CN110578808A - 真空阀 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种能够高精度地控制开度的真空用闸阀。环状升降体(50)支承具备密封部件(56)的密封环(55)，并且还具有供升降销(26)插入的倾斜长孔(52)。通过升降销(26)伴随旋转体(20)的旋转而在倾斜长孔(52)内移动，升降体(50)与密封部件(56)一同相对于旋转体(20)升降。因此，通过升降的环状的升降体(50)，能够使密封部件(56)按压(保持)圆板状的阀板(4)的整周。

Description

真空阀

技术领域

本发明涉及一种例如为了将处理腔室内设为真空而使用的真空阀。

背景技术

在半导体装置的制造工序中，利用各种处理腔室，例如通过蚀刻，CVD(化学气相沉积)或者PVD(物理气相沉积)进行薄膜处理。为了将该处理腔室内调整为所期望的压力，使用真空泵及真空用闸阀。真空用闸阀配置于处理腔室的开口与真空泵的吸气口之间。作为该真空用闸阀，有时采用摆式真空用闸阀。在摆式真空用闸阀中，阀板横向摆动，从而调整连通处理腔室与真空泵的流路的开度。

在摆式真空用闸阀中，为了使阀板顺畅地摆动，在阀板与壳体之间设置有若干间隙。因此，在用阀板密闭闸阀的开口时，为了封闭上述间隙，使阀板紧贴于壳体。

专利文献1提出了，为了实现阀板与壳体的紧贴，通过弹簧，使阀板按压于壳体(例如，参考专利文献1)。

专利文献1：日本特开2003-185035号公报

发明内容

本发明的一种实施方式的例示性目的之一在于，提供一种能够精确地控制阀的开度的真空用闸阀。

根据本发明的一种实施方式，提供一种真空阀，其具备：壳体，其具有开口；阀板，其能够覆盖所述开口；驱动源；环状的旋转体，其具备外壁、内壁、连结所述外壁与所述内壁的底壁、形成于所述底壁的弯曲长孔及固定于所述内壁及所述外壁中的至少一个的升降销，并且所述环状的旋转体通过来自所述驱动源的驱动力而进行旋转；棒状的支承部件，其配置于所述旋转体的所述外壁与所述内壁之间，并且具备贯穿所述底壁的所述弯曲长孔并固定于所述壳体的第1端部及沿旋转轴方向支承所述旋转体的宽径部；环状的升降体，其支承密封环，并且配置于所述旋转体的所述外壁与所述内壁之间，所述环状的升降体具有供所述旋转体的所述升降销插入的倾斜长孔，所述升降销随着所述旋转体的旋转在所述倾斜长孔内移动，使得所述环状的升降体与所述密封环一同相对于所述旋转体而沿所述旋转轴方向升降；及第1滑动部件，其配置于所述旋转体的所述底壁与所述支承部件的所述宽径部之间。

