CN108098569B - 一种抛光蓝宝石晶片的内含钕化物软质磨料固着磨具及其制作方法 - Google Patents
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- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 68
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 title claims abstract description 68
- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims abstract description 40
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 50
- 150000002798 neodymium compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 33
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims abstract description 21
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 13
- 239000005543 nano-size silicon particle Substances 0.000 claims abstract description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 claims abstract description 9
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 8
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims abstract description 8
- 239000007767 bonding agent Substances 0.000 claims abstract description 4
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 claims abstract description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 4
- 238000009966 trimming Methods 0.000 claims abstract description 4
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims description 44
- PLDDOISOJJCEMH-UHFFFAOYSA-N neodymium(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Nd+3].[Nd+3] PLDDOISOJJCEMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- CFYGEIAZMVFFDE-UHFFFAOYSA-N neodymium(3+);trinitrate Chemical compound [Nd+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O CFYGEIAZMVFFDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 7
- TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L Magnesium chloride Chemical group [Mg+2].[Cl-].[Cl-] TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 6
- ATINCSYRHURBSP-UHFFFAOYSA-K neodymium(iii) chloride Chemical compound Cl[Nd](Cl)Cl ATINCSYRHURBSP-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 5
- XRADHEAKQRNYQQ-UHFFFAOYSA-K trifluoroneodymium Chemical compound F[Nd](F)F XRADHEAKQRNYQQ-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 5
- 239000011354 acetal resin Substances 0.000 claims description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 3
- 229910001629 magnesium chloride Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 claims description 3
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical group [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 3
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 claims description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 14
