CN110774118B - 一种大尺寸单晶金刚石的磨削方法 - Google Patents

一种大尺寸单晶金刚石的磨削方法 Download PDF

Info

Publication number
CN110774118B
CN110774118B CN201911010812.3A CN201911010812A CN110774118B CN 110774118 B CN110774118 B CN 110774118B CN 201911010812 A CN201911010812 A CN 201911010812A CN 110774118 B CN110774118 B CN 110774118B
Authority
CN
China
Prior art keywords
grinding
diamond
single crystal
abrasive
crystal diamond
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201911010812.3A
Other languages
English (en)
Other versions
CN110774118A (zh
Inventor
陆静
马忠强
徐西鹏
王艳辉
罗求发
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Huaqiao University
Original Assignee
Huaqiao University
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Huaqiao University filed Critical Huaqiao University
Priority to CN201911010812.3A priority Critical patent/CN110774118B/zh
Publication of CN110774118A publication Critical patent/CN110774118A/zh
Priority to JP2021541739A priority patent/JP7241434B2/ja
Priority to PCT/CN2020/123172 priority patent/WO2021078247A1/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN110774118B publication Critical patent/CN110774118B/zh
Priority to US17/728,319 priority patent/US12097589B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B19/00Single-purpose machines or devices for particular grinding operations not covered by any other main group
    • B24B19/22Single-purpose machines or devices for particular grinding operations not covered by any other main group characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B9/00Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor
    • B24B9/02Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of materials specific to articles to be ground
    • B24B9/06Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of materials specific to articles to be ground of non-metallic inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain
    • B24B9/16Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of materials specific to articles to be ground of non-metallic inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain of diamonds; of jewels or the like; Diamond grinders' dops; Dop holders or tongs
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B1/00Processes of grinding or polishing; Use of auxiliary equipment in connection with such processes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24DTOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
    • B24D18/00Manufacture of grinding tools or other grinding devices, e.g. wheels, not otherwise provided for
    • B24D18/0009Manufacture of grinding tools or other grinding devices, e.g. wheels, not otherwise provided for using moulds or presses
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02002Preparing wafers
    • H01L21/02005Preparing bulk and homogeneous wafers
    • H01L21/02008Multistep processes
    • H01L21/0201Specific process step
    • H01L21/02013Grinding, lapping

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
  • Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

本发明公开了一种大尺寸单晶金刚石的磨削方法,利用大尺寸单晶金刚石的碳原子和活性磨料在特定的磨削条件下发生化学反应生成碳化物,再以硬质磨料去除生成的碳化物,实现高效高质量磨削金刚石表面的目的。本发明采用的磨削液为去离子水,对环境无污染且本发明的磨削工艺参数(转速)远低于动摩擦加工的要求。本发明与传统的金刚石石墨化去除方式不同,能够得到表面粗糙度更低,裂纹更少,沟槽更浅的高质量金刚石表面。本发明的磨削方法有效降低加工成本,为大尺寸单晶金刚石在高新技术领域应用奠定良好的基础。