另外，将以上构成要件的任意组合或本发明的构成要件或表述，在方法、装置及系统等之间相互置换的技术也作为本发明的方式有效。

根据本发明，能够精确地控制真空用闸阀的开度。

附图说明

图1是表示本发明的一种实施方式所涉及的真空用闸阀的配置情况的说明图。

图2是表示真空用闸阀的整体结构的说明图。

图3是真空用闸阀的剖视图。

图4是表示真空用闸阀所具备的位置调整部的外观的说明图。

图5是位置调整部所具备的旋转机构的局部剖视图且是图4所示的AA线向视剖视图。

图6是表示旋转机构所具备的支承部件的外观的说明图。

图7是表示被分解的支承部件的说明图。

图8是表示作为真空用闸阀的壳体的一部分的法兰的外观的说明图。

图9是表示法兰及嵌合于该法兰的槽部内的旋转体的说明图。

图10表示配置于旋转体的外侧沟槽及内侧沟槽的底壁滚珠。

图11是表示旋转机构所具备的环形板的说明图。

图12是从斜上方观察旋转机构所具备的升降体时的说明图。

图13是用于说明旋转机构的动作的立体图。

图14是用于说明旋转机构的动作的立体图。

图中：C-处理腔室，P-真空泵，1-真空用闸阀，2-壳体，2A-壳体主体，2B-法兰，4-阀板，6-马达，8-位置调整部，11-流体通道，12-开口，13-内筒，14-槽部，14a-螺孔，15-法兰滚珠，16-凸缘部，17-螺纹孔，18-驱动源，18a-旋转齿轮，18b-驱动齿轮，19-旋转机构，20-旋转体，21-外壁，22-底壁，22a-弯曲长孔，23-内壁，24-外侧沟槽，25-内侧沟槽，26-升降销，27-齿轮槽，28-底壁滚珠，30-环形板，32-贯穿孔，34-外侧板槽，36-内侧板槽，40-支承部件，42-螺纹部，43a-第1端部，43b-第2端部，44-宽径部，44a-第1面，44b-第2面，46-球塞滑块，50-升降体，52-倾斜长孔，54-滑孔，55-密封环，56-密封部件，57-封装部件。

具体实施方式

本发明的一种实施方式所涉及的真空阀(本真空阀)具备：壳体，其具有开口；阀板，其能够覆盖所述开口；驱动源；环状的旋转体，其具备外壁、内壁、连结所述外壁与所述内壁的底壁、形成于所述底壁的弯曲长孔及固定于所述内壁及所述外壁中的至少一个的升降销，并且所述环状的旋转体通过来自所述驱动源的驱动力而进行旋转；棒状的支承部件，其配置于所述旋转体的所述外壁与所述内壁之间，并且具备贯穿所述底壁的所述弯曲长孔并固定于所述壳体的第1端部及支承所述旋转体的宽径部；环状的升降体，其支承密封环，并且配置于所述旋转体的所述外壁与所述内壁之间，所述环状的升降体具有供所述旋转体的所述升降销插入的倾斜长孔，所述升降销随着所述旋转体的旋转而在所述倾斜长孔内移动，使得所述环状的升降体与所述密封环一同相对于所述旋转体而沿所述旋转轴方向升降；及第1滑动部件，其配置于所述旋转体的所述底壁与所述支部件的所述宽径部之间。

本真空阀能够通过旋转体的旋转量来调整密封环的位置。即，能够机械控制密封环的位置。因此，能够高精度地控制真空阀的开度。并且，第1滑动部件减少旋转体与支承部件之间的摩擦阻力。因此，旋转体能够通过来自驱动源的驱动力而顺畅地旋转。

并且，所述第1滑动部件可以包括第1滑动用滚珠，所述旋转体还可以具有用于保持所述第1滑动用滚珠的沟槽。由此，能够抑制第1滑动用滚珠在旋转体的底壁上分散。即，旋转体能够良好地保持第1滑动用滚珠。

并且，所述支承部件还可以具备配置于所述旋转体的所述底壁与所述支承部件的所述宽径部之间的环形板，所述环形板可以具有用于保持所述第1滑动用滚珠的板槽。此时，第1滑动用滚珠被保持成夹在沟槽与板槽之间。因此，能够更加良好地保持第1滑动用滚珠。

并且，所述沟槽可以包括形成于所述旋转体的所述外壁侧的第1沟槽及形成于所述旋转体的所述内壁侧的第2沟槽。此时，保持第1滑动用滚珠的沟槽配置于旋转体的底壁的两处。因此，能够进一步良好地减轻旋转体与支承部件的宽径部之间的摩擦阻力。

并且，所述板槽可以包括与所述旋转体的所述第1沟槽对置的第1板槽及与所述旋转体的所述第2沟槽对置的第2板槽。此时，第1板槽从第1滑动用滚珠的与第1沟槽相反的一侧保持保持于第1沟槽内的第1滑动用滚珠。第2板槽从第1滑动用滚珠的与所述第2沟槽相反的一侧保持保持于所述第2沟槽内的第1滑动用滚珠。由此，能够更加良好地保持第1滑动用滚珠。

并且，所述阀板可以构成为，能够在覆盖所述开口部的关闭位置与开放所述开口部的打开位置之间进行摆动，所述密封环可以构成为，在所述阀板位于所述关闭位置时能够移动从而与所述阀板接触。根据该结构，通过使阀板横向摆动，能够调整开口部的开度。因此，能够在大范围内控制开口部的开度。

