CN110581231A - 显示装置的制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种显示装置的制备方法，包括以下步骤：制备一基底；将减粘胶涂覆于所述基底上形成一层减粘膜；依次在所述减粘膜上制备显示装置的各功能结构层；通过紫外光照射或超声波辐射所述减粘膜，降低所述减粘膜的粘度；将所述显示装置的各功能结构层从所述基底上剥离。本发明的显示装置的制备方法，在显示装置的各功能结构层与基底之间增加一层减粘膜，通过紫外光照或超声波辐射降低减粘膜的粘度，从而降低各功能结构层与基底之间的剥离难度和风险。

Description

显示装置的制备方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域，具体为一种显示装置的制备方法。
背景技术
近几年，由于有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)显示技术具有自发光、超薄、可折叠等优点而得到了迅猛发展。OLED屏幕生产首先是在玻璃上进行，在生产完成之后，为了实现柔性显示，需要将显示装置和玻璃进行剥离。
传统的工艺方法是使用激光剥离，用激光照射显示装置与玻璃连接的有机层，以实现两者的剥离，但激光剥离不仅成本高昂，而且激光能量并不易精准控制，能量稍低可能导致剥离不顺畅，造成OLED显示装置在显示时产生异常，能量稍高可能会破坏OLED显示装置中的功能器件，即使能量合适，也会存在使OLED显示装置的使用寿命降低的风险。因此开发一种新型的剥离工艺，以降低OLED显示装置在剥离过程的风险。
发明内容
为解决上述技术问题：本发明提供一种显示装置的制备方法，在显示装置的各功能结构层与基底之间增加一层减粘膜，通过紫外光照或超声波辐射降低减粘膜的粘度，从而降低各功能结构层与基底之间的剥离难度和风险。
解决上述问题的技术方案是：本发明提供一种显示装置的制备方法，包括以下步骤：制备一基底；将减粘胶涂覆于所述基底上形成一层减粘膜；依次在所述减粘膜上制备显示装置的各功能结构层；通过紫外光照射或超声波辐射所述减粘膜，降低所述减粘膜的粘度；将所述显示装置的各功能结构层从所述基底上剥离。
在本发明一实施例中，在紫外光照或超声波辐射所述减粘膜之前，将所述显示装置的各功能结构层从所述基底上剥离所需的剥离力为2500gf/inch-3000gf/inch，在紫外光照或超声波辐射所述减粘膜之后，将所述显示装置的各功能结构层从所述基底上剥离所需的剥离力为5gf/inch以下。
在本发明一实施例中，所述减粘膜为UV减粘膜。
在本发明一实施例中，所述减粘膜的厚度为1μm-20μm。
在本发明一实施例中，所述基底为玻璃。
在本发明一实施例中，在所述依次在所述减粘膜上制备显示装置的各功能结构层步骤中，包括在所述减粘膜上直接制备阵列基板；在所述阵列基板上制作电致发光层；在所述阵列基板及所述电致发光层上形成封装层。
在本发明一实施例中，在所述依次在所述减粘膜上制备显示装置的各功能结构层步骤中，包括在所述减粘膜上直接形成一第一聚酰亚胺层；在所述聚酰亚胺层上制作阵列基板；在所述阵列基板上制作电致发光层；在所述阵列基板及所述电致发光层上形成封装层。
在本发明一实施例中，在所述制备一基底步骤中包括；提供一玻璃；在所述玻璃的一表面形成一第二聚酰亚胺层。
在本发明一实施例中，在所述将减粘胶涂覆于所述基底上形成一层减粘膜步骤中，包括将减粘胶涂覆于所述第二聚酰亚胺层上形成一层减粘膜。
在本发明一实施例中，在所述依次在所述减粘膜上制备显示装置的各功能结构层步骤中，包括在所述减粘膜上直接形成一第三聚酰亚胺层；在所述聚酰亚胺层上制作阵列基板；在所述阵列基板上制作电致发光层；在所述阵列基板及所述电致发光层上形成封装层。
本发明的有益效果是：本发明的显示装置的制备方法，在显示装置的各功能结构层与基底之间增加一层减粘膜，通过紫外光照或超声波辐射降低减粘膜的粘度，从而降低各功能结构层与基底之间的剥离难度和风险，而残存的减粘膜可以后序制程的其他模组进行贴合，能够有效的节省了后序制程的工艺步骤和材料。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明作进一步解释。
图1是本发明实施例1紫外光照或超声波辐射时显示装置的结构图。
图2是本发明实施例1基底剥离时显示装置的结构图。
图3是本发明实施例2紫外光照或超声波辐射时显示装置的结构图。
图4是本发明实施例2基底剥离时显示装置的结构图。
图5是本发明实施例3紫外光照或超声波辐射时显示装置的结构图。
图6是本发明实施例3基底剥离时显示装置的结构图。
图1至图6中的白色箭头方向为紫外光照或超声波辐射方向。