Description

一种大尺寸单晶金刚石的磨削方法
技术领域
本发明属于超精密磨削技术领域,具体涉及一种大尺寸单晶金刚石的磨削方法。
背景技术
单晶金刚石具有独特的面心立方晶格结构,且具有优异的物理、化学和电学特性,如:热导率高,是电子器件的理想散热材料;透光性好,是红外光学窗口和高功率激光窗口的理想材料;化学稳定性好,是器件能在恶劣环境中稳定使用的保障;禁带宽度宽,是制作半导体器件稳定性高和可靠性高的保证。这些优异的特性使它成为第三代半导体最理想的材料。但由于金刚石是自然界中最硬的物质,单晶金刚石具有高硬度高脆性的特点,且其物理化学性质稳定,使其加工难度非常大,需要特殊的加工工艺才能加工出符合半导体表面质量要求的单晶金刚石。
目前金刚石传统快速去除的方式主要有机械研磨、热化学加工和摩擦化学加工。机械研磨以金刚石砂轮或者金刚石研磨粉作为磨削介质,具有工艺简单稳定性好的特点,但是纯机械去除效率低、金刚石微观表面质量差,容易产生微裂纹、沟槽以及划痕等缺陷,且有明显的各向异性;热化学加工对单晶和多晶金刚石都有较高的加工效率并能获得较好的表面质量,但由于其加工温度高,会产生抛光盘软化变形、耐磨性下降的问题,无法保证金刚石的面型精度及亚表面损伤的要求;摩擦化学加工是采用动摩擦的方法,它通过高速划擦产生热量来替代金刚石局部加热的方式,改善了加工设备和加工环境,但抛光盘容易因高温软化的问题仍然没有解决,金刚石面型精度依然较差。这两类化学加工都是通过金刚石的石墨化相变达到反应去除,无法避免对金刚石的过度消耗和损伤。
发明内容
本发明的目的在于克服现有金刚石加工效率低、面型精度差、表面及亚表面损伤大等问题,提供一种大尺寸单晶金刚石的磨削方法。
本发明的技术方案如下:
一种大尺寸单晶金刚石的磨削方法,包括如下步骤:
(1)将基体材料、活性磨料和硬质磨料混合均匀后过筛,上述基体材料为陶瓷、金属或金属陶瓷复合材料,上述活性磨料为能够与金刚石反应形成碳化物的磨料,上述硬质磨料为能够去除碳化物层的磨料,且活性磨料与硬质磨料的质量比为1-5∶10;基体材料和硬质磨料和活性磨料的总和的质量之比为1-2∶2;
(2)将步骤(1)所得的物料与添加剂混合均匀过筛;
(3)将步骤(2)所得的物料加入润湿剂,压制成型后,进行烧结,制成砂轮;
(4)将上述砂轮、大尺寸单晶金刚石固定在磨床上,利用该砂轮在磨削液的配合下对大尺寸单晶金刚石表面进行磨削,磨削的过程中,通过控制砂轮的转速精确掌控砂轮中的活性磨料与大尺寸单晶金刚石的表面磨削温度,使磨削温度低于金刚石的石墨化温度,确保金刚石反应形成碳化物而不产生石墨化,进而使得大尺寸单晶金刚石的表层硬度降低,与此同时,砂轮中的硬质磨料对上述碳化物进行磨削去除,最终得到表面粗糙度低、表面亚表面损伤小的大尺寸单晶金刚石表面。
在本发明的一个优选实施方案中,所述基体材料的粒径为W0.1-W10。
在本发明的一个优选实施方案中,所述活性磨料为铁粉、钨粉、钼粉、铬粉和钛粉中的至少一种。
进一步优选的,所述活性磨料的粒径为W3-W40。
在本发明的一个优选实施方案中,所述硬质磨料为金刚石、氧化铝、立方氮化硼、氮化硅和碳化硅中的至少一种。
进一步优选的,所述硬质磨料的粒径为W3-W40。
在本发明的一个优选实施方案中,所述磨削液为去离子水。
在本发明的一个优选实施方案中,所述添加剂为氧化铝空心球、PMM微球、空心玻璃球和碳粉中的至少一种。
在本发明的一个优选实施方案中,所述润湿剂为淀粉、水玻璃和糊精中的至少一种。