并且，所述壳体可以在所述旋转体的所述底壁与所述壳体之间具备第2滑动部件。因此，在旋转体旋转时，能够减轻旋转体与壳体之间的摩擦阻力。

并且，所述升降体还可以具备供所述支承部件的与所述第1端部相反一侧的第2端部插入的滑孔，所述升降体相对于所述旋转体沿着所述支承部件进行升降。由此，通过支承部件，能够引导升降体的升降动作。其结果，能够使升降体的升降动作变得顺畅。

并且，在所述支承部件的所述第2端部的外周面与所述滑孔的内周面之间可以具备第3滑动部件。此时，在升降体相对于旋转体升降时，能够减轻升降体的滑孔的内周面与支承部件的外周面之间的摩擦阻力。因此，能够使升降体的升降动作变得进一步顺畅。

以下，参考附图，对本发明的实施方式进行详细说明。另外，在以下说明中，对相同要件标注相同符号，并适当省略重复说明。并且，以下叙述的结构是示例，其并不限定本发明的范围。

图1是表示本发明的一种实施方式所涉及的真空用闸阀(真空阀)1的配置情况的概略剖视图。作为排气对象的真空容器例如为处理腔室C，其是未图示的半导体装置的一部分。如图1所示，真空用闸阀1配置于处理腔室C与真空泵P之间。处理腔室C与真空泵P经由设置于闸阀的流体通道11连通。即，真空泵P经由流体通道11对处理腔室C内的气体进行排气。真空用闸阀1通过改变流体通道11的开口面积来调整基于真空泵P的排气速度，使处理腔室C的内部维持在所期望的压力。并且，若完全关闭真空用闸阀1，则处理腔室C与真空泵P被隔离，处理腔室成为密闭状态。

真空用闸阀1具备壳体2及阀板4。壳体2的形状为大致环状。在壳体2的中心部形成有流体通道11。如上述，流体通道11是气密地连接处理腔室C的开口与真空泵P的吸气口的流路。因此，流体通道11还可称作处理腔室C的开口。阀板4容纳于壳体2的内部。为了便于说明，将流体通道11中的配置有阀板的部位称作开口12。阀板4能够沿与流体通道11的延伸方向(以下，还称作纵向)大致正交的方向(以下，还称作横向)在覆盖开口12的关闭位置与未覆盖开口12的打开位置之间进行移动(摆动)。阀板4通过该摆动调整开口12的开口面积。

在阀板4位于关闭位置时，真空用闸阀1可以处于紧贴状态或分开状态。在紧贴状态下，阀板4与安装于后述的密封环55上的密封部件56紧贴，完全封闭开口12。在该状态下，处理腔室C从真空泵P隔离并成为密闭状态。另一方面，在分开状态下，密封部件56与阀板4分开，在阀板4与密封部件56之间存在纵向间隙。即，在分开状态下，阀板4虽然覆盖开口12，但由于存在上述间隙，因而开口12并未完全封闭而稍微开放。

如此，在真空用闸阀1中，在阀板4位于关闭位置且处于紧贴状态时，能够密闭处理腔室C。并且，阀板4也可以位于关闭位置与打开位置之间，从而能够覆盖开口12的一部分。而且，在阀板4位于关闭位置且处于分开状态时，可以使开口12开放些许。如此，通过细致地设定开口12与阀板4之间的横向开口面积及纵向开口面积，能够在大范围内控制真空用闸阀1的开度，由此，能够在大范围内控制处理腔室C内的压力。

图2是表示本发明的一种实施方式所涉及的真空用闸阀1的整体结构的说明图。在图2中，为了示出容纳于壳体主体2A的状态的旋转体20，省略了壳体主体2A的一部分。图3是本发明的一种实施方式所涉及的真空用闸阀1的剖视图。如图2及图3所示，真空用闸阀1具备：具有上述流体通道11的壳体2、阀板4、马达6及位置调整部8。

如上述，阀板4容纳于壳体2的内部，并且能够在关闭位置与打开位置之间进行摆动。马达6是用于使该阀板4摆动的驱动源。阀板4以马达6的驱动轴作为旋转轴进行摆动。

位置调整部8使升降体50相对于位于关闭位置的阀板4沿轴向移动，从而在紧贴状态与分开状态之间进行切换。即，位置调整部8使密封部件56沿流体通道11延伸的纵向即处理腔室C、真空用闸阀1及真空泵P的排列方向(图3所示的X1或者X2方向)进行移动。另外，以下有时将上述排列方向(X1及X2方向)称作“轴向”，将与轴向垂直的方向称作“径向”，将围绕轴向的方向称作“周向”。周向是与径向正交的切线方向。

