CN110699638A - 掩膜版的张网设备和张网方法 - Google Patents
掩膜版的张网设备和张网方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN110699638A CN110699638A CN201911195364.9A CN201911195364A CN110699638A CN 110699638 A CN110699638 A CN 110699638A CN 201911195364 A CN201911195364 A CN 201911195364A CN 110699638 A CN110699638 A CN 110699638A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- frame
- mask
- reticle
- clamp
- clamping
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Screen Printers (AREA)
Abstract
本发明公开了一种掩膜版的张网设备和张网方法。该张网设备包括移动机构和框架夹具;移动机构包括移动单元和支撑单元,移动单元与支撑单元连接,框架夹具固定于移动单元上,框架夹具用于夹持掩膜版框架上相对设置的夹持区域,移动机构用于驱动框架夹具产生作用于掩膜版框架上的推力,以使掩膜版框架产生预设形变;推力的方向沿第一方向朝向掩膜版框架的中心;其中,第一方向为固定于掩膜版框架上的掩膜条的长度方向。因此不会在张网结束后产生形变,从而保证了掩膜版的张网精度,进而提高了掩膜版的精度。同时简化了张网设备的复杂度,避免了气浮气压无法使掩膜版框架悬浮时,掩膜版框架与平台之间的摩擦力导致的张网精度降低的问题。
Description
技术领域
本发明实施例涉及掩膜版制作的技术领域,尤其涉及掩膜版的张网设备和张网方法。
背景技术
随着发展,人们更加追求显示的清晰度,因此,显示面板的分辨率需要进一步的提升。但是,显示面板分辨率越高,在制作显示面板时使用的掩膜版的精度要求越高。在使用掩膜版蒸镀颜色材料时容易出现混色的问题。
发明内容
本发明提供掩膜版的张网设备和张网方法,以提高掩膜版的张网精度。
第一方面,本发明实施例提供了一种掩膜版的张网设备,包括移动机构和框架夹具;
所述移动机构包括移动单元和支撑单元,所述移动单元与所述支撑单元连接,所述框架夹具固定于所述移动单元上,所述框架夹具用于夹持掩膜版框架上相对设置的夹持区域,所述移动机构用于驱动所述框架夹具产生作用于所述掩膜版框架上的推力,以使所述掩膜版框架产生预设形变;所述推力的方向沿第一方向朝向所述掩膜版框架的中心;其中,所述第一方向为固定于所述掩膜版框架上的掩膜条的长度方向。
可选地,所述框架夹具为至少三对,每对所述框架夹具分别相对设置于所述掩膜版框架的两侧;
沿第二方向,所述掩膜版框架同一侧的所述框架夹具依次排布,并且关于所述掩膜版框架上的中线对称,其中,所述第二方向为所述掩膜版框架上掩膜条的宽度方向,所述第二方向与所述第一方向垂直,所述中线与所述第一方向平行。
可选地,在所述掩膜版框架的同一侧的各所述框架夹具等间距排布。
可选地,沿所述第二方向,从所述中线向所述掩膜版框架的两侧,所述框架夹具产生作用于所述掩膜版框架上的推力依次减小。
可选地,所述框架夹具包括相对设置的第一夹件和第二夹件;所述第一夹件的一端和所述第二夹件的一端均固定在所述移动单元上,所述第一夹件的另一端和所述第二夹件的另一端在远离所述移动单元的一侧形成开口。
可选地,所述掩膜版框架包括平行设置的第一边框和第二边框;所述第一边框和所述第二边框包括相对设置的至少一对夹持区域;同一对所述夹持区域,其中一个所述夹持区域位于所述第一边框的侧面,另一个所述夹持区域位于所述第二边框的侧面;其中,所述第一边框的侧面和所述第二边框的侧面与所述第一方向垂直。
可选地,所述移动单元包括导轨,所述支撑单元包括支撑柱。
第二方面,本发明实施例还提供了一种掩膜版的张网方法,包括:
将掩膜版框架设置于张网设备,所述张网设备包括移动机构和框架夹具,所述框架夹具夹持所述掩膜版框架上相对设置的夹持区域;
控制所述移动机构驱动所述框架夹具产生作用于所述掩膜版框架的推力,以使所述掩膜版框架产生预设形变,并保持推力产生的形变不变;所述推力的方向沿第一方向朝向所述掩膜版框架的中心;其中,所述第一方向为固定于所述掩膜版框架上的掩膜条的长度方向
在所述掩膜版框架上张网各掩膜条;所述掩膜条上的拉力与所述推力大小匹配,方向相反;
控制所述移动机构驱动所述框架夹具释放作用于所述掩膜版框架的推力。
可选地,沿第二方向,从所述掩膜版框架的中线向所述掩膜版框架的两侧,所述框架夹具产生作用于所述掩膜版框架上的推力依次减小,其中,所述第二方向为所述掩膜版框架上的掩膜条的宽度方向,所述第二方向与所述第一方向垂直,所述中线与所述第一方向平行。
可选地,在所述掩膜版框架上张网各掩膜条,包括:
依次在所述掩膜版框架的预设位置处张网各掩膜条。