附图标记：
1基底； 11第三玻璃； 12第二聚酰亚胺层；
2减粘膜； 3第一聚酰亚胺层； 4第三聚酰亚胺层；
5阵列基板； 6电致发光层； 7封装层；
10显示装置。
具体实施方式
以下实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「顶」、「底」等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。
实施例1
参见图1至图2所示，本发明的显示装置的制备方法，包括以下步骤。
制备一基底1；本实施例中，所述基底1为玻璃，优选为透明玻璃。
将减粘胶涂覆于所述基底1上形成一层减粘膜12。即将减粘胶直接涂覆于玻璃的一表面形成一层减粘膜12。本实施例中，所述减粘胶为UV减粘胶，形成的减粘膜12为UV减粘膜12。所用的UV减粘胶为市面销售的UV减粘胶。所述减粘膜12的厚度为1μm-20μm。
依次在所述减粘膜12上制备显示装置10的各功能结构层，具体的讲，即在所述减粘膜12上直接制备阵列基板5；在所述阵列基板5上制作电致发光层6；在所述阵列基板5及所述电致发光层6上形成封装层。由于本实施例中，直接在所述减粘膜12上制作所述阵列基板5，因此，所述减粘膜12不能太薄，若所述减粘膜12太薄，则紫外光照射或者超声波辐射时，容易损伤显示器件中的其他器件，特别是电致发光层6中的电致发光器件。但所述减粘膜12不能太厚，若所述减粘膜12太厚，则紫外光照或者超声波辐射时间较长，所述减粘膜12的粘度降低较慢，影响后续剥离工艺。因此，本实施例中，所述减粘膜12的厚度优选为10μm-20μm即可。
通过紫外光照射或超声波辐射所述减粘膜12，降低所述减粘膜12的粘度。紫外光照射或者超声波辐射时间，根据所选用的市面上的UV减粘胶的成分以及紫外光或超声波的波长、强度决定，也由所述减粘膜12的厚度决定，紫外光范围波长为10nm-400nm，因此，本实施例中，照射时间一般为10秒到200秒即可。当然，也可以根据实际生产过程限定照射时间，这些数据可以从初始实验中得到，在此不再赘述。
参见图2，将所述显示装置10的各功能结构层从所述基底1上剥离。本实施例中，在紫外光照或超声波辐射所述减粘膜12之前，将所述显示装置10的各功能结构层从所述基底1上剥离所需的剥离力为2500gf/inch-3000gf/inch，在紫外光照或超声波辐射所述减粘膜12之后，将所述显示装置10的各功能结构层从所述基底1上剥离所需的剥离力为5gf/inch以下，甚至剥离力可以降低到0gf/inch。
实施例2
如图3至图4所示，本发明的显示装置的制备方法，包括以下步骤。
制备一基底1；本实施例中，所述基底1为玻璃，优选为透明玻璃。
将减粘胶涂覆于所述基底1上形成一层减粘膜12。即将减粘胶直接涂覆于玻璃的一表面形成一层减粘膜12。本实施例中，所述减粘胶为UV减粘胶，形成的减粘膜12为UV减粘膜12。所用的UV减粘胶为市面销售的UV减粘胶。所述减粘膜12的厚度为1μm-20μm。
依次在所述减粘膜12上制备显示装置10的各功能结构层，具体的讲，即在在所述减粘膜12上直接形成一第一聚酰亚胺层3；所述第一聚酰亚胺层3的厚度可以选择在5-15μm。在所述第一聚酰亚胺层3上制作阵列基板5；在所述阵列基板5上制作电致发光层6；在所述阵列基板5及所述电致发光层6上形成封装层7。由于本实施例中，所述阵列基板5与所述减粘膜12之间具有一层第一聚酰亚胺层3，因此，所述减粘膜12的厚度相比于实施例1而言可以稍薄一些。本实施例中，所述减粘膜12的厚度优选为5μm-10μm即可。
通过紫外光照射或超声波辐射所述减粘膜12，降低所述减粘膜12的粘度。紫外光照射或者超声波辐射时间，根据所选用的市面上的UV减粘胶的成分以及紫外光或超声波的波长、强度决定，也由所述减粘膜12的厚度决定，紫外光范围波长为10nm-400nm，因此，本实施例中，照射时间一般为10秒到200秒即可。当然，也可以根据实际生产过程限定照射时间，这些数据可以从初始实验中得到，在此不再赘述。
参见图4所示，将所述显示装置10的各功能结构层从所述基底1上剥离。本实施例中，在紫外光照或超声波辐射所述减粘膜12之前，将所述显示装置10的各功能结构层从所述基底1上剥离所需的剥离力为2500gf/inch-3000gf/inch，在紫外光照或超声波辐射所述减粘膜12之后，将所述显示装置10的各功能结构层从所述基底1上剥离所需的剥离力为5gf/inch以下，甚至剥离力可以降低到0gf/inch。
实施例3
如图5至图6所示，本发明的显示装置的制备方法，包括以下步骤。
制备一基底1；具体的讲，制作基底1的步骤中，包括提供一第三玻璃11，所述玻璃优选为透明玻璃；在所述第三玻璃11的一表面形成一第二聚酰亚胺层12。