例如，在阀板4位于关闭位置的状态下(阀板4覆盖开口12的状态下)，位置调整部8能够使密封环55向靠近阀板4的方向(X1方向)移动，从而使密封部件56紧贴于阀板4。该状态就是紧贴状态。并且，位置调整部8可以使处于紧贴状态的密封环55向远离阀板4的方向(X2方向)移动，从而使间隙出现在密封部件56与阀板4之间。该状态就是分开状态。另外，在分开状态下，位置调整部8能够将密封环55与阀板4之间的间隔调整为任意距离。

壳体2除了容纳阀板4以外，还容纳位置调整部8的一部分(后述的旋转机构19)。如图3所示，壳体2可以由壳体主体2A及法兰2B构成。法兰2B通过螺栓等装卸自如地安装于壳体主体2A。因此，通过装卸法兰2B，壳体2能够开闭自如。因此，在真空用闸阀1中，通过打开壳体2，能够容易进行位置调整部8的检查、维修及更换。

图4是表示位置调整部8的外观的说明图。如图4所示，位置调整部8具备驱动源18及旋转机构19。旋转机构19容纳于由壳体主体2A及法兰2B划定的内部空间。

驱动源18例如是马达。如图2所示，马达安装于壳体2的外侧。驱动源18可以具有驱动齿轮18b及旋转齿轮18a。旋转齿轮18a可以容纳于壳体2的内部。驱动源18通过驱动齿轮18b及旋转齿轮部18a向容纳于壳体2的内部空间的旋转机构19传递驱动力。

旋转机构19包括旋转体20及升降体50。旋转体20及升降体50均为圆环状，并且以包围流体通道11(开口12)的方式容纳于壳体2的内部空间。旋转体20经由支承部件40支承于法兰2B。在旋转体20上设置有沿周向延伸的弯曲长孔22a。支承部件40贯穿弯曲长孔22a。旋转体20能够在弯曲长孔22a的周向上的长度的范围内相对于支承部件40进行相对旋转。在旋转体20的外侧面形成有与旋转齿轮18a啮合的齿轮槽27。通过驱动源18的驱动，旋转体20例如以开口12的中心作为旋转轴进行旋转。升降体50并不随着旋转体20的旋转而旋转，而是相对于旋转体20沿轴向相对移动。密封部件56与升降体50一体地沿轴向移动。

以下，对真空用闸阀1的结构进行详细说明。图5是旋转机构19的局部剖视图且是图4所示的AA线向视剖视图。在图5中，为了提高明确性，一并示出了壳体2(壳体主体2A及法兰2B)及阀板4。如图5所示，旋转机构19主要包括支承于支承部件40的旋转体20、与旋转体卡合的升降体50、支承于升降体50的密封环55及安装于密封环55的密封部件56。

如上述，在本真空阀1中，通过设置于壳体2的外部的驱动源18来驱动旋转体20。壳体2具有用于将驱动源18的旋转传递至旋转体20的齿轮槽27的开口。因此，壳体2的内部空间的一部分(例如，配置有旋转体20的区域)成为大气压。另一方面，阀板4配置于真空区域。因此，通过封装部件57，真空区域从大气压区域得到密封。隔离真空区域与大气压区域的封装部件57例如是O型环57。作为封装部件57，可以在升降体50的外周面及内周面设置一对O型环57。同样地，可以在密封环55的外周面及内周面设置一对O型环57。比O型环57更靠阀板4的一侧(X1侧)成为与流体通道11相同的真空。另一方面，比O型环57更远离阀板4的一侧(X2侧)则成为大气压。由此，流体通道11气密地连通处理腔室C与真空泵P。

图6是表示支承部件40的外观的说明图。并且，图7是表示被分解的支承部件的说明图。支承部件40是大致呈棒状(销状)的部件，其贯穿旋转体20的弯曲长孔22a并固定于法兰2B。支承部件40包括第1端部43a、宽径部44及与第1端部43a相反一侧的第2端部43b。在第1端部43a形成有螺纹部42。螺纹部42卡合于设置在法兰2B的螺孔14a中(参考图5)。第2端部43b可以具备第3滑动部件46。第3滑动部件46例如是球塞滑块46。球塞滑块46包括中空圆筒状的主体及配置于主体的侧面的多个小球。这些小球在主体的侧面能够向任意方向旋转。球塞滑块46嵌合于支承部件40的第2端部43b。