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 12
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- 238000003746 solid phase reaction Methods 0.000 description 6
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 6
- 230000009471 action Effects 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 229910001868 water Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 239000000110 cooling liquid Substances 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 3
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 2
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010437 gem Substances 0.000 description 2
- 229910001751 gemstone Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- -1 neodymium ions Chemical class 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 229910052580 B4C Inorganic materials 0.000 description 1
- YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] Chemical compound [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010923 batch production Methods 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- INAHAJYZKVIDIZ-UHFFFAOYSA-N boron carbide Chemical compound B12B3B4C32B41 INAHAJYZKVIDIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007123 defense Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 230000036632 reaction speed Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
- B24B37/11—Lapping tools
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- B24B37/24—Lapping pads for working plane surfaces characterised by the composition or properties of the pad materials
- B24B37/245—Pads with fixed abrasives
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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Abstract
一种抛光蓝宝石晶片的内含钕化物软质磨料固着磨具,所述内含钕化物软质磨料固着磨具原料的配制:按照质量百分比,纳米二氧化硅40%~60%、粘结剂20%~40%、固化剂10%~15%、钕化物5%~10%、其余为去离子水。以及提供一种抛光蓝宝石晶片的内含钕化物软质磨料固着磨具的制作方法,在去离子水中加入固化剂,并搅拌使其溶解,随后加入结合剂、纳米二氧化硅、钕化物等,将其搅拌均匀;将配置好的配料在模具中热压成形,脱模后完成热固化,并对其上下端面进行修整,保证磨具上下端面的平整度和平行度,得到内含钕化物的软质磨料固着磨具。本发明能够提高蓝宝石晶片的去除率并能降低粗糙度,提高加工效率、降低生产成本。
Description
技术领域
本发明涉及一种模具,尤其是抛光蓝宝石晶片的内含钕化物软质磨料固着磨具及其制作方法。
背景技术
蓝宝石,又称白宝石,与天然宝石具有相同的光学特性和力学特性,有着很好的热特性,极好的电气特性和介电特性,并且防化学腐蚀,对红外线透过率高,有很好的耐磨性,硬度仅次于金刚石,为莫氏9级,在高温下仍具有较好的稳定性,熔点为2030摄氏度,被广泛应用于工业、国防、科研等领域,越来越多地用作固体激光、红外窗口、半导体芯片的衬底片、精密耐磨轴承等高技术领域中零件的制造材料,如地对地、地对空导弹的红外窗口,高温压敏传感器的窗口等。
蓝宝石由于硬度大且脆性大,对其进行机械加工非常困难,晶片加工技术更加复杂。目前我国蓝宝石晶片加工工艺在批量生产中有如下不足之处:1.加工过程中蓝宝石片去除效率低;2.抛光后,蓝宝石片表面粗糙度高。