在本发明的一个优选实施方案中,所述烧结过程具体为:以2.5-4℃/min的升温速率从室温升温至295-305℃,升温时间为75-120min,接着根据基体材料的不同以3-5℃/min的升温速率从295-305℃升温至680-830℃,升温时间75-175min,然后保温30-60min,最后随炉冷却至室温。
在本发明的一个优选实施方案中,所述磨削的过程中,砂轮的转速为1000-5000rpm,进给为10-70μm/min。
在本发明的一个优选实施方案中,所述的大尺寸单晶金刚石为1英寸以上圆片或者10mm×10mm×1mm以上方片。
本发明的有益效果是:
1、本发明利用大尺寸单晶金刚石的碳原子和活性磨料在特定的磨削条件下发生化学反应生成碳化物,同时以硬质磨料去除生成的碳化物,实现高效率高质量磨削金刚石表面的目的。
2、本发明采用的磨削工艺参数(转速)远低于动摩擦的要求,能源消耗少。
3、本发明采用的磨削液为去离子水,能有效避免磨削废液污染环境。
4、本发明与传统金刚石的石墨化去除方式不同,能够得到面型精度高、表面粗糙度低,加工损伤小的高质量金刚石表面。
附图说明
图1为本发明实施例中所用的自旋转磨削机台的结构示意图。
图2为本发明的砂轮与大尺寸单晶金刚石表面接触的结构示意图,其中的金属磨粒即为本发明所述的活性磨料。
图3为本发明实施例中的磨削的原理示意图之一。
图4为本发明实施例中的磨削的原理示意图之二。
图5为本发明实施例1和2中磨削加工前后表面形貌图,其中图a为粗磨的金刚石表面,图b为精磨的金刚石表面,图c为对比例中动摩擦加工后的金刚石表面。
具体实施方式
以下通过具体实施方式结合附图对本发明的技术方案进行进一步的说明和描述。
实施例1
(1)将基体材料、活性磨料和硬质磨料混合均匀后过筛,上述基体材料为铜粉,粒度50μm密度8.92g/cm3。上述活性磨料为粒径40μm的铁粉,硬质磨料为粒径40μm的氧化铝,活性磨料和硬质磨料的质量比为1∶2,基体材料和硬质磨料和活性磨料的总和的质量比为1∶2;
(2)将步骤(1)所得的物料与淀粉、氧化铝空心球混合均匀过筛,再加入糊精液混匀过筛,上述淀粉和糊精液加入后的终浓度均为5wt%,氧化铝空心球的终浓度为30wt%,氧化铝空心球尺寸为40μm;
(3)将步骤(2)所得的物料通过冷压压制成型后,进行烧结,制成砂轮;该烧结过程具体为:以2.5℃/min的升温速率从室温升温至300℃,升温时间为120min,接着以5℃/min的升温速率从300℃升温至780℃,升温时间为96min,然后保温30min,最后随炉冷却至室温;
(4)将上述砂轮与大尺寸单晶金刚石(单晶金刚石尺寸为1英寸)固定在如图1所示的自旋转磨削机台上,利用该砂轮在磨削液的配合下对大尺寸单晶金刚石表面进行磨削,如图2至5所示,磨削的过程中,通过控制砂轮的转速精确掌控砂轮中的活性磨料与大尺寸单晶金刚石的表面磨削温度,使磨削温度低于金刚石的石墨化温度,确保金刚石反应形成碳化物而不产生石墨化,进而使得大尺寸单晶金刚石的表层硬度降低,与此同时,砂轮中的硬质磨料对该大尺寸单晶金刚石表面的碳化物进行磨削去除,最终得到表面粗糙度低、表面亚表面损伤小的大尺寸单晶金刚石表面,该实施例的材料去除率为50μm/min,所获得的大尺寸单晶金刚石表面的粗糙度为34nm,TTV5.1μm;
上述自旋转磨削机台的主轴转速(即砂轮的转速)为1500rpm,进给50μm/min,工作台转速200rpm,磨削时间为5min。
