CN110702696A - 一种磁瓦表面缺陷检测装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种磁瓦表面缺陷检测装置，包括磁瓦、远心光源、棱镜组、柱面镜组、条形光源组、平面同轴光源、远心镜头和相机，所述磁瓦包括有内弧面、端面、外弧面、边面和边面倒角，对于磁瓦的内弧面和边面倒角的检测，采用八个条形光源按一定角度将其照亮，并在条形光源前放置柱面镜，使光线聚焦，同时在磁瓦内弧面正上方放置平面同轴光源。本发明通过加入磁瓦边面倒角的检测模块，采用一套检测系统即可对磁瓦八个面进行检测，同时在条形光源前加入柱面镜使光束聚焦，提高磁瓦照明亮度，成本低，效率高，精度好，在条形光源前加入柱面镜使光束聚焦，提高磁瓦的照明亮度，提升了检测效果和检测的准确性。

Description

一种磁瓦表面缺陷检测装置
技术领域
本发明涉及磁瓦检测技术领域，具体为一种磁瓦表面缺陷检测装置。
背景技术
在磁瓦的生产制造过程中，由于原料成分、设备使用情况、加工工艺以及工人操作等因素的影响，在其表面不可避免地会出现一些加工缺陷，例如裂纹、崩烂、压痕、砂眼以及漏磨等，缺陷的存在会对磁瓦的磁性能、使用寿命等带来非常大的影响，有缺陷的磁瓦如果在风力发电、新能源汽车、航空航天等领域使用会产生巨大的安全隐患，甚至直接造成灾难性后果，因此，在磁瓦出厂前必须对其进行质量检测，将含有缺陷的磁瓦剔除出去，此外，随着设备高性能、高精度、小型化的发展，对精密微磁瓦的需求日益迫切，对磁瓦的材料特性、表面质量、结构形状、可靠性等方面的要求也越来越高。
磁瓦在产品检测中需要对其多个断面进行检测，目前工业上一般采用多套系统分别检测磁瓦各表面缺陷的方式来实现磁瓦的自动检测，但此方法需要多套系统配合检测，因此成本较高，检测速度慢，无法广泛使用，无法做到一次性检测，为此我们提出一种磁瓦表面缺陷检测装置用以解决上述问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种磁瓦表面缺陷检测装置，具备低成本高效率的优点，解决了现有市场上磁瓦表面缺陷检测装置不具备低成本高效率功能的问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种磁瓦表面缺陷检测装置，包括磁瓦、远心光源、棱镜组、柱面镜组、条形光源组、平面同轴光源、远心镜头和相机，所述磁瓦包括有内弧面、端面、外弧面、边面和边面倒角，同时，该系统可一次性将磁瓦八个表面检测完毕。
优选的，对于磁瓦的内弧面和边面倒角的检测，采用八个条形光源按一定角度将其照亮，并在条形光源前放置柱面镜，使光线聚焦，同时在磁瓦内弧面正上方放置平面同轴光源，对内弧面和边面倒角进行进一步均匀照明，由磁瓦内弧面和边面倒角反射的光经过平面同轴光源到达远心镜头，并进入相机中。
优选的，对于磁瓦两边面的检测，采用远心光源将其照亮，远心光源的光经过棱镜组的透射面，将光均匀照射在磁瓦两边面上，由磁瓦边面反射的光经过棱镜组的反射面，将光线折转45°经过平面同轴光源到达远心镜头，并进入相机中。
优选的，对于磁瓦外弧面，采用八个条形光源按一定角度将其照亮，并在条形光源前放置柱面镜，使光线聚焦，同时在磁瓦外弧面正上方放置平面同轴光源，对外弧面进行进一步均匀照明，由磁瓦外弧面反射的光经过平面同轴光源到达远心光源，并进入相机中。
优选的，对于磁瓦两端面的检测，采用远心光源将其照亮，远心光源的光经过棱镜组的透射面，将光均匀照射在磁瓦两端面上，由磁瓦边面反射的光经过棱镜组的反射面，将光线折转45°经过平面同轴光源到达远心镜头，并进入相机中。