图8是表示法兰2B的外观的说明图。图8中示出阀板4侧朝上的状态的法兰2B。如图8所示，法兰2B具备内筒13、槽部14及凸缘部16，并且法兰2B是大致环状的部件。内筒13呈沿轴向延伸的中空圆筒状的形状。内筒13的内侧是成为流体通道11的空间。凸缘部16具备用于将法兰2B固定于壳体主体2A的多个螺纹孔17。槽部14设置于内筒13与凸缘部16之间。在槽部14，隔着规定间隔具备多个螺孔14a。支承部件40的螺纹部42卡合于螺孔14a。槽部14容纳构成旋转机构19的旋转体20的一部分。在槽部14与旋转体20之间可以配置第2滑动部件15。第2滑动部件15例如是多个法兰滚珠15。法兰滚珠15沿周向隔着规定间隔而配置。法兰滚珠15保持为，在旋转体20与槽部14(法兰2B)之间能够向任意方向旋转。因此，法兰滚珠15作为球轴承而发挥作用。

图9是表示法兰2B及嵌合于该法兰2B的槽部14内的旋转体20的说明图。如图9及图5所示，旋转体20是具有凹状(U字状)截面的环状部件。即，旋转体20具备外壁21、以与外壁同心的方式配置的内壁23及连结外壁21与内壁23的底壁22。外壁21及内壁23均是中空圆筒状的部件，并且外壁21的直径大于内壁22的直径。底壁22是环状部件，其外径与外壁21的直径大致一致，其内径与内壁23的直径大致一致。在底壁22形成有用于供支承部件40贯穿的弯曲长孔22a。弯曲长孔22a可以等间隔形成有多个。为了容许旋转体20相对于支承部件40进行旋转，弯曲长孔22a在周向上具有与旋转体20的旋转量相对应的长度。即，旋转体20能够旋转，直至弯曲长孔22a的端部与支承部件40抵接。

在底壁22与支承部件40之间配置有第1滑动部件28。第1滑动部件例如是滚珠。在底壁22的与法兰2B相反一侧的面设置有用于保持滚珠的沟槽。图10中示出在底壁22配置有第1滑动部件28的状态。沟槽可以设置有多个。例如，可以在外壁21与底壁22连接的角部附近形成外侧沟槽(第1沟槽)24。而且，可以在内壁23与底壁22连接的角部附近形成内侧沟槽(第2沟槽)25。此时，弯曲长孔22a位于外侧沟槽与内侧沟槽之间。

如此，多个沟槽同心状配置并且夹着弯曲长孔22a。在外侧沟槽24及内侧沟槽25配置有多个底壁滚珠28。如该图所示，在外侧沟槽24及内侧沟槽25，遍及其周向上的大致整个区域而配置有底壁滚珠28。底壁滚珠28在这些槽内能够向任意方向旋转。因此，能够减少旋转体20相对于支承部件40进行旋转时产生的旋转体20与支承部件40之间的摩擦阻力。

图11是表示环形板30的说明图。环形板30配置成，覆盖配置有底壁滚珠28的旋转体20的底壁22。如图11所示，环形板30是设置有多个贯穿孔32的环状部件。各个贯穿孔32是供支承部件40嵌入的开口。贯穿孔32的内径稍大于支承部件40的外径。因此，若支承部件40贯穿于贯穿孔32，则环形板30在旋转方向上的移动被抑制。因此，环形板30与支承部件40固定为一体，并不会随着旋转体20的旋转而旋转。