将减粘胶涂覆于所述基底1的所述第二聚酰亚胺层12上形成一层减粘膜12。即将减粘胶直接涂覆于第二聚酰亚胺层12的一表面形成一层减粘膜12。本实施例中，所述减粘胶为UV减粘胶，形成的减粘膜12为UV减粘膜12。所用的UV减粘胶为市面销售的UV减粘胶。所述减粘膜12的厚度为1μm-20μm。
依次在所述减粘膜12上制备显示装置10的各功能结构层，具体的讲，即在在所述减粘膜12上直接形成一第三聚酰亚胺层4；在所述第三聚酰亚胺层4上制作阵列基板5；在所述阵列基板5上制作电致发光层6；在所述阵列基板5及所述电致发光层6上形成封装层7。由于本实施例中，所述阵列基板5与所述减粘膜12之间具有一层第三聚酰亚胺层4，而且，所述减粘膜12与所述玻璃之间也具有一层第二聚酰亚胺层12，因此，所述第二聚酰亚胺层12、所述第二聚酰亚胺层12与实施例2相比，均可作减薄处理，本实施例中，所述第二聚酰亚胺层12的厚度为2μm-5μm、所述第三聚酰亚胺层4厚度为2μm-5μm，而所述减粘膜12的厚度相比于实施例2而言可以稍薄一些。本实施例中，所述减粘膜12的厚度优选为1μm-5μm即可。
通过紫外光照射或超声波辐射所述减粘膜12，降低所述减粘膜12的粘度。紫外光照射或者超声波辐射时间，根据所选用的市面上的UV减粘胶的成分以及紫外光或超声波的波长、强度决定，也由所述减粘膜12的厚度决定，紫外光范围波长为10nm-400nm，因此，本实施例中，照射时间一般为10秒到200秒即可。当然，也可以根据实际生产过程限定照射时间，这些数据可以从初始实验中得到，在此不再赘述。
参见图6所示，将所述显示装置10的各功能结构层从所述基底1上剥离。本实施例中，在紫外光照或超声波辐射所述减粘膜12之前，将所述显示装置10的各功能结构层从所述基底1上剥离所需的剥离力为2500gf/inch-3000gf/inch，在紫外光照或超声波辐射所述减粘膜12之后，将所述显示装置10的各功能结构层从所述基底1上剥离所需的剥离力为5gf/inch以下，甚至剥离力可以降低到0gf/inch。
以上仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种显示装置的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
制备一基底；
将减粘胶涂覆于所述基底上形成一层减粘膜；
依次在所述减粘膜上制备显示装置的各功能结构层；
通过紫外光照射或超声波辐射所述减粘膜，降低所述减粘膜的粘度；
将所述显示装置的各功能结构层从所述基底上剥离。
2.根据权利要求1所述的显示装置的制备方法，其特征在于，在紫外光照或超声波辐射所述减粘膜之前，将所述显示装置的各功能结构层从所述基底上剥离所需的剥离力为2500gf/inch-3000gf/inch，在紫外光照或超声波辐射所述减粘膜之后，将所述显示装置的各功能结构层从所述基底上剥离所需的剥离力为5gf/inch以下。
3.根据权利要求1所述的显示装置的制备方法，其特征在于，所述减粘膜为UV减粘膜。
4.根据权利要求1所述的显示装置的制备方法，其特征在于，所述减粘膜的厚度为1μm-20μm。
5.根据权利要求1所述的显示装置的制备方法，其特征在于，所述基底为玻璃。
6.根据权利要求5所述的显示装置的制备方法，其特征在于，在所述依次在所述减粘膜上制备显示装置的各功能结构层步骤中，包括
在所述减粘膜上直接制备阵列基板；
在所述阵列基板上制作电致发光层；
在所述阵列基板及所述电致发光层上形成封装层。
7.根据权利要求5所述的显示装置的制备方法，其特征在于，在所述依次在所述减粘膜上制备显示装置的各功能结构层步骤中，包括
在所述减粘膜上直接形成一第一聚酰亚胺层；
在所述聚酰亚胺层上制作阵列基板；
在所述阵列基板上制作电致发光层；
在所述阵列基板及所述电致发光层上形成封装层。
8.根据权利要求1所述的显示装置的制备方法，其特征在于，在所述制备一基底步骤中包括；
提供一玻璃；
在所述玻璃的一表面形成一第二聚酰亚胺层。
9.根据权利要求8所述的显示装置的制备方法，其特征在于，在所述将减粘胶涂覆于所述基底上形成一层减粘膜步骤中，包括将减粘胶涂覆于所述第二聚酰亚胺层上形成一层减粘膜。
10.根据权利要求9所述的显示装置的制备方法，其特征在于，在所述依次在所述减粘膜上制备显示装置的各功能结构层步骤中，包括
在所述减粘膜上直接形成一第三聚酰亚胺层；
在所述聚酰亚胺层上制作阵列基板；
在所述阵列基板上制作电致发光层；
在所述阵列基板及所述电致发光层上形成封装层。
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