本发明实施例的技术方案,通过框架夹具夹持掩膜版框架,并采用移动机构驱动框架夹具产生作用于掩膜版框架上的推力,以使掩膜版框架产生预设形变。在张网过程中,框架夹具产生作用于掩膜版框架上的推力的方向与掩膜条产生的拉力方向相反,在张网结束后,掩膜版框架产生作用于掩膜条的摩擦力,大小与夹爪拉伸掩膜条的拉力相对,方向相同。同时框架夹具释放掩膜版框架,使掩膜版框架具有形变产生的应力,其方向与掩膜版框架受到的推力方向相反,大小相等。因此在张网结束后,掩膜版框架上的形变产生的应力与掩膜版框架作用于掩膜条的摩擦力大小相等,方向相同,因此掩膜版框架上的形变产生的应力可以抵消掩膜条与掩膜版框架的之间的摩擦力,在张网结束后保持形变不变,从而保证了掩膜版的张网精度,进而提高了掩膜版的精度,降低了使用掩膜版蒸镀放出时颜色材料混色的风险。而且,由于框架夹具夹持掩膜版框架固定不变,使得掩膜版框架的位置不会发生改变,因此在张网结束后,掩膜版框架上的形变产生的应力可以抵消掩膜条与掩膜版框架的之间的摩擦力,进一步地提高了掩膜版的张网精度。同时简化了张网设备的复杂度,避免了气浮气压无法使掩膜版框架悬浮时,掩膜版框架与平台之间的摩擦力导致的张网精度降低的问题。
附图说明
图1为现有的一种掩膜版的张网设备的结构示意图;
图2为本发明实施例提供的一种掩膜版的张网设备的俯视结构示意图;
图3为沿图2的剖线AA’剖面得到的剖面示意图;
图4为本发明实施例提供的另一种掩膜版的张网设备的俯视结构示意图;
图5为本发明实施例提供的另一种掩膜版的张网设备的俯视结构示意图;
图6为本发明实施例提供的一种掩膜版的张网方法的流程图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是,此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明,而非对本发明的限定。另外还需要说明的是,为了便于描述,附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。
有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode,OLED)显示器的制备通常采用蒸镀法形成各个膜层。在制作OLED显示面板的发光层时,可以采用掩膜版分别将红、绿和蓝三基色对应的材料蒸镀至不同的子像素区域实现彩色化显示,因此需要保证掩膜版上开口的位置精度,使得掩膜版的开口与OLED显示面板中的子像素区域一一对应,避免同一子像素区域内蒸镀多种颜色的材料发生混色。在掩膜版的张网过程中,张网设备上的夹爪拉伸掩膜条实现掩膜条的张网,使掩膜条放置在掩膜版框架上并进行焊接,从而形成蒸镀用掩膜版。而夹爪拉伸掩膜条时,掩膜条因夹爪产生张力进而产生形变,导致掩膜条上开口的像素位置精度(Pixel Positional Accuracy,PPA)降低,容易出现混色等现象。另外,在张网过程中需要对掩膜版框架施加抵抗力使掩膜版框架具有一定的形变,并产生预应力,用于抵消焊接后掩膜条的拉力。由于掩膜版框架与张网设备上的平台之间存在摩擦力,导致制作掩膜版的过程中施加在掩膜版框架上的抵抗力不能按照设计值进行力度的平衡,使得掩膜条上的开口不能按照设计位置固定下来,从而进一步的降低了掩膜条上开口的PPA,进一步增加了蒸镀颜色材料时的混色风险。
图1为现有的一种掩膜版的张网设备的结构示意图。如图1所示,该张网设备包括支撑平台10,支撑平台10上设置有气孔,通过调节气孔的气浮大小,使掩膜板框架30悬浮于支撑平台10的表面,从而可以减小掩膜版框架与支撑平台10之间的摩擦力,提高掩膜版上开口的PPA。支撑平台10上设置有气体注入口21和气体排出口22,用于实现气浮气压的可调控。但是,由于支撑平台10的气体注入口21和气体排出口22的气体量不稳定,导致气浮的气压存在不稳定性,容易在掩膜版框架30和支撑平台10之间形成摩擦力,导致掩膜版框架上的预应力小于掩膜条的拉力,掩膜条上的开口出现内缩现象,降低了掩膜条上开口的PPA,增加了蒸镀颜色材料时的混色风险。而且,掩膜版框架30的两侧设置有抵抗力施加结构40。在张网之前,抵抗力施加结构40对掩膜版框架30施加抵抗力,使掩膜版框架30具有一定的形变,并产生预应力,用于抵消焊接后掩膜条的拉力。在张网多条掩膜条时,当张网一条掩膜条后,夹爪释放掩膜条,掩膜条产生与夹爪拉伸掩膜条产生的拉力相反的作用于掩膜版框架30上拉力。抵抗力施加结构40减小与拉力大小相等的抵抗力,使掩膜版框架30产生的形变减小,进而产生与抵抗力相反的作用力,掩膜条产生的作用于掩膜版框架30上的拉力与掩膜版框架30上的作用力方向相反,大小相等,从而避免在张网下一掩膜条时,上一掩膜条产生的作用于掩膜版框架30上的拉力使得掩膜版框架30发生形变,进而影响下一掩膜条的PPA。因此在张网多条掩膜条的过程中,抵抗力施加结构40逐渐减小施加在掩膜版框架30上的抵抗力。此时会降低掩膜条的PPA,同时在每张网一条掩膜条时需要对位过程,增加了张网掩膜条的工作时间,降低了张网的工作效率,增加了张网的作业难度。
针对上述技术问题,本发明实施例提供了一种掩膜版的张网设备。图2为本发明实施例提供的一种掩膜版的张网设备的俯视结构示意图,图3为沿图2的剖线AA’剖面得到的剖面示意图。如图2和图3所示,掩膜版的张网设备包括移动机构110和框架夹具120。移动机构110包括移动单元111和支撑单元112,移动单元111与支撑单元112连接,框架夹具120固定于移动单元111上,框架夹具120用于夹持掩膜版框架130上相对设置的夹持区域,移动机构10用于驱动框架夹具120产生作用于掩膜版框架130上的推力,以使掩膜版框架130产生预设形变;推力的方向沿第一方向X朝向掩膜版框架130的中心;其中,第一方向X为固定于掩膜版框架130上的掩膜条的长度方向。
