧烷表面活性剂的研制", 《有机硅材料》 *

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021082180A1 (zh) * 2019-10-30 2021-05-06 惠州市清洋实业有限公司 Dt-star材质激光切割镜片蚀刻液及其使用方法
CN113817413A (zh) * 2021-09-30 2021-12-21 苏州博洋化学股份有限公司 一种高性能玻璃盖板抛光液

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104498951B (zh) 一种双氧水系铜钼合金膜用蚀刻液
CN110803869A (zh) 一种玻璃减薄液
CN103666478B (zh) 一种非离子型低表面张力的酸性氟化铵蚀刻液
CN108585530A (zh) 一种玻璃蚀刻液及其制备方法
TWI429606B (zh) The etching method of glass substrate
US9039915B2 (en) Etching solution compositions for metal laminate films
KR100868228B1 (ko) 유리 기판용 식각액 조성물
CN104445971B (zh) 蚀刻液
CN107235641A (zh) 一种玻璃减薄蚀刻液及其制备方法
TW200951205A (en) Cleaning and etching composition for glass substrate of liquid crystal display device and etching method for glass substrate using the same
CN114350367B (zh) 一种低泡且蚀刻均匀的蚀刻液
CN104046245A (zh) 一种硅铝复合抛光液的制作方法
SG178308A1 (en) Microprocessing treatment agent and microprocessing treatment method using same
CN105295923A (zh) 一种高世代平板用ito蚀刻液
CN112209625A (zh) 一种ag玻璃抛光液及其制备方法
CN107902914A (zh) 一种玻璃基板薄化工艺蚀刻液
CN103668209B (zh) 钛-铝-钛金属层叠膜用蚀刻液组合物
CN114891509A (zh) 一种高选择性的缓冲氧化物蚀刻液
KR100677052B1 (ko) 액정 유리 기판용 식각액 조성물
JP2017081767A (ja) ガラス板用エッチング液及びガラス板のエッチング方法
CN111440613B (zh) 一种tmah系各向异性硅蚀刻液及其制备方法
CN104620396A (zh) 碱性酸浸工艺
CN110373719B (zh) 一种高选择比的多晶硅蚀刻液及其制备方法
CN107814491A (zh) 一种平板玻璃基板蚀刻液
CN110938822A (zh) 一种钼/铜复合金属层的蚀刻液、蚀刻方法与应用

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20200218