而且，在环形板30的外侧及内侧，沿着环形板30的周向设置有板槽。板槽与沟槽相对应地设置。例如，设置有外侧板槽(第1板槽)34及内侧板槽(第2板槽)36。外侧板槽34从底壁滚珠28的与外侧沟槽24相反的一侧保持保持于外侧沟槽24的底壁滚珠28。内侧板槽36从底壁滚珠28的与内侧沟槽25相反的一侧保持保持于内侧沟槽25的底壁滚珠28。即，外侧板槽34所形成的圆的直径与外侧沟槽24所形成的圆的直径一致。内侧板槽36所形成的圆的直径与内侧沟槽25所形成的圆的直径一致。底壁滚珠28以能够向任意方向旋转的方式保持在外侧沟槽24与外侧板槽34之间以及内侧沟槽25与内侧板槽36之间。如此，底壁滚珠28可旋转地夹持在沟槽与板槽之间。即，旋转体20所具备的底壁滚珠28在旋转体20与环形板30之间作为球轴承而发挥作用。

再次利用图5，对支承部件40对旋转体20的支承进行叙述。如上述，设置于支承部件40的前端的螺纹部42贯穿环形板30的贯穿孔32及旋转体20的弯曲长孔22a并与设置于法兰2B的螺孔14a卡合。宽径部44设置在支承部件40的长度方向上的大致中央。宽径部44包括第1端部43a侧的面(第1面44a)及与第1面44a相反一侧的、第2端部43b侧的面(第2面44b)。在螺纹部42卡合于螺孔14a中的状态下，第1面44a与环形板30接触。即，宽径部44通过该第1面44a将旋转体20及环形板30夹在宽径部44与法兰2b之间。另一方面，宽径部44的第2面44b与升降体50的上表面对置。宽径部44在径向上的宽度稍小于外壁21与内壁23之间的径向间隙。因此，宽径部44配置于外壁21与内壁23之间。如此，旋转体20被支承部件40支承为能够旋转。

图12是从斜上方观察升降体50时的说明图。如图12所示，升降体50是具有设置于上表面且沿轴向延伸的多个滑孔54及设置于侧面的多个倾斜长孔52的环状部件。滑孔54配置于与支承部件40相对应的位置。如图5所示，支承部件40的第2端部43b插入于升降体50的滑孔54中。滑孔54的内径稍大于支承部件40的第2端部43b的外径。在支承部件40的第2端部43b与滑孔之间可以设置上述球塞滑块46。通过采用上述结构，升降体50能够沿轴向移动。另一方面，升降体50的旋转被支承部件40限制。

旋转体20具有升降销26，该升降销26在周向上与支承部件40不同的位置固定于外壁21或内壁23中的至少一个上并且沿径向延伸。优选地，升降销26的两端分别支承于外壁21及内壁23。因此，升降销26随着旋转体20的旋转而旋转。升降销26可以沿周向隔着规定间隔配置有多个。例如，支承部件40与升降销26可以沿周向交替配置。升降销26卡合于升降体50的倾斜长孔52以支承升降体50。

倾斜长孔52是沿径向贯穿升降体50的长孔，其以相对于轴向及与轴向垂直的面这两者倾斜的方式延伸。如上述，升降体50与支承部件40卡合，因而升降体50无法旋转。因此，若旋转体20旋转，则升降销26在倾斜长孔52内移动，而伴随该移动升降体50沿轴向移动。因此，倾斜长孔52的周向上的长度是与旋转体20的旋转量相对应的长度。

再次利用图5，对升降体50与密封环55的结构进行叙述。如图5所示，在升降体50的下表面安装有密封环55。与升降体50相同，密封环55也是圆环状部件，其与升降体50一体地移动。考虑到维护性，密封环55的上表面可以通过可拆卸的嵌合机构固定于升降体50的下表面。密封环55在其下表面具有密封部件56。密封部件56例如是O型环。若升降体50沿X1方向移动，则密封环55(密封部件56)与阀板4接触。

如此，在本实施方式中，通过旋转体20的旋转，环状的升降体50与密封环55一同升降。因此，在本实施方式中，通过升降的环状的升降体50，能够使密封环55按压(保持)圆板状的阀板4的整周。由此，能够良好地抑制在阀板4与密封部件56之间产生间隙，从而能够保持紧贴状态(处理腔室C的密闭状态)。