具体地,掩膜版框架130具有承载部,用于承载和固定掩膜条的两端。示例性地,掩膜版框架130包括相对设置的两个边框,两个边框用于承载和固定掩膜条,此时两个边框为掩膜版框架130的承载部。掩膜版框架130上的承载部沿第一方向X相对设置。移动单元111包括至少一对,可以沿第一方向X和掩膜条的宽度方向Y移动。掩膜条的宽度方向Y为第二方向。示例性地,图2和图3包括一对移动单元111,每个移动单元111包括上下两个移动子单元,并通过支撑单元112连接。框架夹具120设置在上移动子单元的表面上。下移动子单元可以快速移动,带动框架夹具120到预设位置的快速定位。上移动子单元可以精准移动,带动框架夹具120到预设位置的精确定位。因此通过上下两个移动子单元可以带动框架夹具120到预设位置的快速精确移动。示例性地,移动单元111可以为导轨,支撑单元112可以为支撑柱。通过支撑柱支撑设置有框架夹具120的导轨,然后通过移动上下两个导轨快速精确的调节框架夹具120的位置。
框架夹具120固定于移动单元111上,当移动单元111移动时,带动框架夹具120移动。而框架夹具120夹持掩膜版框架130上相对设置的夹持区域,夹持区域可以设置于掩膜版框架130上用于承载掩膜条的边框的侧面,便于框架夹具120夹持掩膜版框架130上用于承载掩膜条的边框,使得掩膜版框架130上用于承载掩膜条的边框能够根据框架夹具120的移动产生形变。
在掩膜版框架130上张网多条掩膜条时,先根据张网过程中掩膜条产生的拉力确定掩膜版框架130需要的预应力,预应力的大小与掩膜条上产生的拉力大小相等。然后根据预应力计算掩膜版框架130上用于承载掩膜条的边框需要产生的形变,并根据形变确定框架夹具120的移动方向和距离,并通过移动机构110的移动驱动框架夹具120移动,框架夹具120产生推力带动掩膜版框架130产生预设形变。由于框架夹具120夹持掩膜版框架130,当框架夹具120的位置不动时,掩膜版框架130的预设形变固定不变,因此掩膜版框架130的预设形变产生的力不变。在此过程中,由于张网掩膜条时,张网时用的夹爪对掩膜条产生沿掩膜条长度方向延伸的拉力。而驱动机构110驱动框架夹具120产生作用于掩膜版框架130上的推力的方向与掩膜条产生的拉力方向相反,即驱动机构110驱动框架夹具120产生作用于掩膜版框架130上的推力。在张完掩膜条后,掩膜条固定于掩膜版框架130上。夹爪释放掩膜条后,掩膜条产生与夹爪拉伸掩膜条的拉力相反的作用力,并作用于掩膜版框架130上,大小与夹爪拉伸掩膜条的拉力相等。掩膜版框架130产生作用于掩膜条的摩擦力,大小与夹爪拉伸掩膜条的拉力相对,方向相同。同时框架夹具120释放掩膜版框架130,使掩膜版框架130具有形变产生的应力,其方向与掩膜版框架130受到的推力方向相反,大小相等。因此在张网结束后,掩膜版框架130上的预设形变产生的应力与掩膜版框架130作用于掩膜条的摩擦力大小相等,方向相同,因此掩膜版框架130上的预设形变产生的应力可以抵消掩膜条与掩膜版框架130的之间的摩擦力,在张网结束后保持预设形变不变,从而保证了掩膜版的张网精度,进而提高了掩膜版的精度,降低了使用掩膜版蒸镀放出时颜色材料混色的风险。
另外,在张网过程中,由于框架夹具120夹持掩膜版框架130固定不变,使得掩膜版框架130的位置不会发生改变,因此上一条掩膜条张网过程中掩膜条作用于掩膜版框架130上的作用力不会影响下一条掩膜条张网时的PPA,不仅可以保证掩膜条张网过程中的PPA,而且可以减少张网不同的掩膜条的工艺过程中增加对位过程,从而可以减少张网过程所需的时间,提高张网的工作效率,降低张网的作业难度。同时,张网结束后,掩膜版框架130上的预设形变产生的应力可以抵消掩膜条与掩膜版框架130的之间的摩擦力,进而可以避免因摩擦力造成的掩膜版框架130上的预设形变产生的预应力与掩膜条上的拉力不相等的情况,进一步地提高了掩膜版的张网精度。而且,在掩膜版的张网过程中,无需使用气浮气压,不仅简化了张网设备的复杂度,同时避免了气浮气压无法使掩膜版框架悬浮时,掩膜版框架与平台之间的摩擦力导致的张网精度降低的问题。示例性地,当气浮使掩膜版框架130悬浮或无法悬浮时,掩膜版的PPA精度会比预设数值上下浮动6um左右,严重的浮动达到10um以上,而本技术方案可以使PPA的精度控制在2um以内。
继续参考图2和图3,示例性地,掩膜版框架130包括平行设置的第一边框131和第二边框132;第一边框131和第二边框132包括相对设置的至少一对夹持区域;同一对夹持区域,其中一个夹持区域位于第一边框131的侧面,另一个夹持区域位于第二边框132的侧面;其中,第一边框131的侧面和第二边框132的侧面与第一方向垂直。
其中,第一边框131和第二边框132用于承载掩膜条。第一边框131的侧面上设置有其中一个夹持区域,第二边框132的侧面设置有另一个夹持区域。第一边框131上的夹持区域与第二边框132上相对的夹持区域形成一对。每一夹持区域对应一个框架夹具120,使得框架夹具120能够分别夹持第一边框131和第二边框132。在掩膜版框架130上张网掩膜条时,框架夹具120产生作用于第一边框131和第二边框132的推力,第一边框131上的推力与掩膜条的一端产生的拉力平衡,第二边框132上的推力与掩膜条的另一端产生的拉力平衡,从而使得掩膜版框架130的第一边框131和第二边框132上的推力与掩膜条上的拉力相互抵消,避免张网结束后产生形变,保证了掩膜版的张网精度。