实施例2
(1)将基体材料、活性磨料和硬质磨料混合均匀后过筛,上述基体材料为陶瓷粉,粒度为1μm,密度2.6g/cm3。上述活性磨料为粒径10μm的铁粉,硬质磨料为粒径10μm的氧化铝,活性磨料和硬质磨料的质量比为1∶2,且基体材料和硬质磨料和活性磨料的总和的质量比为1∶2;
(2)将步骤(1)所得的物料与淀粉、氧化铝空心球混合均匀过筛,再加入糊精液混匀过筛,上述淀粉和糊精液加入后的终浓度均为5wt%,氧化铝空心球的终浓度为30wt%;
(3)将步骤(2)所得的物料通过冷压压制成型后,进行烧结,制成砂轮;该烧结过程具体为:以2.5℃/min的升温速率从室温升温至300℃,升温时间120min,接着以5℃/min的升温速率从300℃升温至680℃,升温时间为76min,然后保温30min,最后随炉冷却至室温;
(4)将上述砂轮与大尺寸单晶金刚石(单晶金刚石尺寸为10mm×10mm×1mm)固定在如图1所示的自旋转磨削机台上,利用该砂轮在磨削液的配合下对大尺寸单晶金刚石表面进行磨削,如图2至5所示,磨削的过程中,通过控制砂轮的转速精确掌控砂轮中的活性磨料与大尺寸单晶金刚石的表面磨削温度,使磨削温度低于金刚石的石墨化温度,确保金刚石反应形成碳化物而不产生石墨化,进而使得大尺寸单晶金刚石的表层硬度降低,与此同时,砂轮中的硬质磨料对该大尺寸单晶金刚石表面的碳化物进行磨削去除,最终得到表面粗糙度低、表面亚表面损伤小的大尺寸单晶金刚石表面,该实施例的材料去除率为20μm/min,所获得的大尺寸单晶金刚石表面的粗糙度为1.6nm,TTV2.8μm;
上述自旋转磨削机台的主轴转速(即砂轮的转速)为1500rpm,进给20μm/min,工作台转速200rpm,磨削时间为10min。
对比例
金刚石的粗加工方式主要有传统的机械去除、动摩擦加工以及热化学加工,金刚石硬度大、耐磨性好导致研磨效率低,耗费工时长。机械去除的主要方式采用砂轮进行磨削。砂轮主要分为金属结合剂砂轮、陶瓷结合剂砂轮和金属陶瓷复合材料结合剂砂轮,传统的砂轮在转速600rpm以下时,磨削效率基本为0;转速为900rpm时,磨削效率为0.2μm/min;转速为1500rpm时,磨削效率为0.6μm/min。从上述的数据可以看出,单晶金刚石的研磨效率极低。传统的砂轮加工方式以机械去除为主,采用的是“硬碰硬”的方式对金刚石进行磨削,导致划痕深,表面质量差。
动摩擦加工方式是在大气环境下,金刚石以较高的压力(3-7MPa)与较高的转速(线速度15-25m/s)的金属抛光盘相接触。剧烈的摩擦作用产生大量的热形成界面高温,为金刚石的热化学反应提供了条件。金刚石产生石墨化,扩散等转变后,实现抛光效果。以65N的抛光压力与8000rpm的动摩擦加工技术对金刚石进行加工,可得到2.3μm/min的去除率和Ra0.33μm的表面质量。
热化学加工的原理是金刚石中的碳原子在高温下,扩散至过渡金属,金刚石表面石墨化和氧化。热化学对设备要求高,不仅需要较高的温度,还需要特定的环境气氛。以温度为1000℃,转速为5rpm,得到表面粗糙度Ra为0.28μm。动摩擦技术和热化学加工都是利用金刚石在高温下能石墨化的特点对金刚石进行加工,然而高温易使加工盘软化,且容易导致受热不均,金刚石工件容易出现崩碎,整体面型精度低。
以上所述,仅为本发明的较佳实施例而已,故不能依此限定本发明实施的范围,即依本发明专利范围及说明书内容所作的等效变化与修饰,皆应仍属本发明涵盖的范围内。