图13及图14是用于说明旋转机构19的动作的立体图。在图13及图14中，为了示出升降体50的倾斜长孔52与升降销26的卡合状态，省略了旋转体20的外壁21的一部分。如上述，在旋转机构19中，末端固定于外壁21上的多个升降销26插入于升降体50的倾斜长孔52中。插入于倾斜长孔52中的升降销26的前端固定于旋转体20的内壁23。为了使倾斜长孔52与升降销26的相对移动顺畅，升降销26的外周可以具有轴承。如此，升降体50相对于旋转体20机械卡合。如上述，倾斜长孔52以相对于轴向倾斜的方式延伸。并且，升降体50的旋转受到支承部件40的限制。因此，若旋转体20旋转，则升降销26在倾斜长孔52内进行相对移动，使得升降体50沿轴向升降。

图13表示旋转体20的升降销26位于倾斜长孔52的最下位的开始端的状态。在该状态下，升降体50位于最上位。即，处于密封环55与阀板4之间的轴向上的距离最大的状态。在该状态下，阀板4的摆动被容许。

在想要提高处理腔室C的压力时，升降销26朝向倾斜长孔52的最上位的末端移动。随着升降销26的移动，升降体50被升降销26下压。随之，密封环55与阀板4之间的轴向距离变小。

图14表示旋转体20的升降销26位于倾斜长孔52的最上位的末端的状态。在该状态下，升降体50位于最下位。即，密封环55(密封部件56)与阀板4接触。

尤其，在分开状态(即，真空泵P对处理腔室C进行排气的状态)下，O型环57的上下空间的压差会变大。通过该压差，升降体50及密封环55受到向X1方向拉拽的力。由于升降体50经由升降销26支承于旋转体20，因此，与升降体50相同，旋转体20也受到向X1方向拉拽的力。即，旋转体20按压于支承部件40的宽径部44。因此，基于O型环57而产生的压差能够使旋转体20与宽径部44的第1面44a之间的滑动阻力上升。若滑动阻力过度上升，则有可能会阻碍旋转体20的旋转。由于旋转体20的阻碍会影响密封环55的升降位置，因此有可能会影响处理腔室C的压力。

对此，在本实施方式中，旋转体20具有第1滑动部件(即，底壁滚珠28)。底壁滚珠28配置于旋转体20的底壁22与环形板30(支承部件40的宽径部44的第1面44a)之间。即，旋转体20经由底壁滚珠28与环形板30(第1面44a)接触。因此，即使在旋转体20被拉向阀板4侧(环形板30侧)的状态下，由于底壁滚珠28作为球轴承而发挥作用，因此能够减轻旋转体20与支承部件40(环形板30)之间的摩擦阻力。由此，旋转体20能够通过来自驱动源18的驱动力而顺畅地旋转，能够高精度地调整密封环的位置，因此能够高精度地控制阀的开度。

并且，在本实施方式中，旋转体20具备用于保持底壁滚珠28的沟槽。由此，能够抑制底壁滚珠28在旋转体20的底壁22上分散。即，旋转体20能够良好地保持底壁滚珠28。而且，由于底壁滚珠28配置在底壁22的外侧与内侧这两处，因此能够进一步良好地减轻旋转体20与环形板30(支承部件40的宽径部44的第1面44a)之间的摩擦阻力。

并且，在本实施方式中，具备配置于旋转体20的底壁22与支承部件40的宽径部44之间的环形板30。并且，该环形板30具有用于保持底壁滚珠28的外侧板槽34及内侧板槽36。外侧板槽34从底壁滚珠28的与外侧沟槽24相反的一侧保持保持于该外侧沟槽24内的底壁滚珠28。内侧板槽36从底壁滚珠28的与内侧沟槽25相反的一侧保持保持于该内侧沟槽25内的底壁滚珠28。因此，在本实施方式中，能够更加良好地保持底壁滚珠28。

而且，在本实施方式中，法兰2B在槽部14具备第2滑动部件15(即，多个法兰滚珠15)，这些法兰滚珠15与旋转体20接触。即，旋转体20经由法兰滚珠15与法兰2B接触。因此，在旋转体20旋转时，法兰滚珠15作为球轴承而发挥作用，因此能够减轻旋转体20与法兰2B(槽部14)之间的摩擦阻力。因此，旋转体20能够通过来自驱动源18的驱动力而更加顺畅地旋转。

并且，在本实施方式中，在升降体50的滑孔54与支承部件40之间具备球塞滑块46。由此，通过支承部件40能够支持升降体50的升降动作。其结果，能够使升降体50的升降动作变得顺畅。

以上，根据实施方式对本发明进行了说明。本发明并不限定于上述实施方式，本发明够进行各种设计变更，能够存在各种变形例，并且该种变形例也在本发明的范围内，这对本领域技术人员来说是可以理解的。

在本实施方式中，阀板4通过马达6的驱动力能够在关闭位置与打开位置之间进行移动(摆动)。然而，阀板4也可以固定于关闭位置。此时，可以通过阀板4的状态(紧贴状态或者分开状态)来调整处理腔室C的真空度。

在本实施方式中，第1滑动部件28、第2滑动部件15及第3滑动部件46均是滚珠。然而，各个滑动部件并不限于此，也可以是针状等任意形状。

在本实施方式中，旋转体20具有8个升降销26，升降体50具有8个倾斜长孔52。然而，升降销26及倾斜长孔52的数量并不限于此，可以设置任意数量。

并且，在本实施方式中，在旋转体20的底壁22设置有环形板30，旋转体20隔着环形板30与支承部件40的第1面44a对置。然而，本发明并不限定于此，旋转体20也可以不具备环形板30。此时，旋转体20经由底壁滚珠28与支承部件40的第1面44a接触。并且，底壁滚珠28在旋转体20与支承部件40的第1面44a之间作为球轴承而发挥作用，从而能够减轻旋转体20与支承部件40的第1面44a之间的摩擦阻力。

本发明能够应用于例如为了将处理腔室内设为真空而使用的真空用阀。

Claims (9)

1.一种真空阀，其特征在于，具备：

壳体，其具有开口；

阀板，其能够覆盖所述开口；

驱动源；

环状的旋转体，其具备外壁、内壁、连结所述外壁与所述内壁的底壁、形成于所述底壁的弯曲长孔及固定于所述内壁及所述外壁中的至少一个的升降销，并且所述环状的旋转体通过来自所述驱动源的驱动力而进行旋转；

棒状的支承部件，其配置于所述旋转体的所述外壁与所述内壁之间，并且具备贯穿所述底壁的所述弯曲长孔并固定于所述壳体的第1端部及沿旋转轴方向支承所述旋转体的宽径部；

环状的升降体，其支承密封环，并且配置于所述旋转体的所述外壁与所述内壁之间，所述环状的升降体具有供所述旋转体的所述升降销插入的倾斜长孔，所述升降销随着所述旋转体的旋转在所述倾斜长孔内移动，使得所述环状的升降体与所述密封环一同相对于所述旋转体而沿所述旋转轴方向升降；及

第1滑动部件，其配置于所述旋转体的所述底壁与所述支承部件的所述宽径部之间。

2.根据权利要求1所述的真空阀，其特征在于，

所述第1滑动部件包括第1滑动用滚珠，所述旋转体还具有用于保持所述第1滑动用滚珠的沟槽。

3.根据权利要求2所述的真空阀，其特征在于，

所述支承部件还具备配置于所述旋转体的所述底壁与所述支承部件的所述宽径部之间的环形板，

所述环形板具有用于保持所述第1滑动用滚珠的板槽。

4.根据权利要求2所述的真空阀，其特征在于，

所述沟槽包括：第1沟槽，其形成于所述旋转体的所述外壁侧；及第2沟槽，其形成于所述旋转体的所述内壁侧。

5.根据权利要求4所述的真空阀，其特征在于，

所述板槽包括：第1板槽，其与所述旋转体的所述第1沟槽对置；及第2板槽，其与所述旋转体的所述第2沟槽对置。

6.根据权利要求1所述的真空阀，其特征在于，

所述阀板构成为，能够在覆盖所述开口部的关闭位置与开放所述开口部的打开位置之间进行摆动，

所述密封环构成为，在所述阀板位于所述关闭位置时能够移动从而与所述阀板接触。

7.根据权利要求1所述的真空阀，其特征在于，

所述壳体在所述旋转体的所述底壁与所述壳体之间具备第2滑动部件。

8.根据权利要求1所述的真空阀，其特征在于，

所述升降体还具备供所述支承部件的第2端部插入的滑孔，所述升降体相对于所述旋转体沿着所述支承部件进行升降。

9.根据权利要求8所述的真空阀，其特征在于，

在所述支承部件的所述第2端部的外周面与所述滑孔的内周面之间具备第3滑动部件。