需要说明的是,如图2所示,第一边框131的相对两个侧面均设置有夹持区域,使得框架夹具120能够夹持第一边框131。同理,第二边框132的相对两个侧面均设置有夹持区域,使得框架夹具120能够夹持第二边框132。另外,移动单元111可以与框架夹具120一一对应,从而可以更好的通过移动机构110驱动框架夹具120产生作用于第一边框131和第二边框132的推力。
继续参考图2和图3,框架夹具120包括相对设置的第一夹件和第二夹件;第一夹件的一端和第二夹件的一端均固定在移动单元111上,第一夹件的另一端和第二夹件的另一端在远离移动单元111的一侧形成开口。
具体地,图3中示例性地示出了每个框架夹具120包括第一夹件和第二夹件,第一夹件和第二夹件关于边框相对设置。例如,第一框架夹具121包括第一夹件1211和第二夹件1212,第一框架夹具121的第一夹件1211和第一框架夹具121的第二夹件1212关于第一边框131相对设置,并在远离移动单元111的一侧形成开口,使得第一边框131的夹持区域能够放置在开口内,并通过第一夹件1211和第二夹件1212夹持第一边框131,从而可以通过第一夹件1211和第二夹件1212产生作用于第一边框131的推力。同理,第二框架夹具122包括的第一夹件1221和第二夹件1222关于第二边框132相对设置,并在远离移动单元111的一侧形成开口,用于夹持第二边框132,此处不再赘述。
需要说明的是,第一夹件和第二夹件沿第一边框131的宽度方向的距离可调,从而满足不同宽度的边框的夹持。第一夹件和第二夹件的形状不做限定。
图3中示例性地示出了第一夹件和第二夹件为L型,并且第一夹件中L型的短边与第二夹件中L型的短边形成开口。在其他实施例中,第一夹件和第二夹件还可以由其他形状,例如板状。只需满足第一夹件和第二夹件在远离移动单元111的一侧形成开口。
图4为本发明实施例提供的另一种掩膜版的张网设备的俯视结构示意图。如图4所示,框架夹具120为至少三对,每对框架夹具120分别相对设置于掩膜版框架130的两侧;沿第二方向Y,掩膜版框架130同一侧的框架夹具120依次排布,并且关于掩膜版框架130上的中线134对称,其中,第二方向Y为掩膜版框架130上掩膜条的宽度方向,第二方向Y与第一方向X垂直,中线134与第一方向X平行。
具体地,图4示例性地示出了框架夹具120为三对。每对框架夹具120包括第一框架夹具121和第二框架夹具122。第一框架夹具121和第二框架夹具122相对设置在掩膜版框架130上承载掩膜条的边框的两侧,用于驱动掩膜版框架130上承载掩膜条的边框产生推力。例如,第一框架夹具121设置于第一边框131上,第二框架夹具122设置于第二边框132上。沿第二方向Y,掩膜版框架130同一侧的框架夹具120依次排布,并且关于掩膜版框架130的中线134对称,可以使得掩膜版框架130中线134两侧的边框产生的推力对称,降低了掩膜版框架130在第一方向X上产生形变的几率,从而保证了掩膜条的张网精度。
另外,每对框架夹具120关于掩膜版框架130另一中线135对称设置,可以使得掩膜版框架130的第一边框131和第二边框132受到的推力相同,避免第一边框131和第二边框132产生的推力不对称导致掩膜版框架在第二方向Y上产生一定的形变,导致的部分掩膜条张网精度比较低的问题。
继续参考图4,在掩膜版框架130的同一侧的各框架夹具120等间距排布。
具体地,如图4所示,相邻的第一框架夹具121之间的距离d相等,当第一框架夹具121设置于第一边框131上时,多个第一框架夹具121等间距分布可以使框架夹具120产生作用于掩膜版框架130的推力时,第一边框131受到的推力相对均匀的分布,避免出现第一边框131上的推力过大或过小导致的张网精度降低。同理,相邻的第二框架夹具122之间的距离d相等,可以使第二边框132受到的推力相对均匀的分布,避免出现第二边框132上的推力过大或过小导致的张网精度降低。
需要说明的是,图4仅是示例性地示出了框架夹具120为三对。在其他实施例中,框架夹具120还可以为其他数量的对数,例如4对,其位置的设置与图4中示例性地示出框架夹具120设置相同,此处不再赘述。
在上述技术方案的基础上,图5为本发明实施例提供的另一种掩膜版的张网设备的俯视结构示意图。如图5所示,沿第二方向Y,从掩膜版框架130的中线134向掩膜版框架130的两侧,框架夹具120产生作用于掩膜版框架130上的推力依次减小。
具体地,在掩膜版框架130上张网多条掩膜条时,沿第二方向Y,多条掩膜条依次张网在掩膜版框架130上。在掩膜版框架130中线134附近的区域,由于多条掩膜条均会产生作用于掩膜版框架130上的作用力,且作用力沿掩膜条的位置向两边逐渐减小。在掩膜版框架130上,第一边框131和第二边框132靠近中间的位置受到多条掩膜条的作用力的影响,使得第一边框131和第二边框132靠近中间的位置受到的作用力比较大,并沿第二方向Y,从掩膜版框架130的中线134向掩膜版框架130的两侧逐渐减小。因此,通过设置沿第二方向Y,从掩膜版框架130的中线134向掩膜版框架130的两侧,框架夹具120产生作用于掩膜版框架130上的推力依次减小,可以更好的匹配掩膜版框架130上的拉力分布,从而可以进一步提高张网精度。
本发明实施例还提供了一种掩膜版的张网方法。图6为本发明实施例提供的一种掩膜版的张网方法的流程图。如图6所示,该方法包括:
S610、将掩膜版框架设置于张网设备,张网设备包括移动机构和框架夹具,框架夹具夹持掩膜版框架上相对设置的夹持区域。
S620、控制移动机构驱动框架夹具产生作用于掩膜版框架的推力,以使掩膜版框架产生预设形变,并保持预设形变不变;推力的方向沿第一方向朝向掩膜版框架的中心;其中,第一方向为固定于掩膜版框架上的掩膜条的长度方向。
S630、在掩膜版框架上张网各掩膜条;掩膜条上的拉力与推力大小匹配,方向相反。
具体地,在张网各掩膜条时,包括依次在掩膜版框架的预设位置处张网各掩膜条。示例性地,掩膜版框架上设置有19条掩膜条的预设位置,用于张网19条掩膜条。每一预设位置用于放置一条掩膜条,并且作为张网时掩膜条的对位标记。掩膜版框架包括第一边框和第二边框,在张网掩膜条时,第一边框和第二边框用于承载掩膜条的两端。即第一边框和第二边框分别设置有19个掩膜条的预设位置,且第一边框和第二边框上的预设位置对称,用于张网19条掩膜条。沿第一边框和第二边框的长度方向,19个掩膜条的预设位置依次排布。在张网过程中,从第一边框或第二边框的一端开始依次张网第一条掩膜条、第二条掩膜条、……,直至第19条掩膜条,并且在张网过程中,框架夹具产生作用于掩膜版框架产生推力,使推力产生的预设形变保持不变,直至完成张网过程。因此,张网结束后,掩膜版框架上的预设形变产生的应力与掩膜版框架130作用于掩膜条的摩擦力大小相等,方向相同,因此掩膜版框架130上的预设形变产生的应力可以抵消掩膜条与掩膜版框架130的之间的摩擦力,在张网结束后保持预设形变不变,从而保证了掩膜版的张网精度,进而提高了掩膜版的精度,降低了使用掩膜版蒸镀放出时颜色材料混色的风险。
另外,在依次张网各掩膜条的过程中,由于框架夹具夹持掩膜版框架固定不变,使得掩膜版框架的位置不会发生改变,在完成一条掩膜条的张网时,掩膜条作用于掩膜版框架上的作用力不会影响下一条掩膜条张网时的PPA,不仅可以保证掩膜条张网过程中的PPA,而且可以减少张网不同的掩膜条的工艺过程中增加对位过程,从而可以减少张网过程所需的时间,提高张网的工作效率,降低张网的作业难度。同时,张网过程中不存在摩擦力,进而可以避免因摩擦力造成的掩膜版框架上的形变产生的预应力与掩膜条上的拉力不相等的情况,进一步地提高了掩膜版的张网精度。而且,在掩膜版的张网过程中,无需使用气压,不仅简化了张网设备的复杂度,同时避免了气浮气压无法使掩膜版框架悬浮时,掩膜版框架与平台之间的摩擦力导致的张网精度降低的问题。
S640、控制移动机构驱动框架夹具释放作用于掩膜版框架的推力。
在完成张网过程后,掩膜条上的拉力消失,通过控制移动机构驱动框架夹具释放作用于掩膜版框架的推力,即框架夹具不再夹持掩膜版框架,使掩膜版框架上的推力消失,从而使得掩膜版框架受到的力保持平衡,因此在张网结束后可以保持预设形变不变,从而保证了掩膜版的张网精度。
本实施例的技术方案,通过框架夹具夹持掩膜版框架上相对设置的夹持区域,并采用移动机构驱动框架夹具产生作用于掩膜版框架的推力,以使掩膜版框架产生预设形变,并保持预设形变不变;推力的方向沿第一方向朝向掩膜版框架的中心;其中,第一方向为固定于掩膜版框架上的掩膜条的长度方向,使得预设形变产生的应力与掩膜版框架上张网各掩膜条时掩膜条作用在掩膜版框架上的作用力大小匹配,方向相反。在张网过程中,掩膜条上作用在掩膜版框架上的作用力与掩膜版框架上预设形变产生的应力大小相等,方向相反,使得掩膜版框架受到的力保持平衡,因此不会在张网结束后产生形变,从而保证了掩膜版的张网精度,进而提高了掩膜版的精度,降低了使用掩膜版蒸镀放出时颜色材料混色的风险。而且,在完成一条掩膜条的张网时,由于掩膜版框架的位置保持不变,上一条掩膜条张网过程中掩膜条作用于掩膜版框架上的作用力不会影响下一条掩膜条张网时的PPA,不仅可以保证掩膜条张网过程中的PPA,而且可以减少张网不同的掩膜条的工艺过程中增加对位过程,从而可以减少张网过程所需的时间,提高张网的工作效率,降低张网的作业难度。同时,张网过程中避免了摩擦力的影响,进而可以避免因摩擦力造成的掩膜版框架上的形变产生的预应力与掩膜条上的拉力不相等的情况,进一步地提高了掩膜版的张网精度。而且,在掩膜版的张网过程中,无需使用气浮气压,不仅简化了张网设备的复杂度,同时避免了气浮气压无法使掩膜版框架悬浮时,掩膜版框架与平台之间的摩擦力导致的张网精度降低的问题。
在上述技术方案的基础上,沿第二方向,从掩膜版框架的中线向掩膜版框架的两侧,框架夹具产生作用于掩膜版框架上的推力依次减小,其中,第二方向为掩膜版框架上的掩膜条的宽度方向,第二方向与第一方向垂直,中线与第一方向平行。可以更好的匹配掩膜版框架上的拉力分布,从而可以进一步提高张网精度。
注意,上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解,本发明不限于这里所述的特定实施例,对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此,虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明,但是本发明不仅仅限于以上实施例,在不脱离本发明构思的情况下,还可以包括更多其他等效实施例,而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。
Claims (10)
1.一种掩膜版的张网设备,其特征在于,包括移动机构和框架夹具;
所述移动机构包括移动单元和支撑单元,所述移动单元与所述支撑单元连接,所述框架夹具固定于所述移动单元上,所述框架夹具用于夹持掩膜版框架上相对设置的夹持区域,所述移动机构用于驱动所述框架夹具产生作用于所述掩膜版框架上的推力,以使所述掩膜版框架产生预设形变;所述推力的方向沿第一方向朝向所述掩膜版框架的中心;其中,所述第一方向为固定于所述掩膜版框架上的掩膜条的长度方向。