Claims (9)

1.一种大尺寸单晶金刚石的磨削方法,其特征在于包括如下步骤:
(1)将基体材料、活性磨料和硬质磨料混合均匀后过筛,上述基体材料为陶瓷、金属或金属陶瓷复合材料,上述活性磨料为能够与金刚石反应形成碳化物的磨料,上述硬质磨料为能够去除碳化物层的磨料,且活性磨料与硬质磨料的质量比为1-5:10;基体材料和硬质磨料和活性磨料的总和的质量之比为1-2:2;
(2)将步骤(1)所得的物料与添加剂混合均匀过筛;
(3)将步骤(2)所得的物料加入润湿剂,压制成型后,进行烧结,制成砂轮;
(4)将上述砂轮、大尺寸单晶金刚石固定在磨床上,利用该砂轮在磨削液的配合下对大尺寸单晶金刚石表面进行磨削,磨削的过程中,通过控制砂轮的转速精确掌控砂轮中的活性磨料与大尺寸单晶金刚石的表面磨削温度,使磨削温度低于金刚石的石墨化温度,确保金刚石反应形成碳化物而不产生石墨化,进而使得大尺寸单晶金刚石的表层硬度降低,与此同时,砂轮中的硬质磨料对上述碳化物进行磨削去除,最终得到表面粗糙度低、表面亚表面损伤小的大尺寸单晶金刚石表面。
2.如权利要求1所述的磨削方法,其特征在于:所述活性磨料为铁粉、钨粉、钼粉、铬粉和钛粉中的至少一种。
3.如权利要求1所述的磨削方法,其特征在于:所述硬质磨料为金刚石、氧化铝、立方氮化硼、氮化硅和碳化硅中的至少一种。
4.如权利要求1所述的磨削方法,其特征在于:所述磨削液为去离子水。
5.如权利要求1所述的磨削方法,其特征在于:所述添加剂为氧化铝空心球、PMMA微球、空心玻璃球和碳粉中的至少一种。
6.如权利要求1所述的磨削方法,其特征在于:所述润湿剂为淀粉、水玻璃和糊精中的至少一种。
7.如权利要求1所述的磨削方法,其特征在于:所述烧结过程具体为:以2.5-4℃/min的升温速率从室温升温至295-305℃,升温时间为75-120min,接着根据基体材料的不同以3-5℃/min的升温速率从295-305℃升温至680-830℃,升温时间75-175min,然后保温30-60min,最后随炉冷却至室温。
8.如权利要求1所述的磨削方法,其特征在于:所述磨削的过程中,砂轮的转速为1000-5000rpm,进给为10-70μm/min。
9.如权利要求1所述的磨削方法,其特征在于;所述的大尺寸单晶金刚石为1英寸以上圆片或者10mm×10mm×1mm以上方片。
CN201911010812.3A 2019-10-23 2019-10-23 一种大尺寸单晶金刚石的磨削方法 Active CN110774118B (zh)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201911010812.3A CN110774118B (zh) 2019-10-23 2019-10-23 一种大尺寸单晶金刚石的磨削方法
JP2021541739A JP7241434B2 (ja) 2019-10-23 2020-10-23 大型単結晶ダイヤモンドの研削方法
PCT/CN2020/123172 WO2021078247A1 (zh) 2019-10-23 2020-10-23 一种大尺寸单晶金刚石的磨削方法
US17/728,319 US12097589B2 (en) 2019-10-23 2022-04-25 Method for grinding single-crystal diamond