优选的，所述磁瓦内弧面、边面倒角和两边面的检测采用的是同一个平面同轴光源和相机。
优选的，所述磁瓦外弧面和两端面的检测采用的是同一个平面同轴光源和相机。
优选的，所述磁瓦表面位于柱面镜的工作距离面上。
优选的，所述柱面镜应根据所述条形光源摆放位置的不同而选择不同焦距的柱面镜。
优选的，所述所述磁瓦表面位于远心镜头的工作距离面上。
优选的，所述远心光源、棱镜组、柱面镜组、条形光源组、平面同轴光源和远心镜头的安装固定均可做角度微调。
与现有技术相比，本发明的有益效果如下：
本发明通过加入磁瓦边面倒角的检测模块，采用一套检测系统即可对磁瓦八个面进行检测，同时在条形光源前加入柱面镜使光束聚焦，提高磁瓦照明亮度，成本低，效率高，精度好，在条形光源前加入柱面镜使光束聚焦，提高磁瓦的照明亮度，提升了检测效果和检测的准确性。
附图说明
图1为本发明磁瓦的形状图；
图2为本发明实施例1中磁瓦内弧面和磁瓦边面的检测实现流程图；
图3为本发明实施例1中磁瓦外弧面的检测实现流程图；
图4为本发明实施例1中磁瓦端面的检测实现流程图；
图5为本发明实施例2中磁瓦内弧面和磁瓦边面的检测实现流程图；
图6为本发明实施例2中磁瓦外弧面的检测实现流程图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
在发明的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“内”、“外”“前端”、“后端”、“两端”、“一端”、“另一端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“设置有”、“连接”等，应做广义理解，例如“连接”，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
本发明的远心光源、棱镜组、柱面镜组、条形光源组、平面同轴光源、远心镜头和相机部件均为通用标准件或本领域技术人员知晓的部件，其结构和原理都为本技术人员均可通过技术手册得知或通过常规实验方法获知。
请参阅图1-6，实施例1：
一种磁瓦表面缺陷检测装置，包括磁瓦、远心光源、棱镜组、柱面镜组、条形光源组、平面同轴光源、远心镜头和相机，磁瓦包括有内弧面、端面、外弧面、边面和边面倒角。
对于磁瓦的内弧面和边面倒角的检测，采用八个条形光源按一定角度将其照亮，并在条形光源前放置柱面镜，使光线聚焦，同时在磁瓦内弧面正上方放置平面同轴光源，对内弧面和边面倒角进行进一步均匀照明，由磁瓦内弧面和边面倒角反射的光经过平面同轴光源到达远心镜头，并进入相机中；
对于磁瓦两边面的检测，采用远心光源将其照亮，远心光源的光经过棱镜组的透射面，将光均匀照射在磁瓦两边面上，由磁瓦边面反射的光经过棱镜组的反射面，将光线折转45°经过平面同轴光源到达远心镜头，并进入相机中；
对于磁瓦外弧面，采用八个条形光源按一定角度将其照亮，并在条形光源前放置柱面镜，使光线聚焦，同时在磁瓦外弧面正上方放置平面同轴光源，对外弧面进行进一步均匀照明，由磁瓦外弧面反射的光经过平面同轴光源到达远心光源，并进入相机中；
对于磁瓦两端面的检测，采用远心光源将其照亮，远心光源的光经过棱镜组的透射面，将光均匀照射在磁瓦两端面上，由磁瓦边面反射的光经过棱镜组的反射面，将光线折转45°经过平面同轴光源到达远心镜头，并进入相机中；
磁瓦内弧面、边面倒角和两边面的检测采用的是同一个平面同轴光源和相机；
磁瓦外弧面和两端面的检测采用的是同一个平面同轴光源和相机；
磁瓦表面位于柱面镜的工作距离面上；
磁瓦表面位于远心镜头的工作距离面上；
柱面镜应根据所述条形光源摆放位置的不同而选择不同焦距的柱面镜；
远心光源、棱镜组、柱面镜组、条形光源组、平面同轴光源和远心镜头的安装固定均可做角度微调；
该系统可一次性将磁瓦八个表面一次性检测完毕。
实施例2：
针对上面技术方案，存在其他替代方案能完成发明目的。针对磁瓦内弧面、边面倒角和外弧面的检测，可将条形光源组和柱面镜组分别换成特殊圆顶光源和环形柱面镜组，在截面上的光源位置与第三部分技术方案相同。
使用时，本发明通过加入磁瓦边面倒角的检测模块，采用一套检测系统即可对磁瓦八个面进行检测，同时在条形光源前加入柱面镜使光束聚焦，提高磁瓦照明亮度，成本低，效率高，精度好，在条形光源前加入柱面镜使光束聚焦，提高磁瓦的照明亮度，提升了检测效果和检测的准确性。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (11)

1.一种磁瓦表面缺陷检测装置，包括磁瓦、远心光源、棱镜组、柱面镜组、条形光源组、平面同轴光源、远心镜头和相机，其特征在于：所述磁瓦包括有内弧面、端面、外弧面、边面和边面倒角，该系统可一次性将磁瓦八个表面一次性检测完毕。
2.根据权利要求1所述的一种磁瓦表面缺陷检测装置，其特征在于：对于磁瓦的内弧面和边面倒角的检测，采用八个条形光源按一定角度将其照亮，并在条形光源前放置柱面镜，使光线聚焦，同时在磁瓦内弧面正上方放置平面同轴光源，对内弧面和边面倒角进行进一步均匀照明，由磁瓦内弧面和边面倒角反射的光经过平面同轴光源到达远心镜头，并进入相机中。
3.根据权利要求1所述的一种磁瓦表面缺陷检测装置，其特征在于：对于磁瓦两边面的检测，采用远心光源将其照亮，远心光源的光经过棱镜组的透射面，将光均匀照射在磁瓦两边面上，由磁瓦边面反射的光经过棱镜组的反射面，将光线折转45°经过平面同轴光源到达远心镜头，并进入相机中。
4.根据权利要求1所述的一种磁瓦表面缺陷检测装置，其特征在于：对于磁瓦外弧面，采用八个条形光源按一定角度将其照亮，并在条形光源前放置柱面镜，使光线聚焦，同时在磁瓦外弧面正上方放置平面同轴光源，对外弧面进行进一步均匀照明，由磁瓦外弧面反射的光经过平面同轴光源到达远心光源，并进入相机中。
5.根据权利要求1所述的一种磁瓦表面缺陷检测装置，其特征在于：对于磁瓦两端面的检测，采用远心光源将其照亮，远心光源的光经过棱镜组的透射面，将光均匀照射在磁瓦两端面上，由磁瓦边面反射的光经过棱镜组的反射面，将光线折转45°经过平面同轴光源到达远心镜头，并进入相机中。
6.根据权利要求1所述的一种磁瓦表面缺陷检测装置，其特征在于：所述磁瓦内弧面、边面倒角和两边面的检测采用的是同一个平面同轴光源和相机。
7.根据权利要求1所述的一种磁瓦表面缺陷检测装置，其特征在于：所述磁瓦外弧面和两端面的检测采用的是同一个平面同轴光源和相机。
8.根据权利要求1所述的一种磁瓦表面缺陷检测装置，其特征在于：所述磁瓦表面位于柱面镜的工作距离面上。
9.根据权利要求1所述的一种磁瓦表面缺陷检测装置，其特征在于：所述柱面镜应根据所述条形光源的位置而选择不同焦距的柱面镜。
10.根据权利要求1所述的一种磁瓦表面缺陷检测装置，其特征在于：所述磁瓦表面位于远心镜头的工作距离面上。
11.根据权利要求1所述的一种磁瓦表面缺陷检测装置，其特征在于：所述远心光源、棱镜组、柱面镜组、条形光源组、平面同轴光源和远心镜头的安装固定均可做角度微调。
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