2.根据权利要求1所述的掩膜版的张网设备,其特征在于,所述框架夹具为至少三对,每对所述框架夹具分别相对设置于所述掩膜版框架的两侧;
沿第二方向,所述掩膜版框架同一侧的所述框架夹具依次排布,并且关于所述掩膜版框架上的中线对称,其中,所述第二方向为所述掩膜版框架上掩膜条的宽度方向,所述第二方向与所述第一方向垂直,所述中线与所述第一方向平行。
3.根据权利要求2所述的掩膜版的张网设备,其特征在于,在所述掩膜版框架的同一侧的各所述框架夹具等间距排布。
4.根据权利要求2所述的掩膜版的张网设备,其特征在于,沿所述第二方向,从所述中线向所述掩膜版框架的两侧,所述框架夹具产生作用于所述掩膜版框架上的推力依次减小。
5.根据权利要求1所述的掩膜版的张网设备,其特征在于,所述框架夹具包括相对设置的第一夹件和第二夹件;所述第一夹件的一端和所述第二夹件的一端均固定在所述移动单元上,所述第一夹件的另一端和所述第二夹件的另一端在远离所述移动单元的一侧形成开口。
6.根据权利要求1所述的掩膜版的张网设备,其特征在于,所述掩膜版框架包括平行设置的第一边框和第二边框;所述第一边框和所述第二边框包括相对设置的至少一对夹持区域;同一对所述夹持区域,其中一个所述夹持区域位于所述第一边框的侧面,另一个所述夹持区域位于所述第二边框的侧面;其中,所述第一边框的侧面和所述第二边框的侧面与所述第一方向垂直。
7.根据权利要求1所述的掩膜版的张网设备,其特征在于,所述移动单元包括导轨,所述支撑单元包括支撑柱。
8.一种掩膜版的张网方法,其特征在于,包括:
将掩膜版框架设置于张网设备,所述张网设备包括移动机构和框架夹具,所述框架夹具夹持所述掩膜版框架上相对设置的夹持区域;
控制所述移动机构驱动所述框架夹具产生作用于所述掩膜版框架的推力,以使所述掩膜版框架产生预设形变,并保持所述预设形变不变;所述推力的方向沿第一方向朝向所述掩膜版框架的中心;其中,所述第一方向为固定于所述掩膜版框架上的掩膜条的长度方向;
在所述掩膜版框架上张网各掩膜条;所述掩膜条上的拉力与所述推力大小匹配,方向相反;
控制所述移动机构驱动所述框架夹具释放作用于所述掩膜版框架的推力。
9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,沿第二方向,从所述掩膜版框架的中线向所述掩膜版框架的两侧,所述框架夹具产生作用于所述掩膜版框架上的推力依次减小,其中,所述第二方向为所述掩膜版框架上的掩膜条的宽度方向,所述第二方向与所述第一方向垂直,所述中线与所述第一方向平行。
10.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,在所述掩膜版框架上张网各掩膜条,包括:
依次在所述掩膜版框架的预设位置处张网各掩膜条。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201911195364.9A CN110699638A (zh) | 2019-11-28 | 2019-11-28 | 掩膜版的张网设备和张网方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201911195364.9A CN110699638A (zh) | 2019-11-28 | 2019-11-28 | 掩膜版的张网设备和张网方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN110699638A true CN110699638A (zh) | 2020-01-17 |
Family
ID=69206900
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201911195364.9A Pending CN110699638A (zh) | 2019-11-28 | 2019-11-28 | 掩膜版的张网设备和张网方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN110699638A (zh) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111733382A (zh) * | 2020-07-17 | 2020-10-02 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 张网装置及其张网方法 |
CN112251716A (zh) * | 2020-10-21 | 2021-01-22 | 云谷(固安)科技有限公司 | 掩膜板的制备方法及掩膜板 |
CN112731760A (zh) * | 2020-12-23 | 2021-04-30 | 江苏高光半导体材料有限公司 | 一种金属掩膜版框架固定支架 |
CN113059290A (zh) * | 2021-02-19 | 2021-07-02 | 福建华佳彩有限公司 | 一种通过位移控制加工掩膜板的方法 |
CN113355635A (zh) * | 2021-06-15 | 2021-09-07 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜版框架、掩膜模组和蒸镀设备 |