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201911010812.3A CN110774118B (zh) 2019-10-23 2019-10-23 一种大尺寸单晶金刚石的磨削方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN110774118A CN110774118A (zh) 2020-02-11
CN110774118B true CN110774118B (zh) 2021-04-30

Family

ID=69386351

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201911010812.3A Active CN110774118B (zh) 2019-10-23 2019-10-23 一种大尺寸单晶金刚石的磨削方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US12097589B2 (zh)
JP (1) JP7241434B2 (zh)
CN (1) CN110774118B (zh)
WO (1) WO2021078247A1 (zh)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110774118B (zh) 2019-10-23 2021-04-30 华侨大学 一种大尺寸单晶金刚石的磨削方法
CN112676999A (zh) * 2020-12-30 2021-04-20 华侨大学 金刚石磨抛一体化的加工设备及其加工方法
CN114310500A (zh) * 2021-12-30 2022-04-12 江苏时代华宜电子科技有限公司 新型高精度钼合金圆片的加工方法
CN114406825B (zh) * 2022-01-25 2023-06-27 华侨大学 一种碳化硅表面化学机械复合加工方法
CN116984972B (zh) * 2023-08-10 2024-03-26 沈阳工业大学 一种用于金刚石晶片的磨削抛光一体化方法与装置

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1947939A (zh) * 2006-11-02 2007-04-18 大连理工大学 一种大尺寸金刚石膜的平坦化加工方法
CN101302403A (zh) * 2008-07-03 2008-11-12 大连理工大学 用于大尺寸金刚石晶圆超精密低损伤抛光的抛光液及制备方法
CN101972979A (zh) * 2010-08-30 2011-02-16 南京航空航天大学 一种金刚石表面化学机械复合加工方法与装置
CN103282157A (zh) * 2010-12-28 2013-09-04 东洋制罐集团控股株式会社 金刚石表面的研磨方法
CN207997223U (zh) * 2018-03-05 2018-10-23 湖北碳六科技有限公司 一种用于单晶金刚石精密抛光的装置
CN109590811A (zh) * 2018-11-26 2019-04-09 南京航空航天大学 一种激光辅助抛光cvd金刚石的方法
CN110026831A (zh) * 2019-04-17 2019-07-19 中国科学院大学 金属粉末辅助机械抛光单晶金刚石的方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4157897A (en) * 1977-04-14 1979-06-12 Norton Company Ceramic bonded grinding tools with graphite in the bond
DE69417570T2 (de) * 1993-11-12 1999-11-18 Minnesota Mining And Mfg. Co., Saint Paul Schleifkorn und verfahren zur herstellung desselben
JP3717046B2 (ja) 2000-01-21 2005-11-16 独立行政法人産業技術総合研究所 ダイヤモンド研磨用砥石及びダイヤモンド研磨方法並びにダイヤモンド研磨用複合砥石
JP4222515B2 (ja) 2004-01-22 2009-02-12 地方独立行政法人 東京都立産業技術研究センター ダイヤモンドの研磨方法と装置
JP5817116B2 (ja) 2010-02-03 2015-11-18 東洋製罐株式会社 ダイヤモンド表面の研磨方法
CA2972440C (en) * 2014-12-31 2020-04-28 Saint-Gobain Abrasifs Aggregates of diamond with vitrified bond
US20180237945A1 (en) * 2015-08-10 2018-08-23 Nanocarbon Research Institute, Ltd. Spherical diamond and manufacturing method for same
CN106425825B (zh) * 2016-09-28 2019-02-12 南京航空航天大学 一种超硬脆工件的研磨抛光方法
CN110774118B (zh) * 2019-10-23 2021-04-30 华侨大学 一种大尺寸单晶金刚石的磨削方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1947939A (zh) * 2006-11-02 2007-04-18 大连理工大学 一种大尺寸金刚石膜的平坦化加工方法
CN101302403A (zh) * 2008-07-03 2008-11-12 大连理工大学 用于大尺寸金刚石晶圆超精密低损伤抛光的抛光液及制备方法
CN101972979A (zh) * 2010-08-30 2011-02-16 南京航空航天大学 一种金刚石表面化学机械复合加工方法与装置
CN103282157A (zh) * 2010-12-28 2013-09-04 东洋制罐集团控股株式会社 金刚石表面的研磨方法
CN207997223U (zh) * 2018-03-05 2018-10-23 湖北碳六科技有限公司 一种用于单晶金刚石精密抛光的装置
CN109590811A (zh) * 2018-11-26 2019-04-09 南京航空航天大学 一种激光辅助抛光cvd金刚石的方法
CN110026831A (zh) * 2019-04-17 2019-07-19 中国科学院大学 金属粉末辅助机械抛光单晶金刚石的方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20220288741A1 (en) 2022-09-15
JP7241434B2 (ja) 2023-03-17
JP2022532279A (ja) 2022-07-14
WO2021078247A1 (zh) 2021-04-29
CN110774118A (zh) 2020-02-11
US12097589B2 (en) 2024-09-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN110774118B (zh) 一种大尺寸单晶金刚石的磨削方法
CN111421391A (zh) 一种单晶金刚石晶片的双面化学机械抛光方法
CN110774153B (zh) 一种大尺寸单晶金刚石的抛光方法
CN111515874A (zh) 一种基于剪切膨胀效应的高效超精密抛光方法
JP2021503170A (ja) 高平坦性、低ダメージの大きな直径の単結晶炭化ケイ素基板及びその製造方法
Yuan et al. Chemical kinetics mechanism for chemical mechanical polishing diamond and its related hard-inert materials
CN111303772A (zh) 一种超快速低损碳化硅衬底抛光液及其制备方法
Yiqing et al. The double-side lapping of SiC wafers with semifixed abrasives and resin–combined plates
CN104835731A (zh) 一种大尺寸4H、6H-SiC单晶片的快速抛光方法
CN109129028B (zh) 一种高效的碳化硅晶片的加工方法
CN104385116A (zh) 一种SiC半导体材料的抛光方法
CN1239665C (zh) 抛光剂及其制造方法以及抛光方法
CN107953148A (zh) 一种基于内含钕化物软质磨料固着磨具的蓝宝石晶片抛光方法
CN112809458B (zh) 碳化硅晶片及其加工方法
CN113089093A (zh) 金刚石半导体结构的形成方法
WO2023142579A1 (zh) 一种碳化硅表面化学机械复合加工方法
CN108098569B (zh) 一种抛光蓝宝石晶片的内含钕化物软质磨料固着磨具及其制作方法
CN113524025B (zh) 一种SiC单晶片抛光方法
Yang et al. Progress and prospect of diamond dynamic friction polishing technology
CN112980391A (zh) 一种用于碳化硅晶片加工的粗磨液及其制备方法
CN102343546A (zh) 烧结聚晶金刚石冷板冷却高速研磨方法
Huang et al. A novel dry processing technique to construct a high-performance superfine diamond grinding wheel with thermal and material characterizations
CN110193777A (zh) 基于粘弹性材料的加工感应型研磨垫
CN110253147A (zh) 一种激光辅助水合加工抛光方法
CN118165701B (zh) 一种金刚石用研磨液及金刚石衬底的研磨方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant