CN110698861B - 一种有机-无机纳米杂化高折射率光学材料的制备方法 - Google Patents
一种有机-无机纳米杂化高折射率光学材料的制备方法 Download PDFInfo
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Abstract
一种有机‑无机纳米杂化高折射率光学材料的制备方法,属于光学材料领域。本发明通过对锐钛型TiO2纳米粒子进行表面改性,然后与聚硅氧烷上的活泼氢反应后固化制备得到透明高折射率的有机‑无机纳米杂化光学材料。通过上述方法,制备得到的光学材料透明度高,折射率高,具有广泛的应用前景。
Description
技术领域
本发明涉及一种有机-无机纳米杂化高折射率光学材料的制备方法,属于光学材料领域。
背景技术
传统的无机光学材料虽然具有很高的折射率,但是密度大而且材料脆。聚合物材料虽然质量轻、易加工、抗冲击、光学性能也很优异,但是其作为光学材料的很大不足就是折射率低,可调控范围窄。
将无机纳米粒子和聚合物材料复合可以制造出高折光树脂。然而,纳米复合材料由于其高比表面能导致纳米粒子团聚和出现相分离,因此在制造透明杂化材料方面依然存在很大的技术挑战。
纳米粒子在聚合物基体中的存在形式可以分为通过氢键、范德华力相互作用,或通过与聚合物主链形成共价键或离子键牢固连接。通过与聚合物主链形成共价键可确保有机和无机组分更均匀的混合。
在光学材料领域,TiO2,ZrO2和ZnO2通常用来作为无机填料以合成高折射率的纳米杂化光学材料。因此,有机无机纳米复合材料在光学透镜、光波导材料、非线性光学材料、发光二极管等光学材料领域具有广泛的应用前景。
发明内容
本发明的目的是提供一种有机-无机纳米杂化高折射率光学材料的制备方法,其能够制备得到透明高折射率的有机-无机纳米杂化光学材料。
本发明的技术方案,一种有机-无机纳米杂化高折射率光学材料的制备方法,通过对锐钛型TiO2纳米粒子进行表面改性,然后与聚硅氧烷上的活泼氢反应后固化制备得到透明高折射率的有机-无机纳米杂化光学材料。
步骤如下:
(1)反应:取聚甲基硅氧烷65~70份、改性锐钛型TiO2纳米粒子10~15份和三丙二醇二丙烯酸酯3~5份,分散在甲苯10~20份中,再加入氯铂酸1~2份,在60℃下反应24h,再在0.01~0.02MPa下减压蒸馏30~40min,除去甲苯;
(2)固化:将步骤(1)反应得到的溶液浇铸在模具中,80~100℃固化22~24h即可得到有机-无机纳米杂化高折射率光学材料。
按重量份计,聚甲基硅氧烷的合成步骤如下:
(1)反应:取八甲基环四硅氧烷1~2份、2,4,6,8-四甲基环四硅氧烷9~10份、1,1,3,3-四甲基二硅氧烷18~20份和甲苯25~30份,充分混合;将温度升至40~50℃,加入三氟甲烷磺酸90~100份,在氮气氛围下搅拌反应22~24h;
(2)除杂:取步骤(1)所得反应物,用纯净水反复洗涤至中性,用无水硫酸镁干燥残留的液体,然后0.01~0.02MPa下减压蒸馏40~50min除甲苯;
(3)聚甲基硅氧烷的制备:将步骤(2)所得剩余液体按照体积比1:2的比例溶解在丙酮中;然后在甲醇中再沉淀,再0.01~0.02MPa下减压蒸馏30~40min除去挥发组分,得到聚甲基硅氧烷的透明液体。
按锐钛型TiO2纳米粒子质量计,改性锐钛型TiO2纳米粒子的合成过程如下:
(1)超声分散:取锐钛型TiO2纳米粒子,加入100-120倍质量的无水乙醇,40000~44000Hz超声1h,使锐钛型TiO2纳米粒子均匀分散在无水乙醇中;
(2)改性:将步骤(1)所得分散液放入60℃的油浴锅中,接入搅拌装置,并且加入3~4倍质量浓度为37%的盐酸,继续搅拌30~40min,继续向分散液中加入0.1-0.2倍硅烷偶联剂,继续反应6~7h;
(3)后处理:再步骤(2)所得分散液50~60℃浓缩30~40min,洗涤,80~100℃干燥即可得到改性锐钛型TiO2纳米粒子。
所述硅烷偶联剂具体为硅烷偶联剂KH570。
本发明的有益效果:本发明中,对锐钛型TiO2纳米粒子进行表面改性,然后与聚硅氧烷上的活泼氢反应就能制得透明高折射率有机-无机纳米杂化光学材料。
附图说明
图1实施例1制备所得材料的透光率曲线。
图2实施例1制备所得材料的紫外吸收曲线。
具体实施方式
实施例1
改性锐钛型TiO2纳米粒子的合成:
(1)超声分散:将1g的锐钛型TiO2纳米粒子加入干净的三口烧瓶中,加入100g的无水乙醇,40KHz超声1h,使锐钛型TiO2纳米粒子均匀的分散在无水乙醇中。
(2)改性:将步骤(1)所得分散液放入60℃的油浴锅中,接入搅拌装置,并且加入3.5mL的HCl(37wt%)水溶液,继续搅拌30min,继续向分散液中加入0.2g硅烷偶联剂KH570,继续反应6h。
(3)后处理:将步骤(2)所得分散液50℃浓缩40min,洗涤, 100℃干燥即可得到改性锐钛型TiO2纳米粒子。
聚甲基硅氧烷的合成:
(1)反应:在干净的三口烧瓶中加入1.65g的八甲基环四硅氧烷、10g的2,4,6,8-四甲基环四硅氧烷、20g的1,1,3,3-四甲基二硅氧烷和甲苯30g,充分混合;将温度升至40℃,加入100g的三氟甲烷磺酸,在氮气氛围下搅拌24h。
(2)除杂:用纯净水反复洗至中性,用无水硫酸镁干燥残留的液体,然后0.01MPa下减压蒸馏50min除甲苯。
(3)聚甲基硅氧烷的制备:将步骤(2)所得剩余液体按照体积比1:2的比例溶解在丙酮中;然后在甲醇中再沉淀,再0.01MPa下减压蒸馏40min,得到聚甲基硅氧烷的透明液体。
透明高折射率有机-无机纳米杂化光学材料的制备:
(1)反应:在装有搅拌装置的250mL三口烧瓶中,按照聚甲基硅氧烷:改性锐钛型TiO2纳米粒子:三丙二醇二丙烯酸酯:氯铂酸质量比为67:13:4:10:1的比例,将制得的聚甲基硅氧烷、改性锐钛型TiO2纳米粒子和三丙二醇二丙烯酸酯添加入甲苯中,再加入氯铂酸;在60℃下反应24h,再在0.01MPa下减压蒸馏40min,除去甲苯;
(2)固化:将步骤(1)反应得到的溶液浇铸在模具中,80℃固化24h即可得到有机-无机纳米杂化高折射率光学材料。
对所得有机-无机纳米杂化高折射率光学材料进行透光率和紫外吸收测试。透光率曲线如图1所示,在400-780nm可见光范围内,透过率达到90%以上,紫外光区透过率急剧下降,说明其对紫光光具有一定的屏蔽作用。
通过椭圆偏振光谱仪检测可得,本发明制备的光学材料在486nm处的折射率为1.81,阿贝数为34。其相比于传统的光学树脂PMMA(1.4)、用作镜片CR-39(1.5),本发明所制备的光学树脂在折射率上有很大的提升。
紫外吸收曲线如图2所示,从图2中可以看到本发明制备的材料对紫外光的中波区和长波区具有一定的紫外吸收功能。
Claims (3)
1.一种有机-无机纳米杂化高折射率光学材料的制备方法,其特征是:通过对锐钛型TiO2纳米粒子进行表面改性,然后与聚甲基硅氧烷上的活泼氢反应后固化制备得到透明高折射率的有机-无机纳米杂化光学材料;步骤如下:
(1)反应:取聚甲基硅氧烷65~70份、经硅烷偶联剂KH570改性的改性锐钛型TiO2纳米粒子10~15份和三丙二醇二丙烯酸酯3~5份,分散在甲苯10~20份中,再加入氯铂酸1~2份,在60℃下反应24h,再在0.01~0.02MPa下减压蒸馏30~40min,除去甲苯;
(2)固化:将步骤(1)反应得到的溶液浇铸在模具中,80~100℃固化22~24h即得到有机-无机纳米杂化高折射率光学材料。
2.根据权利要求1所述有机-无机纳米杂化高折射率光学材料的制备方法,其特征是按重量份计,所述聚甲基硅氧烷的合成步骤如下:
(1)反应:取八甲基环四硅氧烷1~2份、2,4,6,8-四甲基环四硅氧烷9~10份、1,1,3,3-四甲基二硅氧烷18~20份和甲苯25~30份,充分混合;将温度升至40~50℃,加入三氟甲烷磺酸90~100份,在氮气氛围下搅拌反应22~24h;
(2)除杂:取步骤(1)所得反应物,用纯净水反复洗涤至中性,用无水硫酸镁干燥残留的液体,然后0.01~0.02MPa下减压蒸馏40~50min除甲苯;
(3)聚甲基硅氧烷的制备:将步骤(2)所得剩余液体按照体积比1:2的比例溶解在丙酮中;然后在甲醇中再沉淀,再0.01~0.02MPa下减压蒸馏30~40min除去挥发组分,得到聚甲基硅氧烷的透明液体。
3.根据权利要求1所述有机-无机纳米杂化高折射率光学材料的制备方法,其特征是按锐钛型TiO2纳米粒子质量计,所述改性锐钛型TiO2纳米粒子的合成过程如下:
(1)超声分散:取锐钛型TiO2纳米粒子,加入100~120倍质量的无水乙醇,40000~44000Hz超声1h,使锐钛型TiO2纳米粒子均匀分散在无水乙醇中;
(2)改性:将步骤(1)所得分散液放入60℃的油浴锅中,接入搅拌装置,并且加入3~4倍质量浓度为37%的盐酸,继续搅拌30~40min,继续向分散液中加入0.1-0.2倍硅烷偶联剂KH570,继续反应6~7h;
(3)后处理:将步骤(2)所得分散液50~60℃浓缩30~40min,洗涤,80~100℃干燥即得到改性锐钛型TiO2纳米粒子。
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