CN113478131A (zh) * | 2021-07-27 | 2021-10-08 | 福建华佳彩有限公司 | 一种张网装置及其张网方法 |
CN115233154A (zh) * | 2022-06-28 | 2022-10-25 | 合肥维信诺科技有限公司 | 一种掩膜板、掩膜板张网装置及张网方法 |
EP4343017A3 (en) * | 2022-09-05 | 2024-07-17 | Samsung Display Co., Ltd. | Mask stage and mask manufacturing apparatus having the same |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102879997A (zh) * | 2012-09-06 | 2013-01-16 | 友达光电股份有限公司 | 可调式固定装置 |
CN103695840A (zh) * | 2013-11-25 | 2014-04-02 | 昆山允升吉光电科技有限公司 | 一种掩模组件的组装方法 |
CN103866229A (zh) * | 2012-12-10 | 2014-06-18 | 三星显示有限公司 | 用于薄膜气相沉积的掩模组件及其制造方法 |
US20150068023A1 (en) * | 2013-09-11 | 2015-03-12 | Samsung Display Co., Ltd. | Aligning method of mask assembly using deposition apparatus |
CN104498871A (zh) * | 2015-01-14 | 2015-04-08 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种掩膜装置及其组装方法 |
CN105810853A (zh) * | 2016-05-19 | 2016-07-27 | 京东方科技集团股份有限公司 | 对抗力施加装置、掩膜制造装置及相应方法 |
CN106048520A (zh) * | 2016-05-27 | 2016-10-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜版框架及主体、掩膜版及制作方法、基板和显示面板 |
CN106444294A (zh) * | 2016-10-17 | 2017-02-22 | 上海华力微电子有限公司 | 一种掩膜版固定系统 |
CN107419219A (zh) * | 2017-09-20 | 2017-12-01 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜框架、掩膜版及其制作方法 |
-
2019
- 2019-11-28 CN CN201911195364.9A patent/CN110699638A/zh active Pending
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102879997A (zh) * | 2012-09-06 | 2013-01-16 | 友达光电股份有限公司 | 可调式固定装置 |
CN103866229A (zh) * | 2012-12-10 | 2014-06-18 | 三星显示有限公司 | 用于薄膜气相沉积的掩模组件及其制造方法 |
US20150068023A1 (en) * | 2013-09-11 | 2015-03-12 | Samsung Display Co., Ltd. | Aligning method of mask assembly using deposition apparatus |
CN103695840A (zh) * | 2013-11-25 | 2014-04-02 | 昆山允升吉光电科技有限公司 | 一种掩模组件的组装方法 |
CN104498871A (zh) * | 2015-01-14 | 2015-04-08 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种掩膜装置及其组装方法 |
CN105810853A (zh) * | 2016-05-19 | 2016-07-27 | 京东方科技集团股份有限公司 | 对抗力施加装置、掩膜制造装置及相应方法 |
CN106048520A (zh) * | 2016-05-27 | 2016-10-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜版框架及主体、掩膜版及制作方法、基板和显示面板 |
CN106444294A (zh) * | 2016-10-17 | 2017-02-22 | 上海华力微电子有限公司 | 一种掩膜版固定系统 |
CN107419219A (zh) * | 2017-09-20 | 2017-12-01 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜框架、掩膜版及其制作方法 |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111733382A (zh) * | 2020-07-17 | 2020-10-02 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 张网装置及其张网方法 |