目前市场上的蓝宝石表面超精密抛光,其抛光组合物磨料主要成分为纳米二氧化硅。在碱性条件下,纳米二氧化硅与蓝宝石表面形成硅酸铝,在机械力的作用下对蓝宝石进行磨削、抛光。由于蓝宝石的高硬度与极强的抗腐蚀性,提高加工效率和表面质量一直以来是蓝宝石加工过程中的难题,并且由于现在使用的游离磨料,使用后处理过程复杂,其中的化学物质容易对环境产生污染。长久以来,表面质量良好、抛光去除率高、环保的抛光模具一直是研究的热点。因此,本发明提供了一种抛光蓝宝石的去除率高、加工表面粗糙度低的基于内含钕化物软质磨料固着磨具。
发明内容
本发明的目的是为了克服现有蓝宝石晶片抛光效率低、成本高的不足,本发明提供一种加工表面质量好、加工效率高、生产成本低的抛光蓝宝石晶片的内含钕化物软质磨料固着磨具及其制作方法。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:
一种抛光蓝宝石晶片的内含钕化物软质磨料固着磨具,所述内含钕化物软质磨料固着磨具原料的配制:按照质量百分比,纳米二氧化硅40%~60%、粘结剂20%~40%、固化剂10%~15%、钕化物5%~10%、其余为去离子水。
优选的,所述粘结剂为氧化镁。
优选的,所述固化剂为氯化镁、酚醛-缩醛树脂或酚醛-环氧树脂。
优选的,所述纳米二氧化硅的粒度为80~100nm.
优选的,所述钕化物为硝酸钕、氯化钕、氧化钕或氟化钕,均为纳米级粉末状颗粒。
一种抛光蓝宝石晶片的内含钕化物软质磨料固着磨具的制作方法,在去离子水中加入固化剂,并搅拌使其溶解,随后加入结合剂、纳米二氧化硅、钕化物等,将其搅拌均匀;将配置好的配料在模具中热压成形,脱模后完成热固化,并对其上下端面进行修整,保证磨具上下端面的平整度和平行度,得到内含钕化物的软质磨料固着磨具。
本发明的技术构思为:采用硬度比蓝宝石晶片硬度低的软质磨料以及钕化物,配制成固着磨料磨具,加工过程中,钕化物既是一种催化剂,降低了蓝宝石晶片与二氧化硅反应所需的能量,同时作为反应物又可与软质磨料和蓝宝石晶片之间发生固相反应,在蓝宝石晶片表面形成一层软质的、易去除的反应生成物层,并利用后续磨料与生成物层之间的摩擦作用将生成物层去除,从而实现蓝宝石晶片的抛光,相比于纯二氧化硅,它的反应更加容易进行,能更容易并产生更多软质的、易去除的反应生成物,使加工粗糙度更低。同时,由于所采用的磨料和钕化物硬度远低于蓝宝石晶片的硬度,因此这种加工方法不会对蓝宝石晶片造成金刚石、碳化硼、碳化硅等硬质磨料加工蓝宝石晶片时造成的诸如凹坑、划痕和微裂纹等表面损伤,因此提高了蓝宝石晶片的加工质量。同时,钕化物、二氧化硅和蓝宝石通过固化反应生成硬度较低,极易去除的Nd2Al2Si3O12,从而提高蓝宝石晶片的抛光效率,使该抛光方法具有抛光效果佳、去除率高的优点,能满足蓝宝石抛光的要求。
利用磨料、钕化物与蓝宝石晶片之间的固相反应,同时钕离子对蓝宝石和二氧化硅的固相反应能起催化作用,提高其反应速度,在蓝宝石晶片表面形成一层软质的、易去除的反应生成物层,并利用后续磨料与生成物层之间的摩擦作用将生成物层去除,从而实现蓝宝石晶片的高效抛光。以下给出了①二氧化硅(SiO2)、②硝酸钕、③去离子水与蓝宝石材料在碱性环境下发生的固相反应方程:
Nd3++3OH-=Nd(OH)3 (1)
Al2O3+2Nd(OH)3=2NdAlO3+3H2O (3)
SiO2+2NdAlO3+Al2Si2O7.H2O=Nd2Al2Si3O12+2AlOOH (4)
本发明的有益效果:本发明通过加入钕化物,使其与二氧化硅和蓝宝石通过固化反应生成更多硬度较低、极易去除的Nd2Al2Si3O12。同时,钕离子能起催化作用,加快蓝宝石和二氧化硅的反应,从而提高蓝宝石晶片的抛光效率。抛光过程中采用碱性水基冷却液进行冷却和润滑,具有良好的环保特性,使该磨具具有抛光去除率高、加工表面粗糙度低、环保的优点,能满足蓝宝石抛光的要求。
附图说明
图1是磨具示意图。
图2是加工原理示意图。
图3是加工装置示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本发明做进一步的说明。
参照图1~图3,一种抛光蓝宝石晶片的内含钕化物软质磨料固着磨具,所述内含钕化物软质磨料固着磨具原料的配制:按照质量百分比,纳米二氧化硅40%~60%、粘结剂20%~40%、固化剂10%~15%、钕化物5%~10%、其余为去离子水。
优选的,所述粘结剂为氧化镁。
优选的,所述固化剂为氯化镁、酚醛-缩醛树脂或酚醛-环氧树脂。
优选的,所述纳米二氧化硅的粒度为80~100nm.
优选的,所述钕化物为硝酸钕、氯化钕、氧化钕或氟化钕,均为纳米级粉末状颗粒。
一种抛光蓝宝石晶片的内含钕化物软质磨料固着磨具的制作方法,在去离子水中加入固化剂,并搅拌使其溶解,随后加入结合剂、纳米二氧化硅、钕化物等,将其搅拌均匀;将配置好的配料在模具中热压成形,脱模后完成热固化,并对其上下端面进行修整,保证磨具上下端面的平整度和平行度,得到内含钕化物的软质磨料固着磨具。
参照图1,其中1.二氧化硅2.钕化物3.结合剂和固化剂的混合物4.空隙。参照图2,其中5.钕化物6.二氧化硅7.新生成得到Nd2Al2Si3O12 8蓝宝石晶片。参照图3,9.上抛光盘10.磨具11.蓝宝石晶片12.下抛光盘。
具体实施方式
本实施例的内含钕化物软质磨料固着磨具对蓝宝石晶片的抛光:将内含钕化物软质磨料固着磨具安装于抛光机的上盘,待加工的蓝宝石晶片放置在会旋转的抛光机下盘,用夹具固定住,启动抛光机,并在上下盘之间注入碱性水基冷却液;内含钕化物软质磨料固着磨具上的钕化物和磨粒对蓝宝石面进行划擦并发生固相反应,实现对蓝宝石晶片的抛光。
进一步,在压力和相对速度的作用下,钕化物既是一种催化剂,降低了蓝宝石晶片与二氧化硅反应所需的能量,同时作为反应物又可与磨料和蓝宝石材料发生固相反应,生成一层软质的、易去除的反应生成物层,并利用后续磨料与生成物层之间的摩擦作用将生成物层去除,从而实现蓝宝石晶片的抛光。
本实施例选取在抛光机上进行蓝宝石晶片的抛光加工。实施例条件如表1所示。内含钕化物软质磨料固着磨具采用了纳米二氧化硅含量50%、硝酸钕含量5%和纳米二氧化硅含量60%、硝酸钕含量5%,其它制作和加工参数均相同。分别用这两种内含钕化物的软质磨料固着磨具对的蓝宝石晶片进行抛光。抛光过程中采用碱性水基冷却液进行冷却和润滑。
表1
表2显示了实施例中蓝宝石晶片的加工结果。结果显示,本实施例中的蓝宝石晶片去除率稳定,与传统抛光过程相比,材料去除率几乎是在相同条件下的4-5倍。在本实施例中,采用纳米二氧化硅含量50%、硝酸钕含量5%的固着磨具对蓝宝石晶片进行抛光,表面粗糙度为4-8nm,采用纳米二氧化硅含量60%、硝酸钕含量5%的固着磨具对蓝宝石晶片进行抛光,表面粗糙度为4-7nm,都要明显优于传统抛光方法获得的表面粗糙度。这表明内含钕化物的软质磨料固着磨具抛光方法在取代传的蓝宝石抛光技术方面,具有良好的应用前景。
表2
上例仅是本发明的较佳实施例,凡是依据本专利所作的任何修改和变更,均应包含在本发明的保护范围。
Claims (6)
1.一种抛光蓝宝石晶片的内含钕化物的软质磨料固着磨具,其特征在于:所述内含钕化物软质磨料固着磨具原料的配制:按照质量百分比,纳米二氧化硅40%~60%、粘结剂20%~40%、固化剂10%~15%、钕化物5%~10%、其余为去离子水。
2.如权利要求1所述的抛光蓝宝石晶片的内含钕化物的软质磨料固着磨具,其特征在于:所述粘结剂为氧化镁。
3.如权利要求1或2所述的抛光蓝宝石晶片的内含钕化物的软质磨料固着磨具,其特征在于:所述固化剂为氯化镁、酚醛-缩醛树脂或酚醛-环氧树脂。
4.如权利要求1或2所述的抛光蓝宝石晶片的内含钕化物的软质磨料固着磨具,其特征在于:所述纳米二氧化硅的粒度为80~100nm。
5.如权利要求1或2所述的抛光蓝宝石晶片的内含钕化物的软质磨料固着磨具,其特征在于:所述钕化物为硝酸钕、氯化钕、氧化钕或氟化钕,均为纳米级粉末状颗粒。
6.一种如权利要求1所述的抛光蓝宝石晶片的内含钕化物的软质磨料固着磨具的制作方法,其特征在于:在去离子水中加入固化剂,并搅拌使其溶解,随后加入结合剂、纳米二氧化硅、钕化物,将其搅拌均匀;将配置好的配料在模具中热压成形,脱模后完成热固化,并对其上下端面进行修整,保证磨具上下端面的平整度和平行度,得到内含钕化物的软质磨料固着磨具。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201711221011.2A CN108098569B (zh) | 2017-11-29 | 2017-11-29 | 一种抛光蓝宝石晶片的内含钕化物软质磨料固着磨具及其制作方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201711221011.2A CN108098569B (zh) | 2017-11-29 | 2017-11-29 | 一种抛光蓝宝石晶片的内含钕化物软质磨料固着磨具及其制作方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN108098569A CN108098569A (zh) | 2018-06-01 |
CN108098569B true CN108098569B (zh) | 2020-05-05 |
Family
ID=62207837
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201711221011.2A Active CN108098569B (zh) | 2017-11-29 | 2017-11-29 | 一种抛光蓝宝石晶片的内含钕化物软质磨料固着磨具及其制作方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN108098569B (zh) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110052917A (zh) * | 2019-04-27 | 2019-07-26 | 安徽工程大学 | 一种基于固结磨料技术的蓝宝石抛光加工方法 |
CN112936070B (zh) * | 2021-03-05 | 2022-09-06 | 南京航空航天大学 | 一种固结磨料抛光垫及易潮解晶体溴化镧干式抛光方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08505175A (ja) * | 1992-12-23 | 1996-06-04 | ミネソタ・マイニング・アンド・マニュファクチュアリング・カンパニー | 酸化マンガンを含有する砥粒 |
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CN108262695A (zh) * | 2011-06-30 | 2018-07-10 | 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司 | 包括氮化硅磨粒的磨料制品 |
CN102513919B (zh) * | 2011-12-12 | 2014-08-13 | 江苏智邦精工科技有限公司 | 一种基于软质磨料固着磨具的氧化铝陶瓷球研磨方法 |
CN103770020A (zh) * | 2014-01-10 | 2014-05-07 | 当涂县南方红月磨具磨料有限公司 | 一种陶瓷镨钕刚玉砂轮 |
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2017
- 2017-11-29 CN CN201711221011.2A patent/CN108098569B/zh active Active
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Publication number | Publication date |
---|---|
CN108098569A (zh) | 2018-06-01 |
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