CN112251716A (zh) * | 2020-10-21 | 2021-01-22 | 云谷(固安)科技有限公司 | 掩膜板的制备方法及掩膜板 |
CN112251716B (zh) * | 2020-10-21 | 2023-01-24 | 云谷(固安)科技有限公司 | 掩膜板的制备方法及掩膜板 |
CN112731760A (zh) * | 2020-12-23 | 2021-04-30 | 江苏高光半导体材料有限公司 | 一种金属掩膜版框架固定支架 |
CN113059290A (zh) * | 2021-02-19 | 2021-07-02 | 福建华佳彩有限公司 | 一种通过位移控制加工掩膜板的方法 |
CN113355635A (zh) * | 2021-06-15 | 2021-09-07 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜版框架、掩膜模组和蒸镀设备 |
CN113355635B (zh) * | 2021-06-15 | 2023-01-10 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜版框架、掩膜模组和蒸镀设备 |
CN113478131A (zh) * | 2021-07-27 | 2021-10-08 | 福建华佳彩有限公司 | 一种张网装置及其张网方法 |
CN115233154A (zh) * | 2022-06-28 | 2022-10-25 | 合肥维信诺科技有限公司 | 一种掩膜板、掩膜板张网装置及张网方法 |
EP4343017A3 (en) * | 2022-09-05 | 2024-07-17 | Samsung Display Co., Ltd. | Mask stage and mask manufacturing apparatus having the same |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN110699638A (zh) | 掩膜版的张网设备和张网方法 | |
KR102100446B1 (ko) | 박막 증착용 마스크 조립체 및 이의 제조 방법 | |
US11283022B2 (en) | Tension mask frame assembly manufacturing apparatus and method | |
US20120107506A1 (en) | Film formation method and film formation apparatus | |
KR20150088192A (ko) | 마스크 장치, 상기 마스크 장치를 제조하기 위한 시스템 및 방법 | |
KR20200011047A (ko) | 디스플레이 패널 및 이를 제조하기 위한 마스크 | |
CN112126893B (zh) | 掩膜板,掩膜板组件及其制造方法 | |
KR101026426B1 (ko) | 디스펜서 및 이를 이용한 실런트 등의 도포 방법 | |
US9496525B2 (en) | Aligning method of mask assembly using deposition apparatus | |
JP4656886B2 (ja) | 金属薄板の枠貼り方法及び装置 | |
US9567663B2 (en) | Manufacturing apparatus and method of mask assembly | |
KR20030075221A (ko) | 텐션 마스크 프레임 조립체의 제조방법 및 그 제조방치 | |
CN109778112B (zh) | 张网夹具及金属掩膜版的张网方法 | |
CN105568218A (zh) | 一种遮罩组件 | |
US20220307120A1 (en) | Fine metal mask plate, mask device and tensioning equipment | |
JP2014117949A (ja) | スクリーンマスク | |
JP6028926B2 (ja) | 成膜マスクおよび成膜装置 | |
JP6531856B2 (ja) | 蒸着マスクの寸法測定方法、蒸着マスクの張力付与装置および蒸着マスクの寸法測定装置 | |
CN107686960B (zh) | 一种成膜装置 | |
KR102466835B1 (ko) | 풀 사이즈 마스크 조립체와 그 제조방법 | |
CN113059290B (zh) | 一种通过位移控制加工掩膜板的方法 | |
CN113088872A (zh) | 一种掩膜板的加工方法 | |
JP2005353510A (ja) | 真空蒸着マスクとその固定方法、該マスクを用いた有機elディスプレイパネルの製造方法 | |
JP2005218948A (ja) | 処理装置および処理方法 | |
JP2006169587A (ja) | メタルマスクのフレーム取付方法及び装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20200117 |
|
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |